CN1250068A - 防潮增透二氧化硅涂层及其制法 - Google Patents
防潮增透二氧化硅涂层及其制法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN1250068A CN1250068A CN 98123529 CN98123529A CN1250068A CN 1250068 A CN1250068 A CN 1250068A CN 98123529 CN98123529 CN 98123529 CN 98123529 A CN98123529 A CN 98123529A CN 1250068 A CN1250068 A CN 1250068A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- coating
- acid
- preparation
- mix
- mol ratio
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 25
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 24
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title abstract description 10
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 title abstract description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 3
- 230000032683 aging Effects 0.000 claims abstract description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims abstract description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 15
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229960000935 dehydrated alcohol Drugs 0.000 claims description 4
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 claims description 4
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 claims description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 claims description 2
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 claims description 2
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 claims description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract description 4
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- -1 alkyl radical Chemical class 0.000 abstract description 2
- CIUQDSCDWFSTQR-UHFFFAOYSA-N [C]1=CC=CC=C1 Chemical compound [C]1=CC=CC=C1 CIUQDSCDWFSTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- ORGHESHFQPYLAO-UHFFFAOYSA-N vinyl radical Chemical compound C=[CH] ORGHESHFQPYLAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 7
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 5
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 230000002431 foraging effect Effects 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Inorganic materials [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910018540 Si C Inorganic materials 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 229910018557 Si O Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003556 assay Methods 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
一种防潮增透SiO2涂层及其制法,涂层由SiO2和一定量的有机基团R'(R'可以是直链烷基、烯基、苯基、氟烷基等)构成,其制法为将一定比例的Si(OR)4,R'xSi(OR)4-x(X=1、2或3)、无水乙醇、水和酸碱催化剂,混合、老化、涂敷,所得涂层同时具有极高的透光性和疏水性,透光率高达95—95.8%(极限值为96%),接触角为110—130°。
Description
本发明涉及一种防潮增透SiO2涂层及其制法。
溶胶-凝胶(Sol-Gel)法制备疏水SiO2膜在国外研究的比较普遍,尤以日本专利居多,不论是哪个国家的研究,一般都采用有机-无机硅杂化材料作为主要原料,通过溶胶-凝胶途径最终获得疏水SiO2膜。通过Sol-Gel法以Rn′Si(OR)4-n为原料可以得到含有Si-C和Si-O键的硅杂化材料。一欧洲专利(EP 0 513 727 A2)以Si(OR)4和氟烷基硅氧烷为原料制备出疏水的SiO2涂层,膜与水的接触角可以达到110°。但其透光性欠佳。采用溶胶-凝胶法制备的减反射SiO2涂层,可使单面透过率接近96%(双面透过率接近100%)。如上海光机所汤加苗等人[《光学学报》,1997,17(3),338]以Si(OC2H5)4为原料,通过溶胶-凝胶途径制备出SiO2溶胶,采用提拉法制备了透光率接近96%的减反射涂层,但涂层的防潮性能较差,其与水的接触角在40°以下。
本发明的目的在于开发一种疏水性及增透性具佳的防潮增透SiO2涂层及制备方法。
本发明所述的涂层涂敷在玻璃基底上,这种带有涂层的玻璃具有极为广泛的用途。
本发明的防潮增透涂层由SiO2组成,其特征在于涂层中具有一定数量的有机基团R′。
本发明的制备方法如下:
(1)将Si(OR)4,R′xSi(OR)4-x(x=1、2或3),无水乙醇混合均匀;
(2)将无水乙醇与酸或碱的催化剂按比例混合均匀;
(3)将(1)和(2)的溶液混合搅拌30-300分钟;
(4)在0-70℃老化20-73天;
(5)采用提拉法、旋转法或弯月面法涂敷。
如上所述的R可以是甲基、乙基等。
如上所述的R′可以是直链烷基、烯基、苯基、氟烷基等。
如上所述的R′xSi(OR)4与Si(OR)4的摩尔比在0.1-10之间,最好在0.5-5之间;无水乙醇与Si(OR)4的摩尔比可以在1-100之间;水与Si(OR)4的摩尔比可以在1-10之间,最好在1-6.5之间;酸催化剂可以是有机酸,也可以是无机酸,以无机酸最佳,如硝酸、盐酸、硫酸等,碱催化剂可以是胺或无机碱。
测试表明,本发明的单面涂层的透光率高达95-95.8%,几乎达到镜片单面涂层透光率的极限值96%。同时本发明的涂层具有极为优良的疏水性能,它与水的接触角高达110-130°,普通涂层的接触角仅40°左右。
本发明的实施例及测定方法如下:
实施例1
(1)将10mlSi(OC2H5)4、8.92ml(CH3)2Si(OC2H5)3与50ml无水乙醇混合,搅拌15min;
(2)将54.3ml无水乙醇与2.8mlH2O、0.045ml 5.5N NH3·H2O混匀;
(3)将上述(1)与(2)混合;继续搅拌30min;
(4)将所得混合均匀的溶液置于密闭容器中,60℃老化20天,即得杂化SiO2溶胶镀膜液;
(5)采用旋转镀膜法,即将溶胶滴于高速旋转的基片上,保持1min即可得到合乎要求的疏水增透SiO2膜。
用FACE接触角计测定涂层与水的接触角θ,依此来表征膜的疏水性能之优劣。用UV分光光度计测定透过率Tc-λ曲线。用Tc表征透光性的优劣。本实施例涂层的θ=114°,Tc=95.0%,涂层中CH3-的存在可以通过IR图谱进行证实,在1276cm-1Si-CH3中C-H键的弯曲振动吸收及778cm-1和830cm-1Si-C键的伸缩振动吸收可以说明CH3-的存在。另外,膜与水的接触角的增加也证实了涂层中疏水基团的存在。
实施例2
(1)将10mlSi(OC2H5)4、7.68ml(CH3)2Si(OC2H5)3与50ml无水乙醇混合,搅拌15min;
(2)将54.3ml无水乙醇与1.57mlH2O、0.045ml 5.5N NH3·H2O混匀;
(3)将上述(1)与(2)混合,继续搅拌30min;
(4)将所得混合均匀的溶液密封保存,置于25℃老化32天;
其它同实施例1,测定结果为θ=110°,Tc=95.8%。
实施例3
(1)将10mlSi(OC2H5)4、7.68ml(CH3)2Si(OC2H5)3与50ml无水乙醇混合,搅拌15min;
(2)将54.3ml无水乙醇与2.34mlH2O、0.085ml 5.5N NH3·H2O混匀;
(3)将上述(1)与(2)混合,继续搅拌30min;
(4)将所得混合均匀的溶液密封保存,置于25℃老化32天;
其它同实施例1,测定结果为θ=123°,Tc=95.3%。
实施例4
(1)将5mlSi(OC2H5)4、3.84ml(CH3)2Si(OC2H5)3与50ml无水乙醇混合,搅拌15min;
(2)将54.3ml无水乙醇与1.19mlH2O、0.026ml 5.5N NH3·H2O混匀;
(3)将上述(1)与(2)混合,继续搅拌30min:
(4)将所得混合均匀的溶液密封保存,置于25℃老化72天;
其它同实施例1,测定结果为θ=130°,Tc=95.0%。
Claims (3)
1.一种防潮增透SiO2涂层及其制法,由SiO2组成,其特征在于该涂层中含有一定量的有机基团R′(R′可以是直链烷基、烯基、苯基、氟烷基等)。
2.如权利要求1所述的涂层的制备方法,其特征在于步骤如下:
(1)将Si(OR)4,R′xSi(OR)4-x(x=1、2或3),无水乙醇混合均匀;
(2)将无水乙醇与酸或碱的催化剂按比例混合均匀;
(3)将(1)和(2)的溶液混合搅拌30-300分钟;
(4)在0-70℃老化20-73天;
(5)采用提拉法、旋转法或弯月面法涂敷。
3.如权利要求2所述的涂层的制备方法,其特征在于所述的R′xSi(OR)4与Si(OR)4的摩尔比在0.1-10之间,最好在0.5-5之间;无水乙醇与Si(OR)4的摩尔比可以在1-100之间;水与Si(OR)4的摩尔比可以在1-10之间,最好在1-6、5之间;酸催化剂可以是有机酸,也可以是无机酸,以无机酸最佳,如硝酸、盐酸、硫酸等,碱催化剂可以是胺或无机碱。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN98123529A CN1102622C (zh) | 1998-10-07 | 1998-10-07 | 防潮增透二氧化硅涂层及其制法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN98123529A CN1102622C (zh) | 1998-10-07 | 1998-10-07 | 防潮增透二氧化硅涂层及其制法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1250068A true CN1250068A (zh) | 2000-04-12 |
CN1102622C CN1102622C (zh) | 2003-03-05 |
Family
ID=5228229
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN98123529A Expired - Fee Related CN1102622C (zh) | 1998-10-07 | 1998-10-07 | 防潮增透二氧化硅涂层及其制法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN1102622C (zh) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101422774B (zh) * | 2008-12-09 | 2011-04-27 | 东华大学 | 一种具有疏水效应的搪瓷表面涂层的制备方法 |
CN103757706A (zh) * | 2014-01-08 | 2014-04-30 | 同济大学 | 一种非线性光学晶体表面增透保护膜的制备方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2555797B2 (ja) * | 1991-05-13 | 1996-11-20 | トヨタ自動車株式会社 | 撥水ガラス及びその製造方法 |
FR2703791B1 (fr) * | 1993-04-05 | 1995-05-19 | Commissariat Energie Atomique | Procédé de fabrication de couches minces présentant des propriétés optiques et des propriétés de résistance à l'abrasion . |
-
1998
- 1998-10-07 CN CN98123529A patent/CN1102622C/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101422774B (zh) * | 2008-12-09 | 2011-04-27 | 东华大学 | 一种具有疏水效应的搪瓷表面涂层的制备方法 |
CN103757706A (zh) * | 2014-01-08 | 2014-04-30 | 同济大学 | 一种非线性光学晶体表面增透保护膜的制备方法 |
CN103757706B (zh) * | 2014-01-08 | 2016-01-20 | 同济大学 | 一种非线性光学晶体表面增透保护膜的制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1102622C (zh) | 2003-03-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6361871B1 (en) | Composition of organofluorine-functional silanes and/or siloxanes, process for preparing it and its use | |
US4378250A (en) | Organosilicone coating compositions | |
US5858526A (en) | Composite material with a high refractive index, process for producing said composite material and optically active material incorporating said composite material | |
KR101419962B1 (ko) | 규소계 액정 배향제 및 액정 배향막 | |
JP5593611B2 (ja) | 珪素系液晶配向剤、液晶配向膜並びにそれらの製造方法 | |
CN1931448A (zh) | 一种可在多种基材表面形成疏水透明薄膜的方法 | |
Ueda et al. | Photoisomerization of an azobenzene in sol-gel glass films | |
US20020073733A1 (en) | Water-repellent glass pane and method for producing same | |
WO2009148099A1 (ja) | ケイ素系液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 | |
JPH09281502A (ja) | 液晶垂直配向膜の形成方法 | |
CN1860196A (zh) | 具有低折射率及斥水性的覆膜 | |
EP1245658B1 (en) | Hydrophobic article | |
JP5716673B2 (ja) | ケイ素系液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 | |
Ueda et al. | Photochemical and thermal isomerization of azobenzene derivatives in sol-gel bulk materials | |
CN1250068A (zh) | 防潮增透二氧化硅涂层及其制法 | |
JP3403880B2 (ja) | 透明ガスバリアー性積層フィルムおよびその製造方法 | |
JPH1016142A (ja) | 透明ガスバリアー性積層フィルムおよびその製造方法 | |
JPH0812375A (ja) | 撥水性物品及びその製造方法 | |
JP3385165B2 (ja) | 撥水膜用塗布液の調製法及び撥水性ガラスの製法並びに撥水性ガラス | |
JPH0726177A (ja) | 紫外線遮蔽塗料及び紫外線遮蔽性透明体 | |
JP2782707B2 (ja) | 光学物品の製造方法 | |
JP2010106076A (ja) | コーティング材組成物及び塗装品 | |
JP2637793B2 (ja) | コーティング用組成物 | |
JP2007245709A (ja) | 樹脂積層体 | |
JP2004123907A (ja) | 親水性被膜形成用コーティング液及びその製造方法、該コーティング液の使用方法並びに該コーティング液を用いて形成した被膜付き基材 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
C17 | Cessation of patent right | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20030305 Termination date: 20121007 |