CN118077317A - 等离子体处理液体制造方法和等离子体照射装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种等离子体处理液体制造方法，包括：供给工序，向容器供给被处理液体；排出工序，边在供给工序中向容器供给被处理液体，边从容器排出被处理液体；以及照射工序，向供给到容器的被处理液体照射等离子体，在等离子体处理液体制造方法中，通过照射工序中的等离子体的照射来制造等离子体处理液体。

Description

等离子体处理液体制造方法和等离子体照射装置

技术领域

本发明涉及通过向被处理液体照射等离子体来制造等离子体处理液体的技术。

背景技术

在专利文献1中记载有向供给到容器的被处理液体照射等离子体的技术。另外，在专利文献2和3中记载有通过泵等供给装置供给液体的技术。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：国际公开第2020/026324号

专利文献2：日本特开平10-015573号公报

专利文献3：日本特表2010-523326号公报

发明内容

发明要解决的课题

本说明书的课题在于，通过向由供给装置供给到容器的被处理液体照射等离子体来适当地制造等离子体处理液体。

用于解决课题的技术方案

为了达成上述目的，本说明书公开了一种等离子体处理液体制造方法，其包括：供给工序，向容器供给被处理液体；排出工序，边在所述供给工序中向所述容器供给被处理液体，边从所述容器排出被处理液体；以及照射工序，向供给到所述容器的被处理液体照射等离子体，在所述等离子体处理液体制造方法中，通过所述照射工序中的等离子体的照射来制造等离子体处理液体。

发明效果

在本公开中，边向容器供给被处理液体，边从该容器排出被处理液体，向供给到容器的被处理液体照射等离子体。由此，能够适当地制造等离子体处理液体。

附图说明

图1是大气压等离子体照射装置的立体图。

图2是等离子体产生装置的分解图。

图3是等离子体产生装置的分解图。

图4是等离子体产生装置的剖视图。

图5是大气压等离子体照射装置的立体图。

图6是大气压等离子体照射装置的侧视图。

图7是大气压等离子体照射装置的侧视图。

图8是大气压等离子体照射装置的立体图。

图9是照射块的立体图((a))及其AA线处的剖面立体图((b))。

图10是控制装置的框图。

具体实施方式

以下，基于附图对本公开的实施方式进行详细说明。

图1示出本公开的一个实施方式的大气压等离子体照射装置10。大气压等离子体照射装置10是用于在大气压下向培养液(“被处理液体”的一例)照射等离子体的装置，并且具备：等离子体产生装置20、罩壳体22、开闭机构24、工作台26、升降装置28、净化气体供给机构32(参照图5)、浓度检测机构34、排气机构36以及控制装置38(参照图10)。应予说明，将大气压等离子体照射装置10的宽度方向称为X方向，将大气压等离子体照射装置10的进深方向称为Y方向，将与X方向和Y方向正交的方向、即上下方向称为Z方向。

如图2～图4所示，等离子体产生装置20包括罩50、上部块52、下部块54、一对电极56以及喷嘴块58。罩50大致呈有盖四方筒形状，在罩50的内部配设有上部块52。上部块52大致呈长方体形状，由陶瓷成型。在上部块52的下表面形成有一对圆柱状的圆柱凹部60。

另外，下部块54也大致呈长方体形状，由陶瓷成型。在下部块54的上表面形成有凹部62，凹部62由一对圆柱状的圆柱凹部66和连结这一对圆柱凹部66的连结凹部68构成。而且，下部块54以从罩50的下端突出的状态固定于上部块52的下表面，上部块52的圆柱凹部60与下部块54的圆柱凹部66连通。应予说明，圆柱凹部60和圆柱凹部66的直径大致相同。另外，在凹部62的底面形成有贯通下部块54的下表面的狭缝70。

一对电极56分别配设于由上部块52的圆柱凹部60和下部块54的圆柱凹部66划分的圆柱状的空间。应予说明，电极56的外径比圆柱凹部60、圆柱凹部66的内径小。另外，喷嘴块58大致呈平板状，固定于下部块54的下表面。在喷嘴块58形成有与下部块54的狭缝70连通的喷出口72，该喷出口72沿上下方向贯通喷嘴块58。

等离子体产生装置20还具有处理气体供给装置74(参照图10)。处理气体供给装置74是供给使氧气等活性气体和氮气等非活性气体以任意的比例混合而成的处理气体的装置，经由配管(未图示)与由圆柱凹部60、圆柱凹部66划分出的圆柱状的空间和连结凹部68的上部连结。由此，从电极56与圆柱凹部66之间的间隙和连结凹部68的上部向凹部62的内部供给处理气体。

通过这样的结构，等离子体产生装置20从喷嘴块58的喷出口72喷出等离子体。详细而言，通过处理气体供给装置74向凹部62的内部供给处理气体。此时，在凹部62，向一对电极56施加电压，在一对电极56之间流过电流。由此，在一对电极56之间产生放电，通过该放电，处理气体被等离子体化。然后，等离子体经由狭缝70从喷出口72喷出。

另外，如图5所示，罩壳体22包括上部罩76和下部罩78。上部罩76大致呈有盖圆筒状，在上部罩76的盖部形成有与等离子体产生装置20的下部块54相应的形状的通孔(未图示)。而且，等离子体产生装置20的罩50以覆盖该通孔的方式以竖立设置的状态固定于上部罩76的盖部。因此，等离子体产生装置20的下部块54和喷嘴块58以沿Z方向延伸的方式朝向上部罩76的内部突出。由此，由等离子体产生装置20产生的等离子体从喷嘴块58的喷出口72朝向上部罩76的内部沿Z方向喷出。

另外，在上部罩76的侧面，在三等分的位置形成有大致矩形的通孔(未图示)，以堵塞该通孔的方式配设有透明的玻璃板80。由此，能够经由玻璃板80目视确认上部罩76的内部。

罩壳体22的下部罩78大致为圆板形状，固定于载置大气压等离子体照射装置10的载置部的框体(未图示)。下部罩78的外径比上部罩76的外径大，在下部罩78的上表面配设有与上部罩76直径相同的圆环状的衬垫82。而且，通过开闭机构24使上部罩76向下方滑动，从而上部罩76与衬垫82紧贴，罩壳体22的内部成为密闭的状态。

详细而言，如图6和图7所示，开闭机构24包括一对滑动机构86和气缸88。各滑动机构86包括支承轴90和滑块92。支承轴90以沿Z方向延伸的方式竖立设置于上述载置部的框体。另外，滑块92大致呈圆筒形状，以能够沿支承轴90的轴向滑动的方式外嵌于支承轴90。而且，上部罩76被上部托架96和下部托架98保持于滑块92。由此，上部罩76能够沿Z方向、即上下方向滑动。

气缸88包括杆100、活塞(未图示)以及缸体102。杆100以沿Z方向延伸的方式配设，在上端部固定于上部罩76。另外，在杆100的下端部固定有活塞。活塞从缸体102的上端嵌合到内部，在缸体102的内部以能够滑动的方式移动。另外，缸体102在下端部固定于上述载置部的框体，在缸体102内部封入有给定量的空气。

由此，气缸88作为阻尼器发挥功能，防止上部罩76的急剧的下降。应予说明，缸体102内部的气压设为能够利用与上部罩76一起滑动的一体物、即上部罩76、等离子体产生装置20、滑块92等的重量进行压缩的压力。即，当操作者在使上部罩76上升的状态下释放上部罩76时，上部罩76因上部罩76等的自重而下降。而且，上部罩76与下部罩78的衬垫82紧贴，如图8所示，成为通过上部罩76和下部罩78将罩壳体22的内部密闭的状态。

另外，操作者通过使上部罩76上升而使罩壳体22的内部开放。应予说明，在上部罩76的上表面固定有磁铁106(参照图1)，通过使上部罩76上升，磁铁106吸附于上述载置部的框体。这样，通过使磁铁106吸附于上述载置部的框体，维持使上部罩76上升的状态、即使罩壳体22开放的状态。

工作台26大致呈圆板形状，在工作台26的上表面载置照射块180。另外，工作台26的外径比下部罩78的外径小。而且，工作台26配设于下部罩78的上表面。

照射块180用于贮存由送液管120输送的被处理液体，通过向贮存的被处理液体照射从等离子体产生装置20喷出的等离子体而生成等离子体处理液体。所生成的等离子体处理液体通过排液管122从照射块180排出。

使用设置于罩壳体22外的供给泵190(参照图10)向送液管120送出被处理液体，而向罩壳体22内的照射块180供给被处理液体。另外，使用排出泵192(参照图10)从照射块180向排液管122排出由照射块180生成的等离子体处理液体，而保管于在罩壳体22外设置的临时保管箱(未图示)。因此，在下部罩78的侧面形成有供送液管120和排液管122分别通过的贯通孔134、贯通孔136。

图9示出了照射块180的概略结构。而且，图9(a)是示出照射块180整体的外观的立体图，图9(b)是图9(a)的AA线处的剖面立体图。应予说明，从左向右的方向是被处理液体流动的方向。

照射块180由陶瓷成型，包括大致呈长方体形状的照射块主体部181。应予说明，照射块180的长边方向是X方向，短边方向是Y方向。在照射块主体部181，形成有在设置于罩壳体22的情况下与等离子体产生装置20对置的面开放的槽部183和贮存部184。

槽部183的YZ截面为朝向上方开口的U字状。构成槽部183的底面183a弯曲。该槽部183的YZ截面比送液管120(参考图1)的截面形状稍窄，通过将具有挠性的送液管120嵌入到槽部183来固定送液管120。

贮存部184为了照射等离子体而贮存被处理液体。贮存部184由包括侧面184a和底面184b的圆筒状的凹部构成。另外，构成贮存部184的底面184b形成为位于比构成槽部183的底面183a靠下方的位置。并且，在构成贮存部184的底面184b形成有用于将向被处理液体进行等离子体照射而生成的等离子体处理液体从贮存部184向外排出的排液孔184c。应予说明，底面184b成为从侧面184a朝向排液孔184c向下方倾斜的倾斜面。这是为了在排出等离子体处理液体时，实现从贮存部184迅速地排出的功能和尽可能防止等离子体处理液体的一部分未被排出而残留于贮存部184的状态的功能。

照射块主体部181除了上述结构以外，还具有排出部186。排出部186在照射块主体部181的下表面181a，且从包含贮存部184的排液孔184c的位置向下方突出而形成。排出部186具有基部186a、凸缘部186b以及排出卡止部186c，各构成要素186a～186c以与下方连结的状态一体地形成。另外，在排出部186的中心部沿Z方向形成有贯通孔186d，与贮存部184的排液孔184c连通。

在排出部186的外周面，与照射块主体部181的下表面181a连续的部分是基部186a。在基部186a的下方隔着凸缘部186b形成的排出卡止部186c的外周的直径比排液管122(参照图1)的直径大。另外，排出卡止部186c的上部186c1的外径比排出卡止部186c的外径小。由此，当具有挠性的排液管122被嵌入到上部186c1时，排液管122沿着排出卡止部186c的外周变形，排液管122被固定。另外，通过将基部186a与工作台26的切口部26a(参照图1)嵌合，从而将照射块180固定于工作台26。这样，由于不是使用固定件的固定，所以照射块180能够相对于工作台26容易地装卸。

如图7所示，升降装置28包括支承杆112、齿条114、小齿轮116以及电磁马达117(参照图10)。在下部罩78形成有沿上下方向贯通的通孔(未图示)，在该通孔中插通有支承杆112。支承杆112的外径比通孔的内径小，支承杆112能够沿上下方向、即Z方向移动。在该支承杆112的上端固定有工作台26的下表面。

另外，齿条114以沿支承杆112的轴向延伸的方式固定于支承杆112的从下部罩78向下方延伸出的部分的外周面。小齿轮116与齿条114啮合，通过电磁马达117的驱动而旋转。应予说明，小齿轮116被上述载置部的框体保持为能够旋转。通过这样的结构，小齿轮116通过电磁马达117的驱动而旋转，从而支承杆112沿Z方向移动，工作台26升降。应予说明，在下部罩78的上表面，在工作台26的旁边竖立设置有测量杆118。在测量杆118的外周面标记有刻度，通过该刻度，能够通过目视来确认工作台26的Z方向的高度、即工作台26的升降量。

如图5所示，净化气体供给机构32包括四个空气接头130(在图中图示了三个)和净化气体供给装置132(参照图10)。四个空气接头130在上部罩76的侧面的上端部被设置于四等分的位置，各空气接头130在上部罩76的内部开口。净化气体供给装置132是供给氮气等非活性气体的装置，经由配管(未图示)与各空气接头130连接。通过这样的结构，净化气体供给机构32向上部罩76的内部供给非活性气体。

浓度检测机构34包括空气接头140、配管142以及检测传感器144(参照图10)。在下部罩78形成有将下部罩78的上表面与侧面连通的通孔(未图示)。该通孔的下部罩78的上表面侧的开口146位于衬垫82的内侧。另一方面，在通孔的下部罩78的侧面侧的开口连接有空气接头140。另外，检测传感器144是检测氧浓度的传感器，经由配管142与空气接头140连接。通过这样的结构，浓度检测机构34在罩壳体22被密闭时检测罩壳体22的内部的氧浓度。

如图1所示，排气机构36包括L型配管150、连结配管152以及主配管154。如图7所示，在下部罩78形成有在上表面和下表面开口的管道口160。管道口160的下部罩78的上表面侧的开口形成为越朝向上方则内径变得越大的锥面162。即，在罩壳体22被密闭时，锥面162成为朝向上部罩76的内壁面倾斜的状态。另一方面，在管道口160的下部罩78的下表面侧的开口连接有L型配管150。而且，该L型配管150经由连结配管152与主配管154连接。应予说明，省略了连结配管152的L型配管150侧的部分。另外，在主配管154的内部配设有臭氧过滤器166。臭氧过滤器166由活性炭形成，而吸附臭氧。

如图10所示，控制装置38具备控制器170和多个驱动电路172。多个驱动电路172与电极56、处理气体供给装置74、电磁马达117、净化气体供给装置132、供给泵190、排出泵192连接。控制器170具备CPU、ROM、RAM等，以计算机为主体，与多个驱动电路172连接。由此，等离子体产生装置20、升降装置28、净化气体供给机构32、供给泵190、排出泵192的工作由控制器170控制。另外，控制器170与检测传感器144连接。由此，控制器170取得检测传感器144的检测结果、即罩壳体22的内部的氧浓度。

通过向培养液照射等离子体，从而培养液活化，因此期待在使用了经等离子体照射的培养液的癌症治疗等医疗领域中有效利用等离子体。因此，虽然进行经等离子体照射的培养液的生成等，但培养液优选在等离子体照射时的条件受到管理的状态下进行等离子体照射。在大气压等离子体照射装置10中，通过上述的结构，将照射块180载置在工作台26上，将罩壳体22密闭，由此能够在给定的条件下向培养液照射等离子体。以下，对在给定的条件下向培养液照射等离子体的方法进行详细说明。

具体而言，首先，将照射块180载置在工作台26上。接着，通过升降装置28使工作台26升降至任意的高度。由此，能够任意地设定等离子体的喷出口72与作为等离子体的被照射体的培养液之间的距离。应予说明，工作台26的升降高度能够通过测量杆118的刻度来确认。

接着，使上部罩76下降，使罩壳体22密闭。而且，通过净化气体供给机构32向罩壳体22的内部供给非活性气体。此时，通过浓度检测机构34检测罩壳体22内的氧浓度。然后，在检测出的氧浓度成为预先设定的阈值以下之后，通过等离子体产生装置20向罩壳体22的内部喷出等离子体。此时，朝向配置于等离子体产生装置20的喷嘴块58的下方的照射块180照射等离子体。应予说明，在照射等离子体时，也继续向罩壳体22的内部供给非活性气体。

然后，在通过等离子体产生装置20朝向照射块180以给定时间照射等离子体之后，通过供给泵190的工作经由送液管120向照射块180的贮存部184供给调整为一定流量的被处理液体。即，等离子体产生装置20通过向照射块180的贮存部184中没有被处理液体的状态、即空的状态的贮存部184以给定时间照射等离子体，从而进行预热运转(warm-upoperation)。然后，朝向照射块180以给定时间照射等离子体之后，通过供给泵190的工作向照射块180的贮存部184供给被处理液体。然后，在给定量的被处理液体被供给泵190供给到贮存部184之后，供给泵190的工作停止。由此，在照射块180的贮存部184贮存给定量的被处理液体，贮存于贮存部184的被处理液体通过来自等离子体产生装置20的等离子体气体照射而被活化。应予说明，已知通过向被处理液体以给定时间照射等离子体气体，能够发挥被照射了等离子体的被处理液体的治疗效果。因此，向贮存于贮存部184的被处理液体以给定时间照射等离子体气体。另外，被处理液体通过被照射等离子体气体而在贮存部184内自然对流。由此，能够形成发挥治疗效果的均质的被活化的等离子体处理液体。

这样，通过向罩壳体22的内部供给非活性气体，罩壳体22内的空气被排出到罩壳体22的外部。此时，通过调整罩壳体22内的氧浓度，对影响等离子体照射的条件进行管理。详细而言，由于等离子体包含活性自由基，因此，当与氧反应时，成为臭氧，等离子体照射的效果降低。因此，通过调整罩壳体22内的氧浓度，能够调查氧浓度对被等离子体照射的培养液的效果的影响。另外，能够在同一条件下向培养液照射等离子体。由此，能够高效地生成等离子体处理液体。

另外，在大气压等离子体照射装置10中，如上所述，任意地设定等离子体的喷出口72与培养液之间的距离。由此，能够调查照射距离对被等离子体照射的培养液的效果的影响，能够高效地生成等离子体处理液体。

另外，在下部罩78形成有管道口160。因此，通过向罩壳体22内供给非活性气体，罩壳体22内成为正压，从罩壳体22内自然排气。另外，在下部罩78的管道口160形成有越朝向下部罩78的上表面则内径越大的锥面162。由此，能够促进气体从罩壳体22的内部排出。而且，在排气机构36设置有臭氧过滤器166。由此，即使在等离子体与氧反应而产生了臭氧的情况下，也能够防止臭氧向外部排出。

在开始向被处理液体照射等离子体之后，当经过给定时间时，贮存于贮存部184的等离子体处理液体通过排出泵192的工作经由排液管122排出。然后，在开始从贮存部184排出等离子体处理液体之后，当经过给定时间时，视为没有等离子体处理液体残留在贮存部184，完成从贮存部184排出等离子体处理液体。然后，接下来通过供给泵190的工作经由送液管120向照射块180的贮存部184供给等离子体处理的被处理液体。以下，直到生成作为目标的量的等离子体处理液体为止，反复执行如下的等离子体处理：向贮存于贮存部184的被处理液体以给定时间照射等离子体、排出等离子体处理液体、向照射块180供给新的被处理液体、向被处理液体照射等离子体、······。

这样，通过反复进行向照射块180供给被处理液体、向贮存于贮存部184的被处理液体照射等离子体、排出等离子体处理液体这一系列的处理，生成作为目标的量的等离子体处理液体。但是，由于照射块180的贮存部184的容量比较小，因此为了生成作为目标的量的等离子体处理液体，需要重复相当次数的上述一系列的处理。具体而言，例如，如果贮存部184的容量为10ml左右，作为目标的等离子体处理液体的量为2L，则需要重复200次上述的一系列的处理。因此，在反复进行供给被处理液体、向贮存于贮存部184的被处理液体照射等离子体、排出等离子体处理液体这一系列的处理来生成等离子体处理液体的方法中，难以生成大量的等离子体处理液体。因此，执行如下的等离子体处理：边将被处理液体供给到贮存部184，边从贮存部184排出被处理液体，向供给到贮存部184的被处理液体照射等离子体。

具体而言，首先，当边向贮存部184供给被处理液体边从贮存部184排出被处理液体时，调整供给泵190的每单位时间的供给量和排出泵192的每单位时间的排出量，以在贮存部184贮存被处理液体。应予说明，调整供给泵190的每单位时间的供给量和排出泵192的每单位时间的排出量的处理(以下，记载为“调整处理”)在大气压等离子体照射装置10中生成等离子体处理液体之前执行。

在调整处理中，配设测定照射块180的重量的重量传感器，基于该重量传感器的测定值来执行调整处理。首先，认为如果供给泵190的每单位时间的供给量与排出泵192的每单位时间的排出量相同，则贮存部184中的被处理液体的贮存量不变化。即，认为在仅使供给泵工作而在贮存部贮存了给定量的被处理液体之后，如果使供给泵和排出泵同时工作而使供给泵的每单位时间的供给量与排出泵的每单位时间的排出量相同，则被处理液体的贮存量被维持为给定量。但是，在向贮存部184供给被处理液体时，克服被处理液体的重量而供给被处理液体，在从贮存部184排出被处理液体时，被处理液体利用自重而被排出。因此，为了使供给泵190的实际的每单位时间的供给量与排出泵192的实际的每单位时间的排出量相同，需要使对供给泵190的指令值大于对排出泵192的指令值。具体而言，例如在想要将实际的每单位时间的供给量和实际的每单位时间的排出量设为2ml/分钟的情况下，需要将对供给泵190的指令值设为2.1ml/分钟，将对排出泵192的指令值设为1.9ml/分钟。另外，在向贮存于贮存部184的被处理液体照射等离子体时，虽然很少，但被处理液体会蒸发。因此，即使实际的每单位时间的供给量与实际的每单位时间的排出量相同，随着向被处理液体照射等离子体，被处理液体的贮存量也会减少。在考虑到该状况的情况下，为了使实际的每单位时间的供给量比实际的每单位时间的排出量多，需要使对供给泵190的指令值为2.11ml/分钟。

这样，确定对供给泵190和排出泵192的指令值，将该指令值输入到供给泵190和排出泵192，边通过供给泵将被处理液体实际供给到贮存部184，边通过排出泵从贮存部184排出被处理液体。此时，通过配设于照射块180的重量传感器来测定照射块180的重量。然后，如果重量传感器的测定值没有变化，则将输入的指令值确定为作为目标的指令值(以下，记载为“目标指令值”)。另外，在重量传感器的测定值减少的情况下，以提高对供给泵190的指令值的方式进行校正，或者以降低对排出泵192的指令值的方式进行校正。另一方面，在重量传感器的测定值增加的情况下，以降低对供给泵190的指令值的方式进行校正，或者以提高对排出泵192的指令值的方式进行校正。然后，校正指令值直到重量传感器的测定值不再变化为止，并将重量传感器的测定值不再变化时的指令值确定为目标指令值。这样，当确定了供给泵190和排出泵192的目标指令值时，完成供给泵190的每单位时间的供给量和排出泵192的每单位时间的排出量的调整处理。

然后，当调整处理完成时，执行等离子体处理液体的生成处理。应予说明，在等离子体处理液体的生成处理中，从照射块180卸下重量传感器。首先，在等离子体处理液体的生成处理中，如上所述，作为预热运转，等离子体产生装置20向空的状态的照射块180以给定时间照射等离子体。然后，当给定时间的预热运转完成时，将目标指令值输入到供给泵190而使供给泵190工作，向照射块180的贮存部184供给被处理液体。此时，等离子体产生装置20继续向照射块180照射等离子体。然后，当在贮存部184贮存给定量的被处理液体时，将目标指令值输入到排出泵192而使排出泵192工作，从贮存部184排出被处理液体。此时，贮存部184中的被处理液体的贮存量不变化，维持在一定量。然后，向在贮存部184中以一定量贮存的被处理液体照射等离子体。应予说明，例如，在贮存部184中的被处理液体的贮存量为10ml，实际的供给泵190的每单位时间的供给量和实际的排出泵192的每单位时间的排出量为约2ml/分钟的情况下，被处理液体在贮存部184滞留约5分钟。因此，照射了约5分钟等离子体的被处理液体作为等离子体处理液体而生成。然后，等离子体产生装置20、供给泵190、排出泵192持续工作，直到生成作为目标的量的等离子体处理液体为止。即，在以往的方法中反复间断地执行少量的等离子体处理液体的生成，但在本发明的方法中连续地生成等离子体处理液体。由此，能够生成大量的等离子体处理液体。

另外，如图10所示，控制装置38的控制器170具有调整部200、前照射部202、供给部204、排出部206以及照射部208。调整部200是用于执行上述调整处理的功能。前照射部202是用于向空的照射块180照射等离子体的功能部。供给部204是用于向照射块180的贮存部184供给被处理液体的功能部。排出部206是用于边向照射块180的贮存部184供给被处理液体，边从该贮存部184排出被处理液体的功能部。照射部208是用于向供给到照射块180的贮存部184的被处理液体照射等离子体的功能部。

应予说明，在上述实施例中，大气压等离子体照射装置10是等离子体照射装置的一例。等离子体产生装置20是等离子体产生装置的一例。罩壳体22是壳体的一例。照射块180是容器的一例。供给泵190是供给装置的一例。排出泵192是排出装置的一例。另外，由调整部200执行的工序是调整工序的一例。由前照射部202执行的工序是前照射工序的一例。由供给部204执行的工序是供给工序的一例。由排出部206执行的工序是排出工序的一例。由照射部208执行的工序是照射工序的一例。

以上，在上述本实施方式中起到以下的效果。

在大气压等离子体照射装置10中，边向贮存部184供给被处理液体，边从贮存部184排出被处理液体，向供给到贮存部184的被处理液体照射等离子体。由此，能够连续地生成等离子体处理液体，能够生成大量的等离子体处理液体。

另外，边向贮存部184供给被处理液体，边从贮存部184排出被处理液体，向贮存于贮存部184的被处理液体照射等离子体。由此，能够以给定时间向被处理液体照射等离子体，能够生成发挥治疗效果的均质的活化的等离子体处理液体。

另外，调整供给泵190的每单位时间的供给量和排出泵192的每单位时间的排出量，以贮存被供给到贮存部184的被处理液体。由此，能够使被处理液体以给定时间适当地贮存于贮存部184。

另外，在向贮存于贮存部184的被处理液体照射等离子体时，虽然很少，但被处理液体会蒸发。因此，向贮存部184的每单位时间的供给量被设为比从贮存部184的每单位时间的排出量多。由此，还能够考虑被处理液体的蒸发而使被处理液体适当地贮存于贮存部184。

另外，贮存被处理液体的照射块180配设在密闭的罩壳体22的内部，向载置于该密闭的罩壳体的内部的照射块180供给被处理液体。另外，从载置于密闭的罩壳体的内部的照射块180排出被处理液体。由此，能够适当地向贮存于照射块180的被处理液体进行等离子体照射。

另外，向被供给被处理液之前的照射块180、即空的状态的照射块180照射等离子体。由此，能够通过预热运转后的等离子体产生装置20适当地向被处理液体照射等离子体。

应予说明，本发明不限于上述实施例，能够以基于本领域技术人员的知识实施了各种变更、改良了的各种形态来实施。例如，在上述实施例中，在密闭的罩壳体22的内部向被处理液体照射等离子体，但也可以在开放的空间向被处理液体照射等离子体。另外，在上述实施例中，在大气压下向被处理液体照射等离子体，但也可以在减压下向被处理液体照射等离子体。

另外，在上述实施例中，采用培养液作为被处理液体，但也能够采用培养液以外的液体作为被处理液体。另外，不限于医疗领域，能够将本公开应用于工业领域等各种领域。

符号说明

10：大气压等离子体照射装置(等离子体照射装置)

20：等离子体产生装置

22：罩壳体(壳体)

180：照射块(容器)

190：供给泵(供给装置)

192：排出泵(排出装置)

200：调整部(调整工序)

202：前照射部(前照射工序)

204：供给部(供给工序)

206：排出部(排出工序)

208：照射部(照射工序)。

Claims (7)

1.一种等离子体处理液体制造方法，包括：

供给工序，向容器供给被处理液体；

排出工序，边在所述供给工序中向所述容器供给被处理液体，边从所述容器排出被处理液体；以及

照射工序，向供给到所述容器的被处理液体照射等离子体，

在所述等离子体处理液体制造方法中，通过所述照射工序中的等离子体的照射来制造等离子体处理液体。

2.根据权利要求1所述的等离子体处理液体制造方法，其中，在所述等离子体处理液体制造方法所包括的所述照射工序中，对通过向所述容器供给被处理液体而贮存于所述容器的被处理液体照射等离子体。

3.根据权利要求2所述的等离子体处理液体制造方法，其中，在所述等离子体处理液体制造方法所包括的调整工序中，调整所述供给工序中的被处理液体的每单位时间的供给量和所述排出工序中的被处理液体的每单位时间的排出量，以贮存被供给到所述容器的被处理液体。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的等离子体处理液体制造方法，其中，在所述等离子体处理液体制造方法所包括的所述供给工序中，供给比在所述排出工序中从所述容器排出的被处理液体的排出量多的量的被处理液体。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的等离子体处理液体制造方法，其中，所述等离子体处理液体制造方法包括：

所述供给工序，向载置于密闭的壳体的内部的所述容器供给被处理液体；以及

所述排出工序，从载置于所述密闭的壳体的内部的所述容器排出被处理液体。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的等离子体处理液体制造方法，其中，所述等离子体处理液体制造方法包括前照射工序，在所述前照射工序中，向在所述供给工序中被供给被处理液体之前的所述容器照射等离子体。

7.一种等离子体照射装置，具备：

供给装置，向容器供给被处理液体；

排出装置，边由所述供给装置向所述容器供给被处理液体，边从所述容器排出被处理液体；以及

等离子体产生装置，产生向供给到所述容器的被处理液体进行照射的等离子体。