CN1282611C - 电解水生成装置 - Google Patents

电解水生成装置 Download PDF

Info

Publication number
CN1282611C
CN1282611C CN200410088497.3A CN200410088497A CN1282611C CN 1282611 C CN1282611 C CN 1282611C CN 200410088497 A CN200410088497 A CN 200410088497A CN 1282611 C CN1282611 C CN 1282611C
Authority
CN
China
Prior art keywords
water
mentioned
current value
electrolytic
electrolyzer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN200410088497.3A
Other languages
English (en)
Other versions
CN1613787A (zh
Inventor
稻本吉宏
河村要藏
岸稔
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sanyo Electric Co Ltd filed Critical Sanyo Electric Co Ltd
Publication of CN1613787A publication Critical patent/CN1613787A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN1282611C publication Critical patent/CN1282611C/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/46Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
    • C02F1/461Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
    • C02F1/46104Devices therefor; Their operating or servicing
    • C02F1/4618Devices therefor; Their operating or servicing for producing "ionised" acidic or basic water
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/001Processes for the treatment of water whereby the filtration technique is of importance
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/46Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
    • C02F1/461Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
    • C02F1/46104Devices therefor; Their operating or servicing
    • C02F1/46109Electrodes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/46Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
    • C02F1/461Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
    • C02F1/467Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis by electrochemical disinfection; by electrooxydation or by electroreduction
    • C02F1/4672Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis by electrochemical disinfection; by electrooxydation or by electroreduction by electrooxydation
    • C02F1/4674Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis by electrochemical disinfection; by electrooxydation or by electroreduction by electrooxydation with halogen or compound of halogens, e.g. chlorine, bromine
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/46Apparatus for electrochemical processes
    • C02F2201/461Electrolysis apparatus
    • C02F2201/46105Details relating to the electrolytic devices
    • C02F2201/4612Controlling or monitoring
    • C02F2201/46125Electrical variables
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/46Apparatus for electrochemical processes
    • C02F2201/461Electrolysis apparatus
    • C02F2201/46105Details relating to the electrolytic devices
    • C02F2201/4612Controlling or monitoring
    • C02F2201/46125Electrical variables
    • C02F2201/4614Current
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/46Apparatus for electrochemical processes
    • C02F2201/461Electrolysis apparatus
    • C02F2201/46105Details relating to the electrolytic devices
    • C02F2201/4616Power supply
    • C02F2201/4617DC only
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/46Apparatus for electrochemical processes
    • C02F2201/461Electrolysis apparatus
    • C02F2201/46105Details relating to the electrolytic devices
    • C02F2201/4618Supplying or removing reactants or electrolyte
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2209/00Controlling or monitoring parameters in water treatment
    • C02F2209/005Processes using a programmable logic controller [PLC]
    • C02F2209/006Processes using a programmable logic controller [PLC] comprising a software program or a logic diagram
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2209/00Controlling or monitoring parameters in water treatment
    • C02F2209/02Temperature
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2209/00Controlling or monitoring parameters in water treatment
    • C02F2209/30H2
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2209/00Controlling or monitoring parameters in water treatment
    • C02F2209/42Liquid level

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)

Abstract

本发明提供一种电解水的生成能力稳定的电解水生成装置。在电解槽(10)中接纳被处理水,在电解槽(10)中,从电解促进剂槽(50)中添加作为电解促进剂的饱和氯化钠水溶液,对被处理水进行电解处理。在进行电解处理时,将被处理水从送入口(10A)送入电解槽(10)中。在电解槽(10)内进行了电解处理的被处理水通过溢流口(10D)排向贮藏槽(12)。在电解槽(10)的内部,设置作为电极对(11)的多个电极对。在进行电解处理时,检测流过设置于从电解槽(10)的送入口(10A)朝向溢流口(10D)的水路的最上游侧的电极对的电极之间的电流值,调整电解槽(10)内的促进剂浓度,由此,按照使该电流值在规定的范围内的方式进行控制。

Description

电解水生成装置
技术领域
本发明涉及电解水生成装置,本发明特别是涉及下述的电解水生成装置,其中,电极对浸泡于被处理水中,通过采用该电极对的电解反应,将被处理水转换为具有所需成分的电解水。
背景技术
在过去,公开有通过电解反应,生成上水管的消毒用等所采用的次氯酸钠的电解水生成装置的技术。
比如,在专利文献1中,公开有通过稀释水对食盐水进行稀释,然后,将该稀释食盐水供给到电解槽,由此,生成次氯酸钠的电解水生成装置的技术。
另外,在上述那样的电解水生成装置中,在稀释水采用包含自来水等的矿物成分的水的场合,具有矿物成分的水垢等附着于电极的阴极侧的问题。另外,由于稀释食盐水的电阻伴随温度而变化,故在该电解水生成装置在冬季的寒冷地区使用的场合,具有下述的问题,即,稀释食盐水的电阻伴随水温而下降,在电解槽内的电极对中,非常大的电流流过电极之间,电极在较短的期间消耗。
此外,在专利文献1中,还公开了下述的电解水生成装置的技术,其中,在生成次氯酸钠的主电解槽的前段,设置前置电解槽,由此,在上述前置电解槽中,预先产生水垢,从而抑制主电解槽的水垢的发生,另外,在上述电解槽中,使送向主电解槽的稀释食盐水的温度上升某种程度。
专利文献1:JP特开平7-216572号公报
发明内容
但是,在具有专利文献1所述的装置的过去的电解水生成装置中,食盐水等用于促进电解的化学药剂注入到电解槽中时的定量的考察到目前是最不够的。由此,电解槽内的、用于促进该电解反应的化学药剂的浓度伴随经历的电解时间而变化,由此,电解水生成装置的电解水的生成能力产生差异。
本发明是针对上述的实际情况而提出的,本发明的目的在于提供电解水的生成能力稳定的电解水生成装置。
本发明的一个方面的电解水生成装置,包括:接纳被处理水的电解槽;该电解槽包括送入被处理水的送入口,以及排出口,该排出口将在该电解槽内进行了电解处理的被处理水排出;该装置还设置有:多个电极对,在上述电解槽的内部,该多个电极对沿从上述送入口朝向上述排出口而形成的水路而并列设置;供电量控制机构,该供电量控制机构按照向上述多个电极对中的相应电极对进行规定量的供电的方式进行控制;化学药剂供给机构,该化学药剂供给机构向上述电解槽的内部供给用于促进由上述电极对进行的被处理水的电解的化学药剂;电流值检测机构,该电流值检测机构检测第1电流值和第2电流值,该第1电流值为向上述多个电极对中的相应电极对进行规定量的供电时的、上述多个电极对中的、构成在上述水路的上游侧并排的电极对的电极之间所流过的电流值,该第2电流值为不是产生第1电流值的电极对的电极之间所流过的电流值;化学药剂量控制机构,该化学药剂量控制机构按照上述第1电流值在规定的范围内的方式对上述化学药剂供给机构所供给的化学药剂的供给量进行控制;上述化学药剂量控制机构在上述第2电流值在特定的电流值以上的场合,将规定上述规定的范围的上限值和下限值更新为小于目前值的值。
按照本发明的一个方面,在电解槽中,对被处理水进行电解处理,按照第1电流值在规定范围内的方式对用于促进供给该电解槽的该电解处理的化学药剂的量进行控制。于是,在电解槽中,可使促进被处理水的电解的程度为一定。
另外,由于沿电解槽的被处理水的循环通路,多个电极对并排,故通过使被处理水循环,该被处理水会通过多个电极对附近。
此外,在第2电流值大于特定的电流值的场合,将作为对第1电流值的控制所采用的值的规定的电流值更新为比其小的值。于是,在产生通过按照规定的电流值,对第1电流值进行控制,第2电流值变大的情况的场合,即,在产生即使适合的电流值流过设置于被处理水的循环通路的最上游侧的电极对,仍有较大的电流流过设置于从上游侧起第2个以后的电极对,对第2个以后的电极对造成负担的情况的场合,可避免该情况。
还有,最好,本发明的电解水生成装置还包括异常通报机构,该异常通报机构以上述化学药剂量控制机构的更新后的规定的范围内的下限值小于一定值为条件,通报异常。
由此,抑制流过设置于从电解槽的被处理水的循环通路的上游侧起第2个以后的电极对的电流,这样,可抑制流过设置于最上游侧的电极对的电流值过度地受到抑制的情况。
本发明的另一方面的电解水生成装置的特征在于其包括电极对;电解槽,该电解槽接纳上述电极对和被处理水;化学药剂供给机构,该化学药剂供给机构向上述电解槽的内部,供给用于促进由上述电极对进行的被处理水的电解的化学药剂的溶液;化学药剂温度检测机构,该化学药剂温度检测机构检测上述化学药剂供给机构所供给的溶液的温度;化学药剂量控制机构,该化学药剂量控制机构根据上述化学药剂温度检测机构所检测的温度,对上述化学药剂供给机构的,经上述电解槽的化学药剂的溶液的供给量进行控制。
按照本发明的另一方面,根据该化学药剂的溶液的温度,对供给到进行被处理水的电解处理的电解槽中的、用于促进该电解处理的化学药剂的溶液的量进行控制。另外,在电解中,电解液的导电率受到该电解液的温度的影响。于是,按照本发明的另一方面,可在与该化学药剂的溶液的温度无关的情况下,在电解槽中,使促进被处理水的电解的程度一定。
此外,最好,在本发明的电解水生成装置中,用于促进上述被处理水的电解的化学药剂为向被处理水内供给氯化物离子的化学药剂。
还有,最好,在本发明的电解水生成装置中,用于促进上述被处理水的电解的化学药剂为氯化钠。
按照本发明,在电解槽中,促进被处理水的电解的程度可为一定。由此,在具有这样的电解槽的电解水生成装置中,可使电解水的生成能力稳定。
另外,按照本发明,由于被处理水通过沿水路流动,确实通过多个电极对的附近,故在电解水生成装置中,可提高对被处理水的电解处理能力。
此外,按照本发明,避免较大的电流流过一部分的电极对,对该电极对造成负担的情况。
还有,按照本发明,与该化学药剂的溶液的温度无关,可使电解槽中的、促进被处理水的电解的程度一定。由此,在具有这样的电解槽的电解水生成装置中,可使电解水的生成能力稳定。
附图说明
图1为以示意方式表示包括本发明的电解水生成装置的第1实施例的、水处理系统的功能组成的图;
图2为以示意方式表示包括本发明的电解水生成装置的第1实施例的、水处理系统的功能组成的图;
图3为用于说明图1的电解槽的电极的设置的图;
图4为图1的电解水生成装置的控制方框图;
图5为在于图1的电解槽中进行电解处理时,图4的控制电路所进行的处理的流程图;
图6为以示意方式表示存储于图4的存储器中的内容的、形成图5的处理的判断基准的内容的图;
图7为在本发明的电解水生成装置的第1实施例中所包含的电解槽中进行电解处理时,该电解水精制装置的控制电路所进行的处理的流程图。
具体实施方式
(第1实施例)
下面参照附图,对本发明的实施例进行描述。
图1和图2以示意方式表示包括本发明的电解水生成装置的第1实施例的,水处理系统的功能组成。在图1和图2中,箭头表示使液体,或气体通过的管和流向。
本实施例的电解水生成装置将水从上水管等处,作为被处理水而供给。另外,电解水生成装置对该被处理,进行电解处理,由此,在该被处理水的内部,产生次氯酸。另外,电解水生成装置将通过电解处理而将含有次氯酸的被处理水供向供水系统等的其它装置。
电解水生成装置主要由次氯酸生成组件1和电解促进剂箱5构成。被处理水从上水管等的供水源,通过阀40,送入该次氯酸生成组件1。
该次氯酸生成组件1包括盛水槽17,该盛水槽17包括送入口17A,17B和排出口17C。在次氯酸生成组件1中,通过阀40送入的被处理水首先,通过送口17A,送入盛水槽17,通过盛水槽17贮存。在盛水槽17的内部,设置有浮子17D。浮子17D按照浮于盛水槽17内的被处理水上的方式设置,按照当该盛水槽17内的被处理水的水位到达规定的水位时,使送入口17A处于关闭状态的方式构成。
次氯酸生成组件1包括电解槽10。该电解槽10包括送入口10A,排气口10B,排出口10C和溢流口10D。在对电解槽10的内部进行清扫等处理的场合,排出口10C处于打开状态,将该电解槽10内的溶液排到电解槽10之外。另外,在排出口10C处于关闭状态后,驱动泵18,或使阀19处于打开状态,由此,通过送入口10A,将盛水槽17内的被处理水送入电解槽10的内部。
在电解槽10的内部,按照浸泡于送入该电解槽10的内部的被处理水中的方式,设置多个电极对11。该电极对11分别由具有阳电极和阴电极的多个电极构成。在次氯酸生成组件1中,从外部的直流电源15,向电极对11供电。另外,在电解槽10中,设置有用于检测该电解槽10内的被处理水的温度的热敏电阻33。
在电解促进剂箱5中,设置有电解促进剂槽50。在该电解促进剂槽50中,贮存有饱和氯化钠水溶液。另外,在电解促进剂槽50中,设置有送入口51和排出口52。另外,在其内部,设置有水位传感器53和热敏电阻56。此外,在电解促进剂箱5中,设置有泵54,该泵54用于将电解促进剂槽50内的饱和氯化钠水溶液送向电解槽10;电磁阀55,该电磁阀55按照与次氯酸生成组件1相同的方式,用于进行将被处理水供向电解促进剂槽50的处理的控制。被处理水通过电磁阀55和送入口51,送入电解促进剂槽50。另外,对应于电磁阀55的开闭状态的改变,改变被处理水向电解促进剂槽50的送入的形态。另外,水位传感器53在电解促进剂槽50内的溶液的水位到达规定的水位的场合,使排出口52处于打开状态。由此,按照电解促进剂槽50内的溶液不越过该规定的水位的方式,适当地将电解促进剂槽50内的溶液通过排出口52,排到排水沟。
在电解槽10中,向电极对11供电,另外,从电解促进剂箱5,添加饱和氯化钠水溶液,由此,对被处理水进行电解处理。可通过电解槽10的电解处理,在该电解槽10内的被处理水中,生成次氯酸。在这里,对在电解槽10的电解处理中预测的化学反应进行描述。
在电解槽10内的被处理水中,添加饱和氯化钠水溶液,由此,下述的式(1),(2)的平衡成立。
             (1)
           (2)
此外,在电极对11的阳电极附近,象式(3)~(5)所示的那样,通过水的电分解,产生氢气,氯化物离子变为氯气,氯气的一部分发生水化,形成次氯酸。
      (3)
         (4)
    (5)
另外,在电极对11的阴电极附近,象式(6),(7)所示的那样,通过水的电分解,产生氢气,通过阳电极产生的钠离子与氢氧化物离子反应,生成氢氧化钠。
     (6)
           (7)
由此,在阴电极附近,生成氢氧化钠,被处理水为碱性。
按照上述式生成的各种气体通过排气口10连接的管,送向次氯酸生成组件1的外部。另外,通过使设置于该管上的吹风机电动机14驱动,促进这样的气体的排出。
在次氯酸生成组件1中,在电解槽10的外侧,设置贮藏槽12,该贮藏槽12用于贮藏从该电解槽10内部通过溢流口10D而溢流出的被处理水。在该贮藏槽12中,设置有排出口12A~12C。如果贮藏槽12内的被处理水超过规定的水位,则其从排出口12A溢流,排出到排水沟。另外,在阀32打开的状态,贮藏槽12内的被处理水通过排出口12B,排出到排水沟。在贮藏槽12中,设置有水位传感器13,该水位传感器13检测该贮藏槽12内的被处理水的水位。阀32比如,以水位传感器13的检测水位越过某个一定的水位为条件,处于打开状态。
另外,如果阀24处于打开状态,则贮藏槽12内的被处理水通过排出口12C,适当地送入设置于次氯酸生成组件1的外部的贮藏箱6,氯药剂箱7等中。另外,贮藏箱6和氯药剂箱7为贮藏通过次氯酸生成组件1生成的次氯酸的箱的一个实例。在贮藏箱6中,设置有贮藏槽60;阀61,该阀61用于调整被处理水朝向该贮藏槽60的送入量;阀62,该阀62调整被处理水从该贮藏槽60的排出量。贮藏槽60内的被处理水通过泵20、泵25,送向所需的部位,另一方面,在贮存于贮藏槽60中的被处理水越过规定量的场合,通过阀62,或通过形成于贮藏槽60中的溢流孔60A,将该被处理水送向外部的排水沟。在氯药剂箱7中,设置有贮藏槽70和阀71,该贮藏槽70将在次氯酸生成组件1中生成的被处理水与次氯酸钠一起贮藏,该阀71调整被处理水朝向该贮藏槽70的送入量。
另一方面,泵20,25等的泵与该贮藏槽12的排出口12C连接,通过驱动该泵,将贮藏槽12内的被处理水适当地送入与该泵连接的装置。另外,在排出口12C处,还可连接象作为泵21~23而描述的那样的,多个泵。
在次氯酸生成组件1中,电解槽10和贮藏槽12在基本密封的状态,接纳于规定的壳体内部,虽然关于这一点的图示省略。另外,上述的,与电解槽10的排气口10B连接的管按照穿过壳体的方式,向次氯酸生成组件的外部延伸。另外,在壳体内部,在电解槽10之外、在排气口10B的附近,设置有检测氢气浓度的氢气传感器16。象上述那样,伴随在电解槽10中电解处理的进行,产生氢气。该氢气等的各种气体通过驱动吹风机电动机14,适当地向电解槽和接纳该电解槽的壳体之外排出。另外,在次氯酸生成组件1中,在吹风机电动机14因故障等而无法正常驱动的场合,该场合通过下述的方式识别,该方式为:通过氢气传感器16检测的氢气浓度增加。另外,在本实施例的电解水生成装置中,设置从整体上对该电解水生成装置的动作进行控制的控制电路(后述的控制电路100),该控制电路在氢气传感器16所检测的氢气浓度超过规定的浓度的场合,停止向电极对11进行供电,以便停止电解处理。
此外,在次氯酸生成组件1中,设置有主体排水道30。在该主体排水道30中,在次氯酸生成组件1内的电解槽10,或贮藏槽12万一泄漏的场合,收集泄漏的废液。将收集于主体排水道30中的废液送到适合的场所。
本实施例的电解水生成装置通过泵20,向供水系统8,供给包括次氯酸的被处理水。在该供水系统8中,比如,设置有槽801,该槽801由洗澡的浴槽构成;设置于槽801中的排水口801A;砂过滤器803,该砂过滤器803对从排水口801A排出的水进行过滤;泵802,该泵802用于促进从排水口801A向砂过滤器803的水的流动;热交换器804,在将从砂过滤器803排出的水返回到槽801之前,将该水送入该热交换器804;用于将次氯酸等的化学药剂供到槽801内部的水的化学药剂供给槽805;泵806,该泵806将化学药剂供给槽805内的化学药剂送向与用于从槽801排出的水混合的管。
在化学药剂供给槽805与从槽801排出的水混合时,从次氯酸生成组件1传送的被处理水也与从该槽801排出的水混合。另外,化学药剂供给槽805也为用于在从槽801排出的水中添加次氯酸的槽。于是,通过适当地调整阀809和阀810,按照在从槽801排出的水中产生必要量的次氯酸的方式,将来自次氯酸生成组件1的被处理水和/或槽805内的化学药剂与从槽801排出的水混合。象这样,在将从槽801排出的水送入砂过滤器803之前,在其内添加次氯酸,将其通过该砂过滤器803和热交换器804,再次返回到槽801。
另外,通过适当地打开阀808,将从槽801暂时排出的水送向检水组件9。在检水组件9中,该水通过筒体过滤器91过滤,在其流量通过恒定流量阀92调整后,送向残留氯浓度传感器93,检测残留氯浓度。在供水系统800中,对应于通过检水组件9检测的残留氯浓度,对阀810和/或阀809的开闭状态进行控制,由此,按照槽801内的水的残留氯浓度在优选的范围内的方式进行控制。
图3为用于说明电解槽10的电极的设置的图。另外,图3为相当于在取下外盖的状态,从上观看电解槽10的图。另外,在图3中,箭头表示被处理水的流向。
参照图3,在电解槽10中,作为电极对11(参照图1)的具体实例,设置有电极对111~114的4组电极对。即,图1所示的电极对11由电极对111~114构成。
该电极对111~114分别包括5个电极111A~111E,112A~112E,113A~113E,114A~114E。针对在各电极对中,5个电极按照阴电极,阳电极,阴电极,阳电极,阴电极的顺序并排。另外,从直流电源15,向构成电极对111~114的电极111A~111E,112A~112E,113A~113E,114A~114E供电。在图3中,通过虚线表示连接电极111A~111E,112A~112E,113A~113E,114A~114E和直流电源15的布线。
在电解槽10的内部,适当地设置有内壁10P,10Q,10R,10S,10X,10Y。由此,从送入口10A,送入电解槽10的内部的被处理水在依次通过电极对111,电极对112,电极对113,电极对114后,从溢流口10D,排向电解槽10之外。在本实施例中,形成排出口,该排出口通过溢流口10D,排出在本发明的电解槽内进行电解处理的被处理水。另外,构成下述的水路,该水路通过从电解槽10内的送入口10A到溢流口10D的被处理水的流动的通路,从本发明的电解槽的送入口朝向排出口而形成。
图4表示本实施例的电解水生成装置的控制方框图。
在本实施例的电解水生成装置中,设置有控制电路100,该控制电路100从整体上对该电解水生成装置的动作进行控制。在该控制电路100中,设置有存储器101,在该存储器101中,存储有后述那样的控制电路100所运行的处理程序,以及电解水生成装置的各种测定仪的检测输出等的各种信息。
在控制电路100中,输入来自水位传感器13,53,氢气传感器15,以及热敏电阻33,56的相应的检测信号。另外,在次氯酸生成组件1中,设置有检测在电极对111~114中的相应的阳电极和阴电极之间流动的电流值的电流计110,将该电流计110所检测的电流值输入到控制电路100中。电流计110所检测的电极对111~114的相应的电流值比如,为电极对111~114中分别包含的电极串联的电路的电流值。具体来说,比如,针对电极对111而检测的电流值为电极对111A,111B,111C,111D,111E的5个电极为依次串联的电路的电流值。
此外,控制电路100对从直流电源15向电极对11(电极对111~114)的供电形态进行控制,另外,对泵18,20,54,电磁阀55和吹风机电动机14的动作进行控制。
图5为在于电解槽10中进行电解处理时,控制电路100所进行的处理(电解生成处理)的流程图。在这里,参照图5,对在于电解槽10中进行电解处理时的本实施例的电解水生成装置的动作内容进行描述。
如果向电解槽10送入规定量的被处理水,则在S1,接通直流电源15,开始从该直流电源15向电极对11进行供电。
接着,在S2,控制电路100检查流过电解槽10内的最前级的电极(构成电解槽10的水路的最上游侧的电极对的电极。具体来说,构成电极对111的电极111A~111E)的直流电流值。
另外,在存储器101中,存储在图6中以示意方式表示的那样的,相对该最前级的电流值,形成其以后的处理的判断基准的内容。在这里,对图6所示的判断基准进行描述。图6表示将直流电流值从较小值,划分为F1,F2,F3的3个范围的图。另外,在图6中,在直流电流值中,F1表示到控制下限值的范围,F2表示在控制下限值以上,控制上限值以下的范围,F3表示超过控制上限值的范围。另外,控制下限值和控制上限值为针对次氯酸生成组件1中所构成的每种环境而确定的值。
还有,在S2,控制电路100判断检查的直流电流值是否在F1的范围内。另外,如果在F1的范围内,则在S4,进行处理,如果不是这样,在S3,进行处理。
在S3,判断在S2检查的直流电流值是否在F2的范围内,如果判断为在F2的范围内,则在S6进行处理,如果判断为不在该范围内,则在S8进行处理。即,如果判断为上述的直流电流值在F3的范围,则在S8进行处理。
在S4,控制电路100按照对作为稀释水注入用的泵的泵18进行30秒的驱动,进行30秒的停止的方式动作,另外,在S5,连续地使作为电解促进剂注入用的泵的泵54动作,在S10,进行处理。电解促进剂指促进电解的化学药剂的含义,在本实施例中,具体指氯化钠。另外,本发明可采用的电解促进剂并不限于氯化钠,如果为可向水溶液中供给氯化物离子的化合物的化学药剂,则也可为氯化钾等。
此外,在S6,控制电路100连续地使泵18动作,另外,在S7,连续地使泵54动作,在步骤S10,进行处理。
还有,在S8,控制电路100连续地使泵18动作,另外,在S9,使泵54的动作停止(中断),在S10,进行处理。
即,在S2~S10的处理中,在前级的电极的电流值低于F2的范围的场合,电解促进剂是连续地添加于电解槽10的内部,而稀释水只是间断地添加,在F2的范围内的场合,电解促进剂和稀释水均连续地添加于电解槽10的内部,在高于F2的范围的场合,将稀释水添加于电解槽10的内部,但是不将电解促进剂添加于电解槽10的内部。
由此,按照在F2的范围内的方式,对最前级的电极的电流值进行控制。具体来说,在与F2的范围相比较,最前级的电极的电流值较低的场合,使电解槽10内的电解促进剂浓度提高,由此,按照该电流值上升的方式进行控制。另一方面,在与F2的范围相比较,最前级的电极的电流值较高的场合,使电解槽10内的电解促进剂浓度降低,由此,按照该电流值下降的方式进行控制。
在S10,控制电路100检查流过上述水路的第2级的电极(在本实施例中,为构成电极对112的电极112A~112E)的电流值。另外,在存储器101中,作为第2级的电极的电流值的判断基准,预先存储不同于图6所示的控制上限值和控制下限值的恒定的特定的电流值。另外,在S10,控制电路100判断已检查的第2级的电极的电流值是否小于该特定的电流值。另外,如果判定小于该值,则返回到S2,进行处理。另一方面,如果判定在该特定的电流值以上,则在S11,进行处理。
在S11,控制电路100将图6所示的最前级的电极的控制上限值与控制下限值更新为10A(安培)的较低值,在S12,进行处理。
在S12,控制电路100判断在S11更新后的控制下限值是否小于预定的一定的电流值。此时,控制电路100在判定小于该值时,在S13,通过声音,或显示等方式,进行异常通报,然后,在S14,进行停止向电极对11供电等的处理,停止对电解处理的控制。另一方面,在控制电路100判定该控制下限值在该一定的电流值以上时,则返回到S2,进行处理。
(第2实施例)
在上述的第1实施例中,象特别是参照图5和图6而描述的那样,在图1所示的电解水生成装置中,按照调整添加于电解槽10中的电解促进剂浓度,调整该电解槽10内的电解促进剂浓度,由此,该电解槽10内的最前级的电极的电流值在规定的范围内(F2的范围内)的方式进行控制。
在本实施例中,在其结构与第1实施例相同的电解水生成装置中,对应于电解促进剂槽50的电解促进剂(饱和氯化钠水溶液)的温度,调整作为电解促进剂注入用的泵的泵54驱动时的注入量,以便更正确地调整电解促进剂温度。另外,对应电解促进剂的温度,调整泵54驱动时的注入量,其原因在于对应于温度,饱和氯化钠水溶液的浓度发生变化。另外,通过调整供给该泵54的单位时间的动力,调整泵54驱动时的注入量。
图7为在本实施例的电解槽10中进行电解处理时,控制电路100所进行的处理(电解水生成处理)的流程图。下面参照图7,对在电解槽10中进行电解处理时的本实施例的电解水生成装置的动作内容进行描述。
如果将规定量的被处理水送入电解槽10中,则在SA1,接通直流电源15,开始从该直流电源15向电极对1进行供电。
接着,在SA2,控制电路100检测电解促进剂槽50内的饱和氯化钠水溶液的温度,另外,按照作为电解促进剂注入用的泵的泵54的注入量与已检测的温度相对应的方式,改变提供给泵54的动力。使电解促进剂槽50内的饱和氯钠水溶液的温度和泵54的注入量预先通过表的形式等相关联,将其存储于存储器101中,控制电路100通过参照存储于该存储器101中的表等进行SA2的处理。此外,在存储于存储器101中的表等中,泵54的注入量基本按照电解促进剂槽50内的饱和氯化钠水溶液的温度越高该注入量越小的方式存储。
然后,在SA3,控制电路100检查流过电解槽10内的最前级的电极的直流电流值,判断该检查的直流电流值是否在F1(参照图6)的范围内。接着,如果在F1的范围内,则在SA5,进行处理,如果不是这样,则在SA4,进行处理。
在SA4,控制电路100判断在SA3检查的直流电流值是否在F2(参照图6)的范围内,如果判定在F2的范围内,则在SA7,进行处理,如果不是这样,则在SA9,进行处理。即,如果判定上述直流电流值在F3(参照图6)的范围内,则在SA9,进行处理。
在SA5,控制电路100使作为稀释水注入用的泵的泵18按照驱动30秒,停止30秒的方式动作,接着,在SA6,连续地使作为电解促进剂注入用的泵的泵54连续地动作,返回到SA2,进行处理。
另外,在SA7,控制电路100连续地使泵18动作,接着,在SA8,连续地使泵54动作,返回到SA2,进行处理。
此外,在SA9,控制电路100连续地使泵18动作,接着,在SA19,停止(中止)泵54的动作,返回到SA2,进行处理。
在以上描述的本实施例中,在进行电解处理的期间,泵54的电解促进剂的注入量经常与电解促进剂50内的电解促进剂的温度相对应。
应认为本次公开的各实施例在全部的方面是列举性的,而并不是限制性的。本发明的范围不由上述的说明给出,而由权利要求的范围给出,包括与权利要求的范围等同的含义和范围内的全部变更方案。另外,只要可能,各实施例既可单独实施,也可按照组合的方式实施。

Claims (4)

1.一种电解水生成装置,其特征在于,该电解水生成装置包括:接纳被处理水的电解槽;
该电解槽包括送入被处理水的送入口,以及排出口,该排出口将在该电解槽内进行了电解处理的被处理水排出;
该装置还设置有:
多个电极对,在上述电解槽的内部,该多个电极对沿从上述送入口朝向上述排出口而形成的水路而并列设置;
供电量控制机构,该供电量控制机构按照向上述多个电极对中的相应电极对进行规定量的供电的方式进行控制;
化学药剂供给机构,该化学药剂供给机构向上述电解槽的内部供给用于促进由上述电极对进行的被处理水的电解的化学药剂;
电流值检测机构,该电流值检测机构检测第1电流值和第2电流值,该第1电流值为向上述多个电极对中的相应电极对进行规定量的供电时的、上述多个电极对中的、构成在上述水路的上游侧并排的电极对的电极之间所流过的电流值,该第2电流值为不是产生第1电流值的电极对的电极之间所流过的电流值;
化学药剂量控制机构,该化学药剂量控制机构按照上述第1电流值在规定的范围内的方式对上述化学药剂供给机构所供给的化学药剂的供给量进行控制;
上述化学药剂量控制机构在上述第2电流值在特定的电流值以上的场合,将规定上述规定的范围的上限值和下限值更新为小于目前值的值。
2.根据权利要求1所述的电解水生成装置,其特征在于其还包括异常通报机构,该异常通报机构以上述化学药剂量控制机构的更新后的上述规定的范围内的下限值小于一定值为条件,通报异常。
3.根据权利要求1或2所述的电解水生成装置,其特征在于用于促进上述被处理水的电解的化学药剂为向被处理水内供给氯化物离子的化学药剂。
4.根据权利要求3所述的电解水生成装置,其特征在于用于促进上述被处理水的电解的化学药剂为氯化钠。
CN200410088497.3A 2003-11-07 2004-11-03 电解水生成装置 Expired - Fee Related CN1282611C (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003378334A JP4353772B2 (ja) 2003-11-07 2003-11-07 電解水生成装置
JP378334/03 2003-11-07
JP378334/2003 2003-11-07

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1613787A CN1613787A (zh) 2005-05-11
CN1282611C true CN1282611C (zh) 2006-11-01

Family

ID=34587230

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN200410088497.3A Expired - Fee Related CN1282611C (zh) 2003-11-07 2004-11-03 电解水生成装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20050109610A1 (zh)
JP (1) JP4353772B2 (zh)
KR (1) KR100626586B1 (zh)
CN (1) CN1282611C (zh)

Families Citing this family (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5140218B2 (ja) * 2001-09-14 2013-02-06 有限会社コヒーレントテクノロジー 表面洗浄・表面処理に適した帯電アノード水の製造用電解槽及びその製造法、並びに使用方法
EP1461474B1 (en) 2001-12-05 2011-11-30 Oculus Innovative Sciences, Inc. Method and apparatus for producing negative and positive oxidative reductive potential (orp) water
US9168318B2 (en) 2003-12-30 2015-10-27 Oculus Innovative Sciences, Inc. Oxidative reductive potential water solution and methods of using the same
US20050196462A1 (en) * 2003-12-30 2005-09-08 Oculus Innovative Sciences, Inc. Topical formulation containing oxidative reductive potential water solution and method for using same
JP5816406B2 (ja) 2005-03-23 2015-11-18 オキュラス イノヴェイティヴ サイエンシズ、インコーポレイテッド 酸化還元電位水溶液を使用する皮膚潰瘍の治療方法
WO2006119300A2 (en) 2005-05-02 2006-11-09 Oculus Innovative Sciences, Inc. Method of using oxidative reductive potential water solution in dental applications
CA2637175C (en) 2006-01-20 2015-07-14 Oculus Innovative Sciences, Inc. Methods of treating or preventing inflammation and hypersensitivity with oxidative reductive potential water solution
KR100802361B1 (ko) * 2006-12-01 2008-02-15 (주) 시온텍 전해살균 소독수 공급장치
KR101338220B1 (ko) * 2006-12-20 2013-12-06 (주)세호코리아 해수 전기분해에 의한 안전한 선박 냉각수 공급장치 및방법
KR100870366B1 (ko) * 2007-04-12 2008-11-25 청호나이스 주식회사 냉이온수기 및 그 작동방법
MX348304B (es) 2009-06-15 2017-06-02 Invekra S A P I De C V Solucion que contiene acido hipocloroso y metodos para usar la misma.
FR2951446B1 (fr) * 2009-10-20 2011-11-25 Pacific Ind Dispositif de traitement d'une eau de bassin et notamment de piscine a partir d'un derive halogene et procede de mise en oeuvre associe
AR082347A1 (es) * 2010-07-28 2012-11-28 Chevron Usa Inc Sistema y metodo de reutilizacion de agua de fluido de fractura
JP5909506B2 (ja) * 2012-01-23 2016-04-26 シャープ株式会社 水浄化装置および消毒液製造装置
GB2513368B (en) * 2013-04-25 2016-01-27 Radical Filtration Ltd Process apparatus
CN105198044B (zh) * 2014-06-26 2017-12-01 苏州三星电子有限公司 一种溶液电解雾化装置
JP5980373B1 (ja) * 2015-04-28 2016-08-31 シャープ株式会社 電解装置
JP6578181B2 (ja) * 2015-10-08 2019-09-18 モレックス エルエルシー 電解水の製造装置
CN105352114B (zh) * 2015-10-28 2017-10-03 小米科技有限责任公司 水流控制器及水流控制方法
CN105645527A (zh) * 2016-01-15 2016-06-08 佛山市海狮凯尔科技有限公司 一种动物饲养和植物养植专用的消毒设备
TWI619678B (zh) * 2016-07-21 2018-04-01 Wu Huang Tzu 電解水設備
CN107055699A (zh) * 2017-04-16 2017-08-18 重庆七口泉环保科技有限公司 一种控制电解液温度的强碱性电解水生成装置
CN106977022B (zh) * 2017-04-16 2020-11-27 重庆七口泉生物医药科技有限公司 一种强碱性电解水生产系统
CN107055698A (zh) * 2017-04-16 2017-08-18 重庆七口泉环保科技有限公司 一种控制电解液浓度的强碱性电解水生成装置
WO2019026631A1 (ja) * 2017-08-04 2019-02-07 パナソニックIpマネジメント株式会社 電解促進錠剤投入装置及び電解水散布装置
JP6621150B2 (ja) * 2018-04-26 2019-12-18 興研株式会社 電解水生成装置及び内視鏡洗浄装置
JP7269791B2 (ja) * 2019-05-15 2023-05-09 リンナイ株式会社 熱機器
CN115636479B (zh) * 2021-07-19 2024-08-23 重庆美的制冷设备有限公司 净化设备及其控制方法、装置及存储介质
US11291183B1 (en) * 2021-08-13 2022-04-05 Green Life Llc Pet hydration system
KR102654788B1 (ko) 2021-10-12 2024-04-04 백진아 전해수 생성장치

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3612569B2 (ja) * 1994-07-29 2005-01-19 東陶機器株式会社 低濃度次亜塩素酸含有強酸性殺菌水、低濃度次亜塩素酸含有強酸性殺菌水の生成方法、生成装置及び低濃度次亜塩素酸含有強酸性殺菌水生成吐出装置
US5985155A (en) * 1997-11-14 1999-11-16 Autopilot Systems, Inc. Method and apparatus for automatic adjustment of halogen production in a water treatment system
US5948220A (en) * 1998-02-27 1999-09-07 Hoshizaki Denki Kabushiki Kaisha Production system of electrolyzed water
JP2000042556A (ja) * 1998-05-28 2000-02-15 Shimadzu Corp 電解水製造装置
JP2002153872A (ja) 2000-11-16 2002-05-28 Hoshizaki Electric Co Ltd 電解水生成装置
JP3957476B2 (ja) * 2001-05-28 2007-08-15 三洋電機株式会社 水処理装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP4353772B2 (ja) 2009-10-28
KR20050044245A (ko) 2005-05-12
US20050109610A1 (en) 2005-05-26
KR100626586B1 (ko) 2006-09-25
CN1613787A (zh) 2005-05-11
JP2005138044A (ja) 2005-06-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1282611C (zh) 电解水生成装置
CN1157341C (zh) 水处理装置
CN1101861C (zh) 用于产生混合氧化剂气体的电解池
JP5609439B2 (ja) 炭酸ガス固定方法及び炭酸ガス固定装置
CN1232887A (zh) 电解水发生装置
JPH0293088A (ja) 水電解方法及び装置
CN1278959C (zh) 氮处理方法以及氮处理系统
CN1220794C (zh) 用于精制碱性溶液的装置和方法
GB2046308A (en) Electrolytic chlorine purification of water
JP5824793B2 (ja) マグネシウム回収方法及びマグネシウム回収装置
CN1436736A (zh) 排水处理方法及排水处理装置
CA2267265A1 (en) Electrochemical processing of liquid such as water
EP1461291B1 (en) Electrolytic device and method for disinfecting water in a water supply system by means of the generation of active chlorine
CN106277227A (zh) 一种利用电化学pH调节装置和芬顿试剂处理废水的方法
CN1623918A (zh) 一种电解法水处理装置
CN106498439B (zh) 次氯酸钠发生装置
CN1397666A (zh) 次卤酸发生方法及装置
CN106045139A (zh) 一种线路板行业板面清洗水复合电化学反应预处理及回用的装置及工艺
KR200441983Y1 (ko) 의료기기 소독용 차아염소산나트륨 생성장치
CN1229283C (zh) 水处理装置
CN1594119A (zh) 水处理方法及水处理装置
CN216550748U (zh) 一种利用反渗透浓水电解制备次氯酸钠的次氯酸钠发生器
JP4349862B2 (ja) 水処理装置
CN1603246A (zh) 水处理装置
CN1259156C (zh) 废弃物处理系统

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20061101

Termination date: 20161103