CN1234113C - 磁复制用母载体 - Google Patents

Abstract

本发明致力于对磁复制用母载体进行改进，力图借助从母载体上经磁复制而形成了磁图形的磁记录介质再生时得到良好的再生信号。本发明的磁复制用母载体3具备由磁性材料构成的基板3a和在该基板上至少沿上述凸部形成的磁性层3b，上述基板3a的表面具有与应该复制到平面内磁记录介质2的信息对应的图形状凹凸，上述基板3a的饱和磁化Ms和上述磁性层的饱和磁化Mm的关系为1.0＜Mm/Ms≤100。

Description

磁复制用母载体

技术领域

本发明涉及一种为把信息复制到磁记录介质上的具备图形状凹凸的磁复制用母载体。

背景技术

就磁记录介质而言，一般说来，随着信息量增加，希望拥有所谓可高速存取的介质，这种介质能够记录大量信息，价廉，更好是在短时间内可读取必要的存储区。作为高速存取介质一例，已公知的有由硬盘，ZIP(アイオメガ社)等的软盘构成的高密度磁记录介质。这些高密度磁记录介质以狭窄的磁道构成，为了磁头能正确地扫描狭窄的磁道，以高S/N再生信号，所谓跟踪伺服技术起主要作用。

用于磁道定位的伺服信号或该磁道的地址信号，再生时钟信号等的伺服信息在磁记录介质的制造时作为预格式化事先记录在磁记录介质上是必要的，现在使用专用的伺服记录装置(伺服磁道读取器)进行预格式化。因为目前的伺服记录装置所完成的预格式化必须每次一块磁记录介质，由磁头记录，所以问题是需要相当长的时间来生产，其效率较低。

另一方面，作为正确且有效地进行预格式化的方法，利用磁复制把形成在母载体上的承载伺服信息的图形复制到磁记录介质上的方法已被专利文献1-3披露。

磁复制是在把承载应该复制的信息的母载体与磁盘介质等的磁记录介质(从属介质)密切接触的状态下，施加复制用磁场，把母载体所具有的与信息图形对应的磁图形磁性地复制到从属介质上的方法。能够不改变母载体和从属介质的相对位置地静静地实施记录，可进行正确的预格式化，而且，记录所需的时间极短。

特别地，专利文献2及3等揭示的磁复制中使用的母载体具备基板和该基板的至少凸部表面上的磁性层，该基板具有与应该复制到从属介质上的信息对应的凹凸图形。

作为形成这种图形化基板的方法，公知的是使用半导体领域中常用的光刻技术在非磁性体构成平板状基板表面上形成凹凸图形。然而，已经非常清楚的是使用具备由非磁性体构成的基板的母载体进行磁复制而记录到从属介质上的信号因为发生非对称性，所以信号质量大幅度降低。

专利文献1特开照63-183623号公报

专利文献2特开平10-40544号公报

专利文献3特开2001-14667号公报

本申请的发明人对于现有母载体，发现因为是非磁性层的基板，只有形成在该基板上的磁性层起到复制磁场的收缩作用，因为磁通的收缩集中于磁性层上，对从属介质侧(从属介质复制区域)产生的磁场产生干扰，导致对称性变差(不对称性增加)。基板上形成的磁性层的厚度薄到数十nm到数百nm，此外，图形端(凸部上表面端部)呈急剧起伏形状。为了利用该磁性层的厚度及形状在图形端上，复制磁场的能量实现稳定，在该图形端上产生磁通集中，而该磁通集中就是导致复制区内的磁场均匀性降低的原因。

为了改善从属介质复制区域内的磁场干扰，采取了对基板自身使用磁性体，但必须对通过从属介质的复制磁场进行整流。

然而，经本发明人的研究，业已发现只用磁性体构成基板，未必可以对从属介质复制区内的复制磁场进行整流。

发明内容

鉴于上述问题，本发明的目的在于提供一种能够对复制磁场进行整流，在磁复制后从属介质上能够得到良好复制信号的磁复制用母载体。

本发明的磁复制用母载体具备基板和磁性层，上述基板的表面具有与复制到平面内磁记录介质的信息对应的图形状凹凸，上述磁性层在该基板上至少沿上述图形状凹凸的凸部形成，其特征在于：

上述基板可由Ni，Ni合金材料中的一种构成，磁性层可由至少包含Fe、Co、Ni、Gd、Dy、Sm、Nd中的至少一种元素，且具有结晶结构的FeCo、FeCoNi、FeNi的合金材料中的一种构成，上述基板的凸部的高度h1为40nm以上，上述基板的饱和磁化Ms和上述磁性层的饱和磁化Mm的关系如下：

1.0＜Mm/Ms＜100

上述Ms和上述Mm最好是2.0≤Mm/Ms＜3.9。

这里，所谓[由磁性材料构成的基板]中的磁性材料是指在施加磁场后，具有使磁力线穿透基板内的性质的材料，也可以是单独的元素构成，也可以是由多种元素构成，而且如果从整体上看是强磁性材料，则含有其它的磁性/非磁性元素的材料也可以。

上述磁性层的结晶结构希望是体心立方结构(bcc)，面心立方结构(fcc)，或者非晶形结构中的任何一种。

上述磁性层也可形成在上述基板的凹部上，上述基板的凸部的高度h1和上述凸部上的磁性层的表面的/距上述凹部上磁性层的表面的高度h2希望具有0.2≤h2/h1≤0.8的关系，更好的是0.3≤h2/h1≤0.6。这里，凸部的高度h1是从凹部表面起测定的高度。

上述Ms希望是5.65特斯拉。

上述基板的凸部的高度希望是80-600nm。

作为应该复制的信息，举例来说如伺服信号。

本发明人认为如上所述那样使用磁性体，需要对通过从属介质的复制磁场进行整流。作为由磁性材料构成的基板，把基板的饱和磁化(Ms)和磁性层的饱和磁化(Mm)作为参数进行了实验。实验结果，在100≤Mm/Ms时，使用磁性材料的效果变小，不能充分防止磁通向磁性层图形端的集中，Mm/Ms≤1，进入母载体内的磁通从母载体凸部放出不足，另一方面，设定1＜Mm/Ms＜100，能够防止复制磁场向磁性层图形端的集中，而且，能够从母载体的凸部放出磁通，防止了复制磁场的不均匀性，发现能够对从属介质内的复制磁场进行整流。

根据本发明的磁复制用母载体，因为使用了由磁性材料构成的基板的饱和磁化Ms和该基板上形成的磁性层的饱和磁化Mm的比为1.0＜Mm/Ms≤100的关系的材料来形成，所以能够整流从属介质内的复制磁场，能够在从属介质上形成良好的磁化图形。采用形成了良好磁化图形的从属介质，能够得到高品质的再生信号。

本发明人把Mm/Ms的范围设定在2.0≤Mm/Ms＜3.9，此外，发现能够整流复制磁场，提高信号品质。

另外，作为由磁性体构成的基板，使得基板的饱和磁化和配置其上的磁性层的饱和磁化为上述关系所带来的效果在具有最小图形间距离(凸部间距离)低于300nm的凹凸图形的母载体上特别显著。

若对基板上形成的磁性层的结晶结构采用体心立方结构/面心立方结构或者非晶结构的任何一种，很显然能提高复制信号的品质。在专利文献2中，磁性层使用Co。该Co是通常在C轴方向具有磁化容易轴的六面最密实充填结构的材料。磁复制时，在从属介质为面内磁记录介质的情况下，必须沿圆周方向施加磁场，在从属介质为垂直磁记录介质的情况下，必须沿垂直方向施加磁场。在具有容易轴的磁性材料构成母载体的磁性层的情况下，若容易轴不能受控成为所希望的方向(施加磁场的方向)，则磁复制时的复制信号强度变弱，信号输出降低，或者信号边缘变钝。这是因为复制磁场和容易轴不一致之故，导致磁化未能朝向复制磁场的方向的状态。另一方面，因为具有bcc，fcc或者非晶结构的材料没有磁化容易轴，所以与是hcp结构的材料，控制其容易轴没有形成的情况相比，全部的磁化容易朝向复制时施加的磁场方向，所以能够确保有效的复制磁场。因为容易轴的控制困难，所以使用无容易轴的材料能够使制造过程简化，并可提高生产效率。

也可以在基板的凹部上形成磁性层，基板的凸部的高度h1，凸部上的磁性层的表面的距凹部磁性层的表面的高度h2的比若为0.2≤h2/h1V0.8，则能够进一步提高复制磁场的整流效果，这是本发明经过研究后发现的现象。即，若h2/h1不到0.2时，因从图形端(凸部端部)放出的磁通所发生的复制磁场朝向膜面垂直方向的距离变短，所以复制时的母载体。从属介质间距离增大时，磁通不能足够地进入从属介质内部，信号的复制品质将会下降。另外，h2/h1大于0.8时，因为复制磁场向母载体的凹部磁性层中泄漏，难以确保足够的复制磁场强度。

附图说明

下面，利用附图详细说明本发明的实施形式。

对本发明的第1实施形式的磁复制用母载体进行说明。

图1示出本实施形式的磁复制用母载体的表面的局部立体图。

图2是示出母载体的凸部的局部截面图。

图3是示出从属介质2和母载体3、4的立体图。

图4是说明向磁记录介质上进行磁复制的基本步骤的图。

具体实施方式

母载体3如后述的图3所示为圆盘状，具备基板3a和磁性层3b，该基板具备表面上形成图形状凸部31的凹凸图形，磁性层沿上述该凹凸图形形成的。在凹部内也可以不形成磁性层。凹凸图形是对应于应该复制到为从属介质的磁记录介质上的信息。其一部分是如图1所示。在图1中，箭头X表示圆周方向(磁道方向)，箭头Y表示半径方向。作为应该复制的信息的具体例子可以举例有伺服信号，但不限于伺服信号。

图2示出图1所示的包含母载体3的凸部31的A-A′截面图。即，是基板3a的凸部31的/沿垂直于基板3a平行于磁道方向X的平面的截面图。

本实施形式的母载体3，选择基板3a和磁性层3b的材料来构成的，使之所选的材料应满足由磁性材料构成的基板3a的饱和磁化Ms和磁性层3b的饱和磁化Mm为1.0＜Mm/Ms≤100，更好是2.0≤Mm/Ms＜3.9的关系。另外，基板3a的饱和磁化Ms使用5.65T(4500高斯)以上的材料，具体地，基板3a可由Ni，Ni合金等材料构成，磁性层3b可由至少包含Fe、Co、Ni、Gd、Dy、Sm、Nd中的至少一种元素，且具有面心立方结构的FeCo、FeCoNi、FeNi等的合金材料构成。从整体来看，只要是强磁性的，含有其它的磁性或非磁性元素的材料也可以。作为磁性层3b，虽然软磁性，半硬磁性，硬质磁性的任何一个均可以，但使用软磁性或半硬质磁性等的保磁力小的磁性层，能得到更好的复制效果。形成在基板上的磁性层3b希望具有体心立方结构(bcc)，面心立方结构(fcc)或者非晶形的结构。具有其中的bcc或fcc结构时，磁性层具有多个微粒无序地配置着的微粒结构，从每个微粒的膜面观测到的尺寸是在100nm以下。

另外，形成在基板3a表面上的凹凸图形的凸部高度h1达到40nm以上。此外，基板3a的距凹部表面的凸部高度h1和凸部上的磁性层的表面的/距凹部上的磁性层的表面的高度h2的比按照0.2≤h2/h1≤0.8关系形成。更好的是0.3≤h2/h1≤0.6。

母载体3具有基板3a和磁性层3b，基板3a由具有凹凸图形且由磁性材料构成，磁性层3b配置在该基板3a上，基板3a和磁性层3b使用具有上述关系的材料构成，就可以向从属介质2复制再生信号高质量的磁图形。把基板3a的凸部高度h1定为40nm以上，并使该高度h1和凸部上的磁性层的表面/距凹部上的磁性层的表面的高度h2的关系为0.2≤h2/h1≤0.8的关系，则能够提高凸部图形端上的磁通吸收/放出效果，实现更高信号品质。若未满40nm，则不能从凸部向空间(从属介质侧)放出足够的磁通，就会担心不能确保复制磁场强度。

母载体3的具有图形状凸部(凹凸图形)的基板3a的形成，可以使用喷镀法，光刻法等进行。

首先，在表面平滑的玻璃板(或石英板)上以旋涂(sipncoat)等形成光敏电阻，边使该玻璃板旋转边照射对应于伺服信号调制的激光(或电子束)，使光敏电阻整个表面上规定的图形，例如相当于在各磁道上从转动中心向半径方向线状延伸的伺服信号的图形暴光成圆周上对应各支架的部分，之后，显像处理光敏电阻，除去暴光部分，得到由光敏电阻形成的凹凸形状的原盘。接着，以原盘的表面凹凸图形为基础，对该表面施以电镀处理，制作成具有阳性(负)凹凸图形的Ni基板，再从原盘上剥离下来。这样得到的该基板可以不经任何处理就可作为母载体或者按需要覆盖磁性层/保护膜后再作为母载体。

对上述原盘施以电镀后制作第2原盘，使用该第2原盘再进行电镀，也可制作出具有阴性凹凸图形的基板。此外，对第2原盘进行电镀或挤压涂抹树脂液并固化后制作得到第3原盘，对第3原盘实施电镀，还可制作出具有阳性凹凸图形的基板。

另一方面，在上述玻璃板上由光刻胶形成图形后，进行腐蚀，在玻璃板上形成凹槽，除去光刻胶后得到原盘，以后与上述一样形成基板。

作为形成基板的金属材料，如前所述，可以使用Ni或Ni合金等，作为制作上述该基板的上述电镀，可以适用的是无电解电镀，电镀，喷镀，离子镀等各种金属成膜法。基板凸部高度(凹凸图形的深度)是40nm以上，特别是，优选50-800nm，更好的范围是80-600nm。在该凹凸图形是伺服信号的情况下，形成一个半径方向比圆周方向要长的矩形凸部。具体地，半径方向的长为0.05-20μm，圆周方向的长为0.05-5μm为好，在该范围内，选择半径方向为长一些的形状的值作为承载伺报信号的图形更好。

在基板的凹凸图形上形成磁性层3b的方法是使用真空蒸镀法，喷镀法，离子镀法等真空成膜手段，电镀法等形成磁性材料层。磁性层的厚度较好范围是50-500nm，更好是80-300nm。如前所述，基板的凸部高度h1和凸部上磁性层的表面的距凹部上的磁性层的表面的高度h2的比h2/h1为，按照0.2≤h2/h1≤0.8的关系形成。

最好在该凸部表面的磁性层上设置5-30nm的似金刚石的碳(DLC)等的保护膜，而且，还可设润滑剂。在磁性层和保护膜之间还可设计Si等的紧密强化层。通过设计润滑剂，能够提高在补正从属介质的接触过程中造成的误差时的因磨擦造成的损伤发生等的耐久性。

接着，说明使用本发明的磁复制用母载体，在从属介质上复制信息的磁复制方法的实施例。

图3是示出从属介质2和母载体3、4的立体图。从属介质是如在双面或单面上形成了磁记录层的硬盘，软盘等的圆盘状磁记录介质。另外，在本实施形式中，示出了在圆盘状基板2A的双面上分别形成了面内磁记录层2b/2c。

母载体3是上述实施形式所示的部件，形成了从属介质2下侧记录层2用的凹凸图形。母载体4是与母载体3同样的层结构，形成了从属介质2的上侧记录层2C用的凹凸图形。

图3中，虽然示出磁记录介质2和母载体3、4彼此分离的状态，但实际的磁复制是使磁记录介质2的记录再生面和母载体3、4的磁性层3b、4b紧密接触，或者相互呈面对面靠近的状态。

图4是说明向磁记录介质上进行磁复制的基本步骤的图。图4(a)沿磁道单一方向施加磁场后对从属介质进行初始直流磁化的步骤，4(b)是使母载体和从属介质紧密接触，施加与初始直流磁场大体相反方向的磁场的步骤，4(c)是磁复制后的从属介质的记录再生面的状态。在图4中，只示出从属介质2下面记录层2b侧。

如图4(a)所示，预先对从属介质2施加磁道方向的单一方向的初始直流磁场Hin，对磁记录层2b进行初始直流磁化。之后，如图4(b)所示，使该从属介质2的记录层2b侧的表面和母载体3的凸部表面的磁性层3b侧的表面紧密接触，朝着从属介质2的磁道方向施加与上述初始直流磁场Hin反方向的复制用磁场Hdu，进行磁复制。结果如图4(c)所示，母载体3上的对应于凹凸图形的信息(例如伺服信号)磁复制到从属介质2的磁记录层2b上。这里，虽然只说明了下侧母载体3对从属介质2的下侧记录层2b上进行的磁复制，但对于磁记录介质2的上侧记录再生面2e，可以与上侧母载体4紧密接触同样也可以进行磁复制。当然，可以在磁记录介质2的上下记录再生面2d/2c上同时进行磁复制，或者一面面依次进行也可以。

另外，即使母载体3的凹凸图形是与图4的阳性图形相反的凹凸形状的阴性图形的情况，通过使初始磁场Hin的方向及复制用磁场Hdu的方向与上述方向相反，就可以把同样的信息磁复制到记录层上。初始直流磁场及复制用磁场，测定从属介质的保磁力，母载体及从属介质的比透磁率等后采用预定的值是必要的。

作为从属介质2，可以使用硬盘，高密度软盘等的圆盘状磁记录介质，作为该磁记录层，可使用形成了涂抹型磁记录层或金属薄膜型磁记录层的磁记录层。

对于具备金属薄膜型磁记录层的磁记录介质的情况，作为磁性材料，可使用Co，Co合金，(CoPtCr、CoCr、CoPtCrTa、CoPtCrNbTa、CoCrB、CoNi、Co/Pd等)，Fe，Fe合金(FeCo、FePt、FeCoNi)。作为磁性层，为了进行清晰的复制，最好磁通密度大，而且如果平面内记录，只面内方向有磁性异方性，如果垂直记录，则垂直方向有磁性异方性。较好的磁性层厚在10nm以上，500nm以下，更好的是20nm以上，200nm以下。

在磁性层下(基板侧)最好为了使该磁性层持有必要的磁性异方性而设计非磁性的下层。作为下层，可使用Cr、CrTi、CoCr、CrTa、CrMo、NiAl、Ru、Pd等，结晶结构及晶格常数必须选择与设置在其上的磁性层的结晶结构及晶格常数一致的。较好的非磁性层的厚度是10nm以上，150nm以下，更好的是20nm以上，80nm以下。

另外，在上述实施形式中，虽然说明了把平面内记录介质作为从属介质时的磁复制，但本发明的母载体不限于平面内记录介质用的，对于把垂直磁记录介质作为从属介质时也具有同样的效果。

实施例

下面，使用本发明的磁复制用母载体的实施例和比较例进行磁复制，对复制信号的质量作出评价，并说明结果。评价方法如下：

信号品质评价方法

使用电磁变换特性测定装置(协同电子制SS-60)，对从属介质的复制信号进行评价。对于磁头，使用再生磁头间隙：0.12μm，再生磁道宽度0.4μm，记录磁头间隙0.2μm，记录磁道宽度0.67μm的GMR磁头。

第1，用光谱分析仪把读取的信号按频率分解，测定1次信号的峰值强度和外插的介质噪音(N)的差(C/N)。利用目前进行的方法中相同的磁头进行信号记录，再生该信号得到的C/N值为0dB，相对于该值，求出从通过磁复制记录下的信号再生的信号的相对值(ΔC/N)，若ΔC/N比-1.5dB大则为良好(O)，若在-3.0∽-1.5dB为合格(Δ)，未满-3.0时，为不合格(X)。

第2，根据正极性信号部输出(TAA+)，负极性信号部输出(TAA-)，以下式：

ASY＝{((TAA+)-(TAA-))/((TAA+)+(TAA-))}*100％算出不对称值ASY，若ASY大于0％，不足5％，则为良好(O)，若高于5％，但不足10％，则合格(Δ)，若高于10％则评价为不合格(X)。

下面，对作为实施例及比较例使用的母载体说明。

作为实施例1的母载体的基板，使用由喷镀制作法制作的基板。具体地，使用基板材料用Ni制作的，在圆盘中心到半径方向20-40mm的范围内，磁道宽度1.0μm，磁道节距1.1μm，在最内周的半径方向20mm位置上，比特长为0.2μm的凹凸图形信号由凸部高度(深度)0.2μm形成的基板。

在该Ni基板上于25℃下形成bcc结构的FeCo30at％的磁性层。喷镀形成磁性层时的Ar喷镀压为1.44×10^-1Pa(1.08m乇)，投入电力2.80W/cm²。

这样，得到Mm/Ms＝3.8，h2/h1＝0.7的实施例1的母载体。

实施例2-8及比较例1-3，哪一个都是以与实施例一同样的方法制作而成的，但用与实施例1不同的磁性材料来分别构成凸部上面形成的磁性层或基板，按照磁性层的结晶结构，基板的饱和磁化Ms和磁性层的饱和磁化Mm的比Mm/Ms不同，和/或通过改变磁性层的厚度使基板的凸部的高度h1和凸部上的磁性层的表面的距凹部上的磁性层的表面的高度h2的比h2/h1不同地制作。

实施例2的母载体是用Co形成有hcp结构的磁性层的母载体，Mm/Ms＝2.8，除此以外与实施例1相同。

实施例3的母载体是用CoNi50形成有fcc结构的磁性层的母载体，Mm/Ms＝2.0，除此以外与实施例1相同。

实施例4的母载体是用FeMn50形成有bcc结构的磁性层的母载体，Mm/Ms＝2.5，除此以外与实施例1相同。

实施例5的母载体是除了h2/h1＝0.1以外与实施例1相同。

实施例6的母载体是除了h2/h1＝0.9以外与实施例1相同。

实施例7的母载体是由(FeCo)₂P合金构成基板的母载体，除了Mm/Ms＝92以外与实施例1相同。

实施例8的母载体是由FeB非晶形合金构成磁性层的母载体，除了Mm/Ms＝2.0以外与实施例1相同。

比较例1的母载体是用Ni形成有fcc结构的磁性层的母载体，Mm/Ms＝1.0除此以外与实施例1相同。

比较例2的母载体是用CoNi80形成有fcc结构的磁性层的母载体，Mm/Ms＝0.8，除此以外与实施例1相同。

比较例3的母载体是用NiP合金形成有fcc结构的基板的母载体，Mm/Ms＝113，除此以外与实施例1相同。

作为实施例1-8及比较例1-3的磁复制用母载体的从属介质，使用饱和磁化Ms：5.65T(4500Gauss)，保磁力Hc：199kA/m(25000e)的3.5英寸型圆盘状面内磁记录介质。该面内磁记录介质在真空成膜装置(芝浦メカトロニクス：S50S喷镀装置)中，于室温下减压到1.33×10^-5Pa(1×10^-4m乇)后，导入氩气，在0.4Pa(3.0m乇)的条件下把玻璃板加热到200℃，依次把30nm的CrTi，和30nm的CoCrPt重叠而制作成。

使用实施例及比较例的母载体，对上述从属介质进行面内磁记录介质用的磁复制，进行已描述的信号品质评价。结果示于表1中。

	Mm/Ms	h2/h1	结晶结构	ΔC/N[dB]评价	不平衡[％]评价
						实施例1	3.8	0.7	bcc	-0.2(o)	2(o)
实施例2	2.8	0.7	hcp	-1.7(Δ)	7(Δ)
						实施例3	2.0	0.7	fcc	-2.0(Δ)	3(o)
实施例4	2.5	0.7	bcc	+0.2(o)	3(o)
						实施例5	3.8	0.1	bcc	-1.2(o)	8(Δ)
实施例6	3.8	0.9	bcc	-1.6(Δ)	1(o)
						实施例7	92	0.7	bcc	-1.4(o)	5(Δ)
实施例8	2.0	0.7	非晶形	-0.7(o)	1(o)
						比较例1	1.0	0.7	Fcc	-4.2(X)	11(X)
比较例2	0.8	0.7	Fcc	-4.5(X)	15(X)
						比较例3	113	0.7	Bcc	-3.1(X)	26(X)

如表1所示，如实施例1-8所示，满足1.0≤Mm/Ms≤100的无论是信号品质和不对称都可得到合格以上的评价，另一方面，未满足上述范围的比较例1-2信号品质及不对称评价都不合格。

实施例6及7只是不满足0.2≤h2/h1≤0.8这一点不同于实施例1，实施例1中，都良好的信号品质及不对称的任何一个成为可以的评价，满足0.2≤h2/h1≤0.8的表示出可形成良好磁图形的倾向。

另外，即使满足1.0≤Mm/Ms≤100和0.2≤h2/h1≤0.8，如实施例2所示，结晶结构是hcp的对于信号品质及不对称都未得到良好的评价而仅得可以的评价，作为磁性层的结晶结构，bcc，fcc，或者非晶形都比hcp要好。

Claims (8)

1.一种磁复制用母载体，该载体具备基板和磁性层，上述基板的表面具有与复制到平面内磁记录介质的信息对应的图形状凹凸，上述磁性层在该基板上至少沿上述图形状凹凸的凸部形成，其特征在于：

上述基板可由Ni，Ni合金材料中的一种构成，磁性层可由至少包含Fe、Co、Ni、Gd、Dy、Sm、Nd中的至少一种元素，且具有结晶结构的FeCo、FeCoNi、FeNi的合金材料中的一种构成，上述基板的凸部的高度h1为40nm以上，上述基板的饱和磁化Ms和上述磁性层的饱和磁化Mm的关系为：

1.0＜Mm/Ms＜100。

2.根据权利要求1所述的磁复制用母载体，其特征在于

上述Ms和上述Mm满足2.0≤Mm/Ms＜3.9的关系。

3.根据权利要求1或2所述的磁复制用母载体，其特征在于

上述磁性层的结晶结构是体心立方结构，面心立方结构，或者非晶形结构中的任何一种。

4.根据权利要求1或2所述的磁复制用母载体，其特征在于

上述磁性层形成在上述基板的凹部上，上述基板的凸部的高度h1和上述凸部上的磁性层的表面的、距上述凹部上磁性层的表面的高度h2具有0.2≤h2/h1≤0.8的关系。

5.根据权利要求4所述的磁复制用母载体，其特征在于上述h1和h2具有0.3≤h2/h1≤0.6的关系。

6.根据权利要求1或2所述的磁复制用母载体，其特征在于上述Ms是5.65特斯拉。

7.根据权利要求1或2所述的磁复制用母载体，其特征在于上述基板的凸部的高度是80-600nm。

8.根据权利要求1或2所述的磁复制用母载体，其特征在于作为复制的信息是伺服信号。

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