CN1280664C - 器件的制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种在利用多喷嘴头在基板上形成一定的图形时能够在所需的位置喷出液滴的器件的制造方法。在基板(101)上喷出液滴时，在基板(101)上设定由喷出液滴的多个单位区域构成的位图。在设定单位区域时，将液滴喷出头(1)的喷嘴(10)的间隔设为a、单位区域Y轴方向上的大小设为by时，设定单位区域以便满足by＝a/n(n为正整数)的条件。
Description
技术领域
本发明涉及一种通过从液滴喷出头向基板喷出液体材料而制造器件的器件制造方法。
背景技术
以往，在液晶显示装置中使用滤色器。滤色器和液晶显示装置构成一体，起到提高图像质量或在各象素中赋予原色的各种色彩的作用。作为该类滤色器的制造方法，已知有在感光性树脂的涂膜上通过光掩模照射光使照射部分固化，之后通过显影处理除去涂膜后的光没有照射的部分并形成图形而染色的方法(染色法)；以及依次利用在感光性树脂上分散红色、绿色或蓝色的着色剂后的组合物进行与前述同样的操作，通过涂膜形成、光照射和显影处理而制造滤色器的光刻法。这些方法，由于需要成膜工序、光刻工序、显影工序等各种工序，所以导致作业性下降以及制造成本升高。
另一方面，作为滤色器的制造方法有利用液滴喷出头形成滤色器的滤色器层的方法。该方法，由于可以容易地控制含有滤色器形成用材料的液体材料(油墨)的液滴喷出位置，并且也可以减少材料的浪费，所以可以降低制造成本。
在液滴喷出头中，从生产率的观点来看，优选使用设置多个喷出液滴的喷嘴的多喷嘴头。但是，滤色器的象素间距(图形间距)和液滴喷出头的喷嘴间隔a不一定一致。所以为了使喷嘴间隔和图形间距一致，在特开平9-300664号公报中公开了相对于与扫描方向垂直的方向(以下适宜地称为“非扫描方向”)使液滴喷出头边呈一定的角度θ倾斜边扫描的技术。
另外，由液滴喷出形成的图形，很少单独使用，通常和在其前后通过光刻法等形成的另外的薄膜图形结合发挥作用。此时，通过光刻法形成的图形精度，尽管比液滴喷出形成的图形精度好的多，但是到目前为止在通过光刻形成的图形的设计时，完全没有考虑液滴喷出装置的喷嘴间距。所以产生前述问题，使液滴喷出头倾斜进行扫描，这样即使使用设置多个喷嘴的喷出头时，也不能有效地喷出图形。
但是，在所述背景技术中产生以下所述的问题。
在所述公报中公开的技术中，可以使非扫描方向上的图形间距by和非扫描方向上的喷嘴间距一致，但是难于使扫描方向上的图形间距bx和扫描方向上的喷嘴间距一致。这是由于非扫描方向上的图形间距by和非扫描方向上的喷嘴间距的a cosθ成整数比，但是扫描方向上的图形间距bx和扫描方向上的喷嘴间距的a sinθ实际上不成整数比。
另一方面，在使液滴喷出头倾斜时，通过分别调整由各个喷嘴排出液滴的定时，可以在扫描方向上使液滴喷到所希望的位置上，但是必须使喷嘴在扫描方向上的喷出动作控制间隔变细，导致扫描速度降低和控制的复杂化，从而使生产率下降。
利用液滴喷出头制造滤色器时，通过在被喷出面上设计堤岸(bank)，液滴即使相对于希望的喷出位置稍有移动而喷出，通过堤岸的作用液滴可以喷向所需的位置，但是在利用液滴喷出头形成布线图形时，由于很少使用堤岸，例如一旦想要在非扫描方向上形成直线状的布线图形时，如上所述，必须要使在扫描方向上的喷出动作控制间隔变细，所以导致生产率下降。
发明内容
本发明是鉴于上述问题而提出的，其目的在于提供一种利用多喷嘴头在基板上形成一定的图形时，能够在所需位置上喷出液滴并且能够以良好的精度形成图形的器件的制造方法。
为了解决所述课题，本发明的器件的制造方法，具有使液滴喷出头和基板在一定的方向上相对地移动，从在所述液滴喷出头上形成的与所述一定方向交叉的方向上以一定的间隔配置的多个喷出嘴向所述基板喷出液体材料并在所述基板上制膜一定的图形的工序；对于所述基板设定喷出所述液体材料的液滴的格子状的多个单位区域的工序；以及在所述多个单位区域中对于一定的单位区域从所述喷出嘴喷出所述液滴形成所述图形的工序，将所述液滴喷出头的所述喷嘴的间隔设为a、所述单位区域的所述与所述一定方向交叉的方向上的大小设为by时，要设定所述单位区域以便满足by＝a/n(n为正整数)的条件。
根据本发明，使液滴喷出的格子状的多个单位区域，即预先在基板上设定位图(bit map)，对于该位图的单位区域喷出液滴。在设定位图时，通过使与单位区域(或象素)的一定方向交叉的方向(非扫描方向)上的大小by和液滴喷出头的喷嘴的间隔a成整数比的设定，如以往那样，即使不使液滴喷出倾斜，也可以使喷嘴和单位区域一致。所以，不需进行与喷出动作相关的复杂的控制也能够使液滴在所需的喷出位置上喷出。换言之，通过根据喷嘴的间隔a设定位图即图形设计规则，也可以使喷嘴和单位区域一致并且不降低扫描速度而进行喷出动作。
在本发明的器件制造方法中，将所述单位区域的所述一定方向上的大小设为bx1时，也可以设定所述单位区域以便满足bx1＝a/n(n为正整数)的条件。
另外，在本发明的器件制造方法中，将所述单位区域的所述一定方向上的大小设为bx1时，也可以设定所述单位区域以便满足bx1＝by＝a/n(n为正整数)的条件。此时单位区域设为正方形，可以很容易地进行图形设计。
在本发明的器件制造方法中，边进行所述相对移动边进行所述喷出时，也可以在所述一定方向上使所述液滴喷出，以便使配置于所述基板上的液滴之间不重叠或使产生在所述基板上配置时的液滴的直径的10％以下的重叠。此时，可以防止在扫描方向上液体材料过剩地设置在基板上并防止膨胀的发生。
在1次扫描中，使液滴不重叠或产生直径的10％以下的重叠地排出，通过多次进行，也可以形成连续的图形。
在本发明的器件的制造方法中，边进行所述相对移动边进行所述喷出，也可以使所述液滴排出头和所述基板在与所述一定方向交叉的方向上仅以大小by的整数倍相对分步移动后进行所述喷出。此时，液滴喷出头在一次扫描结束后，通过在非扫描方向上仅以by(＝a/n)分步移动，可以使喷嘴和单位区域一致。
在本发明的器件的制造方法中，在进行所述分步移动后，进行所述喷出时，也可以在与所述一定方向交叉的方向上使液滴喷出，以便使在所述基板上配置的液滴之间不重叠或产生在所述基板上配置时的液滴的直径的10％以下的重叠。此时即使在非扫描方向上也可以防止液体材料过剩地设置在基板上，从而防止膨胀的发生。
本发明的器件的制造方法，具有在使液滴喷出头和基板在一定方向上相对移动，由在所述液滴喷出头上形成并在与所述一定方向交叉的方向上并列设置的多个喷嘴向所述基板喷出液体材料，在所述基板上制膜一定的图形的工序；对于所述基板，设定喷出所述液体材料液滴的格子状的多个单位区域的工序；以及在所述多个单位区域中，对于一定的单位区域从所述喷嘴喷出所述液滴并形成所述图形的工序，将预先规定的与所述一定方向交叉的方向上的规定值设为bky、所述液滴喷出头的所述喷嘴的间隔设为a、与所述单位区域的所述一定方向交叉的方向上的大小设为by2、所述单位区域的所述一定方向上的大小设为bx2，在使所述液滴喷出头相对于与所述一定方向交叉的方向倾斜角度θ进行所述相对移动时，要设定所述单位区域，以便满足by2＝bky/n(n为正整数)并且bx2＝(a·sinθ)/m(m为正整数)的条件。
根据本发明，例如，在含有液滴喷出工序前后的过程中产生若干的制约，即使产生不能根据喷嘴的间隔设定在与一定方向交叉的方向(非扫描方向)上单位区域的大小时，通过将液滴喷出头仅倾斜角度θ的同时，单位区域的扫描方向和非扫描方向上的大小设为by2和bx2，可以使喷嘴和单位区域一致。
在本发明的器件的制造方法中，将所述喷嘴的间隔a或其1/n(n为2以上的整数)设为基本单位，也可以进行通过所述喷出形成的图形以外的图形设计。
另外，在本发明的器件的制造方法中，在进行通过所述喷出形成的图形以外的图形设计时，也可以将设定的所述单位区域为基础进行设计。
此时，将喷嘴间隔(或其1/n)为基本单位，则进行通过喷出法以外的方法例如光刻法形成的图形设计。由此，对于通过液滴喷出以外的方法形成的或通过以后的过程形成的预定的图形，校正位置进行液滴喷出时，即使不倾斜喷出头也能够完全使与其图形一致进行喷出。
本发明的器件，可以通过所述记载的器件的制造方法进行制造。此时，可以提供具有以高精度形成的图形的器件。
本发明的电子机器，具有所述记载的器件。此时可以提供搭载高性能器件的电子机器。
这里，本发明的液滴喷出头，含有设置于液滴喷出装置的液滴喷出头。液滴喷出头为能够通过液滴喷出法定量地喷出液体材料，例如能够连续定量地滴下1～300毫微克的液体材料(流动体)的器件。
作为器件的制造方法，通过采用液滴喷出方式，可以以廉价的机器以一定的图形形成反射膜。
作为液滴喷出方式，可以是通过压电体元件的体积变化使流体(液体材料)喷出的压电喷射方式，也可以是通过外加的热急速产生蒸气使流体喷出的方式。
这里，所谓流动体，是指具有能够从液滴喷出头的喷嘴喷出的(能够滴下)的粘度的介质。可以是水性的也可以是油性的。只要具有能够从喷嘴等喷出的流动性(粘度)就可以了，即使有固体物质混入，作为整体只要是流体就可以。另外，流体中含有的材料，除作为微粒子分散在溶剂中外，也可以是加热到熔点以上溶解的物质，除溶剂外，也可以添加染料、颜料以外的功能性材料。另外，基板除指平面基板外，也可以是曲面的基板。另外，图形形成面的硬度无需很硬，除玻璃、塑料、金属以外，也可以是具有薄膜、纸、橡胶等柔性的表面。
本发明的器件，包括具有一定布线图形的元件和器件或滤色器等。
附图说明
图1是表示本发明的器件的制造方法中所用的液滴喷出器件的示意立体图。
图2是表示液滴喷出头的示意外观图。
图3是用于说明本发明的器件的制造方法的图，表示喷嘴的间隔阂单位区域的图。
图4是本发明的器件的制造方法的说明图。
图5是本发明的器件的制造方法的说明图。
图6是本发明的器件的制造方法的说明图。
图7是本发明的器件的制造方法的说明图。
图8是本发明的器件的制造方法的说明图。
图9A和图9B是表示本发明的器件的制造方法其它实施例的说明图。
图10是表示本发明的器件一个例子的图，表示等离子型显示装置的分解立体图。
图11是表示本发明的器件一个例子的图，表示液晶显示装置的俯视图。
图12A～图12C是表示本发明的电子机器的图，12A是表示携带式电话的一个例子的图，12B是表示携带型信息处理装置的一个例子的图，12C是表示手表电子机器的一个例子的图。
图13是表示本发明的器件的一个例子的图，为非接触型卡片介质的分解立体图。
图14是本发明的器件的制造方法适用的液晶显示装置的开关元件和信号线等的等价电路图。
图15是表示本发明的器件的制造方法适宜的液晶显示装置的TFT阵列基板的构造的俯视图。
图16是本发明的器件的制造方法适用的液晶显示装置的主要部位的剖视图。
图17是本发明的器件的制造方法适用的滤色器的模式图。
图18A～图18F是本发明的器件的制造方法适用的滤色器的模式图。
图19A～图19E是表示本发明的器件的制造方法适用的有机EL装置的制造工序的模式图。
图20A～图20C是表示本发明的器件的制造方法适用的有机EL装置的制造工序的模式图。
图21A～图21C是表示本发明的器件的制造方法适用的有机EL装置的制造工序的模式图。
图中1表示液滴喷出头，10表示喷嘴，101表示基板，IJ表示液滴喷出装置。
具体实施方式
以下边参照附图边对本发明的器件的制造方法进行说明。
图1是表示设有本发明器件的制造方法中所用的液滴喷出头的液滴喷出装置的示意立体图。
在图1中，液滴喷出装置IJ，设有液滴喷出头1、X轴方向驱动轴4、Y轴方向导向轴5、控制装置6、载物台7、清洗机构8、基座9以及热源15。
载物台7，通过该液滴喷出装置IJ支撑设有液体材料的基板101，设有将基板101固定在基准位置的未图示的固定机构。
液滴喷出头1为设有多个喷嘴的多喷嘴型的液滴喷出头，使长方向和Y轴方向一致。多个喷嘴，在液滴喷出头1的下面在Y轴方向上并列并以一定间隔设置。从液滴喷出头1的喷嘴，向支撑与载物台7上的基板101喷出例如含有导电性微粒子的液体材料。
图2是从喷嘴面侧(基板101的对向面)看到的液滴喷出头的图。如图2所示，液滴喷出头1包括多个喷出头部21和搭载这些喷出头部21的承载器部22。在喷出头部21的喷嘴面24上设置喷出液体材料的液滴的多个喷嘴10。喷出头部21(喷嘴面24)的各个喷嘴为俯视呈矩形状，喷出嘴10，沿着喷出头部21的长方向的大致Y轴方向以一定的间隔排列，并且在喷出头部21的宽方向的大致呈X轴方向上空出间隔以两列在喷嘴面24的各个面上设置多个喷嘴(例如1列180个喷嘴，合计360个喷嘴)。另外，喷出头部21，使喷嘴10面向基板101的同时，对于Y轴，以倾斜一定角度的状态沿着大致Y轴方向排列，并且在X轴方向空出间隔以设置为两列的状态在承载台部22上决定多个(图2中1列6个，合计12个)位置并支撑。
这里，液滴喷出头1，设有能够调整对于该液滴喷出头1的Y轴方向的安装角度的角度调整机构(未图示)。通过该角度调整机构，液滴喷出头1可改变对于Y轴方向的角度θ。通过驱动角度调整机构，可以使喷嘴10的各个喷嘴在Y轴方向上并列配置或调整喷嘴10的并列方向的对于Y轴的角度。
返回至图1，在X轴方向驱动轴4上连接X轴方向驱动马达2。X轴方向驱动马达2为步进马达等，一旦从控制装置6给予X轴方向的驱动信号，可以使X轴方向驱动轴4转动。一旦X轴方向驱动轴4转动，液滴喷出头1向X轴方向移动。
Y轴方向导向轴5，固定为相对于基座9不动。载物台7设有Y轴方向驱动马达3。Y轴方向驱动马达3为步进马达等，一旦从控制装置6给予Y轴方向的驱动信号，可以使载物台7向Y轴方向移动。
控制装置6在液滴喷出头1上供给液滴喷出控制用电压。另外，在X轴方向驱动马达2上供给控制液滴喷出头1的X轴方向的移动的驱动脉冲信号，在Y轴方向驱动马达3上供给控制载物台7的Y轴方向的移动的驱动脉冲信号。
清洗机构8，是将液滴喷出头1清洗的机构。在清洗机构8上设置未图示的Y轴方向的驱动马达。通过该Y轴方向的驱动马达的驱动，清洗机构沿着Y轴方向导向轴5移动。清洗机构8的移动也通过控制装置6控制。
热源15，在这里是通过灯光退火对基板101进行热处理的装置，对基板101上涂敷的液体材料中含有的溶剂进行蒸发或干燥。该热源15的输入和中断也通过控制装置6进行控制。
在本实施方式中，液滴喷出装置IJ在基板101上形成布线图形。所以，在液体材料中含有布线图形形成用材料的导电性微粒子(金属微粒子)。液体材料是利用一定的溶剂和粘接剂树脂使金属微粒子糊化的液体材料。作为金属微粒子，例如可以举出金、银、铜、铁等。金属粒子的粒径优选5～100nm。从液滴喷出头1向基板101喷出的液体材料，通过热源15进行热处理而转变为导电性膜(制膜)。
另外，作为布线图形形成用的液体材料，可以使用含有有机金属化合物、有机金属配位化合物、以及它们的类似物的液体材料。作为有机金属化合物，例如可以举出有机银化合物，可以将有机银化合物分散(溶解)在一定的溶剂中的溶液用作布线图形形成用液体材料。此时，作为溶剂例如可以使用二乙二醇二乙醚。作为液体材料使用有机银化合物(有机金属化合物)时，发现通过对液体材料进行热处理或光处理除去有机成分，银粒子(金属粒子)剩余而有导电性。
液滴喷出装置IJ，边对液滴喷出头1和支撑基板101的载物台7进行相对扫描边对基板101喷出液滴。这里，在以下的说明中，将X轴方向作为扫描方向(一定方向)，与X轴方向相交的Y轴方向作为非扫描方向。所以，液滴喷出头1的喷嘴在非扫描方向的Y轴方向以一定的间隔并列设置。
以下，边参照图3～图7对通过利用所述液滴喷出头1向基板101喷出液滴而制造器件的制造方法进行说明。
本实施方式的制造方法，具有在基板101上设定由液滴喷出区域的多个单位区域构成的格子状位图的工序；以及在位图中对于一定的单位区域喷出液滴的工序。
图3是表示设置于液滴喷出头1的多个喷嘴10和设置于基板101上的位图的模式图。
如图3所示，一个单位区域设定为正方形。即，在一个单位区域中在X轴方向(扫描方向)上的大小bx1和在Y轴方向(非扫描方向)上的大小by设置为相同。
液滴喷出头1，使长方向与Y轴方向一致。另外，喷嘴10在液滴喷出头1中在Y轴方向上以一定的间隔设置。多个喷嘴10的各个喷嘴沿着Y轴方向并列设置。
在本实施方式中，单位区域的在Y轴方向的大小by，设定为比喷嘴10之间的间隔a细。并且在设定位图时，设定一个单位区域的Y轴方向上的大小，使by＝a/n(n为正整数)。
在图中3表示n设定5的例子。
另外，在本实施方式中为了使一个单位区域设定为正方形，设定一个单位区域的X轴方向上的大小，使bx1＝a/n(n为正整数)。
图4是利用喷嘴10通过1次扫描在基板101上喷出液滴时的模式图。另外，对图4中在通过第一次的扫描喷出的液滴附加上“1”。
另外，在利用图4～图7的以下说明中，最终以图3的灰色表示的单位区域的各个区域上设为喷出液滴的区域。
边使液滴喷出头1向X轴方向扫描边对基板101喷出液滴时，液滴喷出头1在控制装置6的控制下，在X轴方向边空出一定的间隔边喷出液滴。在本实施方式中，如图4所示，在在X轴方向上空出两个单位区域间隔对一定的单位区域喷出液滴。
另一方面，对于基板101喷出的液滴，通过在基板101上喷射，在基板101上润湿扩大。即，如图4中以圆所示，在基板101上喷射的液滴，润湿扩大，具有比一个单位区域的大小大的直径c的润湿区域。
在这里，液滴，由于在X轴方向上空出一定的间隔(2份的单位区域)喷出，所以在基板101上配置的液滴之间不重叠地设定。由此，在X轴方向上可以防止在基板101上液体材料过剩地设置，并防止膨胀的发生。
另外，在图4中，在基板101上配置时的液滴之间不重叠地设置，但是也可以稍微重叠地配置液滴。例如，在图4中在X轴方向上边空出2份单位区域边进行液滴喷出，但是也可以边空出1份的单位区域边喷出液滴。
此时，在1次扫描中，通过产生在基板101上配置时的液滴直径c的10％以下的重叠地喷出液滴，可以防止膨胀的发生。
在这里，将液滴配置在基板101上时的润湿扩大的程度，即在基板101上液滴直径c，根据液体材料的特性变化。所以，为使在基板101上配置液滴时的液滴之间不重叠，或产生液滴直径c的10％以下的重叠，要在预先的试验中计算出1次扫描中基板101上的液滴的配置间隔(单位区域的间隔)，根据该计算的单位区域的间隔进行1次扫描的喷出动作。
图5是通过第2次扫描从喷嘴10向基板101上喷出液滴时的模式图。另外，在图5中，对通过2次扫描喷出的液滴附加上“2”。即使在第2次扫描时，在X轴方向上边空出2份的单位区域边进行喷出动作。另外，在第2次扫描时，在基板101上喷出的液滴也具有直径c地润湿扩大。
图6是通过第3次扫描从喷嘴10向基板101上喷出液滴时的模式图。另外，在图6中，对通过3次扫描喷出的液滴附加上“3”。即使在第3次扫描时，在X轴方向上边空出2份的单位区域边进行喷出动作。另外，在第3次扫描时，在基板101上喷出的液滴也具有直径c地润湿扩大。
在这里，通过3次的扫描和喷出动作，图中最上端(+Y侧)的液滴为连续的。
图7是通过第4次扫描从喷嘴10向基板101上喷出液滴时的模式图。另外，在第4次的扫描中，液滴喷出头1和支撑于载物台7上的基板101在Y轴方向上相对地分步移动。在本实施方式中，支撑于载物台7上的基板101在Y轴方向上分步移动。
在这里，基板101，仅以单位区域的Y轴方向上大小by的正整数倍在Y轴方向上分步移动。在图7中表示，基板101相对于液滴喷出头1仅以by的1倍(即by)在Y轴方向上分步移动的例子。
在仅以距离by分步移动后，液滴喷出头1相对于基板101边在X轴方向上扫描边进行液滴喷出。另外，在图7中，对通过第4次扫描喷出的液滴附加上“4”。另外，在第4次扫描时在基板101上喷出的液滴也具有直径c地润湿扩大。
在这里，分步移动后，进行喷出动作时，也可以使在基板101上配置的液滴之间不重叠或使产生在基板101上配置时的液滴的直径的10％以下的重叠地在Y轴方向上喷出液滴。即，也可以将分步移动的距离设定在by的例如3倍而进行分步移动。由此，例如“1”的液滴润湿时，即使在Y轴方向上也可以防止膨胀的发生。
另一方面，在如图7所示的示例中，“1”的液滴干燥，此时“1”和“4”可以重叠直径c的10％以上。
以下，同样，在边进行扫描边进行喷出动作，反覆进行分步移动。并且在本实施方式中，如图8所示，通过进行合计15次的扫描，图中，对于对应于灰色表示的区域的单位区域的各个单位区域进行液滴喷出。另外，在图8中，对第n次扫描时喷出的液滴附加上“n”。
另外，喷出的液滴由于在基板101上润湿扩大，所以实际上形成的布线图形，比图中灰色表示的区域要大。所以，在形成布线图形时，要考虑到该润湿扩大的部分进行图形设计。在这里，在基板101上的液滴润湿扩大的程度，由基板101和液滴之间的接触角决定，所以对于基板101要进行包括根据液体材料特性的亲液处理或疏液处理的表面处理，以便得到所希望的接触角。通过这种方式，可以形成具有所需宽度的布线图形。
如以上说明，本实施方式是在基板101上设定位图并对于该位图的单位区域进行液滴喷出的构成。并且，在设定位图时，通过使位图的Y轴方向上的大小by和喷嘴10的间隔a成整数比地设定，即使使液滴喷出头例如对于Y轴不倾斜，也可以使喷嘴10和单位区域一致。所以，不需要进行关于喷出动作的复杂控制也可以在所需的单位区域上喷出液滴。这样，通过根据喷嘴10的间隔a设定位图即图形设计规则，可以使喷嘴和单位区域一致，不降低扫描速度就可以以良好的精度对所需的位置进行能够喷出动作。
在本实施方式中，单位区域的在X轴方向上的大小bx1和Y轴方向上的大小by相同，单位区域设为正方形。由此，可以很容易地进行图形设计。另外，如本实施方式，在边使液滴喷出头1(喷嘴10的并列方向)和Y轴方向一致边进行扫描时，单位区域的X轴方向上的大小bx1不一定要与Y轴方向上的大小by相同，可以是任意大小。
在基板101上喷出液滴时，由于要在X轴方向上喷出液滴，并且在基板101上配置的液滴之间不重叠或产生在基板101上配置时的液滴直径c的10％以下重叠，所以在1次扫描中可以防止在基板101上液体材料过剩地设置，并防止发生膨胀。
在使液滴喷出头1和基板101在Y轴方向上分步移动时，由于是仅以1个单位区域的Y轴方向上的大小by的正整数倍分步移动，所以，即使在分步移动后，也可以使喷嘴10和单位区域一致。
另外，在上述实施方式中，其构成为根据喷嘴10的间隔a设定单位区域的大小并进行液滴喷出工序，但是在液滴喷出工序的前后的工序，例如入图10所示的作为电光学器件的等离子型显示装置的制造时的光刻工序中，在基板上进行图形化时，若根据喷嘴10的间隔a或其1/n(n为2以上的整数)进行设计和图形化时，可以设计用于喷出的位图，以便使通过其前后工序形成的图形和在液滴喷出工序中图形化后的图形准确一致。
如图10所示的等离子型显示装置500，由相互对向配置的玻璃基板501和玻璃基板502以及在它们之间形成的放电显示部510简单构成。
放电显示部510配置为，由多个放电室516集合而成，在多个放电室516中，红色放电室516(R)、绿色放电室516(G)、蓝色放电室516(B)的3个放电室516成为一对构成1象素。
在所述(玻璃)基板501的上面，以一定的间隔形成条状地址电极511，形成介质层519以便覆盖这些地址电极511和基板501的上面，另外，在介质层519上形成位于地址电极511、511之间并沿着各地址电极511的隔壁515。另外，在隔壁515中在其长方向的一定位置上在与地址电极511垂直的方向上以一定的间隔隔开(未图示)，基本上形成在地址电极511的宽方向左右两侧邻接的隔壁和通过在与地址电极511垂直的方向上延伸设置的隔壁隔开的长方形状区域，对应于这些长方形的区域形成放电室516，这些长方形的区域成3对构成1象素。另外，在通过隔壁515区分的长方形状的区域的内侧设置荧光体517。由于荧光体517发出红、绿、蓝中的任一荧光，所以在红色放电室516(R)的底部配置红色荧光体517(R)，在绿色放电室516(G)的底部配置绿色荧光体517(G)，在蓝色放电室516(B)的底部配置蓝色荧光体517(B)。
然后，在所述玻璃基板502侧，在与前面的地址电极511垂直方向上一定的间隔形成由多个ITO构成的条状透明电极512的同时，为了补正高电阻的ITO，形成金属构成的总线电极512a。另外，形成覆盖这些的介质层513，进而形成由MgO等构成的保护膜514。
并且，所述基板501和玻璃基板502的基板2，是使所述地址电极511和显示电极512相互垂直地对向相互粘合，使由基板501、隔壁515、和在玻璃基板502侧形成的保护膜514包围的空间部分排气并通过封入稀有气体形成放电室516。另外，在玻璃基板502侧形成的显示电极512，相对于各个放电室分别516配置2个地形成。
所述地址电极511和显示电极512连接未图示的交流电源，通过给各电极通电在必要位置的放电显示部510中使荧光体517激发发光从而能够显示彩色。
在本实施方式中，显示电极512通过光刻法形成，总线电极512a通过液滴喷出法形成。另外，根据液滴喷出头1的喷嘴10的间隔a对由光刻法形成的显示电极512之间的间隔进行设定(设计)，根据该设定的值，进行用于形成显示电极512的光刻工序。
具体地说，喷嘴10的间隔a例如为141μm时，设定n＝10，将141/10＝14.1μm为基本单位设计ITO的透明显示电极512的图形(间隔或宽)，根据该设计值通过光刻法形成显示电极512。此时，显示电极512之间的间隔例如设定为14.1×40＝564μm，显示电极512的宽例如设定为14.1×35＝439.5μm等。
另外，在这里虽然以形成显示电极512的情况为例进行了说明，但是，其它部分，例如未图示的两端的引出电极等也以14.1μm为基板单位进行设计。
如以上说明，将根据喷嘴10的间隔a的值作为基本单位，通过液滴喷出法以外的方法(光刻法)根据所述基本单位进行图形形成时的设计，如利用图10说明那样，相对于通过光刻法形成的ITO透明显示电极512准确地校对位置，即使在通过液滴喷出法形成总线电极512a时，也可以有效使用喷嘴10，可以形成底层构造物(此时即显示电极512)和间距完全一致的图形。
但是，例如，在含有液滴喷出工序前后的过程中有若干的制约，考虑有时不能根据喷嘴10的间隔a设定Y轴方向上的单位区域的大小。
例如，如图9A所示，在基板上，在设置多个用于设定液滴配置位置的构造物(bank)BK时，在该构造物的Y轴方向上的间距bky作为规定值规定，对于不能根据喷嘴10的间隔a设定单位区域的Y轴方向上的大小的情况进行考虑。在形成构造物BK的光刻工序中有制约，由于不能自由地设计bky的值，所以有时满足bky＝a/n的整数n不存在或n为不现实程度大的整数。
此时，边使液滴喷出头1相对于Y轴仅以角度θ倾斜边进行液滴喷出动作是有效的。此时，在以往，在X轴方向上不能使喷嘴和单位区域一致，但是在用于喷出液滴的单位区域(单位区域)中，通过设定使Y轴方向上的大小by2和X轴方向上的大小bx2满足by2＝bky/n(n为正整数)并且bx2＝(a·sinθ)/m(m为正整数)的条件，可以使喷嘴10和单位区域一致。
换言之，使规定值bky和a·cosθ成整数比地设定角度θ，根据该设定的角度θ和喷嘴间隔a设定单位区域的X轴方向上的大小bx2。
通过以上的设定，如图9B的模式图所示，可以在边扫描喷嘴10和基板101边使位图的各个单位区域和喷嘴10一致地进行液滴喷出动作。
本发明的器件的制造方法，在制造图11所示的液晶装置时也适用。图11是表示液晶装置的第1基板上的信号电极等的平面设计的图。该液晶装置由该第1基板、设有扫描电极等的第2基板(未图示)、以及在第1基板和第2基板之间封入的液晶(未图示)简单构成。
如图11所示，在第1基板300上的象素区域300上，将多个信号电极310设为多重矩阵状。尤其是各种信号电极310由对应于各象素设置的多个象素电极部分310a和将它们连接为多重矩阵状信号布线310b构成，并且延Y方向延伸。
另外，符号350为1芯片结构的液晶驱动电路，该液晶驱动电路350和信号布线部分310的一端侧(图中下侧)通过第一导线331连接。
另外，符号340为上下导通端子，其上下导通端子340和未图示的设置于第2基板上的端子通过上下导通材341连接。另外，上下导通端子340和液晶驱动电路350通过第2导线332连接。
在本实施方式中，设置于第1基板300上的信号布线部分310b、第1导线331、第2导线332分别根据本发明的器件的制造方法形成。
对于本发明的电子机器的具体例进行说明。
图12A是表示携带式电话的一个例子的立体图。在图12A中，1600表示携带式电话主体，1601表示设有所述等离子型显示装置(或者液晶显示装置、有机电致发光装置)的显示部。
图12B是表示文字处理机、电脑等携带型信息处理装置的一个例子的立体图。在图12B中，1700表示信息处理装置，1701表示键盘等的输入部，1703表示信息处理主体，1702表示设有等离子型显示装置(或者液晶显示装置)的显示部。
图12C是表示手表型电子机器的一个例子的立体图。在图12C中，1800表示手表的主体，1801表示所述设有所述等离子显示装置(或者液晶显示装置)的显示部。
图12A～图12C所示的电子机器由于设有所述实施方式的显示装置的机器，所以具有优良的显示性能。
另外，所述电子机器可以作为设置等离子型显示装置或液晶显示装置的机器，但是也可以作为设置有机电致发光显示装置等其它电光学装置的电子机器。
图13是表示作为本发明器件的非接触型卡片介质的一个例子的图。如图13所示，非接触型卡片介质1400，在由卡片基座1402和卡片罩1418组成的筐体内，内设半导体集成电路芯片1408和天线电路1412，通过未图示的外部的收发信息机和电磁波或静电电容结合中的至少一方供电或者至少一方进行数据接受。
在本实施方式中，所述天线电路1412是根据本发明的器件的制造方法而形成。
在所述各实施方式中，对于形成布线图形的情况进行说明，但是本发明的制造方法也能够适用以滤色器为代表的各种器件和装置的制造。以下对于本发明的其它适用例进行说明。
本发明在制造图14～图16所示的液晶显示装置时也能够适用。本实施方式的液晶显示装置，作为开关元件为利用TFT(Thin FilmTransistor)的有源矩阵型的透过型液晶显示装置。图14是配置为该透过型液晶装置的矩阵状的多个象素中的开关元件、信号线等的等价电路图。图15是表示形成数据线、扫描线、象素电极等的TFT阵列基板的相邻接的多个象素组结构的主要部位的俯视图。图16是图15中A-A’线剖视图。另外，在图16中，图示上侧为光入射侧、图示下侧为观察者侧。另外，在各图中，为使各层、各部件在图面上具有能够辨认程度的大小，对各层和各部件进行了不同的缩小。
在本实施方式的液晶显示装置中，如图14所示，在配置成矩阵状的多个象素中，分别形成象素电极109和用于控制向该象素电极109通电的作为开关元件的TFT元件130，供给象素信号的数据线106a电连接在该TFT元件130的源极。写入数据线106a的象素信号S1、S2、···、Sn，按照该顺序线顺序供给或者对于相邻接的多条数据线106a每组供给。另外，扫描线103a电连接在TFT元件130的栅区，对于多条扫描线103a按照线顺序以一定的定时脉冲外加扫描信号G1、G2、···、Gm。另外，象素电极109电连接在TFT元件130的栅区，通过使作为开关元件的TFT元件130仅接通一定时间，使由数据线106a供给的象素信号S1、S2、···、Sn以一定的定时写入。通过象素电极109写入液晶的一定电平的象素信号S1、S2、···、Sn，在与后述的共用电极之间保持一定时间。液晶，通过外加电压电平改变分子集合的配向或秩序，从而可以调制光并色调显示。在这里为防止保持的象素信号漏泄，外加在象素电极109和共用电极之间形成的液晶电容和并列的蓄积电容170。
然后边参照图15边对本实施方式的液晶显示装置的主要部位的平面结构进行说明。如图15所示，在TFT阵列基板上，将多个由铟锡氧化物(Indium Tin Oxide，以下略称为ITO)等的透明导电性材料构成的矩形状的象素电极109(通过点线部109A表示的轮廓)设置为矩阵状，分别沿着象素电极109的纵横交界设置数据线106a、扫描线103a、和电容线103b。各象素电极109，电连接在与扫描线103a和数据线106a之间的各交叉部对应设置的TFT元件130上，形成每个象素能够显示的结构。数据线106a，以构成TFT元件130为例，在多晶硅膜构成的半导体层101a中，在后述的源极区域中通过接触孔105进行电连接，象素电极109，在半导体层101a中，在后述的漏极区域中通过接触孔108进行电连接。另外，在半导体层101a中，与后述的隧道区域(图中左上的斜线区域)对向地设置扫描线103a，扫描线103a为与隧道区域对置的部分，作为栅电极发挥作用。电容线103b具有沿着扫描线103a大致呈直线状的延伸主线部9(即俯视看沿着扫描线103a形成的第1区域)、和从与数据线106a交叉的地方沿着数据线106a向前端侧(图中向上)突出的突出部(即俯视看沿着数据线106a延伸设置的第2区域)。
然后边参照图16边对本实施方式的液晶显示装置的剖面结构进行说明。图16如所述，为图15中A-A’线剖视图，是表示形成TFT元件130区域构成的剖视图。在本实施方式的液晶显示装置中，在TFT阵列基板110和与其对向配置的对向基板120之间夹持液晶层150。TFT阵列基板110主要由透光性的基板主体110A、在其液晶层150侧表面形成的TFT元件130、象素电极109、定向膜160构成，对向基板120主要由透光性的塑料基板(基板主体)120A、在其液晶层150侧表面形成的共用电极121和定向膜160构成。另外，各基板110、120通过隔板115保持一定的基板间隔(gap)。在TFT阵列基板110中，在基板主体110A的液晶层150侧表面上设置象素电极109，在各象素电极109邻近的位置上设置控制各象素电极109开关的象素开关用TFT元件130。象素开关用TFT元件130，具有LDD(Lightly DopedDrain)结构，设有扫描线103a、通过该扫描线103a的电场形成隧道的半导体层101a的隧道区域101a’、绝缘扫描线103a和半导体层101a的栅极绝缘膜102、数据线106a、半导体层101a的低浓度源极区域101b和低浓度漏极区域101c、半导体层101a的高浓度源极区域101d和高浓度的漏极区域101e。在含有所述扫描线103a上、栅极绝缘膜102上的基板主体110A上形成开孔通向高浓度源极区域101d的接触孔105和通向高浓度漏极区域101e的接触孔108的第2层间绝缘膜104。即，数据线106a，通过贯通第2层间绝缘膜104的接触孔105电连接在高浓度源极区域101d上。进而，在数据线106a上和第2层间绝缘膜104上，形成开孔的通向高浓度区域101e的接触孔108的第3层间绝缘膜107。即，高浓度漏极区域101e通过贯通第2层间绝缘膜104和第3层间绝缘膜107的接触孔108电连接在象素电极109上。
在本实施方式中，将栅极绝缘膜102从与扫描线103a对向的位置延伸设置作为介质膜使用，通过延伸设置半导体膜101a作为第1蓄积电容电极101f，进而将与这些对向的电容线103b的一部分作为第2蓄积电容电极，构成蓄积电容170。另外，在TFT阵列基板110A和象素开关用TFT元件130之间，形成用于使构成象素开关用TFT元件130的半导体层101a由TFT阵列基板110A电绝缘的第1层间绝缘膜112。进而在TFT基板110的液晶层150侧的最表面，即，在象素电极109和第3层间绝缘膜107上，形成控制无外加电压时液晶层150内液晶分子取向的定向膜140。因此，在具有这样的TFT元件130的区域，在TFT阵列基板110的液晶层150侧最表面即液晶层150的夹持面上形成多个凸凹乃至段差。另一方面在对向基板120上，为基板主体120A的液晶层150侧表面，数据线106a、扫描线103a、象素开关用TFT元件130的形成区域(非象素区域)的对向区域上，设置用于防止入射光向象素开关用TFT元件130的半导体层101a的隧道区域101a’或低浓度源极区域101b、低浓度漏极区域101c侵入的第2折光膜123。进而在形成第2折光膜123的基板主体120A的液晶层150侧上，形成由ITO等组成的大致跨过其整个表面的共用电极121，在其液晶层150侧，形成控制无外加电压时的液晶层150内的液晶分子配向的定向膜160。
在本实施方式中根据本发明的制造方法，形成数据线106a、构成栅电极的扫描线103a、电容线103b以及象素电极109等。
本发明也可以适用于形成作为滤色器的构成要素的膜。图17是表示形成于基板P上的滤色器的图，图18A～图18F是表示滤色器制造顺序的图。如图17所示，在本例中，在长方形形状的基板P上从提高生产率的观点来看将多个滤色器区域251形成为矩阵状。这些滤色器区域251，在后面通过切断基板P，可以用作适合于液晶显示装置的滤色器。滤色器区域251，分别将R(红)的液体组合物、G(绿)的液体组合物、以及B(蓝)的液体材料组合物分别以一定的图形在本例中以以往公知的带状型形成。另外，作为该形成图形，除带状型外，还可以是镶嵌型、三角型或者正方形。另外，在RGB的各个液体组合物中添加所述的表面活性剂。
在形成该类滤色器区域251中，首先如图18A所示，对于透明基板P的一面形成堤岸252。该堤岸252的形成方法，为旋涂后曝光、显影。堤岸252形成为俯视为格子状，在由格子围起来的堤岸内部配置油墨。此时，堤岸252优选具有疏液性。另外，堤岸252优选作为黑底(black matrix)发挥作用。然后，如图18B所示，由所述液滴喷出头喷出液体组合物的液滴254，喷在滤波器元件253上。对于喷出液滴254的量，设为考虑加热工序中液体组合物的体积减少后的充分量。通过这种方式，若在基板P上的全部滤波器元件253上充填液滴254后，利用热源进行加热处理以便使基板加热至一定温度(例如70℃左右)。通过该加热处理，液体组合物的溶剂蒸发液体组合物的体积减少。在该体积减少过多时，可以反复进行液滴喷出工序和加热工序，直至作为滤色器能够得到充分的膜厚。通过该处理，液体组合物中含有的溶剂蒸发，最终仅残留液体组合物中含有的固形成分并膜化，形成如图18C所示的滤色器255。然后使基板P平坦化，并且为了保护滤色器255，如图18D所示，覆盖滤色器255或堤岸252并在基板P上形成保护模256。在该保护膜256的形成中，可以采用旋涂法、辊涂法、撕布法(ripping)等方法，但是，与滤色器255相同，也可以通过液滴喷出法进行。然后，如图18E所示，在该保护膜256的整个面上通过溅射法或真空蒸镀法形成透明导电膜257。之后，对该透明导电膜257进行图形化，如图18F所示，使象素电极258与滤波器元件253对应进行图形化。另外，在液状显示表盘的驱动中若使用TFT时，可以不用图形化。
在本实施方式中，在形成滤色器255或象素电极258时也可以适用本发明的制造方法。
本发明也可以适用于制造有机EL装置。边参照图19A～图19E、图20A～图20C、图21A～图21C边对有机EL装置的制造方法进行说明。另外，在图19A～图19E、图20A～图20C、图21A～图21C中，为了简化说明，仅对单一的象素进行了图示。
首先，准备基板P。这里对于有机EL装置可以是能够从基板侧将由后述的发光层发出的光取出的构成，也可以是能够从与基板相反侧取出的构成。若为从基板侧取出发出的光时，作为基板材料可以使用玻璃、石英、树脂等透明至半透明的材料，但是优选使用廉价的玻璃。在本例中，作为基板如19A所示，使用由玻璃构成的透明基板P。并且在基板P上形成由无定形硅膜构成的半导体膜700。然后，对于该半导体膜700，进行激光退火或固相成长法等的结晶化工序，半导体膜700结晶化形成多晶硅膜。然后，如图19B所示对半导体膜(多晶硅膜)700进行图形化并形成岛状的半导体膜710，对于其表面形成栅极绝缘膜720。然后如图19C所示形成栅电极643A。然后以该状态打入高浓度的磷离子，在半导体膜710上，相对于栅电极643A自己整合形成源？漏极区域643a、643b。另外没有导入杂质的部分作为隧道区域643。接着如图19D所示，在形成具有接触孔732、734的层间绝缘膜730后，在这些接触孔732、734内埋入中继电极736、738。然后如图19E所示，在层间绝缘膜730上形成信号线632、共供电线633和扫描线(图19A～图19E未示)。这里所述中继电极738和各布线也可以以同一工序形成。此时，中继电极736通过后述的ITO膜形成。并且形成层间绝缘膜740以便覆盖各布线的上面，在对应于中继电极736的位置上形成接触孔(未图示)，在该接触孔内也埋入地形成ITO膜，进而该ITO膜图形化，在由信号电线632、共供电线633和扫描线(未图示)包围的一定位置上形成在源？漏极区域643a中电连接的象素电极641。这里由信号电极632、共供电线633、进而由扫描线(未图示)夹持的部分作为如后述的形成空穴注入层或发光层的部分。
以下如图20A所示，形成堤岸650以便包围所述的形成场所。该堤岸650作为隔开部件发挥作用，例如优选由聚亚胺等的绝缘性有机材料形成。另外，堤岸650优选为对于由液滴喷出头喷出的液体材料组合物显示非亲合性的材料。在堤岸650中为显示非亲合性，例如可以采用通过氟类化合物对堤岸650的表面进行表面处理的方法。作为氟类化合物例如有CF4、SF5、CHF3等，作为表面处理，例如可以举出等离子处理、UV照射处理等。并且，在该构成下，形成空穴注入层或发光层的场所，即在这些形成材料的涂敷位置和其周围的堤岸650之间，形成足够高度的段差611。然后，如图20B所示，以使基板P的上面面向上的状态，含有空穴注入层形成用材料的液体组合物614A通过液滴喷出头选择性地涂敷在由堤岸650包围的涂敷位置即堤岸650内。然后，如图20C所示，通过加热处理或光照射使液体组合物614A的溶剂蒸发，并在象素电极641上形成固形的空穴注入层640A。
然后，如图21A所示，以基板P的上面面向上的状态，由液滴喷出头，使含有发光层形成用材料(发光材料)的液体组合物614B选择性地涂敷在堤岸650内的空穴注入层640A上。一旦使含有发光层形成用材料的液体组合物614B由喷出头喷出，液体组合物614B就涂敷在堤岸650内的空穴注入层640A上。这里通过液体组合物614B的喷出而使发光层的形成，是通过使含有发出红色的发色光的发光层形成用材料的液体组合物、含有发出绿色的发色光的发光层形成用材料的液体组合物、含有发出蓝色的发色光的发光层形成用材料的液体组合物分别喷出在各自对应的象素上并涂敷而进行。另外，对应于各色的象素，可以预先决定以便使这些能够有规则地配置。通过这种方式，若将含有各色的发光层形成用材料的液体组合物614B喷出并涂敷后，通过蒸发液体组合物641B中的溶剂，如图21B所示，在空穴层注入层640A上形成固形的发光层640B，由此可以得到由空穴层注入层640A和固形的发光层640B构成的发光部640。之后，如图21C所示，在透明基板P的整个表面上或者形成条状反射电极654(对向电极)。由此制造有机EL元件。
另外，将象素电极作为具有反射特性的电极，作为对向电极可以为形成具有透明性的电极(透明电极)的结构。此时图面上，上方发出的光射出。另外，作为象素电极形成具有透明性的电极，也可以形成是比象素电极在下层具有反射性的材料。此时，例如可以通过将铝(Al)等的材料作为主成分的材料形成，与所述同样，形成在图面上的上方光射出的结构。
如上所述，在本实施方式中，空穴注入层640A和发光层640B根据液滴喷出法形成，适用本发明的制造方法。另外，信号线632、共供电线633、扫描线以及象素电极641等也可以根据本发明的制造方法形成。
Claims (11)
1.一种器件的制造方法，具有使液滴喷出头和基板相对于一定方向移动、由在所述液滴喷出头上形成并与所述一定方向交叉的方向上以一定的间隔配置的多个喷嘴向所述基板喷出液体材料从而在所述基板上制膜一定图形的工序，
进而具有对于所述基板设定喷出所述液体材料的液滴的格子状的多个单位区域的工序；
以及在所述多个单位区域中对于一定的单位区域从所述喷嘴喷出所述液滴并形成所述图形的工序，
将所述液滴喷出头的所述喷嘴的间隔设为a、所述单位区域的与所述一定方向交叉的方向上的大小设为by时，设定所述单位区域以便满足by＝a/n的条件，其中所述n为正整数。
2.根据权利要求1所述的器件的制造方法，在将所述单位区域的所述一定方向上的大小设为bx1时，设定所述单位区域以便满足bx1＝a/n的条件，其中所述n为正整数。
3.根据权利要求1所述的器件的制造方法，在将所述单位区域的所述一定方向上的大小设为bx1时，设定所述单位区域以便满足bx1＝by＝a/n的条件，其中所述n为正整数。
4.根据权利要求1所述的器件的制造方法，边进行所述相对移动边进行所述喷出时，在所述一定方向上使所述液滴喷出，以便使配置于所述基板上的液滴之间不重叠或使产生在所述基板上配置时的液滴的直径的10％以下的重叠。
5.根据权利要求1所述的器件的制造方法，边进行所述相对移动边进行所述喷出，使所述液滴排出头和所述基板在与所述一定方向交叉的方向上仅以大小by的整数倍相对分步移动后进行所述喷出。
6.根据权利要求5所述的器件的制造方法，在进行所述分步移动后，进行所述喷出时，在与所述一定方向交叉的方向上使液滴排出，以便使在所述基板上配置的液滴之间不重叠或产生在所述基板上配置时的液滴的直径的10％以下的重叠。
7.根据权利要求1所述的器件的制造方法，将所述喷嘴的间隔a或其1/n(n为2以上的整数)设为基本单位，进行通过所述喷出形成的图形以外的图形设计，其中所述n为2以上的整数。
8.根据权利要求1所述的器件的制造方法，在进行通过所述喷出形成的图形以外的图形设计时，将设定的所述单位区域为基础进行设计。
9.一种器件的制造方法，具有在使液滴喷出头和基板在一定方向上相对移动，由在所述液滴喷出头上形成并在与所述一定方向交叉的方向上并列设置的多个喷嘴向所述基板喷出液体材料，在所述基板上制膜一定的图形的工序，
进而具有对于所述基板，设定喷出所述液体材料液滴的格子状的多个单位区域的工序；
以及在所述多个单位区域中，对于一定的单位区域从所述喷嘴喷出所述液滴并形成所述图形的工序，
将预先规定的与所述一定方向交叉的方向上的规定值设为bky、
所述液滴喷出头的所述喷嘴的间隔设为a、
与所述单位区域的所述一定方向交叉的方向上的大小设为by2、
所述单位区域的所述一定方向上的大小设为bx2，
在使所述液滴喷出头相对于与所述一定方向交叉的方向倾斜角度θ进行所述相对移动时，设定所述单位区域，以便满足
by2＝bky/n
并且bx2＝(a·sinθ)/m的条件，其中所述n为正整数，所述m为正整数。
10.根据权利要求9所述的器件的制造方法，将所述喷嘴的间隔a或其1/n设为基本单位，进行通过所述喷出形成的图形以外的图形设计，其中所述n为2以上的整数。
11.根据权利要求9所述的器件的制造方法，在进行通过所述喷出形成的图形以外的图形设计时，将设定的所述单位区域为基础进行设计。
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| US8062693B2 (en) * | 2008-09-22 | 2011-11-22 | Sunpower Corporation | Generation of contact masks for inkjet printing on solar cell substrates |
| US20120171356A1 (en) * | 2010-12-27 | 2012-07-05 | Camtek Ltd. | System for digital deposition of pad / interconnects coatings |
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| KR102049006B1 (ko) * | 2013-06-13 | 2019-11-27 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 및 이의 제조 방법 |
| CN107249759B (zh) * | 2015-03-02 | 2020-06-26 | 柯尼卡美能达株式会社 | 图案形成方法、带透明导电膜的基材、器件及电子设备 |
| US10335995B2 (en) | 2015-12-16 | 2019-07-02 | Xerox Corporation | System and method for compensating for dissimilar shrinkage rates in different materials used to form a three-dimensional printed object during additive manufacturing |
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Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US5132248A (en) * | 1988-05-31 | 1992-07-21 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Direct write with microelectronic circuit fabrication |
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| JP3697131B2 (ja) * | 2000-02-21 | 2005-09-21 | キヤノン株式会社 | カラーフィルタの製造方法、製造装置、カラーフィルタを備えた表示装置の製造方法及び該表示装置を備えた装置の製造方法 |
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| US6613418B2 (en) * | 2000-06-06 | 2003-09-02 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Ink-jet recording material and use of the same |
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