CN1222818C - 电光装置和电子设备 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种尽管存在着液晶注入口，却可以在基板整个面上恒定地保持单元间隙的电光装置。本发明的的电光装置，具备：其构成为挟持电光物质的TFT基板(10)和对向基板(20)；把被上述一对基板夹在中间的间隙与其外部连通起来的注入口(52a)；为了规定的厚度地保持这些基板间的间隙，在与该基板平行的面内点状存在那样地配置多个，而且，在上述面内，在上述注入口附近配置得更密，在上述注入口附近以外配置得更疏的柱状衬垫(401)。

Description

电光装置和电子设备

技术领域

本发明属于电光装置和电子设备的技术领域，特别是属于为了使被2块基板挟持的间隙的间隔保持规定的值，利用柱状的衬垫的电光装置和其构成为具有这样的电光装置的电子设备。

背景技术

液晶显示装置等的电光装置，通常，采用把液晶封入到已制作上电极、布线、元件等的2块基板之间的办法构成。而在这样的电光装置中，为了在上述2决基板间，恒定(例如，大约3到5微米)地保持被该2块基板挟持起来的间隙的间隔，即，恒定地保持由液晶构成的液晶层的层厚(以下，叫做‘单元间隙’)，一般要在基板整个面上，设置所谓的衬垫。在这里，之所以非要使单元间隙保持恒定不可，是因为不然的话，就会给光透过率、对比度、响应速度等的显示特性造成影响，在坏的情况下，还会存在着发生显示不均匀等的可能性。

作为该衬垫，更为具体地说，例如，人们广为使用具有微小的大体上球状的形状的衬垫。这样的微小的大体上球状的衬垫，在象液晶电视机、监视器那样直视型的液晶显示装置的情况下，大多数都均等地散布在2块基板间的液晶中使用。另一方面，在投影仪的光阀等的进行放大显示的小型的液晶显示装置的情况下，也可以在混合到使2块的基板间彼此粘接的密封剂中的状态下使用。

作为衬垫的另外的例子，也可以利用具有所谓的柱形形状的衬垫(以下，叫做‘柱状衬垫’)(参看专利文献1)。这是一种在基板上边隔以适当的间隔使由适当的有机材料等构成的柱状的构件林立的状态下使用的衬垫，借助于该柱的轴方向的耐力支持2块基板，使它们之间的单元间隙保持恒定的构件。在这里，所说的‘适当的间隔’，在现有技术中例如说的是在几个象素到几十个象素中存在1个柱状衬垫这种程度。顺便地说，即便是在使用这样的柱状衬垫的情况下，一般也是一并使用上述的混合到密封剂中使用的大体上球状的衬垫(以下，把该密封剂中的衬垫，特别地叫做‘间隙构件’)。因为借助于此，就可以在整个基板内，更好地满足单元间隙恒定的要求。

另外，在说使基板间保持‘恒定’这样的情况下，其精度，根据构成由液晶构成的层的液晶分子的、在2块基板间的‘扭曲角度’的不同而异，例如，在该扭曲角度为90度的TN(扭曲向列)型的情况下，要求±0.1微米左右以下的精度，在该扭曲角度为260度的STN(超扭曲向列)型的情况下，则要求±0.3微米左右以下的精度。

专利文献1

特开2000-66181号公报

但是，在现有的衬垫中，存在着如下的问题。即，在上述那样的液晶显示装置中，由于必须向2块基板间注入液晶，虽然设置有把被该2决基板挟持起来的间隙与外部之间连通起来的液晶注入口，但是归因于该液晶注入口的存在，就变得难于使单元间隙保持恒定。

对这种情况更为具体地进行说明。首先，液晶显示装置的制造，大体上可如下地进行。即，预先在2块基板的每一块基板上，制作电极、布线、元件等等的必要的构成，其次，在向上述2块基板中的至少一方的周围涂敷上已混合进上述间隙构件的密封剂(密封剂涂敷工序)，并分别把上述2块基板粘贴起来(粘贴工序)之后，最后借助于真空吸引通过上述液晶注入口向上述间隙内导入液晶。

在这样的制造工序中，首先，在密封剂涂敷工序中，不能对应当变成为液晶注入口的部分进行该密封剂的涂敷。因为若向该部分上涂敷密封剂，则不可能导入液晶。此外，上述粘贴工序一般是边对2块基板加上适当的压力边进行。

由这种情况可知，对于上述液晶注入口所存在的部分来说，与其它的部分比，单元间隙将变得更小。因为，在粘贴工序中，如上所述，由于边利用适当的压力边执行2块基板的粘贴，故虽然结果变成为上述密封剂或该密封剂中的间隙构件反抗该压力那样地对彼此正在接近的基板产生规定的抵抗力，但是，在液晶注入口所存在的部分上，却不存在这样的密封剂和间隙构件。

在这里，即便是假定在2块基板间，作为上述衬垫存在着柱状衬垫，也不可能消除上述的那种缺点。因为，由于上述粘贴工序中的压力相当程度地大，故柱状衬垫所产生的抵抗力还达不到可以与上述的那种密封剂和间隙构件所发生的抵抗力匹敌的程度。如果考虑柱状衬垫如上所述可用柱的轴方向的耐力支持基板，即可用所谓的‘点’支持基板面，相对于此，可以说密封剂等虽然仅仅涂敷在基板的周围却用‘面’进行支持，上述情况就更为显然了。

发明内容

本发明就是有鉴于上述那些问题而提出的，目的在于提供尽管存在着液晶注入口，在整个基板上却可使单元间隙保持恒定的电光装置，和其构成为具备这样的电光装置的电子设备。

本发明的第1电光装置，为了解决上述问题，具备：其构成为挟持电光物质的一对基板；把被上述一对基板夹持的间隙与其外部连通起来的注入口；在上述一对基板的彼此对向的一侧的面内点状散布那样地配置多个，而且，在上述面内，在上述注入口附近配置得更密，在上述注入口附近以外配置得更疏的柱状衬垫。

倘采用本发明的第1电光装置，首先，可以用柱状衬垫以规定的厚度地保持被一对基板挟持起来的间隙。此外，对于该间隙来说，可以通过注入口，从该间隙的外部，导入液晶等电光物质。因此，对于该注入口所存在的部分来说，与注入口不存在的部分比较，一般地说强度要弱一个与形成了‘口’的量对应的量。因此，在粘贴一对基板的工序中，可以说存在该注入口的部分与不存在该注入口的部分比较起来，更易于压坏，即单元间隙更易于减小。

在这里，在本发明中，特别地把多个上述柱状衬垫配置为使得在一对基板间在与该一对基板平行的面内点状地存在，而且，在上述面内在注入口附近配置得密，在除此之外的地方配置得疏。因此起因于注入口附近的柱状衬垫的抵抗力，就变得比除此之外的地方的相应的抵抗力更大。借助于此，结果就变成为在粘贴一对基板时，即便是相当程度地加上了压力，在注入口附近，借助于被配置得更密的柱状衬垫也可以充分地反抗该压力。

顺便地说，这样的事情，要想用在现有技术中广为应用的大体上球状衬垫的散布形态实现是极其困难的。即，在向对基板间散布大体上球状的衬垫的形态下，为了防止在注入口附近的单元间隙的狭小化，虽然需要使该衬垫在注入口附近密集地散布，但是这样的事情是极其困难的。有鉴于这样的事情，在本发明中，使用柱状衬垫的优越性得到了确认。

由以上的情况可知，倘采用本发明，则可以规定的厚度地保持注入口附近的一对基板间的间隙，即单元间隙，因而，可以规定的厚度地保持整个基板的单元间隙。此外，由此可知，倘采用本发明的电光装置，则可以减小起因于单元间隙的不均一性的、会对光透过率、对比度、响应速度等的显示特性造成不良影响的可能性，此外，由于可以减小产生显示不均匀等的可能性，故可以提高图象的品质。

另外，在本发明中，所说的‘附近’，指的是把注入口看作是中心，遍及适当的范围的区域。说得更具体点，所说的该‘附近’，由于要作成为使得不产生上述的那样的显示不均匀等图象上的缺点，故应在考虑到要把柱状衬垫配置得密的区域究竟应当变成为何种程度大的区域后再具体地决定。

例如，更为一般地说，上述显示不均匀，由于有时候可以观察到具有从mm(毫米)级到1cm左右的大小的不均匀，故结果就变成为在酌量这样的事情之后再决定应把柱状衬垫配置得密的区域。此外，说得更具体点，在图象显示区域为2英寸的情况下，由于有时候会观察到5mm左右的显示不均匀，故应把柱状衬垫配置得密的区域，可以这样地决定：例如把该5mm这样的值夹在中间的3到7mm左右。

总之，在本发明中所说的‘附近’，也包括上述的内容在内，是可以经验性地、实验性地、逻辑性地或借助于模拟等适宜决定的事项。

本发明的第1电光装置的一个形态中，配置在上述注入口附近的上述柱状衬垫，在上述面内以上述注入口为中心的半圆状的范围内，配置得更密。

倘采用本形态，则可以更为有效地享受上述的本发明的作用效果。之所以这么说，是因为在以往成为问题的在注入口附近的单元间隙比其它的部分的单元间隙变得更小的情况下，该变小的区域，一般地说，遍及以注入口为中心的大体上半圆形状的缘故。换句话说，一般的是：设置有注入口本身的部分，因最大地被压坏而使单元间隙变成为最小，以该处为基准，单元间隙放射状地逐渐增大，或者，注入口的口径，成为相当于上述的那样的大体上半圆形状的直径或其一部分那样的压坏。

然而，在本形态中，由于柱状衬垫在上述面内，在以上述注入口为中心的半圆形状的区域内，配置得更密，故可以更为有效地消除上述的那样的特征性的单元间隙的不均一。此外，还可以把应配置得密的柱状衬垫的数量压低到所须最小限度。

另外，在本形态中，所说的‘半圆形状’，顾文思意，是这样一种概念：理所当然地包括‘把正圆在其直径处切断成两半的情况下的、一方的部分所具有的形状’的意义，例如‘把椭圆在其长轴或短轴处切断成两半的情况下的、一方的部分所具有的形状’，即，所谓的半椭圆形状或其它的‘半圆形状’，除显著地变形的形状之外，包括种种的不正规的形状。

总之，请留意这一点：以如上所述，可以从究竟如何防止显示不均匀等的发生的观点来决定在注入口附近的柱状衬垫的具体的配置这种做法为借鉴，在本形态中所说的‘半圆形状’也是一个实质上应从这样的观点进行考虑的概念。

在本发明的第1电光装置的另一个形态中，在作为上述一对基板的一方的第1基板上边，具备矩阵状地排列的象素电极和已连接到每一个象素电极上的开关元件，配置在上述注入口附近的柱状衬垫，被配置为与上述每一个象素电极相对应。

倘采用本形态，由于例如可以通过薄膜晶体管(以下，叫做‘TFT’)或薄膜二极管(以下，叫做‘TFD’)等的开关元件对每一个象素电极加上规定的电压，故可以进行所谓的有源矩阵驱动。另外。可以用至少含有一个象素电极和一个开关元件的构成作为一个单位定义一个所谓的象素。

此外，在本形态中，特别是配置在注入口附近的柱状衬垫，被配置为与该等每一个象素电极，即与每一个象素对应。这一点，以一般是以几个象素到几十个象素各配置一个衬垫的比例的做法为借鉴，如果在本形态中在上述注入口附近以外的部分处也以进行象这样的配置为前提，则在本形态中就可以在注入口附近把柱状衬垫配置得‘更密’。

顺便地说，之所以说一般的是以对几个到几十个象素各配置一个柱状衬垫的比率进行配置，是因为要圆滑地实现通过注入口的液晶等的电光物质的导入的缘故。如果在基板整个面上都作成为与每一个象素对应地配置柱状衬垫，则变成为难于使上述液晶等都遍布于基板的边边角角的状况。

另外，所谓与‘每一个象素电极对应’地设置柱状衬垫，除了包括对该象素电极的一个象素电极配置一个柱状衬垫的情况之外，当然还包括对该象素电极的一个象素电极配置2个以上的柱状衬垫的情况。

在本发明的第1电光装置的另一个形态中，在上述第1基板和作为上述一对基板的另一方的第2基板中的至少一方上，具备与上述矩阵状对应的遮光膜，上述柱状衬垫，被配置在上述遮光膜的宽度的范围内。

倘采用本形态，归因于具备矩阵状地对应的遮光膜，即例如将变成为网格状、条带状等的遮光膜，采用使象素间的光进行混合的办法，就不会招致对比度的降低等。此外，即便是在设置众所周知的滤色片的情况下，也可以实现混色的防止。

此外，在本形态的情况下，特别是柱状衬垫被配置在上述遮光膜的宽度的范围内。即，由于结果变成为在对于图象的显示没有直接关系的部分上设置柱状衬垫，故即便是设置该柱状衬垫，也不会损及图象的亮度等。

在本发明的第1电光装置的另一个形态中，还具备在上述一对基板的每一个基板的与上述电光物质对向的一侧形成的取向膜，上述柱状衬垫，被配置在与上述矩阵状对应的遮光区域中的交叉部分内的拐角部分上。

倘采用本形态，结果就变成为可以在所谓的象素电极的拐角部分附近配置柱状衬垫。由这件事和在本形态中特别具备的取向膜之间的关系可知，可以享受如下的作用效果。

即，倘采用本形态，则可以对上述取向膜满意地进行通常必须施行的研磨处理。在这里，所谓研磨处理，指的是用缠绕在旋转金属辊子等上的抛光布在恒定方向上研磨烧固后的取向膜表面的处理。借助于此，就可以使作为电光物质的一个例子的液晶的取向方位调整到规定的方向上。这是因为使得构成取向膜的聚酰亚胺的聚合物的主化学键向研磨方向延伸，且液晶分布沿着该延伸方向排列的缘故。

然而，这样的研磨处理，理想的是对于取向膜的整个面来说，尽可能均匀地进行。但是，在一对的基板的每一个基板上，通常，在形成电极、布线、元件等的各种构成的同时，对于本发明来说，由于特别是还要设置柱状衬垫，故对于整个取向膜均一地进行研磨处理具有很大困难。这是因为由于上述各种构成或柱状衬垫具有‘高度’，在烧固后的取向膜表面上，通常，会产生与该高度对应的凹凸的缘故。即，该凹凸即便是已用上述旋转金属辊子等进行了研磨，例如，也会产生不能充分地研磨其凹下的部分等的情况。因此，在该情况下，就有可能会对图象的品质造成相应的影响。

然而，在本形态中，采用把柱状衬垫配置在交叉部分内的拐角部分上的办法，就可以相当程度地消除上述的缺点。

即，倘采用本形态的柱状衬垫的配置形态，则交叉部分内的中央部分或该交叉部分内的拐角部分以外的周边部分，将变成为大体上平坦的面而无须配设柱状衬垫。在这样的情况下，要把研磨处理的方向规定为从上述拐角部分到上述交叉部分的中央部分那样的方向。借助于此，结果就变成为起因于柱状衬垫所具有的‘高度’，而变成为其影子的部分，即难于有效地进行研磨处理的部分，含于上述交叉部分内。

然而，所谓该交叉部分，是与原本配置成矩阵状的象素电极间的所谓的‘间隙’对应的遮光区域的交叉部分，而且，在该遮光区域上如上所述一般要设置遮光膜等，如上所述，可知把研磨处理不奏效的部分留在上述交叉部分内，对于图象的品质提高是合适的。即，即便是在这样的遮光区域上存在着研磨处理不奏效的部分，也不会对图象的品质造成大的影响。换句话说，在那些尽管设置柱状衬垫，但仍多少产生研磨处理不奏效的部分处，倘采用本形态，在可以把该部分遏制在对于图象的显示没有影响的部分内这样的意义上说，可以说可以实施满意的研磨处理。

另外，作为上述交叉部分，例如，可以具体地设想这样的形态：把交叉部分假定为正方形，把柱状衬垫配置在本身为其一个拐角部分的左上拐角部分上等。在该情况下，包括该正方形的中央部分或该正方形的右上拐角部分、左下拐角部分、右下拐角部分在内的周边部分，就变成为大体上平坦的面。因此，在这样的情况下的研磨处理的方向，对于上述正方形来说，可以设定为从上述左上拐角部分朝向上述中央部分乃至上述右下拐角部分的方向。

在本形态的情况下，特别是在上述一对的基板之内配置有上述柱状衬垫的一方上，还具备已施行了研磨处理的取向膜，上述拐角部分，可以作成为使得在已配置有上述柱状衬垫的一方的基板上，位于上述交叉部分内的的上述研磨方向的上游一侧的拐角上。其作用效果，可由上述的地方了解明白。

在本发明的第1电光装置的另一个形态中，具备多个上述注入口，上述柱状衬垫，在该多个注入口的每一个注入口中，在上述面内都配置得更密。

倘采用本形态，例如，即便是上述一对基板是具有比较大的面积或直径的基板，也可以使该一对基板间的单元间隙满意地保持规定的值。

顺便地说，在基板具有比较大的直径这样的情况下，如本形态所示，为了效率良好地进行对一对基板间的间隙的液晶等的导入，普通可以进行的是设置多个注入口，但是，如果象这样地存在着多个注入口，则可以说与以该注入口的存在为原因的单元间隙有关的上述缺点会变得更为深刻。然而，本形态，即便是在这样的情况下也可以满意地应用。

另外，在上述中，所谓‘大的直径’，具体地说指的是例如在该电光装置的图象显示区域的大小为15英寸以上左右的情况。

本发明的第2电光装置，具备：其构成为挟持电光物质的一对基板；把被上述一对基板夹持的间隙与其外部连通起来的注入口；具备其构成为在上述一对基板的彼此对向的一侧的面内点状散布那样地配置多个，而且，配置在上述面内的柱状衬垫；在上述基板上具备矩阵状排列的象素电极的同时，在上述注入口附近的上述柱状衬垫，被配置为与上述象素电极的每一个象素电极相对应；除此之外的上述柱状衬垫，对每2个到30个的上述象素电极配置1个。

倘采用本发明的第2电光装置，与上述的第1电光装置同样，可借助于柱状衬垫保持一对基板间为规定的厚度，此外，还可以通过注入口向该一对基板间导入液晶等的电光物质。

此外，在本发明中，特别是注入口附近的柱状衬垫，被配置为与每一个上述象素电极对应，除此之外的柱状衬垫，则对每2到30个象素电极配置1个。即，被作成为使得在注入口附近的柱状衬垫的配置密度，比除此之外的配置密度更大。

因此，起因于注入口附近的柱状衬垫的抵抗力就变得比除此之外的地方的抵抗力大。归因于此，结果就变成为在粘贴一对基板时，即便是加上了相当大的压力，在注入口附近，也可以借助于配置得更密的柱状衬垫充分地反抗该压力。

而且，在第2电光装置中，相对于注入口附近的柱状衬垫的配置密度为1[个/象素]，在除此之外处的配置密度为大约0.03到0.5到[个/象素]，结果变成为前者是后者的2到33倍。因此，在注入口附近的柱状衬垫全体可以发挥的抵抗力，与除此之外的地方的抵抗力比，相当程度地变大，结果变成为可以效果相当好的得到上述的作用效果。

由以上情况可知，倘采用本发明则可以规定的厚度地保持注入口附近的一对基板间的间隙即单元间隙，因而可以规定的厚度地保持基板整个面的单元间隙。此外，由该情况可知，倘采用本发明的电光装置，由于可以减少起因于单元间隙不均一性的，对光透过率、对比度、响应速度等的显示特性造成影响的可能性，此外，还可以减少发生显示不均匀等可能性，故可以提高图象的品质。

另外，在本发明中所说的‘附近’的意义，与对上述第1电光装置所说明的是同样的。

此外，在本发明的第2电光装置中，当然也可以应用与对于上述本发明的第1电光装置所说明的各种的形态。即，对于第2电光装置来说，可以应用‘在半圆形状的范围内’把柱状衬垫配置得更密的形态、配置在‘遮光膜的宽度的范围内’的形态、配置在‘遮光区域的交叉区域的拐角部分’上的形态、配置在‘研磨方向的上游一侧的拐角’上的形态和设置‘多个注入口’的形态。

在本发明的第1或第2电光装置的另一个形态中，上述柱状衬垫的配置密度，把上述基板作成为平面视图来看，从上述注入口的中心向着该中心的外部逐渐减少。

倘采用本形态，例如，若设在注入口的中心的最近处的柱状衬垫的配置密度为P[个/象素]，在该注入口附近以外而且距该注入口相应程度远的位置上的柱状衬垫的配置密度为Q[个/象素]，则结果就变成为一般地说会存在着以满足P＞Q，而且，将变成为P＞X＞Q的X[个/象素]的配置密度配置柱状衬垫的区域，若使之更为一般化，则也可以想象一个满足P＞X1＞X2＞…＞Xn＞Q的成为X1、X2、…、Xn[个/象素]的配置密度的区域。

另外，说得更具体点，例如若假定把柱状衬垫配置得密的区域的半径为R(mm)的半圆形状，则在距该半圆形状的中心半径为r[mm]的区域内，配置密度为P，在被该半径r的半圆形状的外周和半径R的半圆形状的内周夹在中间的区域内，配置密度为X_r-R，在该半径R的半圆形状区域以外的区域内，配置密度为Q，且P＞X_r-R＞Q等的形态，包括在本形态的范围内。

倘采用这样的形态，结果就变成为在粘贴一对基板时被认为最易于压坏的注入口的中心部分处柱状衬垫被配置得最密，并根据配置得距该中心部分越远则被压坏的危险性就越小的情况，柱状衬垫被配置得逐渐地变疏。因此，本形态，结果就变成为可以实现恒定地保持单元间隙的目的，可以实现更为有效而且更为满意的柱状衬垫的配置形态。

本发明的电子设备，其构成为具备上述的本发明的电光装置(但是，包括其各种形态)。

倘采用本发明的电子设备，由于其构成为具备上述是包括各种形态的本发明的电光装置，故采用使构成该电光装置的一对基板间的单元间隙保持恒定的办法，就可以实现可以显示高品质的图象的、投影式显示装置(液晶投影仪)、液晶电视、移动电话、电子记事本、文字处理机、电视电话、POS终端、触摸面板等的各种电子设备。

本发明的这样的作用和其它的好处会从其次要说明的实施方案中了解清楚。

附图说明

图1是与在其上边形成的各个构成要素一起从对向基板一侧看本发明的实施方案的电光装置中的TFT阵列基板的俯视图。

图2是图1的H-H’剖面图。

图3的说明图观念性地示出了本发明的实施方案的柱状衬垫的配置形态。

图4的说明图示出了液晶注入口附近的区域上的柱状衬垫的配置形态。

图5的说明图示出了液晶注入口附近以外的区域上的柱状衬垫的配置形态。

图6是说明图观念性地示出了与图3不同的柱状衬垫的配置形态，柱状衬垫应配置得更密的区域变成为半圆形状这一点与图3不同。

图7的说明图观念性地示出了与图3不同的柱状衬垫的配置形态，液晶注入口的个数与图3不同。

图8的剖面图示出了柱状衬垫的各种变形形态。

图9是宗旨与图3、图6和图7相同的附图，该说明图观念性地示出了本发明的变形形态的柱状衬垫的配置形态。

图10是图9中的半圆区域及其附近的局部扩大图。

图11的电路图示出了本发明的实施方案的电光装置中的设置在构成图象显示区域的矩阵状的多个象素上的各种元件、布线等的等效电路。

图12是TFT阵列基板的彼此相邻的多个象素群的俯视图。

图13是图12的A-A’线剖面图。

图14的框图示出了把本发明的电光装置用做显示装置的电子设备的电路构成。

图15的说明图示出了作为使用本发明的电光装置的电子设备的一个例子的便携式个人计算机。

图16是作为使用本发明的电光装置的电子设备的另一个例子的移动电话机的说明图。

标号说明

9a    象素电极

10    TFT阵列基板

10a   图象显示区域

20    对向基板

21    对向电极

23    遮光膜

50    液晶层

52    密封剂

52a   液晶注入口

54    密封剂

401   柱状衬垫

501   四边形区域

502   (四边形区域以外的)区域

503   半椭圆区域

503c  半圆形区域

504   (半椭圆形区域以外的)区域

601   交叉部

601a  交叉部左上拐角

3a    扫描线

6a    数据线

30    TFT

50    液晶层

70    存储电容

具体实施方式

以下，边参看附图边对本发明的实施方案进行说明。以下的实施方案，是把本发明的电光装置应用于液晶显示装置的实施方案。

电光装置整体的构成

首先，参看图1和图2说明本实施方案的电光装置的整体构成。另外，图1是与在其上边形成的各个构成要素一起从对向基板20一侧看TFT阵列基板的平面图，图2是图1的H-H’剖面图。

在图1和图2中，在本实施方案的电光装置中，TFT阵列基板10和对向电极20对向配置。在TFT阵列基板10和对向基板20之间，已封入了液晶层50，TFT阵列基板10和对向基板20已用设置在位于图象显示区域10a的周围的密封区域上的密封剂52彼此粘接起来。

在这里，液晶层50由例如把一种或多种的向列液晶混合起来的液晶构成，在后边要讲的一对取向膜间形成规定的取向状态。

此外，图象显示区域10a，是在TFT阵列基板10上边设置有象素电极9a、已连接到该象素电极9a上的TFT、扫描线和数据线等的区域，或者是与该区域对向且在对向基板20上的整个面上设置有对向电极21的区域，是采用在图1中，使光朝向纸面且可以从这一侧向对方一侧(即，从对向基板20一侧向TFT阵列基板10一侧)透过的办法，结果变成为参与图象的显示的区域。另外，光的透过之所以成为可能，是因为上述的象素电极9a或其一部分或者对向电极21由透明材料构成，同时借助于给该象素电极9a加上电压，使上述液晶层50的状态接受变更的缘故。此外，虽然可以把至少含有一个象素电极9a和一个上述TFT的电路作为一个单位，来定义一个象素，但是，在本实施方案中，把该‘象素’和‘象素电极’用做具有大体上同一意义的术语。

此外，密封剂52，如图1所示，虽然从平面上看被设置为‘口’字的形状，以便把图象显示区域10a的周围包围起来，但是，在其一部分中，如图1的下方所示，形成缺口地设置有液晶注入口52a。归因于该液晶注入口52a的存在，就可以实现被TFT阵列基板10和对向基板20夹在中间的间隙与其外部之间的连通，归因于利用这种连通，在制造工序时，就可以向上述间隙内注入液晶。

另外，该液晶注入口52a的具体的大小，虽然取决于两基板10和20的大小如何，但是大体上说可以以mm(毫米)的数量级形成，更为具体地说，例如可以作成为大约3mm左右。此外，在完成后的电光装置中，由于与存在着液晶注入口52a的部分相对应，作成为使得已导入到上述间隙内的液晶不会向外部泄漏，例如可以设置由紫外线硬化型聚丙烯酸类树脂构成的密封剂54。

作为构成这样的密封剂52的材料，例如，可以举出紫外线硬化型树脂、热硬化树脂等。在粘贴TFT阵列基板10和对向基板20时，在加上适当的压力对两基板10和20进行压粘，同时，如果密封剂是由上述紫外线硬化型树脂构成的，则可以采用对该密封剂照射紫外线的办法，此外，如果是由上述热硬化树脂构成的，则可以采用进行加热等的办法，使之硬化。

此外，为了使被两基板10和20夹在中间的间隙的间隔，即单元间隙变成为规定值，已向该密封剂52中混入了本身为衬垫的一种的间隙材料(未画出来)。该间隙材料，例如由玻璃纤维或玻璃微珠等构成，一般地说可利用具有大体上球状的形状的间隙材料。

此外，在本实施方案中，特别是为了使TFT阵列基板10和对向基板20间的单元间隙保持规定的值，除去上述的间隙材料之外，如图2所示，还可以在对向基板20一侧，在对向电极21上边，设置柱状衬垫401。该柱状衬垫401，如图2所示，具有大体上为四角柱形状，或大体上圆柱形状。此外，这样的形状，例如，可以用在TFT阵列基板10和对向基板20中的至少一方的上边先形成了由上述材料构成的原膜之后，采用用光刻技术刻蚀上述原膜的办法进行成型或进行图形化等的手法形成。在该情况下，取决于对要在上述原膜上边形成的光刻胶膜的曝光处理(图形化处理)的如何，不仅可以如上所述成型柱状衬垫401的形状，还可以自由地决定它们的配置。

此外，这些柱状衬垫401，就如在图3中观念性地示出的那样，在上述液晶注入口52a所存在的附近，形成配置得更密，在除此之外的部分处则形成配置得更疏。说得更具体点，在本实施方案中，柱状衬垫401，在以含有液晶注入口52a所存在的部分的线段501a为一边所含有的大体上四边形状的区域(以下，叫做‘四边形区域’)501内，变成为比除此之外的区域502配置得更密的形态。另外，请注意，图3，说到底是在观念性的意义上表示为疏、密的。

在图4和图5中，分别扩大示出了用图3中的标号X和Y表示的圆内部分，用更为详细而且更为符合实际的形式示出了柱状衬垫401的配置的样子。即，首先，在图4中，多个柱状衬垫401中的每一个柱状衬垫，使得与象素电极9a中的每一个象素电极对应那样地，在每一个象素电极上各设置一个，另一方面，在图5中，在图中的纵横各个方向上，之间夹着2个象素电极9a地各设置1个。如果使用密度的单位，则相对于前者以1[个/象素]设置柱状衬垫401，后者，可以说以大约0.1[个/象素](＝1÷9)配置柱状衬垫。

另一方面，在两者中的每一者中，也把柱状衬垫401配置在进行界定的网格状的遮光区域内，该遮光区域使得象素电极9a间的间隙为缝状。此外，在该网格状的遮光区域中，具备与该区域大体上一致的网格状的遮光膜23(也参看图2)，和界定其最外周的框缘遮光膜53(也参看图1)。即，本实施方案中的柱状衬垫401结果变成为被配置在网格状的遮光膜23的宽度的范围内。

顺便地说，倘采用该遮光膜23，则可以防止象素电极9a间的光的混合，不会招致对比度的降低。此外，作为构成该遮光膜23的材料，可以考虑金属铬、把炭或钛分散到光刻胶中的树脂黑或镍等的金属材料等，此外，也可以用含有它们的2种以上的材料作成为具有叠层构造的材料。

此外，本实施方案中的柱状衬垫401，除去设置在上述网格状的遮光膜23的宽度的范围内之外，说得更详细点，如图4和图5所示，还被配置为使得与象素电极9a的拐角部分附近对应。换句话说，柱状衬垫401，被配置在矩阵状地排列的上述网格状的遮光区域中的交叉部分601内的图中左上拐角部分601a上。

除去以上那样的构成之外，在图1和图2中，在密封剂52的外侧的区域上，采用以规定的定时向后述数据线上供给图象信号的办法，沿着TFT阵列基板10的一边设置驱动该数据线的数据线驱动电路101和外部电路连接端子102，另一方面，采用以规定的定时向后边要讲述的扫描线上供给扫描信号的办法，沿着与该一边相邻的2边设置驱动该扫描线的扫描线驱动电路104。

另外，如供往扫描线的扫描信号延迟不会成为问题，驱动电路104当然也可以仅仅在一侧。此外，也可以沿着图象显示区域10a的边把数据线驱动电路101排列在两侧。

在TFT阵列基板10剩下的一边上，设置用来把设置在图象显示区域10a的两侧上的扫描线驱动电路104间连接起来的多条布线105。在对向基板20的拐角部分的至少一个地方上，设置用来使TFT阵列基板10和对向基板20之间电导通的导通构件106。

此外，在图2中，在TFT阵列基板10上，在已形成了象素开关用的TFT或扫描线、数据线等等的布线后的象素电极9a上，形成取向膜16。另一方面，在对向基板20上边，除去由ITO(氧化铟锡)等的透明材料构成的对向电极21之外，在最上层部分上，还要形成取向膜22。在这里，本实施方案的取向膜22，出于在对向基板20一侧上设置有上述的那样的柱状衬垫401的关系，除去被形成为把对向电极21覆盖起来之外，还要形成为使得把该柱状衬垫401也覆盖起来。

另外，在TFT阵列基板10上边，除去这些数据线驱动电路101、数据线驱动电路104等之外，也可以形成以规定的定时向多条数据线6a供给图象信号的采样电路、比图象信号先行地分别向多条数据线6a供给规定电压电平的预充电信号的预充电电路、用来检查在制造途中或装运时的该电光装置的品质、缺陷等的检查电路等。

在变成为这样的构成的本实施方案的电光装置中，特别是借助于上述的柱状衬垫401的特征性的配置形态，结果就变成为可以得到如下那样的作用效果。

即首先，柱状衬垫401，由于在液晶注入口52a附近的四边形状区域501中，配置得更密，故在制造本实施方案的电光装置的过程，特别是在TFT阵列基板10和对向基板20的粘贴工序中，可以消除液晶注入口52a附近的单元间隙，比其它的部分的单元间隙更小这样的缺点。这是因为在上述四边形形状区域501中，由于柱状衬垫401形成得更密，故起因于该柱状衬垫401的抵抗力比起因于除此之外的地方的该柱状衬垫401的抵抗力更大。因此，在把TFT阵列基板10和对向基板20粘贴起来时，即便是加上了相当程度地大的压力，在液晶注入口52a附近，结果就变成为可以用配置得更密的柱状衬垫401充分地对抗该压力。

借助于此，就可以大体上同等地维持液晶注入口52a附近的单元间隙和其它的部分处的单元间隙，因而，可以使两基板10和20的整个面的单元间隙保持规定的值。因此，由此可知，倘采用本实施方案的电光装置，就可以减少给光透过率、对比度、响应速度等的显示特性造成坏影响的可能性，此外，由于还可以减少产生显示不均匀等的可能性，故可以提高图象的品质。

此外，除去上述之外，在本实施方案中，柱状衬垫401，就如参看图4和图5所说明的那样，由于在既是遮光膜23的宽度的范围内又是交叉部分601的左上拐角部分601a上形成，故该柱状衬垫401不会变成为图象显示上的妨碍，此外，还可以满意地实施对上述取向膜22的研磨处理。在这里，所谓满意地实施研磨处理，在本实施方案中，意味着可以使研磨处理不奏效的部分留在交叉部分601内。

例如，在图4和图5中，如果采用在与图示的箭头一致的方向上实施研磨处理，则结果就变成为研磨处理不奏效的部分留在交叉部分601内。在这里，该交叉部分601，由于是网格状的遮光膜23的形成区域的一部分，故在夹持该交叉部601的叠层结构内，即便是存在着一些什么轻微的缺憾，该缺憾基本上也不会给图象的显示造成大的影响。因此，即便是在交叉部分601内发生了对取向膜22的研磨处理不良，它也不会对图象的显示造成大的影响。换句话说，在那些尽管设置柱状衬垫，但仍多少产生研磨处理不奏效的部分处，在本实施方案中，在可以把该部分遏制在对于图象的显示没有影响的部分内(即交叉部601)这样的意义上，可以说可以实施满意的研磨处理。

另外，在上述中，虽然把柱状衬垫401应形成得密的区域作成为大体上四边形形状，但是，本发明，并不限于这样的形态。例如，就如在图6中观念性地示出的那样，设想一个以液晶注入口52a为中心大体上变成为半椭圆形状的区域(以下，叫做‘半椭圆区域’)503，并考虑在其内部，把柱状衬垫401配置得更密的同时，在该半椭圆区域503以外的区域505中，配置得更疏。

倘采用这样的形态，就可以更为确实地防止图象上边的显示不均匀的发生。之所以这么说，是因为在以往一直成为问题的液晶注入口52a附近的单元间隙变得比别的部分处的单元间隙小的情况下，该变得小的区域，一般地说，遍及以液晶注入口52a为中心的大体上半圆形状的缘故。

然而，倘采用本形态，由于柱状衬垫401，如图6所示，在从平面上看以液晶注入口52a为中心的大体上半圆形状的区域内，配置得更密，故可以更为有效地消除上述那样的特征性的单元间隙的不均一。

在本发明中，除去上述的四边形形状区域501，或半椭圆形状区域之外，理所当然地还可以各种各样地设定应把柱状衬垫401配置得密的区域。

此外，在上述中，虽然说明的是仅仅设置一个液晶注入口52a的形态，但是，本发明，也并不限于这样的形态。例如，本发明，由于图象显示区域10a的面积比较大等的理由，故对于要设置2个液晶注入口那样的情况也可以应用。例如，如在图7中观念性地示出的那样，在具备液晶注入口52aa和52ab这样的注入口的情况下，对于该2个液晶注入口52aa和52ab来说，也可以进行图3或图6所示的那样的柱状衬垫401的配置。顺便地说，在图7中，示出了如图4所示在四边形形状区域505内把柱状衬垫401配置得密的形态。

再有，在上述中，虽然应在四边形形状区域501和除此之外的区域502(参看图3)上形成的柱状衬垫401的配置密度，分别被作成为1[个/象素]和约0.1[个/象素]，但是本发明当然不限于这样的形态。总之，以图3为例来说，如果设液晶注入口52a附近的四边形形状区域501上的柱状衬垫401的配置密度为p，设液晶注入口52a附近以外的区域502上的柱状衬垫401的配置密度为q，只要满足p＞q的关系即可。

但是，理想地说，可以构成为使得液晶注入口52a附近的柱状衬垫401被配置为与每一个象素电极9a对应，除此之外的部分的柱状衬垫401则被配置成每2到30个象素电极9a为1个柱状衬垫。在该情况下，对前者的配置密度就变成为1[个/象素]，而对后者的配置密度则变成为0.03到0.5[个/象素]。这样，结果就变成为前者是后者的2到约33倍，成为在液晶注入口52a附近的柱状衬垫401全体所可以发挥的抵抗力，与除此之外处的抵抗力比，就变成为相当程度地大，可以非常有效地得到上述的作用效果。

除此之外，在上述中，柱状衬垫401虽然是在对向基板20一侧，而且，在对向电极21上形成作为以聚丙烯酸类树脂等构成的柱状物，但是，本发明，并不限于这样的形态。例如，也可以考虑图8所示的那样的各种的变形形态。

首先，如图8(a)所示，也可以在对向基板20上边，把处于由ITO膜构成的对向电极21的下边(图中为上侧)的遮光膜23当作绝缘材料层进行图形化以形成柱状衬垫401’。在该情况下，为了防止象素电极9a和对向电极21之间的短路，可以在两者间(至少在一方的基板上)设置透明的绝缘膜302。此外，如图8(b)所示，也可以在TFT阵列基板上设置柱状衬垫401”。在该情况下，也可以在象素电极9a上边中间存在着透明的绝缘膜402地形成柱状衬垫401”，并对未画出来的对向基板20一侧的取向膜22进行研磨处理。或者，如图8(c)所示，也可以在对向基板20上，在形成了取向膜22后，设置柱状衬垫401。

此外，也可以不用适当的有机材料等图形化形成柱状衬垫，而代之以采用例如借助于刻蚀在叠层到基板本体(对向基板20或TFT阵列基板10)或基板上的层间绝缘膜上形成沟等，在除去应形成柱状衬垫的区域之外的基板区域上形成沟(凹部)的办法，用沟以外的凸状部分形成隔墙。另外，在该情况下，也可以与图8的变形形态的情况下同样，可以设置透明的绝缘膜，用来防止象素电极9a和对向电极21之间的短路。

变形形态

以下，边参看图9和图10边对使上述的实施方案的电光装置变形后的变形形态进行说明。在这里，图9是宗旨与图3、图6和图7相同的附图，该说明图观念性地示出了本发明的变形形态的柱状衬垫的配置形态，图10是图9中的半圆区域502C及其附近的局部扩大图。另外，本变形形态的电光装置的全体构成等，由于与上述的实施方案大体上是同样的，故在以下省略其说明。此外，在以下要参看的附图中，在指定与在上述实施方案中说明的要素为同一要素的情况下，使用与在上述实施方案中所使用的标号相同的标号。

首先，在图9中，与图6大体上同样，柱状衬垫401，在从平面上看以液晶注入口52a为中心的半圆形状区域503C内，配置得更密。借助于此，就如已经说明过的那样，结果就变成为可以适应在以液晶注入口52a为中心遍及大体上半圆形状地产生了‘压坏’这样的的实际情况的形式，得到防止发生该‘压坏’的作用效果。

此外，在图9中，柱状衬垫401被特别配置为使得从液晶注入口52a的中心向该中心的外部，其密度逐渐减少。更为详细地说，如图10所示，柱状衬垫被配置得密的半圆形状区域503C的半径为R[mm]，在被从该半圆形状区域503的中心C开始半径r[mm]的半圆形状的区域内，配置密度P为1[个/象素]，该半径r的半圆形形状的外周和半径R的半圆形状的内周所夹持的区域内，配置密度X_r-R为约0.3到0.4[个/象素]，在该半径R的半圆形状区域(即，半圆形状区域503c)以外的区域内，配置密度Q约为0.1[个/象素]，而且，且P＞X_r-R＞Q。在这里，对于X_r-R的具体值来说，以在图10所示的该区域中，柱状衬垫401存在12个，象素电极9a存在约34个的事实为依据，对于Q的具体值来说，以图10所示的该区域与图5所示的该区域的配置形态是同样的事实(参看图10中的虚线)为依据。

倘采用这样的形态，结果就变成为在把TFT阵列基板10和对向基板20粘贴起来时被认为最易于压坏的液晶注入口52a的中心C及其附近部分处柱状衬垫401被配置得最密，相应于在距该中心C及其附近部分越远被压坏的危险性就越减少的情况，把柱状衬垫401逐渐配置得更疏。因此，结果变成为本实施方案可以实现恒定地保持单元间隙的目的，可以实现更为有效且更为满意的柱状衬垫401的配置形态。

另外，在上述变形形态中，虽然说明的是半圆形状区域503C，但是本发明，并不限于这样的形态。柱状衬垫401的配置密度逐渐减少的形态，不论该柱状衬垫401应形成得密的区域将具体地变成为什么样的形状，基本上都可以应用。当然，如图7所示，即便是对于具有2个液晶注入口52aa和52ab的电光装置，应用本形态，也是容易的。

顺便地说，如果更为一般地说本形态的思考方法，若设在液晶注入口52a的中心的最近处的柱状衬垫的配置密度为P[个/象素]，在该注入口52a附近以外而且距该注入口52a相应程度远的位置上的柱状衬垫的配置密度为Q[个/象素]，则结果就变成为存在着P＞Q，而且，以将变成为满足P＞X＞Q的X[个/象素]的配置密度配置柱状衬垫的区域。若使之更为一般化，则也可以想象一个具有P＞X1＞X2＞…＞Xn＞Q的X1、X2、…、Xn[个/象素]的配置密度的区域。

电光装置的电路构成和动作

以下，参看图11对在上述那样的构成的电光装置中，象素电极9a等如何驱动，进行说明。在这里，图11的电路图示出了构成电光装置的图象显示区域的矩阵状地形成的多个象素100a上的各种元件、布线等的等效电路。

在图11中，在多个象素100a上，分别形成有象素电极9a和用来对该象素电极9a进行开关控制的TFT30，供给图象信号的数据线6a已电连到该TFT30的源极上。要写入到数据线6a上的象素信号S1、S2、…、Sn，既可以按照该顺序依线供给，也可对相邻的多条数据线6a间分成组供给。

此外，要构成为使得扫描线3a电连到TFT30的栅极上，并以规定的定时，按照扫描信号G1、G2、…、Gm的顺序，依线给扫描线3a脉冲式地加上扫描信号。象素电极9a已电连到TFT30的漏极上，采用使作为开关元件的TFT30仅仅在恒定的期间内才使其开关闭合的办法，以规定的定时，把从数据线6a供给的图象信号S1、S2、…、Sn写入到各个象素电极内。

通过象素电极9a向作为电光物质的一个例子的液晶写入的规定电平的象素信号S1、S2、…、Sn，与在对向基板20上形成的对向电极21之间，可以保持恒定期间。液晶采用借助于要施加的电压电平使分子集合的取向或秩序发生变化的办法就可以对光进行调制，就可以进行灰度等级显示。如果是常态白色模式，就与以各个象素100a的单位所施加的电压对应地减少对入射光的透过率，如果是常态黑色模式，则与以各个象素100a的单位所施加的电压对应地增加对入射光的透过率，作为全体从电光装置出射具有与图象信号对应的对比度的光。

另外，为了防止所保持的象素信号漏泄，有时候要与在象素电极9a和对向电极21之间形成的液晶电容并联地附加上存储电容70。借助于该存储电容70，象素电极9a的电压，例如，可以保持比加上源极电压的时间恰好3个数量级之长的时间。借助于此，就可以改善电荷的保持特性，可以实现进行对比度高的显示的液晶装置。另外，作为形成存储电容70的方法，在形成其专用的特别的布线的电容线300的情况，或在与前级的扫描线3a之间形成的情况中的不论哪一种情况都行。

TFT及其周边的实际的构成

上述那样的象素100a，更为实际地说，具有图12和图13所示的那种构成。在这里，图12是在实施方案2中使用的TFT阵列基板的彼此相邻的多个象素群的平面图，图13是图12的A-A’线剖面图。但是，在图12和图13中，仅仅对一个象素示出了其详细情况。

在图12中，在TFT阵列基板上，除去上述的TFT30、扫描线3a、数据线6a、存储电容70等之外，还设置有透明电极8、反射电极9等。另外，迄今为止所说的象素电极9a，是包括刚才所说的透明电极8和反射电极9这两者的术语。

反射电极9，在TFT阵列基板10上边矩阵状地形成。对这些各个反射电极9，通过透明电极8，连接有象素开关用的TFT30。此外，在该反射电极9上。如图12所示，形成透过窗口14，与该透过窗口14对应的区域，被透明电极8覆盖起来。这样的反射电极9，由铝、银或它们的合金，或钛、氮化钛、钼、钽等的叠层膜构成，透明电极8由ITO等构成。

另一方面，在反射电极9和透明电极8的下边，如图13所示，形成有凹凸形成层13和其上层的凹凸层7(在图12中都未画出来)。在这里，凹凸形成层13和凹凸层7，例如，由有机类树脂等的感光性树脂构成，特别是前者是含有在基板面上点状地存在的块的那样的形态形成的层，后者则是把含有这样的凹凸形成层13的基板的整个面覆盖起来的形态形成的层。因此，凹凸层7的表面，就与构成凹凸形成层13的块的点状存在形态对应地变成为所谓的‘起伏’，结果就变成为可以形成凹凸图形9g。在图12中，示出的是以圆形形状示出了该凹凸图形9g，该圆形形状的部分，与除此之外的部分比较，变成为朝向图的纸面地向这一侧突出出来的形态。即在该圆形形状的部分中的朝向图的纸面地对方一侧形成凹凸层7以及上述块(参看图13)。

在具有这样的构成的实施方案2的电光装置中，归因于利用透明电极8和透过窗口14的办法，使进行用透射模式进行的图象显示成为可能，归因于利用反射电极9和凹凸形成层13、凹凸层7和凹凸图形9g，使进行用反射模式进行的图象显示成为可能。即，由前者的构成界定的区域，为使从未画出的内部光源发出的光由图12的纸面的对面一侧到这一侧式地透射的透射区域，而由后者的构成界定的区域为：从纸面的这一侧到上述反射电极9地进行反射之后，再次返回到纸面这一侧的反射区域。另外，在后者的情况下，特别是由于归因于凹凸图形9g而产生光的漫反射，故可以减小图象的视场角依赖性。

返回图12，沿着要形成反射电极9的区域的纵横边界，形成数据线6a、扫描线3a及电容线300，TFT30对数据线6a和电容线300进行连接。即，数据线6a通过接触孔电连到TFT30的高浓度的源极区1d上，透明电极8则通过接触孔15和源极线6b电连到TFT30的高浓度的漏极区1e上。此外，扫描线3a延长为使得与TFT30的沟道区1a’对向。

另外，存储电容70的构成为：把已使用来形成象素开关用的TFT30的半导体膜1的延长部分1f导电化的部分当作下部电极，把与扫描线3a同层的电容线300当作上部电极重叠到该下部电极上。

顺便地说，在本实施方案中，特别是就如已经参看图3到图5等所说明的那样，其特征在于：在与反射电极9的拐角部分对应的位置上，设置有柱状衬垫401。

另外，在图13中，除去上述之外，在TFT阵列基板10上边，形成厚度100nm到500nm的由硅氧化膜(绝缘膜)构成的基底保护膜111，在该基底保护膜111和TFT30的上边，形成厚度300nm到800nm的由硅氧化膜构成的第1层间绝缘膜4，然后，在该第1层间绝缘膜4的上边，形成厚度100nm到800nm的由硅氮化膜构成的第2层间绝缘膜5(表面保护膜)。但是，在有的情况下，该第2层间绝缘膜5也可以不形成。此外，在TFT阵列基板10一侧，作为其最上层，形成有取向膜16。除此之外，在图13中，设置把各种构成要素电连起来的接触孔等。另一方面，在对向基板20一侧，则被形成为使得按照使得把象素100a间的所谓的间隙缝起来那样地延长的遮光膜23、在基板整个面上形成的对向电极21和取向膜22的顺序进行叠层。

电子设备

象这样地构成的电光装置，可以用做各种电子设备的显示部分，边参看图14到图16边具体地说明其一个例子。

图14的框图示出了把本发明的电光装置用做显示装置的电子设备的电路构成。

在图14中，电子设备具备：显示信息输出源70、显示信息处理电路71、电源电路72、定时产生器73和液晶显示装置74。此外，液晶显示装置74，具有液晶显示面板75和驱动电路76。作为液晶装置74，可以使用上述的电光装置100。

显示信息输出源77，具备ROM(唯读存储器)、RAM(读写存储器)等这样的存储器，各种盘等存储单元，同步输出数字图象信号的同步电路等，根据由定时产生器73产生的各种时钟信号，向显示信息处理电路71供给规定格式的图象信号等的显示信息。

显示信息处理电路71，具备串-并变换电路、放大、倒相电路、旋转电路、灰度系数修正电路或箝位电路等众所周知的各种电路，执行输入进来的显示信息的处理，与时钟信号CLK同时把其图象信号供往驱动电路76。电源电路72，向各个构成要素供给规定的电压。

图15示出了本身为本发明的电子设备的一个实施方案的便携式的个人计算机。这里所示的个人计算机80，具有具备键盘81的主机部分82和液晶显示单元83。液晶显示单元83的构成为含有上述的电光装置100。

图16示出了作为另一种电子设备的移动电话机。这里所示的移动电话机90，具备多个操作按键91和由上述的电光装置100构成的显示部分。

本发明不限于上述的实施方案，可在不违背技术方案及说明书整体读取的发明宗旨或思想的范围适当变更，伴随那样的变更的电光装置及电子设备也包含在本发明技术范围内。

Claims (10)

1.一种电光装置，其特征在于：具备

其构成为挟持电光物质的一对基板；

把上述一对基板所夹持的间隙与其外部连通起来的注入口；

和在上述一对基板的彼此对向的一侧的面内散布地配置有多个的，而且，在上述面内，在上述注入口附近配置得更密的，在上述注入口附近以外配置得更疏的柱状衬垫。

2.根据权利要求1所述的电光装置，其特征在于：配置在上述注入口附近的上述柱状衬垫，在上述面内的以上述注入口为中心的半圆状的范围内，配置得更密。

3.根据权利要求1所述的电光装置，其特征在于：在作为上述一对基板的一方的第1基板上，具备矩阵状地排列的象素电极和已连接到该每一个象素电极上的开关元件，

配置在上述注入口附近的柱状衬垫，被配置为与上述每一个象素电极相对应。

4.根据权利要求1所述的电光装置，其特征在于：在上述第1基板和作为上述一对基板的另一方的第2基板中的至少一方上，具备与上述矩阵状对应的遮光膜，

上述柱状衬垫，被配置在上述遮光膜的宽度的范围内。

5.根据权利要求1所述的电光装置，其特征在于：还具备在上述一对基板的每一个基板的与上述电光物质对向的一侧形成的取向膜，

上述柱状衬垫，被配置在与上述矩阵状对应的遮光区域中的交叉部分内的拐角部分上。

6.根据权利要求5所述的电光装置，其特征在于：在上述一对基板中在已配置有上述柱状衬垫的一方，还具备已施行了研磨处理的取向膜，其中，该研磨处理的方向是从配置有上述柱状衬垫的拐角部分朝向上述交叉部分的中央部分的方向，即，

上述拐角部分，在配置有上述柱状衬垫一方的基板上，位于上述交叉部分内的上述研磨方向的上游一侧的拐角上。

7.根据权利要求1或5所述的电光装置，其特征在于：具备多个上述注入口，

上述柱状衬垫，在该多个注入口的每一个注入口中，在上述面内都配置得更密。

8.一种电光装置，其特征在于：具备

其构成为挟持电光物质的一对基板；

把上述一对基板所夹持的间隙与其外部连通起来的注入口；

和在上述一对基板的彼此对向的一侧的面内散布地配置有多个的，而且，配置在上述面内的柱状衬垫；

在上述基板上具备其构成为矩阵状排列的象素电极的同时，

在上述注入口附近的上述柱状衬垫，被配置为与上述象素电极的每一个象素电极相对应；

除此之外的上述柱状衬垫，对每2到30个的上述象素电极配置1个。

9.根据权利要求1或8所述的电光装置，其特征在于：上述柱状衬垫的配置密度，把上述基板作成为平面视图来看，从上述注入口的中心向着该中心的外部逐渐减少。

10.一种电子设备，其特征在于：具备权利要求1或8所述的电光装置。

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