JP6973976B2 - 抗腫瘍水溶液製造装置 - Google Patents
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Description
図1に、本発明の実施例の大気圧プラズマ照射装置10を示す。大気圧プラズマ照射装置10は、大気圧下でプラズマを原料溶液としての培養液に照射するための装置である。培養液はシャーレ110内に静止状態で保持される。
原料溶液にプラズマを照射することで、原料溶液が活性化して抗腫瘍水溶液が得られる。プラズマ照射は製造条件記憶装置178に記憶された製造条件に従い制御されることで適正にプラズマ照射が為された抗腫瘍水溶液を製造することができる。また、記憶装置175に記憶された製造データを必要なときに利用することができる。
20:プラズマ発生装置
22:カバーハウジング(ハウジング)
26:ステージ(保持部)
28:昇降装置
30:冷却装置
32:パージガス供給機構(雰囲気ガス制御装置)
35:過酸化水素濃度検出機構
38:制御装置
72:噴出口
74:処理ガス供給装置
132:パージガス供給装置
144:酸素検出センサ
147:過酸化水素検出センサ
175:記憶装置
176:情報取得装置
177:判断装置
178:製造条件記憶装置
179:通信装置
A:電子カルテ装置
Claims (7)
- 抗腫瘍作用を有する抗腫瘍水溶液を製造する装置であって、
プラズマ発生空間を区画するハウジングと、
前記抗腫瘍水溶液の原料を溶解した原料溶液を静止状態で前記プラズマ発生空間内に保持する保持部と、
前記保持部に備えられる冷却装置と、
前記プラズマ発生空間内の雰囲気ガスの組成を制御する雰囲気ガス制御装置と、
前記プラズマ発生空間内に所定の組成及び流量に制御した処理ガスを噴出する処理ガス供給装置と、
前記処理ガスに電力を供給して前記保持部内の前記原料溶液の水面上からプラズマを照射するプラズマを前記プラズマ発生空間内に発生するプラズマ発生装置と、
前記保持部と前記冷却装置を昇降させることで前記プラズマ発生装置と前記保持部との間の距離を任意に設定する昇降装置と、
前記雰囲気ガス制御装置、前記処理ガス供給装置、前記プラズマ発生装置及び前記昇降装置を制御する制御装置と、
前記制御装置が有する制御データのうちの少なくとも前記昇降装置の制御データを含む一部を、製造される抗腫瘍水溶液の情報に関連づけられた、特定時の又は経時的な製造データに変換して記憶する記憶装置と、
を有する、抗腫瘍水溶液製造装置。 - 前記制御装置は、前記雰囲気ガスの温度・組成、前記処理ガスの流量・組成、前記原料溶液の量・pH・過酸化水素濃度・特定成分濃度・温度、発生した前記プラズマの照射時間・温度・ラジカル濃度・発光強度・電力供給量・プラズマ形状・前記原料溶液の水面との距離、並びに、前記ハウジング及び/又は前記保持部と前記プラズマ発生装置との相対位置のうちの1つ以上の情報を前記制御データとして取得する情報取得装置をもつ、請求項1に記載の抗腫瘍水溶液製造装置。
- 前記制御装置は、前記製造される抗腫瘍水溶液の種類に応じて適正な製造条件を記憶する製造条件記憶装置をもち、前記制御データと前記製造条件とを比較して制御を行う装置であり、
前記製造条件は、経時的なデータで有り、
前記制御装置は、前記制御データと経時的に比較した差異が許容範囲から外れたかどうかを経時的に判断する判断装置をもつ、請求項1又は2に記載の抗腫瘍水溶液製造装置。 - 前記冷却装置は、前記保持部の前記原料溶液を保持する面方向に沿って、前記保持部の内部を貫通する冷却水路をもつ請求項1〜3の何れか1項に記載の抗腫瘍水溶液製造装置。
- 前記冷却水路に冷却水を循環し且つ冷却する循環装置を有する請求項4に記載の抗腫瘍水溶液製造装置。
- 請求項1乃至請求項5の何れか1項に記載の抗腫瘍水溶液製造装置は、
前記ハウジングに前記昇降装置を挿通するための穴が設けられたことを特徴とする抗腫瘍水溶液製造装置。 - 請求項6に記載の抗腫瘍水溶液製造装置は、
前記制御装置が、前記ハウジングの内部に前記雰囲気ガス制御装置によってガスを供給した後に、前記ハウジングの内部に向かって前記プラズマ発生装置によってプラズマを噴出させるとともに、プラズマが噴出されている際も、前記ハウジングの内部に前記雰囲気ガス制御装置によってガスを供給するように、前記プラズマ発生装置と前記雰囲気ガス制御装置との作動を制御し、
前記ハウジングが上部カバーと下部カバーとを含んで、
前記下部カバーにはダクト口が形成され、
前記ダクト口の下部カバーの上面側の開口は上部カバーの内壁面に向かって傾斜するテーパ面が形成されたことを特徴とする抗腫瘍水溶液製造装置。
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