RU2342989C1 - Плазмохимическая установка для модифицирования поверхности листовых материалов - Google Patents
Плазмохимическая установка для модифицирования поверхности листовых материалов Download PDFInfo
- Publication number
- RU2342989C1 RU2342989C1 RU2007120175/15A RU2007120175A RU2342989C1 RU 2342989 C1 RU2342989 C1 RU 2342989C1 RU 2007120175/15 A RU2007120175/15 A RU 2007120175/15A RU 2007120175 A RU2007120175 A RU 2007120175A RU 2342989 C1 RU2342989 C1 RU 2342989C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- plasma
- sheet
- electrodes
- reactor
- reaction vessel
- Prior art date
Links
- 239000000126 substance Substances 0.000 title claims abstract description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 10
- 238000012986 modification Methods 0.000 title description 7
- 230000004048 modification Effects 0.000 title description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 claims abstract description 3
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims description 9
- 238000005086 pumping Methods 0.000 claims description 5
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 27
- 230000003068 static effect Effects 0.000 abstract description 5
- 101150038956 cup-4 gene Proteins 0.000 abstract 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- -1 Petryanov filters Substances 0.000 description 18
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 15
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 13
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000004566 IR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 229920004936 Lavsan® Polymers 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920005597 polymer membrane Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
Изобретение относится к химической промышленности и может быть использовано для модификации поверхности листовых носителей ультрадисперсных веществ, полимерных мембран, нетканых материалов, бумаги. Плазмохимическая установка содержит металлическую вакуумную камеру 1 с реакционной емкостью из диэлектрического материала, соединенную с откачной системой. Реакционная емкость выполнена в виде цилиндрического стакана 4 с диэлектрической крышкой 5, в нижней части которого имеется отверстие для ввода плазмообразующей среды и вакуумирования емкости. Ввод плазмообразующей среды производится через вертикально расположенную диэлектрическую трубку 6 с отверстиями по ее длине, оканчивающуюся распределителем потока 7, также имеющим отверстия. Электроды 8 представляют собой перфорированные алюминиевые пластины, расположенные по образующей цилиндрического стакана. Предложенное изобретение позволяет эффективно обрабатывать поверхность листовых образцов с большой площадью поверхности, находящихся в статических условиях, при относительно большой степени заполнения объема реакционной камеры. 1 з.п. ф-лы, 2 ил., 5 табл.
Description
Изобретение относится к аппаратурному сопровождению технологических процессов плазмохимического модифицирования поверхности материалов, в частности к модифицированию листовых материалов (листовых носителей ультрадисперсных веществ, полимерных мембран, нетканых материалов типа фильтров Петрянова, бумаги и т.д.).
Модифицирование придает материалам новый комплекс поверхностных свойств.
В настоящее время известны установки для модифицирования поверхностей различных материалов в низкотемпературной плазме тлеющего разряда, в том числе рулонных ([1] RU 2190484, 2002; [2] RU 2016157, 1994), порошкообразных ([3] US 2004149169, 2004; [4] EP 0254424 1988), единичных изделий разной формы и размеров ([5] RU 2070349 1996, [6] RU 1438069, 1994).
Недостатком известных решений является то, что они не позволяют равномерно модифицировать всю поверхность образцов, находящихся в процессе обработки в статических условиях.
Во всех известных установках имеются приспособления, позволяющие перемещать обрабатываемые объекты в процессе обработки, что является необходимым условием равномерного поверхностного модифицирования. Так, в [1, 2] объект (металлическая или диэлектрическая лента) протягивается через зону разряда с помощью лентопротяжного механизма. Порошкообразные объекты [3, 4] обрабатывают в подвижных реакторах (вращение или вибрация). Для равномерной обработки единичных объектов разной формы (кремниевых подложек [5], резинотехнических изделий [6]) в соответствующих установках имеются возможности для вращения изделий.
Наиболее близким к заявляемому изобретению является устройство ([8] RU 2167136, 2001), которое можно рассматривать в качестве прототипа. Устройство по прототипу (реактор) создано для модифицирования порошков. Недостатком реактора по прототипу является то, что он не позволяет получать равномерного модифицирования всей поверхности листовых образцов, находящихся в процессе обработки в статических условиях.
Для проведения процессов поверхностного модифицирования листовых материалов предлагается установка, общий вид которой представлен на фотографии (см. фиг.1), в которой реализована конструкция реактора, отличающаяся от вышеуказанного решения тем, что она позволяет равномерно обрабатывать листовые образцы, находящиеся в статическом положении в процессе плазмохимической обработки.
Установка состоит из четырех блоков: блока реактора, откачной системы, системы напуска плазмообразующих сред и источника возбуждения разряда. Откачная система имеет основную и байпасную линии. Основными элементами откачной системы являются форвакуумный и турбомолекулярный насосы, ловушки, охлаждаемые жидким азотом, запорные вентили, вентили тонкой регулировки потока напускаемой среды, фильтр тонкого улавливания отходящих продуктов реакций. В систему напуска входят резервуары для неполимеризующихся газов и органических полимеризующихся сред, запорные и регулировочные вентили. В качестве источника питания используют либо высоковольтный трансформатор промышленной частоты (50 Гц), либо источник питания частотой 1 кГц.
На фиг.2 схематически представлен один из вариантов основного блока установки - реактора. Реактор объемом около 100 л представляет собой металлическую вакуумную камеру (1), выполненную в виде вертикального стакана, в верхней части которого находится крышка (2), снабженная фланцем с вакуумным уплотнением (3). Внутри вакуумной камеры находится реакционная емкость объемом около 70 л, выполненная из диэлектрического материала. Реакционная емкость представляет собой вертикальный стакан (4) со съемной верхней частью (5). В центре нижней части реакционной емкости имеется отверстие, которое служит для вакуумирования реакционной емкости и формирования потока плазмообразующей среды. Ввод плазмообразующих сред из системы напуска в реакционную емкость осуществляется через вертикально расположенную диэлектрическую трубку (6) с отверстиями по ее длине. Продолжением трубки является распределитель потока (7), выполненный в данном варианте в виде крестовины, также снабженный отверстиями. Трубка с крестовиной обеспечивает равномерное распределение плазмообразующей среды и служит для формирования однородного по плотности потока плазмообразующей среды через весь объем реакционной емкости. Электроды (8), представляющие собой перфорированные алюминиевые пластины, крепятся на внутренней цилиндрической поверхности реакционной емкости. Токоподвод к ним обеспечивается с помощью контактов, соединенных через герметичные и электроизолированные от корпуса вакуумной камеры токовводы (9) с источником питания тлеющего разряда. Реакционная емкость снабжена системой крепления (10) листовых образцов (11). В одном опыте можно обрабатывать от пяти до семи листовых образцов размером до 200×300 мм. Через патрубок (12) вакуумная камера соединяется с откачной системой. Вакуумная камера снабжена датчиками измерения давления (13). Для визуального и инструментального наблюдения вакуумная камера имеет окно (14).
Процесс проводят в проточном режиме, то есть при постоянном потоке плазмообразующей среды через объем реактора. После загрузки образцов в реакционную емкость (то есть после закрепления их в держателе в стационарном состоянии) систему откачивают до давления около 10-4 Торр и затем через систему напуска вводят в реакционную емкость плазмообразующую среду. В течение 3-5 мин реакционную емкость "промывают" рабочей газовой средой при давлении 0.5-1 Торр, после чего переключают вакуумирование на байпасную линию и с помощью двух вентилей тонкой регулировки устанавливают требуемые значения давления и скорости потока плазмообразующей среды. После установления заданного давления и скорости потока плазмообразующего газа на электроды подают напряжение и возбуждают тлеющий разряд. В процессе эксперимента параметры разряда (рабочее давление газовой среды и величину разрядного тока) поддерживают постоянными.
В качестве плазмообразующих сред использовали воздух (неполимеризующаяся газовая среда) и тетрафторэтилен (полимеризующаяся среда).
Эффективность (равномерность) обработки листовых образцов в предлагаемом реакторе оценивали двумя методами. Методом ИК-спектроскопии в варианте МНПВО (спектрофотометр Перкин-Эльмер, модель 580) осуществляли качественную оценку эффективности обработки. Для этого анализировали область валентных колебаний карбонильных групп в области 1700 см-1 в случае обработки воздушной плазмой и область деформационных колебаний C-F связей (700-800 см-1). Количественную оценку эффективности обработки проводили путем измерения равновесных краевых углов смачивания гониометрическим методом в установке, снабженной горизонтальным микроскопом МГ-1. Точность измерения составляет ±1 град.
Сущность изобретения может быть проиллюстрирована конкретными примерами выполнения, реализованными в вышеописанном устройстве.
В качестве объектов обработки служили образцы полиэтиленовой и полиэтилентерефталатной (лавсановой) пленки размером 200×300 мм, толщиной 150-250 мкм. Одновременно обрабатывали пять листов. Оценивали равномерность обработки двух крайних, наиболее близко расположенных к элекродам, листов и листа, расположенного в центре. Измерения проводили в девяти точках (местах) на каждом листе.
В табл.1 приведены результаты определения равновесных краевых углов смачивания полиэтиленовой пленки этиленгликолем после обработки в сравнительно «мягких» условиях.
| Таблица 1 | |||||||||
| Результаты определения равновесных краевых углов смачивания полиэтиленовой пленки этиленгликолем. Условия обработки в реакторе с двумя электродами: воздушная плазма, давление 7×10-2 Торр, скорость потока 8 см3 (НУ)/мин, ток разряда 30 мА, время обработки 3 мин | |||||||||
| Θо, град. | |||||||||
| Крайний левый лист | Центральный лист | Крайний правый лист | |||||||
| Л | Ц | П | Л | Ц | П | Л | Ц | П | |
| Верх | 51 | 53 | 51 | 54 | 54.5 | 54 | 50 | 50 | 51 |
| Центр | 51 | 51 | 52 | 54 | 54.5 | 54 | 50 | 52 | 51 |
| Низ | 50 | 53 | 52 | 53.5 | 54 | 54 | 51 | 51 | 51 |
| Примечания: | |||||||||
| 1. Равновесный краевой угол смачивания необработанной полиэтиленовой пленки этиленгликолем составляет 76 град. | |||||||||
| 2. Л - левый край листа, Ц - центр листа, П - правый край листа. | |||||||||
В табл.2 приведены результаты определения равновесных краевых углов смачивания полиэтиленовой пленки этиленгликолем после обработки в сравнительно «жестких» условиях.
| Таблица 2 | |||||||||
| Результаты определения равновесных краевых углов смачивания полиэтиленовой пленки этиленгликолем. Условия обработки в реакторе с двумя электродами: воздушная плазма, давление 8×10-2 Торр, скорость потока 5 см3 (НУ)/мин, ток разряда 50 мА, время обработки 15 мин | |||||||||
| Θo, град. | |||||||||
| Крайний левый лист | Центральный лист | Крайний правый лист | |||||||
| Л | Ц | П | Л | Ц | П | Л | Ц | П | |
| Верх | 20 | 20 | 20 | 20 | 20.5 | 19.5 | 20 | 19.5 | 19.5 |
| Центр | 19.5 | 21.5 | 21.5 | 21 | 21.5 | 21 | 20 | 20 | 20 |
| Низ | 20 | 19.5 | 20.5 | 20 | 21 | 20 | 19.5 | 19.5 | 19.5 |
| Примечания: 1. Равновесный краевой угол смачивания необработанной полиэтиленовой пленки этиленгликолем составляет 76 град. |
|||||||||
| 2. Л - левый край листа, Ц - центр листа, П - правый край листа. | |||||||||
В табл.3 приведены результаты определения равновесных краевых углов смачивания полиэтиленовой пленки этиленгликолем после обработки при сравнительно «жестких» условиях в реакторе с четырьмя парами электродов, то есть восемью секциями.
| Таблица 3 | |||||||||
| Результаты определения равновесных краевых углов смачивания полиэтиленовой пленки этиленгликолем. Условия обработки в реакционной емкости (реакторе) с четырьмя парами электродов: воздушная плазма, давление 8×10-2 Торр, скорость потока 5 см3 (НУ)/мин, ток разряда 50 мА, время обработки 15 мин | |||||||||
| Θо, град. | |||||||||
| Крайний левый лист | Центральный лист | Крайний правый лист | |||||||
| Л | Ц | П | Л | Ц | П | Л | Ц | П | |
| Верх | 20 | 20 | 20 | 20 | 20 | 19.5 | 20 | 20 | 19.5 |
| Центр | 20 | 20 | 20 | 20 | 20.5 | 20 | 20 | 20 | 20 |
| Низ | 20 | 20.5 | 20 | 20 | 20 | 20 | 19.5 | 20 | 20 |
| Примечания: | |||||||||
| 1. Равновесный краевой угол смачивания необработанной полиэтиленовой пленки этиленгликолем составляет 76 град. | |||||||||
| 2. Л - левый край листа, Ц - центр листа, П - правый край листа. | |||||||||
Обработка полиэтиленовой пленки в реакционной емкости (реакторе) с тремя парами электродов (т.е. шестью секциями) приводит к результатам, близким к показанным в табл.3.
В табл.4 приведены результаты определения равновесных краевых углов смачивания полиэтилентерефталатной пленки водой после обработки в реакционной емкости с двумя электродами (двумя секциями).
| Таблица 4 | |||||||||
| Результаты определения равновесных краевых углов смачивания полиэтилентерефталатной пленки водой. Условия обработки в реакторе с двумя электродами: воздушная плазма, давление 1×10-1 Торр, скорость потока 4 см3 НУ)/мин, ток разряда 30 мА, время обработки 2 мин | |||||||||
| Θо, град. | |||||||||
| Крайний левый лист | Центральный лист | Крайний правый лист | |||||||
| Л | Ц | П | Л | Ц | П | Л | Ц | П | |
| Верх | 33 | 33 | 33 | 33.5 | 33.5 | 33.5 | 33 | 34 | 33 |
| Центр | 33.5 | 34 | 33 | 34 | 35.5 | 34 | 33 | 34 | 33.5 |
| Низ | 33 | 33 | 33 | 33.5 | 33.5 | 34 | 33 | 34 | 33 |
| Примечания: | |||||||||
| 1. Равновесный краевой угол смачивания необработанной полиэтилентерефталатной пленки водой составляет 67 град. | |||||||||
| 2. Л - левый край листа, Ц - центр листа, П - правый край листа. | |||||||||
В табл.5 приведены результаты определения равновесных краевых углов смачивания полиэтиленовой пленки этиленгликолем. Пленка обработана в реакторе с двумя парами электродов, в качестве плазмообразующей среды использован тетрафторэтилен.
| Таблица 5 | |||||||||
| Результаты определения равновесных краевых углов смачивания полиэтиленовой пленки водой. Условия обработки в реакторе с двумя парами электродов: плазма в тетрафторэтилене, давление 2×10-1 Торр, скорость потока 3 см3 НУ)/мин, ток разряда 30 мА, время обработки 20 мин | |||||||||
| Θо, град. | |||||||||
| Крайний левый лист | Центральный лист | Крайний правый лист | |||||||
| Л | Ц | П | Л | Ц | П | Л | Ц | П | |
| Верх | 88 | 89 | 88 | 90 | 90 | 90 | 88 | 90 | 89 |
| Центр | 90 | 91 | 90 | 90.5 | 91.5 | 91 | 90 | 91 | 90 |
| Низ | 88 | 89 | 90 | 90 | 90 | 90 | 89 | 89 | 89 |
| Примечания: | |||||||||
| 1. Равновесный краевой угол смачивания необработанной полиэтиленовой пленки водой составляет 79 град. | |||||||||
| 2. Л - левый край листа, Ц - центр листа, П - правый край листа. | |||||||||
Приведенные примеры показывают, что равномерность обработки не менее пяти листовых образцов при загрузке их в реакционную камеру с двумя электродами и описанной схемой организации потока плазмообразующей среды через реакционную зону составляет 90-92% (соответственно, отклонение от равномерности - 8-10%). Этот показатель является вполне удовлетворительным для решения многих задач модифицирования поверхности листовых материалов. При увеличении числа пар электродов до 3-4 равномерность обработки повышается до 95-96%.
Таким образом, предлагаемая плазмохимическая установка позволяет эффективно обрабатывать поверхность листовых образцов с большой площадью поверхности, находящихся в статических условиях, при относительно большой степени заполнения объема реакционной емкости.
Claims (2)
1. Плазмохимическая установка для модифицирования поверхности листовых материалов, содержащая металлическую вакуумную камеру с реакционной емкостью из диэлектрического материала, соединенную с откачной системой, с внутренними электродами и токоподводами к ним, систему подачи плазмообразующей среды через соответствующие отверстия, источник возбуждения тлеющего разряда, отличающаяся тем, что реакционная емкость выполнена в виде вертикального цилиндрического стакана с диэлектрической крышкой, в нижней части которого имеется отверстие для ввода плазмообразующей среды и вакуумирования емкости, ввод плазмообразующей среды производится через вертикально расположенную диэлектрическую трубку с отверстиями по ее длине, оканчивающуюся распределителем потока, также имеющим отверстия, электроды представляют собой перфорированные алюминиевые пластины, расположенные по образующей цилиндрического стакана.
2. Установка по п.1, отличающаяся тем, что электроды выполнены в виде одной, двух, трех или четырех пар.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2007120175/15A RU2342989C1 (ru) | 2007-05-31 | 2007-05-31 | Плазмохимическая установка для модифицирования поверхности листовых материалов |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2007120175/15A RU2342989C1 (ru) | 2007-05-31 | 2007-05-31 | Плазмохимическая установка для модифицирования поверхности листовых материалов |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2342989C1 true RU2342989C1 (ru) | 2009-01-10 |
Family
ID=40374120
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2007120175/15A RU2342989C1 (ru) | 2007-05-31 | 2007-05-31 | Плазмохимическая установка для модифицирования поверхности листовых материалов |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2342989C1 (ru) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU202920U1 (ru) * | 2020-11-16 | 2021-03-15 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский государственный университет" (СПбГУ) | Устройство для получения органических тонкопленочных покрытий в вакууме |
| RU2751348C2 (ru) * | 2019-12-19 | 2021-07-13 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Восточно-Сибирский государственный университет технологий и управления" | Установка для модификации поверхности полимеров в низкотемпературной плазме тлеющего разряда |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2016157C1 (ru) * | 1989-10-12 | 1994-07-15 | Ивановский научно-исследовательский экспериментально-конструкторский машиностроительный институт | Способ обработки волокнистого материала и устройство для обработки волокнистого материала |
| RU2070349C1 (ru) * | 1992-11-23 | 1996-12-10 | Московский институт электронной техники | Реактор для обработки подложек в плазме свч-тлеющего разряда |
| RU2190484C1 (ru) * | 2001-06-04 | 2002-10-10 | Бугров Глеб Эльмирович | Способ плазменного осаждения полимерных покрытий и способ генерации плазмы |
| JP2004031511A (ja) * | 2002-06-24 | 2004-01-29 | Ulvac Japan Ltd | 大気圧下での基板の連続処理装置及び方法 |
| US6841202B1 (en) * | 1998-07-31 | 2005-01-11 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Forderung | Device and method for the vacuum plasma processing of objects |
-
2007
- 2007-05-31 RU RU2007120175/15A patent/RU2342989C1/ru not_active IP Right Cessation
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2016157C1 (ru) * | 1989-10-12 | 1994-07-15 | Ивановский научно-исследовательский экспериментально-конструкторский машиностроительный институт | Способ обработки волокнистого материала и устройство для обработки волокнистого материала |
| RU2070349C1 (ru) * | 1992-11-23 | 1996-12-10 | Московский институт электронной техники | Реактор для обработки подложек в плазме свч-тлеющего разряда |
| US6841202B1 (en) * | 1998-07-31 | 2005-01-11 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Forderung | Device and method for the vacuum plasma processing of objects |
| RU2190484C1 (ru) * | 2001-06-04 | 2002-10-10 | Бугров Глеб Эльмирович | Способ плазменного осаждения полимерных покрытий и способ генерации плазмы |
| JP2004031511A (ja) * | 2002-06-24 | 2004-01-29 | Ulvac Japan Ltd | 大気圧下での基板の連続処理装置及び方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2751348C2 (ru) * | 2019-12-19 | 2021-07-13 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Восточно-Сибирский государственный университет технологий и управления" | Установка для модификации поверхности полимеров в низкотемпературной плазме тлеющего разряда |
| RU202920U1 (ru) * | 2020-11-16 | 2021-03-15 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский государственный университет" (СПбГУ) | Устройство для получения органических тонкопленочных покрытий в вакууме |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20090084409A1 (en) | Cleaning apparatus, cleaning system using cleaning apparatus, cleaning method of substrate-to-be-cleaned | |
| TWI431148B (zh) | A plasma processing device and an electrode used in the device | |
| US20100009098A1 (en) | Atmospheric pressure plasma electrode | |
| WO2005050723A1 (ja) | プラズマ成膜装置及びプラズマ成膜方法 | |
| KR20100119726A (ko) | 플라즈마 처리 장치 및 플라즈마 처리 방법 | |
| WO2019090890A1 (zh) | 溶液气泡去除装置及涂布机 | |
| RU2342989C1 (ru) | Плазмохимическая установка для модифицирования поверхности листовых материалов | |
| CN114226360A (zh) | 一种电镜样品和样品杆预处理装置 | |
| KR101489041B1 (ko) | 혼합 산 세정 어셈블리 | |
| KR101606729B1 (ko) | 홀을 갖는 대상물을 세정하는 장치 | |
| CN1303125A (zh) | 供应液体原材料的方法及设备 | |
| KR102651036B1 (ko) | 입자 생성 감소를 위한 가스 확산기 지지 구조 | |
| CN218291089U (zh) | 一种含有液体供给系统的镀膜设备 | |
| CN114072539A (zh) | 镀膜设备和应用 | |
| JP2022035213A (ja) | ガスシールタンク、シールガス供給方法、超純水製造装置及び超純水製造方法 | |
| JPH10237657A (ja) | プラズマ処理装置 | |
| CN216614842U (zh) | 一种原子层沉积设备的快速沉积腔室 | |
| JP4772215B2 (ja) | 常圧プラズマ処理装置 | |
| CN115094385A (zh) | 一种含有液体供给系统的镀膜设备和镀膜方法 | |
| EP1548149A1 (en) | Method for forming thin film, apparatus for forming thin film, and method for monitoring thin film forming process | |
| KR102303066B1 (ko) | 챔버 내부의 유동을 확산시키는 것에 의한 더 낮은 입자 수 및 더 양호한 웨이퍼 품질을 위한 효과적이고 새로운 설계 | |
| KR100506259B1 (ko) | 액정표시장치의 제조장치 | |
| CN202601553U (zh) | 对柔性材料表面改性的卷对卷式辉光放电发生装置 | |
| CN2718777Y (zh) | 下游电浆的改良反应器 | |
| JP2671220B2 (ja) | プラズマ処理−重合装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20090601 |
|
| NF4A | Reinstatement of patent |
Effective date: 20120727 |
|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20140601 |