CN1247623A

CN1247623A - 记录装置

Info

Publication number: CN1247623A
Application number: CN98802575A
Authority: CN
Inventors: 山田英明
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 1997-10-16
Filing date: 1998-01-13
Publication date: 2000-03-15
Also published as: EP0967600A1; WO1999021182A1; KR20000069491A; WO1999021181A1; EP0967600A4; DE69826251D1; DE69826251T2; US6211900B1; KR100486403B1; EP0967600B1

Abstract

本发明的记录装置,进行如下的操作。即,将PD81在光学基座上定位于规定位置,停止记录母盘110的旋转,驱动聚焦用激光器73,并由光头滑动块控制电路101将光头77定位在最佳位置。然后,使母盘110转动,并起动聚焦伺服电路103,由聚焦微调电路99以与预测最佳聚焦位置数据对应的PD81的微小位移量使PD81在左右方向进行微小移动。由于记录母盘110的旋转引起的摆振和上述微小移动,从PD81的2个输出端子输出的电压信号的差将发生变化,所以,差动放大器103a将记录透镜7a沿上下方向移动几μm,直到将误差信号调整为0。将此时的数字显示器93的数值信息与上述聚焦位置数据进行比较,如两者一致,则将上述聚焦位置数据作为最佳聚焦位置数据并将其用于最佳聚焦位置的初始设定。当不一致时,则进行重写而将数值信息作为最佳聚焦位置数据。这样,通过将最佳聚焦位置数据数值化后使用,可以使与记录母盘的类型对应的最佳聚焦位置的初始设定作业容易进行。

Description

记录装置

技术领域

本发明涉及激光刻录机(以下，称「记录装置」)的改进。

背景技术

以往，已知有结构如图1所示的备有记录用激光器1和聚焦用激光器3的记录装置。在该装置中，按如下的工序对记录透镜21的最佳聚焦位置进行初始设定。首先，在记录母盘20停止转动时，通过光头定位机构17将光头19定位在最佳位置。然后，在母盘20稳定在规定的转速后，使来自激光器1的记录用激光通过镜5、7、9及记录透镜21照射在母盘20上。使沿着同一光路反向传播的上述激光的反射光从镜5入射到摄象机13并通过摄象机13在监视器15上形成激光光点图象。操作人员，一面用肉眼观察激光光点图象的状态，一面控制电机驱动器29，使电机27转动，从而使光检测器(PD)23左右移动。随着这种操作，伺服电路31，使记录透镜21在上下方向微小移动并进行定位，以使上述激光入射在通过操作人员的上述操作而在某个位置停止移动后的PD23的中心位置。通过反复进行上述作业，即可将记录透镜21定位在最佳聚焦位置。

可是，在上述的将记录透镜21初始设定在最佳聚焦位置的作业中，由于在监视器15上所显示的记录用激光的激光光点图象是模拟信息，所以，随着PD23的移动上述激光光点图象连续变化。为此，必须一面用肉眼跟踪激光光点图象的这种变化，一面从上述变化中找出与记录透镜21的最佳聚焦位置对应的激光光点图象，因此，为了进行记录透镜21的定位，要求相当高的熟练程度。此外，记录透镜21的最佳聚焦位置，还因记录母盘的类型而有微细的差异，所以，即使是熟练的操作人员，在上述作业上也要花费相当的劳力和时间，而且很难进行高精度的定位。

并且，在上述装置中，即便已经将记录透镜21定位在最佳聚焦位置，但这时的数据也只是显示在监视器15的激光光点图象(模拟数据)，因而不能保存，所以不能用作日后再现上述最佳聚焦位置时的依据。

为此，每当所使用的记录母盘类型不同时，必须将上述花费劳力和时间的困难作业重做一遍，因而效率很低。

因此，本发明的目的是提供一种将表示记录透镜最佳聚焦位置的数据数值化后使用从而使与记录母盘的类型对应的最佳聚焦位置的初始设定作业容易进行的记录装置。

发明的公开

本发明的记录装置，使记录用激光通过已设定在最佳聚焦位置的记录透镜对记录母盘进行曝光，其特征在于备有：可位移的激光检测装置，在进行上述最佳聚焦位置的初始设定时，接收照射在上述记录母盘上后从上述抗蚀剂母盘反射的聚焦用激光，并输出与该光接收位置和规定的基准光接收位置的位置偏差对应的检测信号；伺服装置，响应上述检测信号而自动调整上述记录透镜相对于记录母盘的位置，从而将上述记录透镜定位在最佳聚焦位置，以便消除上述位置偏差；位移量检测装置，用于检测上述激光检测装置的位移量；及显示装置，将上述位移量检测装置的输出信号数值化后进行显示。

按照本发明的上述结构，如将预先由熟练操作人员设定时的激光检测装置的位移量数值化后进行显示，则在下一次对最佳聚焦位置进行初始设定时，如以该数字为基准，则即使不是熟练的操作人员也可以很容易地进行正确的初始设定。而且，如果对类型不同的每一种记录母盘保存最佳聚焦位置数据，则可以很容易地进行与抗蚀母盘的类型对应的最佳聚焦位置初始设定，所以能进一步提高作业效率。

另外，最好还备有：基准位移量设定装置，将上述记录透镜位于最佳聚焦位置时使上述聚焦用激光的光接收位置与上述基准光接收位置一致的位移量预先设定为基准位移量；及位移量自动调整装置，自动调整上述激光检测装置的位移量，以使上述基准位移量与来自上述位移量检测装置的位移量检测值一致。

即，在本发明的最佳实施形态中，还备有基准位移量设定装置和位移量自动调整装置。

在上述基准位移量设定装置中，将记录透镜位于最佳聚焦位置时使聚焦用激光的光接收位置与基准光接收位置一致时的位移量预先设定为基准位移量。位移量自动调整装置，自动调整激光检测装置的位移量，以使基准位移量与来自位移量检测装置的位移量检测值一致。

按照上述最佳实施形态，由于自动调整激光检测装置的位移量以使基准位移量与位移量检测值一致，所以能自动调整激光检测装置的位移量，而无需操作人员的手动操作。

附图的简单说明

图1是表示现有的记录装置总体结构的框图。

图2是表示第1实施形态的记录装置总体结构的框图。

图3是表示光检测器与聚焦用激光的光点之间的位置关系的说明图。

图4是表示第1实施形态的装置的聚焦作业步骤的流程图。

图5是采用聚焦用激光的记录透镜焦点误差检测方式的说明图。

图6是表示由第1实施形态的记录母盘复制的盘片上的凹坑(或凹槽)深度与宽度之间关系的离散偏差的特性图。

图7是表示由现有技术的记录母盘复制的盘片上的凹坑(或凹槽)深度与宽度之间关系的离散偏差的特性图。

图8是表示第2实施形态的记录装置总体结构的框图。

图9是表示图8装置的最佳聚焦位置确认电路的内部结构的框图。

图10是表示第2实施形态的装置的聚焦作业步骤的流程图。符号的说明

61、63、65 镜

69 监视器

71 光头机构

73 聚焦用激光器

75 光头滑动块

77 光头

77a 记录透镜

77b VCM

81 光检测器

85 减速齿轮机构

87 电位器

93 数字显示器

95 电机

97 电机驱动电路

99 聚焦微调电路

101 光头滑动块控制电路

103 聚焦伺服电路

103a 差动放大器

105 最佳聚焦位置确认电路

107 手动开关

110 记录母盘

用于实施发明的最佳形态

以下，根据附图详细说明本发明的最佳实施例的形态。

图2是表示本发明第1实施形态的记录装置总体结构的框图。

上述装置，如图所示，备有光学系统50、及用于使构成该光学系统50的记录透镜77a以亚微米级的精度跟踪记录母盘110的聚焦伺服系统80。上述装置，还备有用于使记录母盘110以高精度旋转并使其与光学系统50进行相对移动的移送机构(图中未示出)、及表示记录信息的信号的调制解调装置等信号处理电路(图中未示出)等。

光学系统50，备有记录用激光器51、功率控制器53、镜55、调制器57、镜59-65、CCD摄象机67、监视器69、光头机构71、及聚焦用激光器73。

聚焦伺服系统80，备有光检测器(PD)81、减速齿轮机构85、电位器87、放大器89、A/D转换器91、及数字显示器93。聚焦伺服系统80，还备有电机95、电机驱动电路97、聚焦微调电路99、光头滑动块控制电路101、及聚焦伺服电路103。

构成光学系统50的上述各部、和构成聚焦伺服系统80的PD81、电位器87及电机95，分别配置在一个光学基座(图中未示出)上的规定位置，在结构上，如图所示，使PD81可在该光学基座上沿左右方向移动。

以下，对构成光学系统50的各部进行说明。

记录用激光器51，起着记录光源及控制信号用光源的作用，例如，可采用将λ＝441.6nm的激光作为记录用激光发射的He-Cd激光器。功率控制器53，使来自记录用激光器51的激光发射到镜55，同时输入来自用于检测透过镜55后直线传播的激光的光检测器(图中未示出)的检测信号，从而将来自记录用激光器51的激光控制在所需要的强度。作为调制器57，例如可采用利用媒体中的声波与光波的相关关系的声光效应(A/O)光调制器。调制器57，接收从记录用激光器51通过功率控制器53发射并由镜55导向的激光，根据应记录的信息信号及控制信号对其进行调制，然后，发射到镜59。

镜59，将来自调制器57的记录用激光通过分色镜61、镜63及光头机构71的记录透镜77a导向记录母盘110。镜59，还将从记录母盘110反射后反向通过上述光路入射的记录用激光导向CCD摄象机67。在本实施形态中，作为镜59采用了偏振光束分离器(PBS)。

光头机构71，由光头77及光头滑动块75构成，该光头滑动块75，将使该光头77离开记录母盘30毫米左右的位置作为起始位置，并以在上下方向滑动自如的方式保持光头77。

光头滑动块75，在光头滑动块控制电路101的控制下，以上述位置(起始位置)为上限使光头77在上下方向进行几十毫米的滑动。并且，当记录母盘110停止旋转时，将光头77定位在可以使记录透镜77a获得正确聚焦状态的位置(以下，称「光头77的最佳位置」)。光头滑动块75，响应性很差。因此，随记录母盘110的旋转而产生的摆振，即使只是使记录透镜77a处在正确聚焦状态的位置(以下，称「最佳聚焦位置」)从光头77的最佳位置偏离几μm的数量级，也不能进行跟踪该变化并校正上述最佳位置的控制。

光头77，备有记录透镜77a、及环绕记录透镜77a设置并以能使记录透镜77a在光头本体内沿上下方向移动达50μm的方式形成的音圈电机(VCM)77b。

作为记录透镜77a，例如可采用数值孔径NA为0.9的光圈透镜。在这种情况下，记录透镜77a的焦点深度h(按h＝λ/(NA)2求得)非常浅，所以，当照射记录用激光时，必须将记录透镜77a的位置调整到使记录母盘110的曝光面进入该焦点深度h内。

在将光头77定位在最佳位置以后，如记录母盘110旋转时因其摆振而使最佳聚焦位置发生了变化，则VCM77b在聚焦伺服电路103的控制下，跟踪该变化并将记录透镜77a在光头本体内的相对位置调整到最佳聚焦位置。

聚焦用激光器73，起着用于聚焦(焦点控制)的误差信号检测光源的作用，例如，可采用发射λ＝632.8nm的激光的He-Ne激光器。镜65，反射从聚焦用激光器73发射的激光并可通过分色镜61、镜63及记录透镜77a将其导向记录母盘110。另外，镜65，在结构上仅使从记录母盘110反射并通过记录透镜77a、镜63、及分色镜61入射的激光中的聚焦用激光透过，对于记录用激光则不能透过。因此，仅将从记录母盘110反射的聚焦用激光导向构成聚焦伺服系统80的光检测器(PD)81。在本实施形态中，与上述镜59一样，作为镜65采用了偏振光束分离器(PBS)。

CCD摄象机67，生成表示通过镜59入射的记录用激光的光点图象的电信号，并输出到监视器69。因此，在监视器69上，显示出可用肉眼观察的上述各光点图象。

其次，对构成聚焦伺服系统80的各部进行说明。

PD81，是具有如图3所示的平面形状并可由驱动轴81a沿左右方向移动的一维位置检测传感器或分离式传感器。

驱动轴81a，在其外表面上具有与PD本体螺纹啮合的用作进给丝杠的螺纹(图中未示出)，并备有减速齿轮机构85和电位器87。借助于通过减速齿轮机构85传递的电机95的(正/反方向的)转矩，使PD本体沿图2(图3)的左右方向移动。

位置检测传感器或分离式光电二极管，其检测区域沿图3的长度方向(横向)设定，并按图3所示的中心位置分割为位于图3右侧的光电二极管(右侧光电二极管)和位于图3左侧的光电二极管(左侧光电二极管)。分割后的光电二极管，各自具有一个输出端子(分别将与右侧光电二极管对应的输出端子称作右侧输出端子、将与左侧光电二极管对应的输出端子称作左侧输出端子。图中均未示出)。在本实施形态中，分离式光电二极管，在结构上分别从左右输出端子输出正的电压信号作为光检测信号。

即，在图3中，当透过镜65后入射的聚焦用激光的光束光点位于右侧光电二极管的检测区域的符号f3的位置时，分别从右侧输出端子输出较大的正电压信号、从左侧输出端子输出较小的正电压信号。而当上述光束光点在右侧光电二极管的检测区域上位于比符号f3的位置更靠右侧的符号f4的位置时，分别从右侧输出端子输出比上述更大的正电压信号、从左侧输出端子输出比上述更小的正电压信号。

与此相反，当上述光束先点位于左侧光电二极管的检测区域的符号f2的位置时，从左右输出端子输出的电压信号的大小与上述光束光点位于符号f3的位置时相反。而当上述光束光点在左侧光电二极管的检测区域上位于比符号f2的位置更靠左侧的符号f1的位置时，从左右输出端子输出的电压信号的大小与上述光束光点位于符号f4的位置时相反。

进一步，当上述光束光点位于由符号f0表示的图3的中心位置时，从左右输出端子分别输出大小相等的正电压信号。如后文所述，由该符号f0表示的位置，是根据上述光学基座上的PD81的位置而与记录透镜77a的最佳聚焦(＝正确聚焦状态)相对应的位置。由其他符号f1、f2、f3、f4表示的偏离中心的位置，是根据光学基座上的PD81的位置而与记录透镜77a的散焦状态对应得到的位置。当上述光束光点位于偏离图3的中心的位置f1～f4时，不管光学基座上的PD81的位置如何，由聚焦伺服电路103和VCM77b自动地调整记录透镜77a的位置，以便将上述光束光点调整到图3的中心位置f0。另外，从上述的左右输出端子也可以不输出正电压信号而输出负的电压信号。

上述分离式光电二极管的光检测信号，分别从左右输出端子输出到聚焦伺服电路103的差动放大器103a。

再回到图2，作为电位器87，例如可采用将旋转角度变换为电压的多圈电位器，该多圈电位器，将与所检出的驱动轴81的旋转量对应的电压信号输出到放大器89。放大器89，以规定的放大系数将来自电位器87的电压信号放大后，输出到A/D转换器91。A/D转换器91，将从放大器89输出的电压信号(模拟信号)转换为数字信号，并输出到数字显示器93。

数字显示器93，备有多位的7段，并通过使从A/D转换器91输出的数字信号驱动上述各个7段而显示为数值信息。

该数值信息，例如以记录母盘110停止旋转时将光头77定位于最佳位置的光学基座上的PD81的位置为基准位置，表示记录母盘110旋转时由VCM77b将记录透镜77a定位于最佳位置时的光学基座上的PD81的位置与基准位置的距离。该数值信息，随进行刻录的记录母盘110的类型而不同，当利用本装置进行记录母盘110的刻录时，用作初始设定的值。关于初始设定，将在后文中详细说明。

电机95，具有可自由正/反旋转的结构，由电机驱动电路97驱动。聚焦微调电路99，在结构上，能使PD81在图2(图3)的左右方向上移动微小量，从而可以通过聚焦伺服电路103及VCM77b对记录透镜77a进行微调，并将用于使电机95进行微小量转动的控制信号输出到电机驱动电路97。聚焦微调电路99，设有操作部(图中未示出)，用于由操作人员设定PD81的向左右方向的移动量。

光头滑动块控制电路101，在开始本装置(图2中示出的记录装置)的聚焦动作时首先被驱动，以便进行用于对各种记录母盘进行最佳聚焦位置初始设定的聚焦动作、或记录母盘110的曝光。即，当记录母盘110停止旋转时，根据来自预先定位在光学基座上的规定位置的PD81的光检测信号，一面参照例如从差动放大器103a一类的误差信号生成装置输出的误差信号(后文中详述)，一面控制光头滑动块75。通过这种控制，可以使光头77从其起始位置(在记录母盘110的表面的上方大约30毫米的位置)下降到预定的最佳位置。

如上所述，聚焦伺服电路103，在内部装有差动放大器103a，并在由光头滑动块控制电路101进行的将光头77定位于其最佳位置的动作结束之后，自动起动或由操作人员起动。当记录母盘110旋转时，聚焦伺服电路103，根据来自在聚焦微调电路99的作用下沿图2的左右方向变更位置后的PD81的光检测信号控制VCM77b，从而对记录透镜77a的位置进行微调。

即，在将PD81定位于光学基座上的某个位置的状态下，当由差动放大器103a计算出的来自上述2个输出端子的电压信号的差(误差信号)为正时，聚焦用激光的光束光点例如位于图3中由符号f3或f4表示的右侧光电二极管的检测区域。因此，聚焦伺服电路103，通过VCM77b将记录透镜77a沿上下方向移动几μm，直到将上述光束光点调整到图3中由符号f0表示的位置从而使上述误差信号变为0。当来自上述2个输出端子的电压信号的差分为负时，上述光束光点例如位于图3中由符号f1或f2表示的左侧光电二极管的检测区域。此时也与上述相同，通过VCM77b对记录透镜77a的位置进行微调，直到将上述光束光点调整到例如图3中由符号f0表示的位置。

因此，通过使PD81从光学基座上的某个位置起向左右方向移动微小量并停止在另一位置，即使聚焦用激光的光束光点偏离到PD81的中心位置f0以外的位置(f1、f2、f3、f4)，也能自动调整记录透镜77a的位置，从而使上述光束光点回到中心位置f0。

例如，假定将PD81的中心位置设定在图5中符号S’的位置，并由光头滑动块控制电路101将光头77定位于图5所示的位置。在这种情况下，当记录母盘110的曝光面因母盘110的旋转引起的摆振等而移动到符号110b的位置时，聚焦用激光的光束70在由符号72指示的曝光面上反射，并以符号74所示的形态入射到PD81。因此，将使记录用激光78以散焦状态进行刻录。

在这种情况下，如将PD81的中心位置重新设定在图5中的符号S的位置，则由聚焦伺服电路103进行微调，使记录透镜7a的位置离开记录母盘110。其结果是，将记录母盘110的曝光面相对于记录透镜77a的位置从符号110b校正到符号110a。所以聚焦用激光的光束70在由符号80指示的曝光面上反射，并以符号76所示的形态入射到PD81。因此，可以使记录用激光78以正确聚焦状态(＝最佳聚焦位置)进行刻录。在用电位器87检测使PD81的中心位置从由符号S’表示的位置变更到由符号S表示的位置时的移动量并将其按数字量进行显示这一点上，是本实施形态的装置的主要特征。

另外，根据记录母盘的类型，记录透镜77a的最佳聚焦位置也有可能位于由符号110b指示的位置。

接着，参照图4所示的流程图，说明在上述装置中对记录透镜77a的最佳聚焦位置进行初始设定时的聚焦作业步骤。

作为执行以下说明的作业步骤的前提，使用由熟练操作人员预先采集的可认为是记录透镜77a的最佳聚焦状态的聚焦位置数据(以下，称「预测最佳聚焦位置数据」)。

聚焦动作开始时，首先，由操作人员将PD81定位在光学基座上的规定位置，且在使记录母盘110的旋转停止的状态下驱动聚焦用激光器73。然后，对光头滑动块控制电路101输入驱动指令，从而通过控制电路101控制光头滑动块75，使光头77下降(步骤S121)。在这种控制动作中，光头滑动块控制电路101，通过参照例如来自差动放大器103a的误差信号，检查光头77是否已到达预定的最佳位置(步骤S122)。

当该检查结果是判定光头77位于最佳位置的上方时(步骤S123)，继续进行下降动作(步骤S121)，当判定为位于下方时(步骤S123)，停止下降动作，同时切换为上升动作(步骤S124)。在光头滑动块控制电路101的上述控制动作中，操作人员不起动伺服聚焦电路103。按照如上方式，当判定光头77已到达上述最佳位置时(步骤S122)，光头滑动块控制电路101停止对光头滑动块75的驱动(步骤S125)。

接着，在母盘110开始旋转后，当判定在上述最佳位置不能将记录透镜77a定位于最佳聚焦位置时，起动伺服聚焦电路103(步骤126)。然后，从聚焦微调电路99的操作部设定与预测最佳聚焦位置数据对应的PD81的微小移动量，以便由聚焦微调电路99使PD81在左右方向上进行微小移动(步骤S127)。由于记录母盘110的旋转引起的摆振和上述微小移动，从PD81的2个输出端子输出的电压信号的差将发生变化，所以，伺服聚焦电路103，将记录透镜77a沿上下方向移动几μm，直到将来自差动放大器103a的误差信号调整为0。按照这种方式，即可将由伺服聚焦电路103将上述误差调整为0后的记录透镜77a在光头77内的相对位置作为记录母盘110旋转时的最佳聚焦位置。操作人员，将此时显示在数字显示器93上的数值信息与上述预测最佳聚焦位置数据进行比较，(步骤S128)。如果该比较结果为所显示的数值信息与上述预测最佳聚焦位置数据一致，则将上述预测最佳聚焦位置数据作为最佳聚焦位置数据继续保存(步骤S129)，同时将其用于最佳聚焦位置的初始设定(步骤S130)。

如果步骤S128中的比较结果为两者不一致，则对上述预测最佳聚焦位置数据进行重写而将所显示的数值信息作为最佳聚焦位置数据(步骤S131)，然后转入步骤S130。

通过反复执行几次上述步骤S121-步骤S131所示的作业动作，即可根据预先已知的预测最佳聚焦位置数据采集各种盘片的最佳聚焦位置数据。

因此，在记录母盘110曝光之前，通过选择与记录母盘110的类型相适应的最佳聚焦位置数据并根据该数据对记录透镜77a的最佳聚焦位置进行初始设定，与现有技术相比，可以减小在所复制的盘片上刻录的凹坑(或凹槽)形状的离散偏差。

这里，对由本实施形态的记录母盘110复制的盘片及由现有技术的记录母盘复制的盘片，将刻录在两种盘片上的凹坑(或凹槽)深度与宽度之间关系的离散偏差进行比较。

图6示出由本实施形态的记录母盘110复制的盘片上的凹坑(或凹槽)深度与宽度之间关系的离散偏差。而图7示出由现有技术的记录母盘复制的盘片上的凹坑(或凹槽)深度和宽度之间关系的离散偏差。

在两图中，纵轴表示刻录在盘片上的凹坑(或凹槽)宽度，横轴表示刻录在盘片上的凹坑(或凹槽)深度。在凹坑(或凹槽)深度与宽度之间存在一定的关系(深度越深，则与之对应地宽度也越宽)，但这种关系的成立，是以记录透镜77a的聚焦位置上的离散偏差小为前提的。因此，当记录透镜77a的聚焦位置上产生离散偏差时，深度与宽度之间的上述关系将遭到破坏。

图6示出记录透镜77a的聚焦位置上的离散偏差小的情况，图7示出记录透镜77a的聚焦位置上的离散偏差大的情况。如将图6和图7进行比较，则可以明显看出，由本实施形态的记录母盘110复制的盘片，与由现有技术的记录母盘复制的盘片相比，凹坑(或凹槽)深度与宽度之间关系的离散偏差小。

图8是表示本发明第2实施形态的记录装置总体结构的框图。

如图所示，上述装置，与第1实施形态的记录装置的不同之处在于，在放大器89的输出侧与聚焦伺服电路103之间备有最佳聚焦位置确认电路105、及以手动方式开闭的开关107。其他结构与第1实施形态的记录装置相同，因此将其说明省略。

最佳聚焦位置确认电路105，具有与第1实施形态中的聚焦微调电路99的操作部同样的功能，在对最佳聚焦位置进行初始设定时使用。如图9所示，最佳聚焦位置确认电路105，备有差动放大器105a、与其反相输入端子侧连接的基准电压设定电路105c、及具有作为缓冲器功能的放大器105b。

作为基准电压设定电路105c，采用了用于将基准电压分压为所需值的可变电阻电路。基准电压设定电路105c，可以通过由操作人员操作其滑动触头，设定与表示预测最佳聚焦位置数据的PD81的微小移动量对应的基准电压。

差动放大器105a，计算放大器89的输出信号与由基准电压设定电路105c施加的基准电压的差，并输出与该差对应的电压信号(误差信号)。该误差信号，仅当开关107闭合时输出到聚焦微调电路99，由此，通过聚焦微调电路99及电机驱动电路97控制电机95，从而使PD81在左右方向进行微小移动。

开关107，是仅当由最佳聚焦位置确认电路105进行最佳聚焦位置初始设定时由操作人员闭合的开关。因此，最佳聚焦位置的初始设定一旦完成后，便被置于打开的状态。

图10是表示在上述装置中进行最佳聚焦位置初始设定时的聚焦作业步骤的流程图。对于图10所示的作业步骤和图4所示的作业步骤，如将两个图中分别示出的流程图进行比较对照，则可以清楚地看出，只是步骤S127所示的处理动作与步骤S132所示的处理动作不同。

即，在图10的作业步骤中，当聚焦伺服电路103起动后(步骤S126)，在将开关107打开的状态下由基准电压设定电路105c设定与预测最佳聚焦位置数据对应的基准电压(步骤S132)。然后，在将开关107闭合时，根据在差动放大器105a中计算出的放大器89的输出信号与基准电压的差分信号控制电机95，使PD81在左右方向进行微小移动。在这之后，转入由伺服聚焦电路103将记录透镜77a沿上下方向移动几μm的调节动作、及由操作人员检查是否调整到最佳聚焦位置的作业。

在上述的本发明第2实施形态的记录装置中，也能取得与第1实施形态的装置同样的效果。

上述内容始终与本发明的各个实施形态有关，但这当然并不意味着本发明只限定于上述内容。

如上所述，按照本发明，可以提供一种将表示记录透镜最佳聚焦位置的数据数值化后使用从而使与记录母盘的类型对应的最佳聚焦位置的初始设定作业容易进行的记录装置。产业上的可应用性

本发明的记录装置，适于用作激光刻录机。

Claims

1.一种记录装置，使记录用激光通过已设定在最佳聚焦位置的记录透镜对记录母盘进行曝光，其特征在于，备有：可位移的激光检测装置，在进行上述最佳聚焦位置的初始设定时，接收照射在上述记录母盘上后从上述记录母盘反射的聚焦用激光，并输出与该光接收位置和规定的基准光接收位置的位置偏差对应的检测信号；伺服装置，响应上述检测信号而自动调整上述记录透镜相对于记录母盘的位置，从而将上述记录透镜定位在最佳聚焦位置，以便消除上述位置偏差；位移量检测装置，用于检测上述激光检测装置的位移量；及显示装置，将上述位移量检测装置的输出信号数值化后进行显示。

2.根据权利要求1所述的记录装置，其特征在于，还备有：基准位移量设定装置，将上述记录透镜位于最佳聚焦位置时使上述聚焦用激光的光接收位置与上述基准光接收位置一致的位移量预先设定为基准位移量；及位移量自动调整装置，自动调整上述激光检测装置的位移量，以使上述基准位移量与来自上述位移量检测装置的位移量检测值一致。