JP2022156864A - 表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】表示装置の性能を向上させる。【解決手段】表示装置ＤＳＰ１は、表示領域ＤＡと、表示領域ＤＡの周囲にある周辺領域ＰＦＡと、周辺領域ＰＦＡに設けられ、液晶層をシールするシール部ＳＬＭと、シール部ＳＬＭの一部に設けられ、シール部ＳＬＭの外部から表示領域ＤＡまでを連通する液晶供給部ＬＱＰと、を有する。液晶供給部ＬＱＰは、周辺領域ＰＦＡの一片に沿って設けられる。周辺領域ＰＦＡは、表示領域ＤＡとシール部ＳＬＭとの間にある周辺領域ＰＦ１を含む。周辺領域ＰＦ１では、絶縁膜ＩＦ１が取り除かれている。周辺領域ＰＦ１には、複数のスペーサ部材ＳＰ２と、複数のスペーサ部材ＳＰ２を支持する複数のスペーサ部材ＳＰ３と、を備える。【選択図】図５

Description

本発明は、液晶層を用いた表示装置に関する。

液晶層を用いた表示装置を製造する方法として、互いに対向する基板の間に液晶を供給することにより液晶が封入された表示装置を製造する技術がある（特開２０１９－２１９５６５号公報（特許文献１）参照）。

特開２０１９－２１９５６５号公報

互いに対向する基板の間に液晶を供給することにより、基板の間に液晶を封入する方式の場合、基板の間に供給された液晶が外部に漏れ出ることを防止するシール部の一部に液晶の供給口として利用される開口部が設けられる。真空雰囲気中において、この開口部に液晶を接触させた後、基板周辺の圧力を常圧に戻すと、シール部で囲まれた空間内の圧力と雰囲気との差圧により液晶がシール部で囲まれた空間内に封入される。

ところが、本願発明者の検討によれば、上記した方法により液晶を封入する場合、表示装置の性能に影響する課題があることが判った。例えば、上記した開口部から液晶が供給される際に、シール部で囲まれた空間内において液晶の流れを阻害する部材があると、液晶内に微細な気泡が多数発生する場合がある。この微細な気泡が残留すれば、表示装置の表示性能に影響を及ぼす。

本発明の目的は、表示装置の性能を向上させる技術を提供することにある。

本発明の一態様である表示装置は、表示領域と、前記表示領域の周囲にある周辺領域と、第１基板と、前記第１基板と対向する第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置され、液晶を含む液晶層と、前記第１基板に形成され、前記液晶を駆動する駆動信号を伝送する複数の信号配線と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置され、前記複数の信号配線を覆う第１絶縁膜と、前記表示領域において前記第１絶縁膜と前記第２基板との間に配置され、前記第１基板と前記第２基板とのギャップを維持する複数の第１スペーサ部材と、前記第１基板と前記第２基板との間で前記周辺領域に設けられ、前記液晶層をシールするシール部と、前記シール部の一部に設けられ、前記シール部の外部から前記表示領域までを連通する液晶供給部と、を有する。前記第２基板側から視た平面視において、前記周辺領域は、第１辺、前記第１辺の反対側の第２辺、前記第１辺に交差する第３辺、および前記第３辺の反対側の第４辺を備える。前記液晶供給部は、前記周辺領域の第１辺に沿って設けられる。前記周辺領域は、前記表示領域と前記シール部との間にある第１周辺領域を含む。前記第１周辺領域では、前記第１絶縁膜が取り除かれている。前記第１周辺領域には、前記第１基板と前記第２基板との間に配置される複数の第２スペーサ部材と、前記複数の第２スペーサ部材と前記第１基板との間に形成され、前記複数の第２スペーサ部材を支持する複数の第３スペーサ部材と、を備える。

一実施の形態である表示装置の一例を示す斜視図である。 図１のＡ－Ａ線に沿った断面図である。 図１の表示装置が備える回路の一例を示す回路ブロック図である。 図２に示すシール部と、図１に示す表示領域との平面的な位置関係を示す平面図である。 図４のＢ部の拡大平面図である。 図５のＣ－Ｃ線に沿った拡大断面図である。 図５のＤ－Ｄ線に沿った拡大断面図である。

以下に、本発明の各実施の形態について、図面を参照しつつ説明する。なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一または関連する符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。

以下の実施の形態では、液晶層を備えた表示装置の例として、表示領域に種々の画像を表示させる液晶表示装置を取り上げて説明する。

また、液晶表示装置は、液晶層に含まれる分子の配向を変化させることにより、表示画像を形成する装置であるが、光源を必要とする。本実施の形態では、液晶層を含む表示パネルのサイドに光源を備えた表示装置を取り上げて説明する。ただし、以下で説明する実施形態には種々の変形例があり、例えば、以下で説明する技術を、表示パネルの背面側に光源が配置された液晶表示装置に適用することができる。

＜表示装置の構成＞
まず、表示装置の構成について説明する。図１は、本実施の形態の表示装置の一例を示す斜視図である。図１では、表示領域ＤＡと周辺領域ＰＦＡの境界を二点鎖線で示している。また、図１では、表示装置ＤＳＰ１が備える回路のうち、液晶を駆動するための信号を伝送する信号配線の一部（詳しくは、ゲート線ＧＬおよびソース線ＳＬ）を一点鎖線で模式的に示している。図１を含む以下の図面において、表示装置ＤＳＰ１の厚さ方向に沿った方向をＺ方向、Ｚ方向に直交するＸ－Ｙ平面において、表示パネルＰ１の一辺の延在方向をＸ方向、Ｘ方向に交差する方向をＹ方向として説明する。図２は、図１のＡ－Ａ線に沿った断面図である。

図１に示すように、本実施の形態の表示装置ＤＳＰ１は、基板（アレイ基板）１０、基板（対向基板）２０、サイド光源装置３０、および駆動回路４０を備える表示パネルＰ１を有する。表示装置ＤＳＰ１は、図１に示す表示パネルＰ１が備える各部分の他、例えば制御回路、あるいは表示パネルＰ１に接続されるフレキシブル基板、あるいは筐体などが含まれる場合がある。図１では、表示パネルＰ１以外の部分は図示を省略している。表示装置ＤＳＰ１は、外部から供給される入力信号に応じて画像が形成される表示領域ＤＡと、表示領域ＤＡの周囲にある周辺領域（額縁領域）ＰＦＡを有する。なお、図１に示す表示装置ＤＳＰ１の表示領域ＤＡは四角形であるが、表示領域が多角形や円形など、四角形以外の形状であってもよい。表示領域ＤＡは、表示面を視た平面視において、表示装置ＤＳＰ１が画像を表示する有効領域である。基板１０および２０のそれぞれは、平面視において表示領域ＤＡと重なる位置にある。サイド光源装置３０、および駆動回路４０のそれぞれは、基板１０上に搭載されている。

図２に示すように、表示装置ＤＳＰ１は、液晶層ＬＱＬを介して対向するように貼り合せられた基板１０および基板２０を有している。基板１０と基板２０とは、表示装置ＤＳＰ１の厚さ方向であるＺ方向に配列される。言い換えれば、基板１０と基板２０とは、表示装置ＤＳＰ１の厚さ方向（Ｚ方向）において互いに対向する。基板１０は、液晶層ＬＱＬ（および基板２０）と対向する前面（主面、面）１０ｆを有する。また基板２０は、基板１０の前面１０ｆ（および液晶層ＬＱＬ）と対向する背面（主面、面）２０ｂを有する。基板１０は、スイッチング素子（能動素子）Ｔｒ（図３参照）としての複数のトランジスタ（トランジスタ素子）がアレイ状に配置されたアレイ基板である。また、基板２０は、表示面側に設けられた基板である。基板２０は、アレイ基板に対向配置された基板という意味で、対向基板と言い換えることができる。

液晶ＬＱを含む液晶層ＬＱＬは、基板１０の前面１０ｆと基板２０の背面２０ｂとの間にある。液晶層ＬＱＬは、光学変調素子である。表示装置ＤＳＰ１は、上記したスイッチング素子を介して液晶層ＬＱＬの周辺に形成される電界の状態を制御することにより、そこを通過する光を変調する機能を備えている。基板１０および基板２０にある表示領域ＤＡは、図２に示すように液晶層ＬＱＬと重畳する。

また、基板１０と基板２０とは、シール部（シール材）ＳＬＭを介して接着される。図１に示すように、シール部ＳＬＭは、表示領域ＤＡの周囲を囲むように、周辺領域ＰＦＡに配置される。シール部ＳＬＭの内側には、図２に示すように液晶層ＬＱＬがある。シール部ＳＬＭは、基板１０と基板２０との間に液晶を封入するシールとしての役割を果たす。また、シール部ＳＬＭは、基板１０と基板２０とを接着する、接着材としての役割を果たす。

サイド光源装置３０は、光源部３１を有する。光源部３１は、基板２０の側面２０ｓ１と対向する位置に配置される。図２に二点鎖線で模式的に示すように、光源部３１から出射された光源光Ｌ１は、基板１０の背面１０ｂおよび基板２０の前面２０ｆで反射しながら、側面２０ｓ１から遠ざかる方向に伝搬する。光源光Ｌ１の伝搬経路において、基板１０の背面１０ｂおよび基板２０の前面２０ｆは、屈折率の大きな媒質と、屈折率の小さな媒質への界面との界面である。このため、光源光Ｌ１が前面２０ｆおよび背面１０ｂに入射する入射各が臨界角よりも大きい場合、光源光Ｌ１は、前面２０ｆおよび背面１０ｂにおいて全反射する。

表示装置ＤＳＰ１は、光源光Ｌ１の伝搬経路における液晶ＬＱの配向を制御することにより、液晶ＬＱに対する光源光Ｌ１の入射角を制御する。液晶ＬＱに対する光源光Ｌ１の入射角が臨界角よりも小さい場合、光源光Ｌ１は液晶ＬＱにより全反射せず、放出光Ｌ２として前面２０ｆ側から表示装置ＤＳＰ１の外部に出射される。また、背面１０ｂ側から入射した背景光Ｌ３は、液晶ＬＱの配向状態を制御することにより、基板１０、液晶層ＬＱＬ、および基板２０を透過して、前面２０ｆから外部に出射される。放出光Ｌ２および背景光Ｌ３は、前面２０ｆ側にいる観者に視認される。観者は、放出光Ｌ２と、背景光Ｌ３とを組み合わせて認識することができる。このように観者が、表示画像と背景とを重ね合わせて認識することが可能な表示装置を透明表示装置と呼ぶ。

＜回路の構成例＞
次に、図１に示す表示装置が備える回路の構成例について説明する。図３は、図１の表示装置が備える回路の一例を示す回路ブロック図である。図３に示す共通電極ＣＥに接続される配線経路は、例えば図２に示す基板２０に形成されている。図３では、基板２０に形成された配線を点線で図示している。図３に示す例では、光源制御部３２が、駆動回路４０に含まれる。変形例としては、駆動回路４０とは別に光源制御部３２を設ける場合もある。光源部３１と、光源制御部３２とは、基板１０に形成された配線を介して電気的に接続されている。

図３に示す例では、駆動回路４０は、信号処理回路４１、画素処理回路４２、ゲート駆動回路４３、ソース駆動回路４４、および共通電位駆動回路４５を備える。また、光源部３１は、例えば赤色光源部３１ｒ、緑色光源部３１ｇ、および青色光源部３１ｂを備える。図１に示すように、基板１０は、基板２０よりも面積が大きいので、駆動回路４０およびサイド光源装置３０のそれぞれは、基板１０上に設けられている。

信号処理回路４１は、入力信号解析部（入力信号解析回路）４１１、記憶部（記憶回路）４１２、および信号調整部４１３を備える。表示装置ＤＳＰ１は、画像の表示を制御する制御回路を備える制御部９０を有し、信号処理回路４１の入力信号解析部４１１には、制御部９０から図示しないフレキシブル配線板などの配線経路を介して入力信号ＶＳが入力される。入力信号解析部４１１は、外部から入力された入力信号ＶＳに基づいて解析処理を行い、入力信号ＶＣＳを生成する。入力信号ＶＣＳは、例えば、入力信号ＶＳに基づいて、表示パネルＰ１（図１参照）の各画素ＰＩＸ（図１参照）にどのような階調値を与えるかを定める信号である。

信号調整部４１３は、入力信号解析部４１１から入力された入力信号ＶＣＳから入力信号ＶＣＳＡを生成する。信号調整部４１３は、入力信号ＶＣＳＡを画素制御回路４２へ送出し、光源制御信号ＬＣＳＡを光源制御部３２へ送出する。光源制御信号ＬＣＳＡは、例えば、画素ＰＩＸへの入力階調値に応じて設定される光源部３１の光量の情報を含む信号である。例えば、暗い画像が表示される場合、光源部３１の光量は小さく設定される。明るい画像が表示される場合、光源部３１の光量は大きく設定される。

画素制御回路４２は、入力信号ＶＣＳＡに基づいて水平駆動信号ＨＤＳと垂直駆動信号ＶＤＳとを生成する。例えば、本実施形態では、フィールドシーケンシャル方式で駆動されるので、水平駆動信号ＨＤＳと垂直駆動信号ＶＤＳとが光源部３１が発光可能な色毎に生成される。ゲート駆動回路４３は水平駆動信号ＨＤＳに基づいて１垂直走査期間内に表示パネルＰ１（図１参照）のゲート線ＧＬを順次選択する。ゲート線ＧＬの選択の順番は任意である。図１に示すように複数のゲート線（信号配線）ＧＬは、Ｘ方向に延び、かつ、Ｙ方向に沿って配列されている。

ソース駆動回路４４は垂直駆動信号ＶＤＳに基づいて１水平走査期間内に表示パネルＰ１（図１参照）の各ソース線ＳＬに各画素ＰＩＸ（図１参照）の出力階調値に応じた階調信号を供給する。図１に示すように複数のソース線（信号配線）ＳＬは、Ｙ方向に延び、かつ、Ｘ方向に沿って配列されている。ゲート線ＧＬとソース線ＳＬとの交差毎に、一つの画素ＰＩＸが形成される。ゲート線ＧＬとソース線ＳＬとが交差する部分のそれぞれには、スイッチング素子Ｔｒ（図３参照）が形成されている。図１および図３に示す複数のゲート線ＧＬおよび複数のソース線ＳＬは、図２に示す液晶ＬＱを駆動する駆動信号を伝送する複数の信号配線に相当する。

図３に示すスイッチング素子Ｔｒとして例えば、薄膜トランジスタが用いられる。薄膜トランジスタの種類は特に限定されず、例えば、以下のようなものを例示できる。ゲートの位置で分類すると、ボトムゲート型トランジスタ又はトップゲート型トランジスタを挙げることができる。また、ゲートの数で分類すると、シングルゲート薄膜トランジスタと、ダブルゲート薄膜トランジスタとを挙げられる。スイッチング素子Ｔｒのソース電極及びドレイン電極のうち一方はソース線ＳＬに接続され、ゲート電極はゲート線ＧＬに接続され、ソース電極及びドレイン電極のうち他方は、高分子分散型液晶ＬＣの容量の一端に接続されている。高分子分散型液晶ＬＣの容量は、一端がスイッチング素子Ｔｒに画素電極ＰＥを介して接続され、他端が共通電極ＣＥを介してコモン電位配線ＣＯＭＬに接続されている。また、画素電極ＰＥと、コモン電位配線ＣＯＭＬに電気的に接続されている保持容量電極との間には、保持容量ＨＣが生じる。なお、コモン電位配線ＣＯＭＬは、共通電位駆動回路４５より供給される。

＜周辺領域の構造＞
次に、図２に示すシール部ＳＬＭ内に液晶層ＬＱＬを封入する構造および封入方法について説明する。図４は、図２に示すシール部ＳＬＭと、図１に示す表示領域との平面的な位置関係を示す平面図である。図５は、図４のＢ部の拡大平面図である。図６は、図５のＣ－Ｃ線に沿った拡大断面図である。図７は、図５のＤ－Ｄ線に沿った拡大断面図である。図４および図５は、図１に示す表示装置を基板２０側から視た平面図であって、基板２０は図示を省略されている。図４では、シール材ＳＬＭ１およびシール材ＳＬＭ２の形状を明確にするため、平面図であるが、シール材ＳＬＭ１およびシール材ＳＬＭ２にハッチングを付している。図４において、表示装置ＤＳＰ１は、液晶供給部ＬＱＰがシール材ＳＬＭ２により封止されているが、図５では、図４に示すシール材ＳＬＭ２が取り除かれている。液晶ＬＱ（図２参照）を封入する前の製造工程では、図５に示すようにシール材ＳＬＭ２が未だ形成されず、液晶供給部ＬＱＰは、シール部ＳＬＭで囲まれた空間と、外部とを連通する開口部になっている。図６および図７では図示を省略したが、基板２０の表示領域ＤＡには、図３に示す共通電極ＣＥや、表示領域ＤＡにおいてソース線ＳＬおよびゲート線ＧＬと重なる位置に格子状に設けられる遮光膜がスペーサ部材ＳＰ１と基板２０との間に形成されている場合がある。

図４に示すように、平面視において、周辺領域ＰＦＡは、辺ＰＦｓ１、辺ＰＦｓ１の反対側の辺ＰＦｓ２、辺ＰＦｓ１に交差する辺ＰＦｓ３、および辺ＰＦｓ３の反対側の辺ＰＦｓ４を備える。シール部ＳＬＭは、基板１０と基板２０（図２参照）との間で、周辺領域ＰＦＡに設けられている。液晶供給部ＬＱＰは、シール部ＳＬＭの一部に設けられ、シール部ＳＬＭの外部から表示領域ＤＡまでを連通するように形成された開口部である。ただし、上記したように完成品の表示装置ＤＳＰ１においては、液晶供給部ＬＱＰは、シール材ＳＬＭ２により封止されている。

液晶供給部ＬＱＰは、周辺領域ＰＦＡの辺ＰＦｓ１、ＰＦｓ２、ＰＦｓ３、およびＰＦｓ４の少なくともいずれか一辺に形成されている。図４に示す例では、液晶供給部ＬＱＰは、周辺領域ＰＦＡの辺ＰＦｓ１に形成されている。表示装置ＤＳＰ１の製造工程において、図２に示す液晶ＬＱをシール材ＳＬＭ２の内部に供給する工程は、例えば以下のように実施される。

まず、図１に示す基板１０と基板２０とを図４に示すシール部ＳＬＭのシール材ＳＬＭ１を介して接着固定する。この時、液晶供給部ＬＱＰには、シール材ＳＬＭ２が配置されず、開口部になっている。次に、基板１０および基板２０が接着された構造物を、真空雰囲気（大気圧よりも低い減圧雰囲気）の環境下に配置した状態で、液晶供給部ＬＱＰに液晶ＬＱ（図２参照）を接触させる。次に、液晶供給部ＬＱＰに液晶ＬＱが接触した状態で環境圧力を大気圧に復圧させると、シール部ＳＬＭに囲まれた空間と外部との差圧、および毛細管現象により液晶ＬＱがシール部ＳＬＭに囲まれた空間内に注入される。その後、液晶供給部ＬＱＰの開口部を図４に示すシール材ＳＬＭ２により封止すれば、図２に示すように、基板１０と基板２０との間に液晶ＬＱが封入された表示パネルＰ１が得られる。

本願発明者の検討によれば、上記した液晶ＬＱの封入方法の場合、表示装置の性能に影響する課題があることが判った。例えば、図４で示す液晶供給部ＬＱＰから液晶ＬＱ（図２参照）が供給される際に、シール部ＳＬＭで囲まれた空間内において液晶の流れを阻害する部材があると、液晶層ＬＱＬ（図２参）内に微細な気泡が多数発生する場合がある。この微細な気泡が残留すれば、表示装置の表示性能に影響を及ぼす。

表示装置ＤＳＰ１は、図６に示すように、基板１０と基板２０との間に、ソース線ＳＬ（および図５に示すゲート線ＧＬ）を覆う絶縁膜ＩＦ１を有する。絶縁膜ＩＦ１は、例えばアクリル樹脂などの有機系絶縁材料から成る有機絶縁膜である。有機絶縁膜であるＩＦ１は、無機系材料から成る他の絶縁膜（例えば図６に示すゲート線ＧＬ上に形成される絶縁膜ＩＦ２やソース線ＳＬ上に形成される絶縁膜ＩＦ３など）と比較して、膜厚を厚く形成することができる。図５に示す表示領域ＤＡにおいて、ゲート線ＧＬおよびソース線ＳＬは、膜厚の厚い絶縁膜ＩＦ１に覆われている。これにより、ゲート線ＧＬおよびソース線ＳＬを保護することができる。また、絶縁膜ＩＦ１上にコモン電位配線ＣＯＭＬ（図３参照）に電気的に接続されている保持容量電極が形成されている場合、保持容量電極とゲート線ＧＬおよびソース線ＳＬとの間に厚い絶縁膜ＩＦ１を配置することにより、ゲート線ＧＬやソース線ＳＬに対するコモン電位の影響を低減することができる。

本実施の形態の場合図５に示すように、絶縁膜ＩＦ１は、ゲート線ＧＬおよびソース線ＳＬの延在方向に沿って、格子状に形成されている。この場合、画素ＰＩＸの絶縁膜ＩＦ１からの露出面積を大きくすることができるので、表示装置の光透過特性を向上させることができる。変形例としては、画素ＰＩＸが絶縁膜ＩＦ１に覆われている場合もある。

また、図５および図６に示すように、表示装置ＤＳＰ１は、表示領域ＤＡにおいて絶縁膜ＩＦ１と基板２０との間に配置され、基板１０と基板２０とのギャップを維持する複数のスペーサ部材ＳＰ１を有する。スペーサ部材ＳＰ１が絶縁膜ＩＦ１と重なる位置に配置されていることにより、基板１０と基板２０とのギャップを高精度で維持することができる。

図５および図６に示す周辺領域ＰＦＡにおいても、基板１０と基板２０とのギャップを維持する必要がある。本実施の形態の透明表示装置は、周辺領域ＰＦＡも光を透過させる必要があるので、表示領域ＤＡと周辺領域ＰＦＡとの光透過特性を同様にする観点からは、周辺領域ＰＦＡにおいても、表示領域ＤＡと同様に絶縁膜ＩＦ１を配置する構造が考えられる。ところが、本願発明者の検討によれば、周辺領域ＰＦＡの特に液晶供給部ＬＱＰの近傍に絶縁膜ＩＦ１を配置すると、絶縁膜ＩＦ１が液晶ＬＱ（図２参照）の流れを阻害する障害物となり、上記した微細な気泡が発生することが判った。

そこで、本実施の形態では、気泡の発生を抑制し、かつ、周辺領域ＰＦＡにおける基板１０と基板２０とのギャップを維持できる構造として、図５および図６に示す構造を見出した。すなわち、周辺領域ＰＦＡは、表示領域ＤＡとシール部ＳＬＭ（図５参照）との間にある周辺領域ＰＦ１を含み、周辺領域ＰＦ１では、絶縁膜ＩＦ１が取り除かれている。周辺領域ＰＦ１には、複数のスペーサ部材ＳＰ１と同じ材料から成る複数のスペーサ部材ＳＰ２と、複数のスペーサ部材ＳＰ２と基板１０との間に形成され、複数のスペーサ部材ＳＰ２を支持する複数のスペーサ部材ＳＰ３と、を備える。複数のスペーサ部材ＳＰ３は互いに分離されている。

周辺領域ＰＦ１は、液晶供給部ＬＱＰと表示領域ＤＡとの間のみではなく、辺ＰＦｓ１（図４参照）に沿ったＸ方向において、シール材ＳＬＭ１と表示領域ＤＡとの間まで広がっている。さらに詳しくは、絶縁膜ＩＦ１が取り除かれた周辺領域ＰＦ１は、図４に示す辺ＰＦｓ３に沿ったシール部ＳＬＭとの境界から辺ＰＦｓ３に沿ったシール部ＳＬＭとの境界までＸ方向に沿って連続的に広がっている。

表示装置ＤＳＰ１の場合、周辺領域ＰＦ１において、表示領域ＤＡと同様に絶縁膜ＩＦ１が配置されている場合と比較して、液晶の注入経路の断面積を広く確保できるので、液晶の流入が阻害され難い。この結果、上記した気泡の発生を抑制することができる。また、図６に示すように、周辺領域ＰＦ１において、絶縁膜ＩＦ１が形成されていない場合でも、基板１０と基板２０との間にスペーサ部材ＳＰ２およびスペーサ部材ＳＰ３が重なって配置されているので、基板１０と基板２０とのギャップを維持することができる。

本実施の形態の場合、複数のスペーサ部材ＳＰ１および複数のスペーサ部材ＳＰ２は基板２０側に形成され、複数のスペーサ部材ＳＰ３は、基板１０側に形成されている。複数のスペーサ部材ＳＰ２と複数のスペーサ部材ＳＰ３とは、基板１０および基板２０を重ね合わせる時に互いに対向する位置に形成されている。この場合、複数のスペーサ部材ＳＰ２および複数のスペーサ部材ＳＰ３の厚さ（Ｚ方向の高さ）を極端に厚くする必要がないので、複数のスペーサ部材ＳＰ２および複数のスペーサ部材ＳＰ３のそれぞれを容易に形成することができる。

スペーサ部材ＳＰ１、ＳＰ２、およびＳＰ３のそれぞれは、互いに異なる材料、互いに異なる厚さで形成されていてもよい。ただし、スペーサ部材ＳＰ２およびＳＰ３を要請する工程の作業効率を向上させる観点からは、以下が好ましい。すなわち、複数のスペーサ部材ＳＰ２は、複数のスペーサ部材ＳＰ１と同じ材料から成り、かつ、同じ厚さ（Ｚ方向の高さ）であることが好ましい。これにより、スペーサ部材ＳＰ１を形成する工程において、スペーサ部材ＳＰ１およびＳＰ２を一括して形成することができるので、スペーサ部材ＳＰ２を形成するための製造工程が追加されることを防止できる。

また、複数のスペーサ部材ＳＰ３のそれぞれは、表示領域ＤＡにおける絶縁膜ＩＦ１と同じ厚さであり、かつ、絶縁膜ＩＦ１と同じ材料から成ることが好ましい。絶縁膜ＩＦ１とスペーサ部材ＳＰ３とが同じ材料からなる場合、例えば、表示領域ＤＡから周辺領域ＰＦＡまで連続的に広がる平坦化膜として絶縁膜ＩＦ１を形成した後、エッチング処理により、絶縁膜ＩＦ１の一部分を選択的に取り除くことにより、図５に示すような形状の絶縁膜ＩＦ１および複数のスペーサ部材ＳＰ３が一括して形成される。

スペーサ部材ＳＰ２の厚さをスペーサ部材ＳＰ１の厚さと同じにし、かつ、スペーサ部材ＳＰ３の厚さを絶縁膜ＩＦ１の厚さと同じにすることで、表示領域ＤＡにおける基板１０と基板２０との間のギャップと、周辺領域ＰＦ１における基板１０と基板２０との間のギャップと、を同じにすることができる。このように周辺領域ＰＦ１における基板１０と基板２０との間のギャップを維持することにより、液晶ＬＱ（図２参照）を注入する際の流路が狭くなることを防止できる。

ところで、図５～図７に示す例では、表示装置ＤＳＰ１は、複数のソース線（信号配線）ＳＬに接続される回路ＳＬＣが配置され、かつ、回路ＳＬＣを覆う絶縁膜ＩＦ１が形成された周辺領域ＰＦ２を有している。回路ＳＬＣは、例えば、画素電極選択回路もしくはテスト回路や保護回路などである。このように、周辺領域ＰＦＡに複数のソース線ＳＬに接続される回路ＳＬＣが配置される場合、この回路ＳＬＣを保護する観点から、回路ＳＬＣを覆う絶縁膜ＩＦ１が設けられていることが好ましい。なお、図６および図７では例示的にソース線ＳＬに接続される回路ＳＬＣを示しているが、例えば図４に示す辺ＰＦｓ３および辺ＰＦｓ４のいずれかまたは両方に、図３に示すゲート線ＧＬに接続されるゲート駆動回路４３が配置される場合もある。この場合、図６および図７に示す構造と同様に、周辺領域ＰＦＡに配置されたゲート駆動回路４３（図３参照）は、絶縁膜ＩＦ１に覆われていることが好ましい。

また、周辺領域ＰＦ２には絶縁膜ＩＦ１が形成されているので、周辺領域ＰＦ２では液晶の流路が狭くなる。このため、液晶の流路を少しでも広くする観点からは、図５～図７に示す例のように、周辺領域ＰＦ２には複数のスペーサ部材ＳＰ１および複数のスペーサ部材ＳＰ２が形成されていないことが好ましい。Ｙ方向における絶縁膜ＩＦ１の幅は、回路ＳＬＣが露出しない範囲で極力狭くすることが好ましい。このため、仮に、周辺領域ＰＦ２に複数のスペーサ部材ＳＰ１および複数のスペーサ部材ＳＰ２が形成されていない状態であっても、周辺領域ＰＦ１に複数のスペーサ部材ＳＰ２およびＳＰ３が形成されていれば、基板１０と基板２０とのギャップを維持することができる。ただし、変形例としては、周辺領域ＰＦ２にも周辺領域ＰＦ１と同様にスペーサ部材ＳＰ２が形成される場合もある。

また、周辺領域ＰＦ１における液晶の流路を広くする観点から以下の構造が好ましい。図５および図６に示すように、複数のスペーサ部材ＳＰ３のうち、互いに隣り合うスペーサ部材ＳＰ３の配列ピッチＳＰｐ３は、複数のスペーサ部材ＳＰ１のうち、互いに隣り合うスペーサ部材ＳＰ１の配列ピッチＳＰｐ１よりも広い。配列ピッチＳＰｐ３は、平面視において、互いに隣り合うスペーサ部材ＳＰ３の中心間距離として定義され、配列ピッチＳＰｐ１は、平面視において、互いに隣り合うスペーサ部材ＳＰ１の中心間距離として定義される。スペーサ部材ＳＰ１、ＳＰ２、およびＳＰ３のそれぞれは、規則的に配列されている。このため、図５に示す配列ピッチＳＰｐ１と、図６に示す配列ピッチＳＰｐ１は同じ値である。同様に、図５に示す配列ピッチＳＰｐ３と、図６に示す配列ピッチＳＰｐ３は同じ値である。

図５および図６に示す例の場合、配列ピッチＳＰｐ１は０．２ｍｍであり、配列ピッチＳＰｐ３は、０．５ｍｍである。ただし、配列ピッチＳＰｐ１および配列ピッチＳＰｐ３の値は、表示装置の仕様に応じて変更可能であり、上記した数値に限定されるものではない。特に、図５に示すように、スペーサ部材ＳＰ１は、格子状に形成された絶縁膜ＩＦ１が交差する位置に配置されているので、画素ＰＩＸのサイズに応じて配列ピッチＳＰｐ１の値は変更される。

本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。例えば、前述の各実施形態に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除若しくは設計変更を行ったもの、または、工程の追加、省略若しくは条件変更を行ったものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含まれる。

本発明は、表示装置や表示装置が組み込まれた電子機器に利用可能である。

１０，２０ 基板
１０ｂ，２０ｂ，２０ｂ 背面（主面、面）
１０ｆ，２０ｆ 前面（主面、面）
２０ｓ１ 側面
３０ サイド光源装置
３１ 光源部
３１ｂ 青色光源部
３１ｇ 緑色光源部
３１ｒ 赤色光源部
３２ 光源制御部
４０ 駆動回路
４１ 信号処理回路
４２ 画素制御回路
４２ 画素処理回路
４３ ゲート駆動回路
４４ ソース駆動回路
４５ 共通電位駆動回路
９０ 制御部
４１１ 入力信号解析部（入力信号解析回路）
４１２ 記憶部（記憶回路）
４１３ 信号調整部
ＣＥ 共通電極
ＣＯＭＬ コモン電位配線
ＤＡ 表示領域
ＤＳＰ１ 表示装置
ＧＬ ゲート線（信号配線）
ＨＣ 保持容量
ＨＤＳ 水平駆動信号
ＩＦ１ 絶縁膜（有機絶縁膜）
ＩＦ２，ＩＦ３ 絶縁膜（無機絶縁膜）
Ｌ１ 光源光
Ｌ２ 放出光
Ｌ３ 背景光
ＬＣ 高分子分散型液晶
ＬＣＳＡ 光源制御信号
ＬＱ 液晶
ＬＱＬ 液晶層
ＬＱＰ 液晶供給部
Ｐ１ 表示パネル
ＰＥ 画素電極
ＰＦ１，ＰＦ２ 周辺領域
ＰＦＡ 周辺領域（額縁領域）
ＰＦｓ１，ＰＦｓ２，ＰＦｓ３，ＰＦｓ４ 辺
ＰＩＸ 画素
ＳＬ ソース線（信号配線）
ＳＬＣ 回路
ＳＬＭ シール部
ＳＬＭ１，ＳＬＭ２ シール材
ＳＰ１，ＳＰ２，ＳＰ３ スペーサ部材
ＳＰｐ１，ＳＰｐ３ 配列ピッチ
Ｔｒ スイッチング素子
ＶＣＳ，ＶＣＳＡ，ＶＳ 入力信号
ＶＤＳ 垂直駆動信号

Claims (6)

1. 表示領域と、
   前記表示領域の周囲にある周辺領域と、
   第１基板と、
   前記第１基板と対向する第２基板と、
   前記第１基板と前記第２基板との間に配置され、液晶を含む液晶層と、
   前記第１基板に形成され、前記液晶を駆動する駆動信号を伝送する複数の信号配線と、
   前記第１基板と前記第２基板との間に配置され、前記複数の信号配線を覆う第１絶縁膜と、
   前記表示領域において前記第１絶縁膜と前記第２基板との間に配置され、前記第１基板と前記第２基板とのギャップを維持する複数の第１スペーサ部材と、
   前記第１基板と前記第２基板との間で前記周辺領域に設けられ、前記液晶層をシールするシール部と、
   前記シール部の一部に設けられ、前記シール部の外部から前記表示領域までを連通する液晶供給部と、
   を有し、
   前記第２基板側から視た平面視において、前記周辺領域は、第１辺、前記第１辺の反対側の第２辺、前記第１辺に交差する第３辺、および前記第３辺の反対側の第４辺を備え、
   前記液晶供給部は、前記周辺領域の第１辺に沿って設けられ、
   前記周辺領域は、前記表示領域と前記シール部との間にある第１周辺領域を含み、
   前記第１周辺領域では、前記第１絶縁膜が取り除かれ、
   前記第１周辺領域には、
   前記第１基板と前記第２基板との間に配置される複数の第２スペーサ部材と、
   前記複数の第２スペーサ部材と前記第１基板との間に形成され、前記複数の第２スペーサ部材を支持する複数の第３スペーサ部材と、
   を備える、表示装置。
2. 請求項１において、
   前記複数の第２スペーサ部材は、前記複数の第１スペーサ部材と同じ厚さであり、かつ、前記複数の第１スペーサ部材と同じ材料から成り、
   前記複数の第３スペーサ部材のそれぞれは、前記第１絶縁膜と同じ厚さであり、かつ、前記第１絶縁膜と同じ材料から成る、表示装置。
3. 請求項１において、
   前記表示領域では、前記第１絶縁膜が格子状に形成されている、表示装置。
4. 請求項１において、
   前記第１周辺領域と前記表示領域との間には、
   前記複数の信号配線に接続される第１回路が配置され、かつ、前記第１回路を覆う前記第１絶縁膜が形成された第２周辺領域を有している、表示装置。
5. 請求項４において、
   前記第２周辺領域には前記複数の第１スペーサ部材および前記複数の第２スペーサ部材が形成されていない、表示装置。
6. 請求項１において、
   前記複数の第３スペーサ部材のうち、互いに隣り合う第３スペーサ部材の配列ピッチは、前記複数の第１スペーサ部材のうち、互いに隣り合う第１スペーサ部材の配列ピッチよりも広い、表示装置。

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