CN1311258C - 光学元件的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种从带状叠层膜将取向基板薄膜上形成的液晶相高分子层转印到透光性基板薄膜上以制造光学元件的方法中，以使液晶性高分子不产生转印残留、裂缝、剥落等缺陷以及不产生薄膜皱纹等的方式实施剥离的方法。其解决手段是沿着设置在取向基板薄膜侧的剥离棒从取向基板薄膜/液晶性高分子层/固化粘结剂层/透光性基板薄膜形成的带状叠层膜剥离取向基板薄膜，由此制造出具有转印到透光性基板薄膜上的液晶性高分子层的光学元件。

Description

光学元件的制造方法

技术领域

本发明涉及液晶显示元件用色补偿板、液晶显示元件用视角改进板、光学位相差板、提高辉度板、防反射板、彩色偏光板、1/2波长板、1/4波长板、旋光性光学元件等的光学元件制造方法。

背景技术

液晶性高分子、特别是由液晶固有取向结构已固定了的液晶性高分子形成的光学元件在各种显示器的光学用途中，例如作为液晶显示元件用色补偿板或液晶显示元件用视角改进板显示出划时代的性能，并使显示器高性能化、轻量化和薄型化。作为该光学元件的制造方法，已提出了将取向基板上形成的由液晶性高分子形成的层转印到透光性基板上的方法(例如参照特开平7-113911号公报的权利要求书以及图1、图2)。由该制造方法可使取向基板和透光性基板的作用分离，可制造出各种制品形式的光学元件，由此特别打开了由薄膜型液晶性高分子形成的光学元件的方向发展的道路。

但是，对光学元件特别是液晶显示用光学元件的性能要求极为严格，特别是在连续制造带状光学元件时遇到各种难题。即，由于液晶性高分子层的直径仅100μm左右的欠缺部分将造成光学缺陷，因此也不允许有微小的转印残留。另外，在由带状液晶性高分子层形成的光学元件薄膜的制造过程中卷绕步骤是不可缺少的，而塑性变形大的粘结层的变形造成光学失真，因此使产品不合格。相反的是如果粘结层过硬，在转印或卷绕时产生裂缝。另外，为维持液晶性高分子的光学性能，该转印步骤必须在液晶性高分子Tg以下的温度实施。此外，这些光学元件必须为满足热循环实验、高温实验、低温实验、高温高湿实验等的严格可靠性实验的元件。由于对使用光学元件的制品的品质要求越来越严格，因此要求对其进一步改进。另外，在提高品质的同时还要求提高产率。

由于在这些光学元件中所用的液晶性高分子为非常薄的膜以及重视其取向性，因此使用分子量较小的高分子。为此通过采用粘结剂将已在取向基板上形成的液晶性高分子层薄膜与透光性基板薄膜贴合形成叠层膜，使粘结剂固化，得到具有取向基板薄膜/液晶性高分子层/固化粘结剂层/透光性基板薄膜的层结构的叠层膜，在从该叠层膜仅对取向基板薄膜实施连续剥离的连续转印步骤中，特别是最后的连续剥离步骤中需要特别地细心注意，该步骤为难度高的步骤。即，在该连续剥离步骤中，将取向基板薄膜与液晶性高分子层薄膜之间的界面剥离为最重要的部分，如果该剥离手段和条件未进行最优化，则液晶性高分子层将产生转印残留或裂缝、剥落等的致命缺陷。

作为解决上述缺陷的方法，本发明者等以前提出过一种方法，即使该叠层膜接触通过夹辊和支承辊之间，分别使取向基板薄膜接触通过夹辊，使透光性基板薄膜接触通过支承辊，同时沿着夹辊仅输送取向基板薄膜，由此进行剥离，从而将液晶性高分子层连续转印到透光性基板薄膜上(参照特开平7-113911号公报的权利要求书以及图1、图2)。但是，对光学薄膜的品质要求越来越严格，即使稍有一点缺陷，其品质也将不合格。如果支承辊上存在灰尘或异物，则夹紧时的压力将使粘结剂层或液晶性高分子层损伤，剥离时一部分液晶性高分子层残留在取向基板薄膜侧上。另外，由于夹辊的表面精度或摩擦的影响，在取向基板薄膜从夹紧到被释放时，由于该薄膜微细皱纹的影响，将产生不规则剥离的不良现象。

发明内容

本发明针对如上所述的现状，其目的是提供通过在带状取向基板薄膜上形成液晶性高分子、由粘结剂粘结该液晶性高分子层和透光性基板薄膜得到由取向基板薄膜/液晶性高分子层/固化粘结剂层/透光性基板薄膜形成的带状叠层膜，从该叠层膜剥离取向基板薄膜，制造出具有转印到透光性基板薄膜上的液晶性高分子层，在该方法中，以使液晶性高分子不产生转印残留、裂缝、剥落等缺陷以及不产生薄膜皱纹等的方式实施剥离的方法。

本发明第1方面涉及在透光性基板薄膜上转印有液晶性高分子层的光学元件的制造方法，其特征是通过在带状取向基板薄膜上形成液晶性高分子层，由粘结剂粘结该液晶性高分子层和透光性基板薄膜得到由取向基板薄膜/液晶性高分子层/固化粘结剂层/透光性基板薄膜形成的带状叠层膜，从该叠层膜沿着设置在取向基板薄膜侧的剥离棒剥离取向基板薄膜。

本发明的第2方面涉及一种光学元件的制造方法，其特征是在本发明第1方面中，剥离后的取向基板薄膜与带状叠层膜形成的角度为90°以下。

本发明第3方面涉及一种光学元件的制造方法，其特征是在本发明第1或第2方面中，剥离棒的直径为5mm～30mm。

附图的简要说明

图1为根据本发明方法的光学元件制造装置剥离部的简略示意侧面图。

发明的实施方式

以下对本发明进一步说明。在本发明中，应转印物质为显示液晶性的高分子，在熔融时显示液晶性的热致液晶聚合物。作为光学元件，优选为显示均匀单域向列液晶相或扭摆向列液晶相的元件。在此所选的热致液晶聚合物为一种液晶性高分子，其在液晶状态下呈向列取向或扭摆向列取向，在液晶化温度以下的温度范围呈玻璃状态。

作为液晶性高分子，可例举出由具有羧基、醇基、苯酚基、氨基、硫基等的化合物缩合而成的缩合类液晶性高分子、以具有丙烯酰基、甲基丙烯酰基、乙烯基、烯丙基等双键的液晶性化合物等为原料得到的液晶性乙烯聚合物、由具有烷氧基硅烷基的液晶化合物等合成的液晶性聚硅氧烷、由具有环氧基的液晶性化合物等合成的液晶性环氧树脂和上述液晶性高分子的混合物等。在以上各种液晶性高分子中，从所得薄膜的光学特性等的观点出发，最优选缩合类液晶高分子。

缩合类液晶性高分子可采用适当方法使通常的二官能性单体缩合得到。作为该二官能性单体，优选为具有芳香族或环己烷环的二官能性单体，具体地可例举出亚苯基二胺等的二胺类，氢醌、2-甲基氢醌、间苯二酚、邻苯二酚、4-甲基邻苯二酚、4-叔丁基邻苯二酚、2，3-二羟基萘等的二醇类，1，4-亚苯基二硫醇、1，2-亚苯基二硫醇等的二硫醇类，水杨酸、3-羟基安息香酸、4-羟基安息香酸、3-羟基-2-萘甲酸、6-羟基-2-萘甲酸、7-羟基-2-萘甲酸等的羟基羧酸类，2-氨基安息香酸、3-氨基安息香酸、4-氨基安息香酸等的氨基酸类，邻苯二酸、间苯二酸、对苯二酸、1，4-萘二羧酸、2，6-萘二羧酸、2，7-萘二羧酸、4，4’-联苯二羧酸、4，4-均二苯代乙烯二羧酸、1，4-环己烷二羧酸等的二羧酸类。其中最优选的是含有作为含羟基成分的、以邻苯二酚单元为必须结构单元的缩合类液晶性高分子。

在配制缩合类液晶性高分子时，在不损害液晶性的程度内可向所用原料单体中添加例如草酸、富马酸、琥珀酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、辛二酸、壬二酸、癸二酸等的脂肪族二羧酸类，乙二醇、丙二醇、丁二醇、戊二醇、己二醇、庚二醇、辛二醇、壬二醇、癸二醇等的脂肪族二醇类，二氨基乙烷、二氨基丙烷、二氨基丁烷、二氨基戊烷、二氨基己烷、二氨基庚烷、二氨基辛烷、二氨基壬烷、二氨基癸烷等的脂肪族二胺类，羟基乙酸、羟基丙酸、羟基丁酸、羟基戊酸、羟基己酸、羟基庚酸、羟基辛酸、羟基壬酸、羟基癸酸等的脂肪族羟基羧酸类等。

另外，为了根据需要对液晶性高分子主链的末端进行改性，可向原料单体中添加单官能性单体或三官能性单体。作为单官能性单体可举出分子内具有一个羧基、氨基、醇基、苯酚基、硫醇基等的单体，例如为芳香族羧酸类、脂肪族羧酸类、芳香族胺类、脂肪族胺类、苯酚类、脂肪族苯酚类。另外，作为三官能性单体可举出例如偏苯三酸、二羟基安息香酸、羟基苯甲酸、苯三酸、均苯四酸等。

使这些单体缩合得到缩合类液晶性高分子，具体地为获得液晶性聚酯的方法没有特别限制，可适当地采用该领域公知的任何方法。例如可任意采用通过使羧酸成为酸卤化物或者在二环己基碳二酰亚胺等的存在下将羧酸活化后，使其与醇、胺等发生反应的方法、通过将苯酚进行乙酸酯化后，使其与羧酸反应的脱乙酸反应的合成方法、使羧酸成为如甲酯的酯化物后，在所需要的适当催化剂的存在下，使其与醇反应的脱醇反应的合成方法等。

在本发明的液晶性高分子中，如上所述的缩合类液晶性高分子可单独使用，也可以使用2种或3种或以上的缩合类液晶性高分子的混合物。另外在不损害本发明效果的范围内，可适当地混合使用光学活性液晶性高分子、液晶性乙烯聚合物、液晶性聚硅氧烷、液晶性环氧树脂等的各种液晶性高分子或非液晶高分子等。

这些聚合物的分子量优选相当于在各种溶剂中，例如在苯酚/四氯乙烷(重量比：60/40)混合溶剂中，在30℃下测定的对数粘度为0.05到3.0，更优选在0.07到2.0的范围内。对数粘度小于0.05时，所得的液晶性高分子的强度变弱，因此不优选。而大于3.0时，将产生形成液晶时粘性过高，取向性降低，取向所需时间增加等的问题。

另外，上述光学活性高分子化合物的分子量优选相当于在例如苯酚/四氯乙烷中，在30℃下测定的对数粘度为0.05到5.0的范围内。对数粘度大于5.0时，粘性过高，结果使取向性降低，而小于0.05时，难以调整组成，因此均不优选。

作为液晶性高分子，如果采用上述聚酯类聚合物，则其与作为粘结剂层使用的丙烯类树脂的粘结性好，因此优选。液晶性高分子由取向基板设定取向。取向基板也可以为在合适基底材料上形成的高分子薄膜。

可用于本发明的取向基板薄膜可原样使用带状连续延伸薄膜，或者通过与带状连续薄膜的MD(纵)方向平行地或以一定角度倾斜地实施摩擦处理，对应于该摩擦处理方向使已经与该摩擦处理面接触的液晶高分子取向得到。作为这种取向基板薄膜可例举出聚酰亚胺、环氧树脂、酚醛树脂等的热固化树脂；尼龙等的聚酰胺；聚醚酰亚胺；聚醚酮；聚醚醚酮；聚酮；聚醚砜；聚苯撑硫醚；聚苯撑氧化物；聚对苯二甲酸乙烯酯、聚对苯二甲酸丁烯酯等的聚酯；聚缩醛；聚碳酸酯；聚丙烯酸酯；聚甲基丙烯酸酯；纤维素三醋酸酯等的纤维素类树脂；聚乙烯醇等的热塑性树脂等。

可对上述高分子薄膜自身实施摩擦处理，或可以将这些高分子薄膜作为基底材料，在其表面上形成由上述其它高分子形成的有机薄膜。另外，作为在这种基底材料上形成有机薄膜的基底材料，除了上述高分子薄膜以外，还可以为铜、不锈钢、钢等的金属箔。另外，上述取向基板本身也可以由铜、不锈钢、钢等的金属箔形成。在本发明中特别优选的取向基板薄膜为对具有带状自立性高分子薄膜本身实施摩擦处理形成的薄膜，特别是不使用应叠层的基底材料等的薄膜。作为适合于该目的的带状薄膜，为上述薄膜中热塑性树脂形成的薄膜，例如为聚对苯二甲酸乙烯酯、聚苯撑硫醚、聚醚醚酮、聚乙烯醇等的热塑性树脂。作为热固化树脂，优选使用聚酰亚胺。

在此，带状薄膜指的是具有一定长度的连续薄膜，在工业上指的是以卷成辊的形式提供的如所得的连续薄膜。不用说，也可以不必为卷形式，也可以是为适当折叠好的连续薄膜。带状薄膜的长度依据情况也可长达10000m。

在带状取向基板薄膜上形成带状液晶性高分子层的操作可以任意方法实施。即，将液晶性高分子溶解在合适的溶剂中，采用辊涂机等的涂布设备进行涂布，使其干燥形成液晶性高分子层，或者采用由T型模等熔融挤出高分子液晶等的方法。另外，从膜厚等的品质观点出发，适于采用溶液涂布和干燥方法。涂布方法没有特别限制，例如可采用辊涂法、帘涂法或缝口涂布法等的模涂法等。涂布宽度通常在10～2000mm，优选为100～1000mm的范围内选择。涂布后，通过干燥除去溶剂。

在相对于MD方向平行地或相对于MD方向呈预定角度倾斜的方向上进行摩擦处理形成的带状取向基板薄膜上形成液晶性高分子层后，在预定温度下加热预定时间，使液晶性高分子取向，然后在Tg(玻璃化温度)以下的温度冷却，由此使液晶结构固定。在此，作为固定了的液晶结构，由于所用液晶性高分子的种类、组成比等的不同而不能一概而论，可举出例如向列取向、向列杂合取向、扭摆向列取向、胆甾醇取向等。但是这些液晶结构为示例性的，本发明不受这些液晶结构的限制。对固定后液晶性高分子膜厚没有特别限制。膜厚根据光波长是不同的，例如在显示器用途等的主要为可视光的领域中，膜厚为0.1μm以上，优选为2μm以上，更优选为3μm以上。不足0.1μm时，难以高精度地调整膜厚，因此不优选。另外太厚时，作为光学元件的设定能力变弱，因此不优选，从该观点出发，合适的在1000μm以下，优选在500μm以下的范围内。在本发明中，由于下部的取向基板薄膜为以预定角度实施摩擦处理的带状取向基板薄膜，因此得到与该摩擦处理相对应的角度取向的带状液晶性高分子薄膜。

作为透光性基板用薄膜，只要其具有透明性，可支撑液晶性高分子层，对其没有特别限制，由于需要呈带状，因此可例举出塑料薄膜，例如聚对苯二甲酸乙烯酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚醚砜、聚苯撑硫醚、聚丙烯酸酯、聚乙烯硫醚、非晶态聚乙烯、纤维素三醋酸酯等。另外，基板用薄膜的厚度在0.5～200μm，优选在1～100μm的范围内。

可用于本发明的粘结剂没有特别限定，考虑到在连续转印时可在必须的极短时间固化，以及在液晶性高分子Tg温度以下可固化，优选光固化型或电子射线固化型。特别是以丙烯类低聚物为主成分的粘结剂完全不会产生液晶性高分子层转印错误，在实施卷绕等操作时不会产生故障，成为制品的光学元件的可靠性高，从这些观点出发是优选的。此外，对于该丙烯类低聚物，可配合如N-乙烯吡咯烷酮的极性乙烯单体。

以下对采用这些光或电子射线固化型粘结剂，将取向基板薄膜上形成的液晶性高分子层连续转印到透光性基板上的步骤进行说明。即包括(1)在带状取向基板薄膜上形成的液晶性高分子层或带状透光性基板薄膜的至少一侧上涂布粘结剂、(2)将涂布了粘结剂后的两个带状基板薄膜贴合、(3)向贴合后的叠层膜照射光或电子射线，使粘结剂固化、(4)粘结剂固化后仅剥离取向基板薄膜、(5)对转印到带状透光性基板薄膜侧的液晶性高分子层/固化粘结剂层/透光性基板薄膜形成的带状光学元件薄膜实施卷绕等的步骤。这些步骤是以在0.5～100m/min范围内的速度连续实施的。

作为向形成在带状取向基板上的液晶性高分子层或带状透光性基板薄膜的至少一侧上涂布粘结剂的方法，可采用一般实行的作为向连续薄膜涂布手段的辊涂法、帘涂法、缝口涂布法等的模涂法、喷涂法等，并且没有特别限制。所涂布的粘结剂厚度为0.5～200μm，优选为1～100μm，如果在200μm以上，则粘结剂的固化速度降低，固化不充分，因此不优选。将涂布了粘结剂后的两个基板薄膜进行贴合时可采用一般实行的层压手段实施，但是以贴合时彻底排除混入的气泡的方式实施。涂布和贴合后粘结剂层的固化可根据所用粘结剂在合适的条件下，在带状贴合膜的宽度方向均匀照射光或电子射线来实施。

在粘结剂层固化后仅对取向基板薄膜进行连续剥离，通过固化的粘结剂层使取向基板薄膜上形成的液晶性高分子层连续转印到透光性基板薄膜侧上，并卷绕成卷筒。在最后的连续剥离步骤中，其必须条件例如为在取向基板薄膜侧上完全没有液晶性高分子转印残留，在转印的液晶性高分子层上完全不会产生裂缝或剥落，而且透光性基板薄膜、取向基板薄膜本身不产生损伤或皱纹等，该步骤特别重要，而且是难易程度高的步骤。

以下根据附图对本发明剥离方法进行说明。图1表示的是本发明剥离方法的一实施方式。本发明由取向基板薄膜/液晶性高分子层/固化粘结剂层/透光性薄膜形成的带状叠层膜1在夹辊3(与取向基板薄膜接触)和支承辊2(与透光性基板薄膜接触)之间通过，然后将该叠层薄膜输送到剥离棒5处。夹辊3和支承辊2的材质没有特别限制，可以为金属、橡胶或该二者的组合。优选夹辊为如橡胶那样的弹性材料、支承辊为金属。在夹紧叠层膜1时，夹紧压力必须不向辊宽度方向偏离。夹紧压力优选为0.01～100kgf/mm。图1中是沿着支承辊输送叠层膜的，但也可以不沿着支承辊进行输送。另外，图中夹辊和支承辊的直径是不同的，但二者的直径也可以相同。

使已输送的叠层膜的取向基板薄膜侧与剥离棒接触，以沿着剥离棒仅剥离取向基板薄膜的方式进行输送，由此使取向基板薄膜与剩余的液晶性高分子层/固化粘结剂层/透光性基板薄膜形成的光学元件制品薄膜分离。光学元件制品薄膜由输送辊、卷绕辊进行输送。

剥离棒的形状为圆棒状，直径为5～30mm、优选为10mm～20mm。直径不足5mm时，剥离棒弯曲，薄膜上会产生皱纹，因此不优选。另外，直径超过30mm时，剥离角度变小，存在着在取向基板薄膜侧残留部分液晶性高分子层的危险，因此不优选。剥离棒的材质没有特别限制，但优选平滑性优异且不会产生灰尘的塑料或金属。在剥离棒附近，脱离了剥离棒的取向基板与向剥离棒前进的叠层膜所形成的角度优选在90度以下。如果超过90度，则剥离状态不稳定，在取向基板薄膜侧上存在着残留部分液晶性高分子的危险，因此不优选。

对叠层片进行连续剥离的速度没有特别限制，可在装置的实用区域自由改变。通常在0.1～200m/min、优选在0.5～100m/min的范围内实施。对薄膜施加的张力没有特别限制，但优选张力大小使薄膜处于不产生皱纹或弯曲的状态。张力的优选范围为0.05～0.50kgf/mm²。优选剥离前后张力几乎保持相等。在取向性基板薄膜的剥离部产生大的剥离带电，使剥离性下降或造成在液晶性高分子薄膜上附着灰尘等的不利影响，在工作环境方面存在危险，因此采用离子化空气等可有效除电。另外，将剥离棒本身接地也是有效的。

如上所述，通过从取向基板薄膜/液晶性高分子层/固化粘结剂层/透光性基板薄膜形成的4层叠层膜1仅剥离取向基板薄膜4得到转印薄膜6时，如果沿着剥离棒5剥离叠层膜1，可防止液晶性高分子的微细转印残留或裂缝、剥落等，在两个基板薄膜上也不产生微细损伤，可稳定、连续地实施剥离等，因此工业价值极大。

实施例

以下根据实施例对本发明进行具体说明，但本发明不受这些实施例的限制。

参考例和实施例中所用的各种分析方法如下。

(1)光学参数的测定

采用偏光解析法测定液晶薄膜的扭摆角和延迟(Δn·d)的光学参数。(Δn：双折射常数、d：液晶薄膜液晶层的厚度；单位nm)

(2)对数粘度的测定

采用乌伯洛德型粘度计，在30℃下在苯酚/四氯乙烷(60/40重量比)混合溶剂中进行测定。

(3)液晶性高分子组成的确定

将液晶性聚酯溶解在重氢化氯仿中，采用400MHz的¹H-NMR(日本电子制造的JNM-GX400)进行测定，确定其组成。

(参考例1)

合成出式(1)的液晶性高分子物质(对数粘度＝0.22dl/g、Tg＝61℃)和包含式(2)的(R)-3-甲基己烷-1，6-二醇单元的光学活性液晶性高分子物质(对数粘度＝0.17dl/g)。

这些高分子材料的合成是在邻二氯苯溶剂中，在三乙胺共存下，使与二羧酸单元对应的酸氯化物与二醇化合物发生反应实施的。

将所得的18.1g式(1)的液晶性高分子和1.9g式(2)的液晶性高分子混合物溶解在80g N-甲基吡咯烷酮中，配制液晶性高分子溶液-1。

式(1)

式(2)

                     ^*表示光学活性碳

(参考例2)

采用80mmol对苯二甲酸、23mmol庚二酸、55mmol氢醌二醋酸酯、50mmol异丙基邻苯二酚二乙酸酯和作为催化剂的乙酸钠，在280℃下在氮气气氛下聚合2小时，在300℃下聚合2小时，获得式(3)的液晶性高分子物质。

然后将所得液晶性高分子物质溶解在四氯乙烷中，此后采用甲醇进行再沉淀，得到26g精制的液晶性高分子物质。该液晶性高分子物质的对数粘度为0.31dl/g，DSC测定和偏光显微镜观察的结果是液晶相为向列相，在比液晶相温度低的低温部为不带有结晶相的玻璃相，Tg为117℃。

将15g该液晶性高分子物质溶解在85g四氯乙烷中，配制液晶相高分子物质溶液-2。

式(3)

          式中，每一单元的数值表示摩尔组成比

(参考例3)

合成出式(4)的液晶性高分子物质(对数粘度＝0.21dl/g、Tg＝60℃)和包含式(5)的(R)-3-甲基己烷-1，6-二醇单元的光学活性液晶性高分子物质(对数粘度＝0.18dl/g)。

这些高分子材料的合成是在邻二氯苯溶剂中，在三乙胺共存下，使与二羧酸单元对应的酸氯化物与二醇化合物发生反应实施的。

将所得的9.2g式(4)的液晶性高分子物质和0.8g式(5)的液晶性高分子物质的混合物溶解在90g N-甲基吡咯烷酮中，配制液晶性高分子溶液-3。

式(4)

式(5)

                  ^*表示光学活性碳

(带状叠层膜的制造例)

在相对于MD方向平行或倾斜的方向上实施过摩擦处理的500mm宽、10μm厚的带状聚醚醚酮、聚酰亚胺、聚苯撑硫醚各薄膜的摩擦处理面上，采用辊涂机涂布400mm宽的液晶相高分子物质溶液1～3。干燥后，在220℃下加热处理15分钟，使液晶相高分子取向，然后冷却至室温，使液晶结构固定。使用具有紫外线照射设备的涂布层压装置在各取向基板薄膜的液晶性高分子面上连续涂布400mm宽、10μm厚的以丙烯类低聚物为主成分的紫外线固化型粘结剂(市售品A、粘度为320cp)，然后一边注意不卷进气泡，一边将其贴合在500mm宽、100μm厚的纤维素三乙酸酯或聚醚砜的各种薄膜上。然后照射紫外线，制造出表1所示的由带状的取向基板薄/液晶相高分子层/固化型粘结剂层/透光性基板薄膜形成的薄膜L-1到L-6。

表1

制造例	项目
							液晶性高分子层		取向基板薄膜		紫外线固化型粘结剂	透光性基板薄膜
	液晶性高分子物质溶液	厚度(μm)	种类	摩擦角度
					L-1	2	5	聚醚醚酮	平行	市售品A*1			纤维素三醋酸酯
L-2	1	10	同上	45°							同上	同上
					L-3	1	1	聚酰亚胺	平行	同上			聚醚砜
L-4	3	5	同上	45°								同上
					L-5	2	2	聚苯撑硫醚	平行	同上			纤维素三醋酸酯
L-6	3	10	同上	30°							同上	同上

^*1：市售品A的组成

环氧类丙烯低聚物          25重量％

氨基甲酸酯类丙烯低聚物    25重量％

丙烯酸四氢糠基酯          30重量％

N-乙烯基-2-吡咯烷酮       20重量％

实施例1～6

使用图1所示的由夹辊、支承辊、剥离棒组成的剥离装置，从制造例L-1到L-6的取向基板薄膜/液晶相高分子层/固化粘结剂层/透光性基板薄膜形成的带状叠层膜1仅连续地剥离取向基板薄膜4，由此制造出作为光学元件的转印薄膜6。使带状叠层膜1通过夹辊2、3之间，然后沿着剥离棒5剥离取向基板薄膜4。在取向基板薄膜4的一侧采用70mmφ橡胶制自由辊形成的夹辊3，在透光性基板侧的支承辊2使用300mmφSUS制驱动辊。夹紧压力为0.5kf/mm。使用15mmφ直径的SUS制成的圆棒作为剥离棒。薄膜输送拉力从抽出到卷绕均恒定为0.1kgf/mm²。检查剥离后的取向基板薄膜4与剥离前的带状叠层膜所形成的角度(θ)变化，剥离后取向基板是否存在未转印的液晶相高分子，转印了的液晶相高分子是否存在裂缝、剥落等的缺陷，以及两个基板上是否有损伤。结果示于表2。

表2

实施例	项目
							叠层薄膜制造例	取向基板薄膜与剥离前的叠层膜的角度	剥离速度(m/min)	取向基板膜上未转印的液晶性高分子*1(％)	已转印的液晶性高分子的断裂、剥落情况*2	剥离后取向基板膜的损伤*1
	1	L-1	30°	10	0	无							无
2							L-2	同上	30	0	无	无
	3	L-3	60°	10	0	无							无
4							L-4	同上	10	0	无	无
	5	L-5	80°	15	0	无							无
6							L-6	100°	30	2	在未转印部位的周边有一部分断裂、剥落	无

^*1：采用目视方式进行评价。

^*2：在光学元件的上下部配置偏光板，从下部偏光板照射白色光，采用目视方式进行评价。

比较例1和2

使用制造例L-1(比较例1)和L-5(比较例2)的带状叠层膜和从实施例1的装置中除去了剥离棒的装置，使取向基板叠层膜/液晶性高分子层/固化粘结剂层/透光性基板薄膜形成的带状薄膜1通过夹辊2、3之间，沿着夹辊3仅连续剥离取向基板薄膜4，制造作为光学元件的转印薄膜。作为夹辊，在取向基板薄膜4侧采用70mmφ橡胶制自由辊形成的夹辊3，在透光性基板薄膜侧的支承辊2采用300mmφSUS制驱动辊。夹紧压力为0.5kgf/mm，薄膜的输送拉力从抽出到卷绕均恒定为0.1kgf/mm²。剥离速度与实施例1一样。改变夹辊3相对于取向基板薄膜的圆周接触长度，使其为1/4周(比较例1)和1/2周(比较例2)，检查剥离后取向基板是否存在未转印的液晶性高分子，转印了的液晶性高分子是否存在裂缝、剥落等的缺陷，以及两个基板上是否有损伤。结果示于表3。

表3

比较例	项目
							叠层薄膜制造例	取向基板与夹辊整个周长的接触长度	剥离速度(m/min)	取向基板薄膜上未转印的液晶性高分子*1(％)	已转印的液晶性高分子的断裂、剥落情况*2	剥离后取向基板薄膜的损伤*1
	1	L-1	1/4周	10	4	在未转印部分周边上有一部分裂缝和剥落							无
2							L-5	1/2周	10	2	同上	无

^*1：采用目视方式进行评价。

^*2：在光学元件的上下部配置偏光板，从下部偏光板照射白色光，采用目视方式进行评价。

发明效果

根据本发明可以建立一种这样的技术，在将带状取向基板薄膜上形成的液晶性高分子层转印到透光性基板薄膜上以制造光学元件时，从取向基板薄膜/液晶性高分子层/固化粘结剂层/透光性基板薄膜形成的带状叠层膜仅连续剥离取向基板薄膜。由此可提高光学元件的有效利用率，并飞速地提高生成性和经济性。

Claims (3)

1.一种具有转印到透光性基板薄膜上的液晶性高分子层的光学元件制造方法，其特征是通过在带状取向基板薄膜上形成液晶性高分子层，由粘结剂粘结该液晶性高分子层和透光性基板薄膜得到由取向基板薄膜/液晶性高分子层/固化粘结剂层/透光性基板薄膜形成的带状叠层膜，从该叠层膜沿着设置在取向基板薄膜侧的剥离棒剥离取向基板薄膜，其中剥离棒的直径为5mm～30mm。

2.如权利要求1记载的光学元件制造方法，其特征是脱离了剥离棒的取向基板薄膜与向剥离棒前进的带状叠层膜形成的角度为90°以下。

3.如权利要求2记载的光学元件制造方法，其特征是所述角度为30～80°。