CN1252520C - 器件及其制造方法、具有该器件的电子仪器 - Google Patents

器件及其制造方法、具有该器件的电子仪器 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种器件及其制造方法、具有该器件的电子仪器。在基板(23、24)上形成了底层要素的基体的底层要素上，形成了功能性膜(36、38、40)的器件(20)。在底层要素上设置对于用于形成功能性膜(36、38、40)的液态形成材料具有亲液性的亲液膜(15、16、17)，在这些亲液膜(15、16、17)上设置有功能性膜(36、38、40)。由此，可使形成在底层要素上的功能性膜平坦并且厚度均匀，提高功能性膜的性能。

Description

器件及其制造方法、具有该器件的电子仪器
技术领域
本发明涉及在基板上形成底层要素，再在其上形成功能性膜的器件和及其制造方法、电子仪器。
背景技术
近年，在移动电话、便携式个人电脑等电子仪器中广泛使用了液晶显示装置等显示器件。
作为在这样的显示器件中使用的滤色器基板，以往知道例如图11所示的构造的基板。在图11中，符号201是基板，在该基板201上，把构成滤色器的R(红)、G(绿)、B(蓝)的各颜色像素202R、202G、202B形成规定的排列，例如带排列、马赛克排列、三角排列等，在其上形成保护膜203。
这里，之所以在颜色像素202R、202G、202B上形成保护膜(保护膜)203是为了使保护膜203发挥以下的功能。
第一，通过形成保护膜203，使滤色器基板的表面平坦化，防止在该滤色器基板的表面形成电极的断线。
第二，通过防止断线，使电极的薄膜化、低电阻化成为可能，由此，提高像素间的对比度比。
第三，在保护膜203的形成后接着进行的步骤中，防止对滤色器基板内的像素(颜色像素202R、202G、202B)带来损伤，起到了保护作用。
第四，在液晶显示装置中使用了滤色器基板的情况下，在单元间隔内密封了液晶后，防止杂质从滤色器基板扩散到液晶中。
以往，通过在基板201上的由黑矩阵204划分的规定的区域中形成了R(红色)、G(绿色)、B(蓝色)或C(蓝绿色)、M(洋红色)、Y(黄色)等多种颜色像素202R、202G、202B后，并且在黑矩阵204和颜色像素202R、202G、202B的整个表面上，通过旋转镀膜法等把抗蚀剂等液态透明树脂涂敷为均一的厚度，就形成了具有这样的功能的保护膜203。
此外，采用了在形成这样的保护层203之间，作为颜色像素202R、202G、202B的形成方法，使用光刻法，对为各色制膜的颜色像素材料构图的方法。
可是，这样使用光刻法进行构图，形成各颜色像素时，因为步骤复杂，或消耗了大量的各颜色像素材料和抗蚀剂等，所以存在成本升高的问题。
因此，为了解决这些问题，提出了通过液滴喷出法(喷墨法)，把滤波材料(颜色像素材料)等喷出为点状，把颜色像素等构成要素排列、形成为点状。
即如图12(a)所示，首先，在基板2上形成规定的高度的划分材料6。关于该划分材料6，对于由液滴喷出法喷出的液态滤波材料5，由具有斥液性的树脂材料形成。或者，形成后，为了发挥斥液性，在其表面形成斥液膜。这样，划分材料6对于滤波材料5具有斥液性，所以如图12(b)所示，通过在彼此相邻的滤波材料5之间存在划分材料6，不会混合，而分别独立形成颜色像素。
这样，如图12(c)所示，能通过液滴喷出法形成由颜色像素3(3R、3G、3B)构成的滤色器。此外，如上所述，如图12(d)所示，通过在这些颜色像素3(3R、3G、3B)上形成保护膜4，能制作滤色器基板。
可是，在图12所示的方法中，划分材料6具有斥液性，所以即使对于涂敷在其上的保护膜4的液态材料，也发挥斥液性，作为结果，在划分材料6的表面上引起液态材料的涂敷不均匀。这样，在保护膜4上发生膜厚不均匀，所以所述的保护膜的四个功能不能充分发挥，因此，在使用了它的液晶显示装置等器件中，发生显示质量下降等问题。
此外，在这样的保护膜(保护膜)以外，在形成在基板上的各种底层要素上设置的膜或层例如平坦化膜或层间绝缘膜、液晶显示装置中使用的定向膜等都发挥要求的功能，并且不会被底层要素引起的凹凸影响，希望是平坦、均匀的膜(层)。
发明内容
本发明鉴于所述事实，其目的在于：对于形成在底层部件上的功能性膜，使其平坦、厚度均匀，由此，提供可提高功能性膜的功能的器件及其制造方法、电子仪器。
为了实现所述目的，在本发明的器件中，具有在基板上形成了底层部件的基体，在所述底层部件上形成有功能性膜，其特征在于：在所述底层部件上设置有对用于形成所述功能性膜的液态形成材料具有亲液性的亲液膜，在该亲液膜上设置有所述功能性膜。
亲液膜设置在底层部件上，成为在该亲液膜上设置了功能性膜的结构，所以当在亲液膜上涂敷了用于形成功能性膜的液态形成材料时，通过该液态形成材料对于亲液膜，浸湿性良好，在该亲液膜上良好地扩散，由此进行平坦化，并且由于均匀扩散，膜厚均匀化。因此，根据该器件，通过功能性膜形成平坦、均匀的厚度，功能性膜的功能特性变为良好。
此外，在所述器件中，希望所述亲液膜是由亲液膜形成材料在大气压下或减压下通过等离子体处理而形成的。
这样，亲液膜对于用于形成功能性膜的液态形成材料具有更良好的亲液性，所以功能性膜的平坦化、膜厚均匀化变得显著，因此，功能性膜的功能特性进一步提高。
此外，在所述器件中，所述亲液膜希望是由亲液膜形成材料在大气压下或减压下通过接受了电磁波的照射而形成的。此外，这时，所述电磁波希望是紫外线。
这样，用于亲液膜的形成的电磁照射装置比等离子体装置简易、便宜，因此，能降低制造成本。特别是当使用了紫外线作为电磁波时，该照射装置变为更便宜，所以制造成本进一步降低。
在本发明的器件的制造方法中，该器件具有在基板上形成了底层部件的基体，而在所述底层部件上形成了功能性膜，其特征在于：在所述底层部件上形成对用于形成所述功能性膜的液态形成材料具有亲液性的亲液膜；在该亲液膜上设置所述功能性膜。
根据该器件的制造方法，在底层部件上形成亲液膜，在该亲液膜上设置功能性膜，所以在亲液膜上涂敷了用于形成功能性膜的液态形成材料时，该液态形成材料对于亲液膜，浸湿性好，所以该液态形成材料能在亲液膜良好地扩展，由此，能使功能性膜平坦化，并且能均匀扩散，使其膜厚均匀化。因此，能把功能性膜形成平坦、均匀的厚度，能使功能性膜的功能特性良好，由此，能提高制品的良品率，并且能缩短制膜时间。
此外，在所述制造方法中，希望通过在大气压下或减压下对亲液膜形成材料进行等离子体处理，形成所述亲液膜。
这样，亲液膜变为对于用于形成功能性膜的液态形成材料具有更良好的亲液性，所以功能性膜的平坦化、膜厚均匀化变得显著，因此，能进一步提高功能性膜的功能特性。
此外，在所述制造方法中，希望通过在大气压下或减压下对亲液膜形成材料照射电磁波，形成所述亲液膜。此外，这时，希望所述电磁波是紫外线。
这样，用于亲液膜的形成的电磁照射装置比等离子体装置简易、便宜，因此，能降低制造成本。特别是当使用了紫外线作为电磁波时，该照射装置变为更便宜，所以制造成本进一步降低。
在本发明的电子仪器中，具有所述器件。
根据该电子仪器，通过具有功能性膜的功能特性良好的器件，显示特性等各种功能变为良好。
附图说明
图1是表示把本发明的器件应用于液晶显示装置中的一例的侧剖视图。
图2是表示亲液膜形成装置的一例的概念图。
图3是表示作为电磁波处理装置的一例的概念图。
图4是表示大气压等离子体装置的概略结构的图，(a)是侧剖视图，(b)是(a)的A-A线剖视图。
图5是表示把本发明的器件应用于显示器中的一例的平面模式图。
图6是表示把本发明的器件应用于显示器中的一例的图，(a)是显示器的平面图，(b)是(a)的AB线剖视图。
图7是图5、图6所示的显示器的主要部分侧剖视图。
图8是表示具有本实施例的光学器件的电子仪器的一例的图。
图9是表示具有本实施例的光学器件的电子仪器的一例的图。
图10是表示具有本实施例的光学器件的电子仪器的一例的图。
图11是表示以往的滤色器基板的一例的主要部分侧剖视图。
图12(a)～(d)是用于按步骤顺序说明滤色器基板的制造方法一例的主要部分侧剖视图。
具体实施方式
以下，详细说明本发明。
在本实施例中，以作为具有覆盖滤色器的保护膜或定向膜的显示器件的液晶显示装置为例，说明本发明的器件。
图1是作为显示器件的液晶显示装置，在图1中，符号20是半透射反射型的彩色液晶显示装置。此外，在以下的附图中，为了容易观察附图，适当使各构成要素的膜厚或尺寸的比率等不同。
该液晶显示装置20具有液晶单元21和背光22(照明装置)。液晶单元21与下基板23、上基板24对向配置，在上基板24和下基板23之间，夹持了由把相位差设定为λ/2的向列型液晶等构成的液晶层26。在液晶单元21的后面一侧(下基板23的外面一侧)配置有背光22，背光22具有由LED(发光二极管)等构成的光源27、导光板28、反射板29等。
在由玻璃等透光性材料构成的下基板23的内表面一侧形成半透射反射层33。下基板23由玻璃等透光性基板构成，半透射反射层33使具有规定的旋转方向的圆偏振光中的一部分反射，使一部分透射。
在下基板23的半透射反射层33的上方，由ITO等透明导电膜构成的下部电极37形成条纹状，在其上隔着亲液膜形成由聚酰亚胺等树脂构成的定向膜38(使液晶层26的液晶分子定向的定向膜)。亲液膜15是为了使功能膜即定向膜38对于成为底层要素的下部电极37变为平坦并且均匀而设置的，由对于用于形成定向膜38的液态形成材料，具有亲液性的材料、聚乙烯膜等碳氢类聚合膜形成。
而在上基板24的内面侧，在由划分材料6划分的区域内分别设置有包含R、G、B等不同颜色的颜料的颜色像素34r、34g、34b，由此，形成滤色器层35。此外，划分材料6如上所述，由对于滤色器层35具有斥液性的树脂材料等形成，或者形成后，为了发挥斥液性，在其表面形成斥液膜。
在这些划分材料6和滤色器层35(颜色像素34r、34g、34b)上隔着亲液膜16形成保护膜(保护层)36。亲液膜16是与所述亲液膜15同样的目的形成的，用于对于成为底层要素的划分材料6和滤色器层35使功能膜即保护膜36变为平坦并且均匀而设置的。此外，该亲液膜也由对于用于形成保护膜36的液态形成材料具有亲液性的材料例如聚乙烯膜等碳氢类聚合膜形成。
在保护膜36的内面侧，由ITO等透明导电膜构成的上部电极39形成条纹状，在其上隔着亲液膜17形成由聚酰亚胺等树脂构成的定向膜40(使液晶层26的液晶分子定向的定向膜)。亲液膜17与所述亲液膜15同样，是用于对于成为底层要素的上部电极39使功能膜即定向膜40平坦并且均匀而设置的，由聚乙烯膜等碳氢类聚合膜形成。
此外，在由下部电极37、上部电极39构成的电极结构中，采用使用了薄膜晶体管(TFT)、薄膜二极管(TFD)等开关元件的有源矩阵方式、无源矩阵方式中的任意一种。
在上基板24的外面侧，从基板一侧按顺序设置有上相位差板42、上偏光板43(由双方构成上基板一侧圆偏振光入射部件)。而在下基板的外面侧从基板一侧按顺序设置有下1/4波长板(下相位差板)44和下偏光板45(由双方构成基板一侧圆偏振光入射部件)。这些相位差板42、44和偏光板43、45用于对于液晶26具有规定的旋转方向的圆偏振光入射。可是，当想使设置在上基板24一侧的相位差板具有颜色补偿的功能时，并不一定要1/4波长板，可以选择具有任意相差的相位差板。
作为由这样的结构构成的液晶显示装置20的制造方法，说明亲液膜15(16、17)和配置在其上的功能膜(保护膜36、定向膜38、40)的形成。
图2是表示亲液膜形成装置的一例的概念图，该亲液膜形成装置把包含正癸烷的氦(He)气在大气压下(或减压下)等离子体化，通过向基体S照射该等离子体，在基板S的表面形成亲液膜。这里，基体S是指在基板23(24)上形成了滤色器层35或电极(下部电极37、上部电极39)等的状态。
在该亲液膜形成装置中，把氦气以流量100[sccm]导入贮存在容器52中的正癸烷溶液中，发泡。通过该发泡，包含正癸烷的氦气从容器52输送给第一电极54。此外，向该第一电极54，以流量10[slm]提供氦气33。
从高频电源56向第一电极54外加频率13.56[MHz]的高频电压。这里，从高频电源56向第一电极54供给的电力例如为400[W]。在与第一电极34的位置配置作为第二电极起作用的台58。
台58安放固定被处理物的基体S，一边与第一电极54的下端保持规定的间隔，一边能在水平方向移动。安放在第一电极54和台(第二电极)58上的基体S的间隔(gap)例如为1[mm]。台38的移动速度即基体S的输送速度例如为0.46[mm/sec]。
根据这样的结构，导入第一电极34中的氦气5中的正癸烷蒸汽在外加了高频电压的该电极54和台(第二电极)58之间生成的等离子体57中，以高活性状态被激励，发生聚合反应。这样，通过聚合反应，变为聚乙烯等碳氢类聚合膜，在基体S的上表面，膜化为覆盖了底层要素的状态，变为亲液膜15(16、17)。此外，基体S与台58一起在水平方向移动，所以在基体S的上表面全体形成亲液膜15(16、17)。
这里，关于这样的亲液膜15(16、17)的膜厚，只使功能发挥亲液性就可以了，没必要特别厚，例如可以形成1nm～100nm左右的膜厚。
这样，如果形成了亲液膜15(16、17)，则在亲液膜15(16、17)上形成功能性膜即保护膜36或定向膜38(40)。关于保护膜36，作为形成材料，例如使用把从丙烯酸类树脂或环氧树脂、亚胺树脂、氟类树脂等选择的树脂溶解于乙二醇等溶剂或分散于分散剂中的液态材料，把它通过旋转镀膜或液滴喷出法、帽涂敷等，然后进行干燥、烧结，形成。关于定向膜38(40)，作为其形成材料，使用把聚酰亚胺树脂溶解于溶剂或分散到分散剂中的液态材料，把它通过旋转镀膜或液滴喷出法、帽涂敷等，然后进行干燥、烧结，形成。
这样，在底层要素上形成亲液膜15(16、17)，再在其上形成保护膜36或定向膜38(40)作为功能性膜，则在亲液膜15(16、17)上涂敷了功能性膜的形成材料时，该形成材料对于亲液膜15(16、17)，浸湿性好，所以该形成材料在亲液膜15(16、17)上良好地扩散，由此，不太受底层要素引起的凹凸的影响，该形成材料能充分良好地平坦化。此外，浸湿性良好地扩散，所以如果底层面是相同的水平，则形成相同的膜厚即均匀的膜厚。
因此，通过在划分材料6和滤色器层35上隔着亲液膜16设置保护膜36，该保护膜36不受底层要素的划分材料6和滤色器层35的凹凸的影响，此外，由于划分材料6即使发挥斥液性，也在其上覆盖亲液膜16，不受划分材料6的斥液性的影响，充分平坦化，由此，防止形成在保护膜36上的上部电极39的断线等，良好地发挥所作为所述保护膜的4个功能。
此外，通过在条纹状的电极37(39)上隔着亲液膜15(17)设置定向膜38(40)，该定向膜38(40)不受底层要素的电极37(39)有无的引起的凹凸或材料的不同引起的影响，充分平坦化，由此，定向膜38(40)的摩擦处理变得容易，并且该处理均匀化，对于液晶的特性均匀化，能提高显示特性。
因此，通过隔着亲液膜15(16、17)形成了作为功能性膜的定向膜38(40)，所述液晶显示装置20能使保护膜36或定向膜38(40)的功能特性良好，由此，能提高制品的合格品率，并且能谋求制膜时间的缩短。
此外，在所述例子中，在亲液膜15(16、17)的形成中使用了图2所示的亲液膜形成装置，但是本发明并不局限于此，能在亲液膜的形成中使用例如电磁波照射装置。图3是表示作为电磁波处理装置的紫外线照射装置的图，图3中，符号150是紫外线照射装置。
该紫外线照射装置150具有局部排气罩151、配置在该局部排气罩151内的上方的灯室152、配置在灯室152内的UV光源153、配置在灯室152的底面上的合成石英(石英玻璃)154。这里，作为UV光源153，例如使用照射的紫外线的波长为172[nm]的氙(Xe)灯。此外，在灯室152内，从氮源通过流量剂156供给氮，此外，从该灯室152内进行洗涤排气。
此外，在局部排气罩151内，在合成石英154的下方配置有支架155。支架157形成箱状，在该上部开口部可装卸地安装了合成石英(石英玻璃)158。根据这样的结构，在该支架157的内部变为可出入地容纳基体S，此外，在容纳了基体S的状态下，密封上部开口部。
此外，在所述紫外线照射装置150上连接着气氛生成装置160。该气氛生成装置160通过主管道连接在紫外线照射装置150的支架157上，向支架157内供给气氛形成气体。该气氛生成装置160包括：由气体瓶构成的氮供给源162、加入了亲液膜形成材料的容器163、大气压等离子体装置164。氮供给源162通过管道165连接在所述主管道161上，并且通过所述分支管166连接在所述容器163上。
容器163贮存了例如正癸烷作为亲液膜形成材料，在其内部所述分支管166延伸配置到正癸烷的液面之下。根据这样的结构，由所述分支管166供给的氮在正癸烷的液体中发泡。此外，作为亲液膜形成材料，除了正癸烷等直链状的饱和碳化氢以外，还能使用酯类或乙醇类、酮类、胺类、具有硝基的有机化合物等各种材料。此外，在该容器163中连接着管道167，该管道167分支，一方连接在所述大气压等离子体装置164上，另一方连接在所述主管道161上。
大气压等离子体装置164如图4(a)所示，具有高频电源170和夹着绝缘体171的一对高频电极172、172，如图4(b)所示，在高频电极172、172之间，具有沿着从容器供给的气体(亲液膜形成材料)的流动方向划分的多个反应室173…。根据这样的结构，大气压等离子体装置164在高频电极172、172间即反应室173…内生成等离子体，由此，把通过这些反应室173…内的气体(亲液膜形成材料)激励成高活性状态。
此外，该大气压等离子体装置164的气体出口一侧连接在主管道161上。此外，在所述主管道161、管道165、分支管166、管道167上设置有调整流过各管中的气体流量的流量调整阀174。
通过这样的大气压等离子体装置164，当在基体S的底层要素上形成亲液膜15(16、17)时，首先通过气氛生成装置160把设置了基体S的支架157的气氛改变为亲液膜形成气氛。
为了通过气氛生成装置160制造出亲液膜形成气氛，调整气氛生成装置160的各流量调整阀，用来自气体供给源162的氮使容器163内的亲液膜形成材料(正癸烷)发泡，把含有该亲液膜形成材料的蒸汽例如以50sccm的流量导入大气压等离子体装置164中。然后，在该大气压等离子体装置164内把氮中的亲液膜形成材料激励为高活性状态，在该状态下，把含有该亲液膜形成材料的氮导入支架157内。这里，作为基于大气压等离子体装置164的等离子体生成条件，例如，基于高频电源170的放电功率为50W，频率为23kHz。
这样，如果使支架157内的气氛为亲液膜形成气氛，为亲液膜形成材料激励为高活性状态的气氛，就从UV光源153照射紫外线。这样，紫外线通过亲液膜形成气氛，处于激励为该气氛中的高活性状态的亲液膜形成材料接受该能量，聚合，例如变为聚乙烯，在基体S上形成亲液膜15(16、17)。以规定的时间进行这样的亲液膜15(16、17)的形成，如果形成了必要厚度的亲液膜15(16、17)，就停止含有亲液膜形成材料蒸汽的氮的导入，并且也停止紫外线的照射。
这样，如果通过紫外线照射装置150形成亲液膜15(16、17)，则与等离子体装置等相比，紫外线照射装置150变得简单、便宜，所以能降低装置成本，减少制造成本。此外，处理母基板那样的大型基板时，在等离子体装置中，装置成本高，所以大型化是困难的，因此难以对应，但是电磁波照射装置，特别是紫外线照射装置150的结构建议，所以大型化容易，因此，向大型基板的对应是容易的，能提高生产性。
此外，在所述例子中，使用了紫外线照射装置150作为电磁波照射装置，但是本发明并不局限于此，能使用各种装置，例如，能使用具有照射激光的激光光源的激光装置、或者照射电子束的电子束装置作为电磁波照射装置使用。
当使用了这样的激光装置或电子束装置时，通过调整激光光线或电子束的照射能量，亲液膜的形成材料能与种类或状态对应，形成各种亲液膜。
此外，在所述气氛生成装置160中，为了把亲液膜的形成材料激励为高活性状态，设置有大气压等离子体装置164，但是在本发明中，并不一定要设置大气压等离子体装置164，当然也可以使用减压等离子体装置，此外，如果是能把亲液膜的形成材料激励为高活性状态的装置，就能使用任意的装置。
此外，在所述例子中，列举了液晶显示装置作为本发明的器件，形成保护膜和定向膜作为功能性膜，但是本发明并不局限于此，当在各种器件，例如有机EL装置或电泳装置、等离子体显示器装置、由具有电阻、电容器、晶体管、二极管、半导体激光器等各种光学元件或半导体元件构成的器件中形成功能性膜时，也能应用。或者，例如向半导体基板的规定的地方，通过喷墨法喷出布线材料(包含金属微粒的液体)，形成金属布线时，也能应用。
图5、图6表示在由有机EL装置形成的有源矩阵型的显示器中应用了本发明的器件时的一个例子，在这些图中，符号1是显示器。
图5表示本例的显示器1的布线构造的平面模式图，图6表示本例的显示器1的平面模式图和剖面模式图。
如图5所示，本例的显示器1具有分别配置了多条扫描线101、在与扫描线101交叉的方向延伸的多条信号线102、在信号线102上并列延伸的多条电源线103的结构，并且在扫描线101和信号线102的各交点附近设置有像素区域A。
在信号线102上连接着具有移位寄存器、电平移动器、视频线和模拟开关的数据侧驱动电路104。此外，在扫描线101上连接着具有移位寄存器和电平移动器的扫描线侧驱动电路105。
在各像素区域A中设置有：通过扫描线101向栅电极供给扫描信号的第一薄膜晶体管122、保持通过该第一薄膜晶体管122从信号线102共有的像素信号的保持电容cap、把由该保持电容cap保持的像素信号提供给第二薄膜晶体管123、当通过该第二薄膜晶体管123电连接在电源线103上时，从该电源线103，驱动电流流入的像素电极(电极)111；夹入该像素电极111和阴极(对置电极)12之间的发光部110。通过这些像素电极111、对置电极12、发光部110，构成本发明的发光元件。
根据这样的结构，如果驱动扫描线101，第一薄膜晶体管122变为导通，则这时的信号线102的电位保持在保持电容器cap中，按照该保持电容器cap的状态，决定第二薄膜晶体管123的导通和断开状态。而且，通过第二薄膜晶体管123，电流从电源线103流向像素电极111，通过发光部110，电流流向阴极。发光部110按照流过它的电流量发光。
如图6(a)和6(b)所示，本例的显示器1具有由玻璃等构成的透明的基板2、配置为矩阵状的发光元件(有机EL元件)、密封基板。形成在基板2上的发光元件如上所述，由像素电极111、发光部110、阴极12构成。
基板2例如是玻璃等透明基板，划分为：位于基板2的中央的显示区2a；位于基板2的周围，配置在显示区2a的外侧的非显示区2b。
显示区2a是由配置为矩阵状的发光元件形成的区域，也称作有效显示区。此外，在显示区的外侧形成非显示区2b。而且，在非显示区2b上形成与显示区2a相邻的虚设显示区2d。
此外，如图6(b)所示，在由发光元件和隔栅部构成的发光元件部11和基板2之间设置有电路元件部14，在该电路元件部14中设置有所述的扫描线、信号线、保持电容、第一薄膜晶体管、第二薄膜晶体管123等。
此外，阴极12的端部连接在形成在基板2上的阴极用布线12a上，该布线的端部连接在柔性基板5上的布线5a上。此外，布线5a连接在设置在柔性基板5上的驱动IC6(驱动电路)上。
此外，如图6(a)和图6(b)所示，在电路元件部14的非显示区2b上配置有所述的电源线103(103R、103G、103B)。
此外，在显示区2a的图6(a)中的两侧配置有所述的扫描侧驱动电路105、105。该扫描侧驱动电路105、105设置在虚设区域2d的下侧的电路元件部14内。在电路元件部14内设置有连接在扫描侧驱动电路105、105上的驱动电路用控制信号线105a、驱动电路用电源布线105b。
在显示区2a的图6(a)中上侧配置有检查电路106。通过该检查电路106，能进行制造途中或出厂时的显示装置的质量、缺陷的检查。
此外，如图6(b)所示，在发光元件11上设置有密封部3。该密封部3由涂敷在基板2上的密封树脂603、密封基板604构成。密封树脂603由热硬化性树脂或者紫外线硬化树脂等构成，特别适合使用环氧树脂。
该密封树脂603在基板2的周围涂敷为基板2的周围，例如由微分配器涂敷。该密封树脂603接合基板2和密封基板604，防止从基板2和密封基板604之间，水或氧向密封基板604内部侵入，防止阴极12或发光元件部11内形成的发光层(未图示)的氧化。
密封基板604由玻璃或金属构成，通过密封树脂603接合在基板2上，在其内侧设置有收藏显示元件10的凹部604a。此外，在凹部604a上粘贴吸收水、氧等的吸气剂605，能吸收侵入密封基板604的内部的水或氧。此外，也可以省略吸气剂605。
图7表示放大了显示器1中的显示区的剖面构造的图。在该图7中表示三个像素区域A。显示器1是在基板2上依次层叠形成了TFT等电路的电路元件部14、形成了发光部110的发光元件部11而构成的。
在该显示器1中，从发光部110向基板2侧发出的光透过电路元件部14和基板2，出射到基板2的下方(观察者一侧)，并且从发光部110向基板2的相反侧发出的光由阴极12反射，透射电路元件部14和基板2，出射到基板2的下方(观察者一侧)。
此外，通过使用透明的材料作为阴极12，也能从阴极12侧使光出射。
在电路元件部14，在基板2上形成由氧化硅构成的底层保护膜2c，在该保护膜2c上形成由多晶硅构成的岛状半导体膜141。此外，在半导体膜141上，通过高浓度P离子注入，形成源极区域141a和漏极区域141b。此外，未导入P的部分成为沟道区域141c。
在电路元件部14形成覆盖底层保护膜2c和半导体膜141的透明的栅绝缘膜142，在栅绝缘膜142上形成由Al、Mo、Ta、Ti、W灯构成的栅电极143(扫描线101)，在栅电极143和栅绝缘膜142上，隔着亲液膜18形成透明的层间绝缘膜144，它兼任平坦化膜。
这里，层间绝缘膜144通过在其下预先形成亲液膜18，基本不受栅电极143等底层要素的凹凸影响，变为平坦化，因此，跨层全体发挥均匀的绝缘性，发挥良好的绝缘性，并且作为平坦化膜起作用。因此，与形成层间绝缘膜144和平坦化膜双方时相比，全体薄膜化成为可能。此外，关于该层间绝缘膜144，可以通过层叠二层构成，如图7所示，在这二层间配置电源线103。此外，作为这样的层间绝缘膜的形成材料，能使用TEOS(四环氧硅烷)或各种低电介质材料，例如多孔硅石或聚酰亚胺、碳氟化合物。此外，作为亲液膜18的形成方法，原封不动地采用基于所述装置的方法。
此外，贯通层间绝缘膜144，形成分别连接在半导体膜141的源漏间区域141a、141b上的接触孔145、146。
而且，在层间绝缘膜144上，由ITO等构成的像素电极111构图形成规定的形状，而该接触孔145连接在像素电极111上。
此外，另一方的接触孔146连接在电源线103上。
这样，在电路元件部14上形成连接在各像素电极111上的第二薄膜晶体管123。
此外，在电路元件部14上形成所述的保持电容cap和第一薄膜晶体管122，但是在图7中省略了它们的图示。
发光元件部11由层叠在多个像素电极111…上的发光部110、设置在各像素电极111和发光部110之间的划分各发光部110的隔栅部112、形成在发光部110上的阴极12为主体构成。
这里，像素电极111由ITO形成，在平面视图中构图形成为近矩形。该像素电极111的厚度希望在50～200nm的范围，特别是150nm左右。在各像素电极111…之间设置有隔栅部112。
隔栅部112由位于基板2一侧的无机物隔栅层112a(第一隔栅层)、远离基板2的有机物隔栅层112b(第二隔栅层)层叠构成。
无机物隔栅层、有机物板层(112a、112b)形成为跨在像素电极111的边缘部上。在平面上配置为像素电极111的周围和无机物隔栅层112a在平面上重叠的构造。此外，此外，有机物隔栅层112b也同样，配置为与像素电极111的一部分在平面上重叠。此外，无机物隔栅层112a形成有机物隔栅层112b还靠像素电极111的中央一侧。这样，通过在像素电极111的内侧形成无机物隔栅层112a的各第一层叠部112e，形成与像素电极111的形成位置对应的下部开口部112c。
此外，在有机物隔栅层112b上形成上部开口部112d。该上部开口部112d设置为与像素电极111的形成位置以及下部开口部112c对应。上部开口部112d如图7所示，比下部开口部112c宽，比像素电极111宽。此外，有时也在上部开口部112d的上部位置、与像素电极111的端部几乎相同的位置形成。这时，如图7所示，有机物隔栅层112b的上部开口部112d的剖面变为倾斜的形状。
然后，在隔栅部112上，通过连通下部开口部112c和上部开口部112d，形成贯通无机物隔栅层112a和有机物隔栅层112b的开口部112g。
此外，无机物隔栅层112a希望由SiO2、TiO2等无机材料构成。该无机物隔栅层112a的膜厚希望在50～200nm的范围中，特别希望是150nm。在膜厚低于50nm时，无机物隔栅层112a变得比后面描述的空穴注入层薄，有可能无法确保空穴注入层的平坦性。此外，如果膜厚超过200nm，则下部开口部112c引起的阶梯增大，有可能无法确保空穴注入层上层叠的后面描述的发光层的平坦性。
有机物隔栅层112b由丙烯酸、聚酰亚胺树脂等具有耐热性、耐溶剂性的材料形成。该有机物隔栅层112b的厚度希望为0.1～3.5μm的范围，特别是2μm。当厚度低于0.1μm时，有机物隔栅层112b变得比后面描述的空穴注入层和发光层的合计厚度薄，发光层有可能从上部开口部112d溢出。此外，如果厚度超过3.5μm，则基于上部开口部112d的阶梯增大，有可能无法确保在有机物隔栅层112b上形成的阴极12的台阶敷层。此外，如果有机物隔栅层112b的厚度为2μm以上，则能提高与第二薄膜晶体管123的绝缘。
此外，在隔栅部112上形成表现亲液性的区域和表现斥液性的区域。
表示亲液性的区域是无机物隔栅层112a的第一层叠部112e和像素电极111的电极面111a，这些区域通过以氧为处理气体的等离子体处理，表面处理为亲液性。此外，表现斥液性的区域是上部开口部112d的壁面和隔栅部112的上表面112f，这些区域通过以四氟甲烷等为处理气体的等离子体处理，氟化处理(处理为斥液性)表面。此外，有机物隔栅层可以由含有氟聚合物的材料形成。
发光部110在本例中，红的像素R和绿的像素G由层叠在隔栅部112上的空穴注入层、形成在该空穴注入层上的发光层构成。此外，蓝的像素B由层叠在像素电极111上的发光层、形成在空穴注入层上的空穴输送层、形成在空穴输送层上的发光层、形成在发光层上的电子输送层构成。即在本例中，红的像素R和绿的像素G的发光层如后所述，由高分子材料形成，蓝的像素B的发光层由低分子材料形成。此外，在像素R和像素G中，可以与发光层相邻形成电子注入输送层等。
空穴注入层或空穴输送层具有向发光层注入空穴的功能，此外，具有向其内部述输送空穴的功能。通过在像素电极111和发光层之间设置空穴注入层或空穴输送层，能提高发光层的发光效率、寿命等元件特性。此外，在发光层中，从空穴注入层或空穴输送层注入的空穴和从阴极12注入的电子再结合，产生发光。
发光层形成在空穴注入层或空穴输送层上。这样的发光层如上所述，由发红色(R)的红色发光层、发绿光(G)的绿色发光层、发蓝光(B)的蓝色发光层等3种构成，各色的发光层例如配置为条纹状。
这里，因为像素电极111的电极面111a和无机物隔栅层的第一层叠部112e具有亲液性，所以发光部110均匀地紧贴在像素电极111和无机物隔栅层112a上，在无机物隔栅层112a上，发光部110不会变得极端薄，因此，防止了像素电极111和阴极12的短路。
此外，有机物隔栅层112b的上表面112f和上部开口部112d壁面具有斥液性，所以发光部110和有机物隔栅层112b的紧贴性降低，防止了发光部110从开口部112e溢出。
阴极12在本例中形成在发光元件部11的整个面上，与像素电极111成对，发挥使电流流向发光部110的作用。该阴极12在本例中由LiF/Al(LiF和Al的层叠膜)或者MgAg、或者LiF/Ca/Al(LiF和Ca和Al的层叠膜)形成。
此外，也可以在这样的阴极12上设置由SiO、SiO2、SiN等构成的用于防止氧化的保护层。
而且，在这样形成的发光元件上配置密封基板604，如图6(b)所示，通过由密封树脂接合密封基板604，构成显示器1。
在这样的显示器1中，通过隔着亲液膜18形成层间绝缘膜144，层间绝缘膜144跨层全体发挥均匀的绝缘性，发挥良好的绝缘性，并且也能作为平坦化膜起作用，所以具有良好的显示特性，由此，收到制品的合格品率上升的效果。
此外，在本例子中，说明了把本发明的功能性膜应用于兼任平坦化膜的层间绝缘膜时的情形，但是作为层间绝缘膜，当然也可以在作为平坦化膜的功能性膜的底层上形成亲液膜。
(电子仪器)
下面，说明具有所述器件的电子仪器的例子。
图8是表示移动电话的一例的立体图。在图8中，符号1000表示移动电话主体，符号1001表示由所述器件构成的显示部。
图9是表示手表型电子仪器的一个例子的立体图。在图9中，符号1100表示手表主体，符号1101表示由所述器件构成的显示部。
图10是表示字处理器、个人电脑等便携式信息处理装置的一个例子的立体图。在图10中，符号1200是信息处理装置，符号1202是键盘等输入部，符号1204是信息处理装置主体，1206表示由所述器件构成的显示部。
图8～图10所示的电子仪器具有所述实施例的器件，所以具有良好的显示特性，此外，制品的合格品率上升，所以生产性也提高。此外，作为其它电子仪器的例子，能列举出液晶装置、电子记事本、寻呼机、POS终端、IC卡、小盘播放器、液晶投影仪、工程工作站(EWS)、文字处理器、电子台式计算机、汽车导航系统、具有触摸屏的装置、手表、游戏机、电泳装置等各种电子仪器。
如上所述，根据本发明，在底层要素上设置功能性膜，所以能使功能性膜平坦化，并且均匀扩散，使膜厚均匀，因此，能把功能性膜形成平坦、均匀的厚度，能使功能性膜的功能特性良好。因此，能提高制品的合格品率，并且能取得缩短制膜时间的优异效果。

Claims (10)

1.一种器件，具有在基板上形成了底层部件的基体，在所述底层部件上形成有功能性膜，其特征在于：
在所述底层部件上设置有对用于形成所述功能性膜的液态形成材料具有亲液性的亲液膜，在该亲液膜上设置有所述功能性膜。
2.根据权利要求1所述的器件，其特征在于：
所述亲液膜是亲液膜形成材料在大气压下或减压下通过等离子体处理而形成的。
3.根据权利要求1所述的器件，其特征在于：
所述亲液膜是亲液膜形成材料在大气压下或减压下通过接受了电磁波的照射而形成的。
4.根据权利要求3所述的器件，其特征在于：
所述电磁波是紫外线。
5.一种器件的制造方法，用于制造具有在基板上形成了底层部件的基体且在所述底层部件上形成了功能性膜的器件，其特征在于：
在所述底层部件上形成对用于形成所述功能性膜的液态形成材料具有亲液性的亲液膜；
在该亲液膜上设置所述功能性膜。
6.根据权利要求5所述的器件的制造方法，其特征在于：
通过在大气压下或减压下对亲液膜形成材料进行等离子体处理，形成所述亲液膜。
7.根据权利要求5所述的器件的制造方法，其特征在于：
通过在大气压下或减压下对亲液膜形成材料照射电磁波，形成所述亲液膜。
8.根据权利要求7所述的器件的制造方法，其特征在于：
所述电磁波是紫外线。
9.一种电子仪器，其特征在于：具有权利要求1所述的器件。
10.一种电子仪器，其特征在于：具有采用权利要求5所述的器件的制造方法所制造的器件。
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