CN118019387A - 显示面板、显示装置及显示面板的制备方法 - Google Patents

Abstract

本申请实施例提供一种显示面板、显示装置及显示面板的制备方法，其中，显示面板包括显示基板、像素单元和薄膜封装层，其中，像素单元设置于显示基板的一侧，像素单元包括沿背离显示基板的方向依次设置的第一电极层、像素界定层、有机发光层和第二电极层；显示基板上设置有相连通的第一开孔和第二开孔，第一开孔位于开孔区，第二开孔位于第一开孔的靠近像素界定层的一侧，第二开孔的一部分区域位于开孔区且另一部分区域位于过渡区，第二开孔隔断有机发光层且隔断第二电极层，第二开孔的内径大于第一开孔的内径；薄膜封装层设置于第二电极层的背离显示基板的一侧，薄膜封装层覆盖第二开孔的内壁。本申请实施例的技术方案有效隔绝水氧。

Description

显示面板、显示装置及显示面板的制备方法

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板、显示装置及显示面板的制备方法。

背景技术

随着有机发光二极管(organic light-emitting diode，OLED)显示面板行业的发展，出现了带孔的显示面板。然而，显示面板的有机发光层对水氧非常敏感，在水汽通过开孔入侵的情况下，容易导致有机发光层失效，无法正常显示。

发明内容

本申请实施例提供一种显示面板、显示装置及显示面板的制备方法，以解决或缓解现有技术中的一项或更多项技术问题。

作为本申请实施例的一个方面，本申请实施例提供一种显示面板，具有显示区、开孔区和过渡区，过渡区位于显示区和开孔区之间，显示面板包括显示基板、像素单元和薄膜封装层，其中，像素单元设置于显示基板的一侧，像素单元包括沿背离显示基板的方向依次设置的第一电极层、像素界定层、有机发光层和第二电极层；显示基板上设置有相连通的第一开孔和第二开孔，第一开孔位于开孔区，第二开孔位于第一开孔的靠近像素界定层的一侧，第二开孔的一部分区域位于开孔区且另一部分区域位于过渡区，第二开孔隔断有机发光层且隔断第二电极层，第二开孔的内径大于第一开孔的内径；薄膜封装层设置于第二电极层的背离显示基板的一侧，薄膜封装层覆盖第二开孔的内壁。

在一种实施方式中，显示基板包括柔性基底和薄膜晶体管层，薄膜晶体管层位于柔性基底和像素单元之间；第二开孔包括第一子孔和第二子孔，第一子孔的至少部分由柔性基底限定出，第二子孔位于第一子孔的背离第一开孔的一侧，第一子孔的最大内径大于第二子孔的内径。

在一种实施方式中，显示基板包括第一柔性层、第二柔性层和薄膜晶体管层，第二柔性层位于第一柔性层和薄膜晶体管层之间；其中，第一开孔贯穿第一柔性层的一部分，第二开孔贯穿第一柔性层的另一部分，且第二开孔贯穿第二柔性层。

在一种实施方式中，第一柔性层被第一开孔贯穿的区域在垂直于第一柔性层表面的方向上的尺寸为0.1μm～10μm。

在一种实施方式中，显示基板包括第一柔性层、第二柔性层和薄膜晶体管层，第二柔性层位于第一柔性层和薄膜晶体管层之间；其中，第一开孔贯穿第一柔性层，第二开孔贯穿第二柔性层。

在一种实施方式中，显示基板包括第一柔性层、第二柔性层和薄膜晶体管层，第二柔性层位于第一柔性层和薄膜晶体管层之间；其中，第一开孔贯穿第一柔性层，且第一开孔贯穿第二柔性层的一部分，第二开孔贯穿第二柔性层的另一部分。在一种实施方式中，

在一种实施方式中，第二柔性层被第一开孔贯穿的区域在垂直于第二柔性层表面的方向上的尺寸为0.1μm～10μm。

在一种实施方式中，显示面板还包括：隔离墙，环绕第二开孔设置，且位于过渡区，有机发光层和第二电极层在隔离墙处被隔断；其中，隔离墙的内周面和/或外周面设置有凹槽。

在一种实施方式中，显示基板包括柔性基底以及沿背离柔性基底的方向依次设置的栅极、栅绝缘层、层间介质层和源漏电极层，第一电极层与源漏电极层连接；其中，隔离墙与源漏电极层的材质相同，且隔离墙和源漏电极层通过一次工艺形成。

作为本申请实施例的另一个方面，本申请实施例提供一种显示装置，包括上述任一实施方式的显示面板。

作为本申请实施例的又一个方面，本申请实施例提供一种显示面板的制备方法，包括：提供一显示基板；形成像素单元、薄膜封装层、第一开孔和第二开孔；其中，像素单元设置于显示基板的一侧，像素单元包括沿背离显示基板的方向依次设置的第一电极层、像素界定层、有机发光层和第二电极层；第一开孔和第二开孔相连通，第一开孔位于开孔区，第二开孔位于第一开孔的靠近像素界定层的一侧，第二开孔的一部分区域位于开孔区且另一部分区域位于过渡区，第二开孔隔断有机发光层且隔断第二电极层，第二开孔的内径大于第一开孔的内径；薄膜封装层设置于第二电极层的背离显示基板的一侧，薄膜封装层覆盖第二开孔的内壁。

在一种实施方式中，形成像素单元、薄膜封装层、第一开孔和第二开孔，包括：在显示基板的一侧分别形成第一电极层和像素界定层；形成环形槽；其中，环形槽贯穿显示基板的一部分；在像素界定层的背离显示基板的一侧分别形成有机发光层和第二电极层；其中，环形槽隔断有机发光层且隔断第二电极层；在第二电极层的背离显示基板的一侧形成薄膜封装层；其中，薄膜封装层覆盖环形槽的内壁；在环形槽内对薄膜封装层、第二电极层、有机发光层以及显示基板的另一部分进行切割，以形成第一开孔和第二开孔。

本申请实施例采用上述技术方案可以使薄膜封装层的封装范围更大，起到有效的隔绝水氧通路的作用，从而避免由于外界的水汽、氧气以及其他离子进入有机发光层而导致有机发光层失效，有效延长显示面板的使用寿命。

上述概述仅仅是为了说明书的目的，并不意图以任何方式进行限制。除上述描述的示意性的方面、实施方式和特征之外，通过参考附图和以下的详细描述，本申请进一步的方面、实施方式和特征将会是容易明白的。

附图说明

在附图中，除非另外规定，否则贯穿多个附图相同的附图标记表示相同或相似的部件或元素。这些附图不一定是按照比例绘制的。应该理解，这些附图仅描绘了根据本申请公开的一些实施方式，而不应将其视为是对本申请范围的限制。

图1示出根据本申请实施例的显示面板的结构示意图；

图2示出根据本申请一实施例的显示面板的局部剖面结构示意图；

图3示出图2中圈示的A部的放大图；

图4示出根据本申请一实施例的显示面板的制备工艺图；

图5示出根据本申请另一实施例的显示面板的局部剖面结构示意图；

图6示出根据本申请又一实施例的显示面板的局部剖面结构示意图；

图7示出根据本申请实施例的显示面板的制备方法的流程示意图；

图8示出根据本申请另一实施例的显示面板的制备工艺图；

图9示出根据本申请又一实施例的显示面板的制备工艺图。

附图标记说明：

10：显示面板；10a：显示区；10b：开孔区；10c：过渡区；100：显示基板；110：柔性基底；111：第一柔性层；112：第二柔性层；120：薄膜晶体管层；121：栅极；122：栅绝缘层；123：层间介质层；124：源漏电极层；125：有源层；130：无机层；140：缓冲层；150：第一绝缘层；160：平坦层；210：第一电极层；220：像素界定层；230：有机发光层；240：第二电极层；300：薄膜封装层；310：第一无机膜层；320：第二无机膜层；330：有机膜层；400：第一开孔；500：第二开孔；510：第一子孔；520：第二子孔；600：隔离墙；610：第一隔离部；620：第二隔离部；630：第三隔离部；700：阻挡层；800：保护层；900：环形槽。

具体实施方式

在下文中，仅简单地描述了某些示例性实施例。正如本领域技术人员可认识到的那样，在不脱离本申请的精神或范围的情况下，可通过各种不同方式修改所描述的实施例。因此，附图和描述被认为本质上是示例性的而非限制性的。

下面结合图1-图6描述根据本申请第一方面实施例的显示面板。图1示出根据本申请实施例的显示面板的结构示意图。如图1所示，显示面板10可以具有显示区10a、开孔区10b和过渡区10c。过渡区10c位于显示区10a和开孔区10b之间。过渡区10c至少部分环绕开孔区10b设置。

图2示出根据本申请一实施例的显示面板的局部剖面结构示意图；图3示出图2中圈示的A部的放大图。如图1-图3所示，该显示面板10包括显示基板100、像素单元和薄膜封装层300。示例性地，为了便于后续在显示面板10的各区域加工所需部件，可以先在显示基板100上定义出各区域，例如，可以在显示基板100上划分出显示区10a、开孔区10b和过渡区10c。

其中，像素单元设置于显示基板100的一侧，像素单元包括沿背离显示基板100的方向依次设置的第一电极层210、像素界定层220、有机发光层230和第二电极层240。其中，第一电极层210和第二电极层240中的其中一个为阳极，第一电极层210和第二电极层240中的另一个为阴极。阳极和阴极用于给有机发光层230提供电场，使有机发光层230在电场的作用下发光。

示例性地，阳极可以为氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)等材料制作而成；有机发光层230可以包括小分子有机材料或聚合物分子有机材料，可以为荧光发光材料或磷光发光材料，可以发红光、绿光、蓝光，或可以发白光等；阴极可以为锂(Li)、铝(Al)、镁(Mg)、银(Ag)等金属材料制作而成。

示例性地，像素界定层220上可以开设有多个开口，第一电极层210可以通过对应的开口暴露。有机发光层230至少部分位于开口内且覆盖第一电极层210。第二电极层240覆盖有机发光层230和像素界定层220。

薄膜封装层300设置于第二电极层240的背离显示基板100的一侧。例如，薄膜封装层300可以包括第一无机膜层310、有机膜层330和第二无机膜层320，有机膜层330设于第一无机膜层310和第二无机膜层320之间。其中，第一无机膜层310和第二无机膜层320可以通过化学气相沉积法制备。有机膜层330可以通过喷墨打印(Ink Jet Printing，IJP)设备打印墨水，经流平和固化之后形成。显示面板10还可以包括阻挡层700，以阻挡墨水的流动，防止墨水超出第一无机膜层310的包裹范围。

显示基板100上设置有相连通的第一开孔400和第二开孔500，第一开孔400位于开孔区10b，第二开孔500位于第一开孔400的靠近像素界定层220的一侧，第二开孔500的一部分区域位于开孔区10b且另一部分区域位于过渡区10c，第二开孔500隔断有机发光层230且隔断第二电极层240，第二开孔500的内径大于第一开孔400的内径。薄膜封装层300覆盖第二开孔500的内壁。

图4示出根据本申请一实施例的显示面板10的制备工艺图。示例性地，制备时，结合图4，首先可以在刚性衬底如玻璃(图未示出)上形成显示基板100。显示基板100可以包括在背离玻璃衬底的方向上依次设置的第一柔性层111、无机层130、第二柔性层112、缓冲层140、有源层125、第一绝缘层150、栅极121、栅绝缘层122、层间介质层123和源漏电极层124。其中，源漏电极层124可以包括第一极和第二极。第一极和第二极中的其中一个为源电极，第一极和第二极中的另一个为漏电极。第一电极层210与第一极连接。然后在源漏电极层124的背离玻璃衬底的一侧依次形成平坦层160、第一电极层210和像素界定层220。再然后形成环形槽900；其中，环形槽900贯穿层间介质层123、栅绝缘层122、第一绝缘层150、缓冲层140、第二柔性层112、无机层130和部分第一柔性层111。之后在像素界定层220的背离显示基板100的一侧分别形成有机发光层230、第二电极层240和薄膜封装层300；其中，环形槽900隔断有机发光层230且隔断第二电极层240，且薄膜封装层300覆盖环形槽900的内壁。最后在环形槽900内对薄膜封装层300、第二电极层240、有机发光层230以及显示基板100的另一部分进行切割，并将第一柔性层111从玻璃衬底上剥离，以形成第一开孔400和第二开孔500，最终得到显示面板10。

例如，参照图4，可以采用采用激光切割工艺对薄膜封装层300、第二电极层240、有机发光层230以及显示基板100的另一部分进行切割。激光切割线在玻璃衬底上的正投影为圆形。显示基板100中经激光切割形成的表面为第一开孔400的内壁。切割后的环形槽900的内壁可以限定出第二开孔500。第一开孔400的内壁垂直于第一柔性层111的表面，且第一开孔400和第二开孔500同轴设置，第一开孔400的内壁连接于第二开孔500的内壁。

根据本申请实施例的显示面板10，通过设置第一开孔400和第二开孔500，且薄膜封装层300覆盖第二开孔500的内壁，薄膜封装层300的封装范围更大，起到有效的隔绝水氧通路的作用，从而避免由于外界的水汽、氧气以及其他离子进入有机发光层230而导致有机发光层230失效，有效延长显示面板10的使用寿命。

在一种实施方式中，如图2和图3所示，显示基板100可以包括柔性基底110和薄膜晶体管层120，薄膜晶体管层120位于柔性基底110和像素单元之间。第二开孔500包括第一子孔510和第二子孔520，第一子孔510的至少部分由柔性基底110限定出，第二子孔520位于第一子孔510的背离第一开孔400的一侧，第一子孔510的最大内径大于第二子孔520的内径。

例如，在图2和图3的示例中，显示基板100包括在背离玻璃衬底的方向上依次设置的第一柔性层111、无机层130、第二柔性层112、缓冲层140、有源层125、第一绝缘层150、栅极121、栅绝缘层122、层间介质层123和源漏电极层124。柔性基底110包括第一柔性层111和第二柔性层112。薄膜晶体管层120包括有源层125、第一绝缘层150、栅极121、栅绝缘层122、层间介质层123和源漏电极层124。第一子孔510由第一柔性层111的一部分、无机层130以及第二柔性层112共同限定出。第二子孔520由缓冲层140、第一绝缘层150、栅绝缘层122和层间介质层123共同限定出。第一开孔400由第一柔性层111的另一部分限定出。其中，第二子孔520的内壁垂直于第一柔性层111的表面。第一子孔510与第一柔性层111相对应的区域的内径在背离无机层130的方向上逐渐减小，且第一子孔510与第一柔性层111相对应区域的最大内径等于第一子孔510与第二柔性层112相对应区域的最大内径。

本实施例中，通过使第一子孔510的最大内径大于第二子孔520的内径，第一子孔510在与柔性基底110相对应的区域可以形成凹槽结构，使薄膜封装层300与柔性基底110的咬合更加紧密，从而提升显示面板10的长期可靠性，同时可以进一步增大薄膜封装层300的封装范围，起到有效的隔绝水氧通路的作用，从而避免外界的水汽、氧气以及其他离子进入有机发光层230。

在一种实施方式中，参照图2和图3，显示基板100包括第一柔性层111、第二柔性层112和薄膜晶体管层120，第二柔性层112位于第一柔性层111和薄膜晶体管层120之间；其中，第一开孔400贯穿第一柔性层111的一部分，第二开孔500贯穿第一柔性层111的另一部分，且第二开孔500贯穿第二柔性层112。例如，在图2和图3的示例中，第一开孔400贯穿第一柔性层111的下部。第二开孔500贯穿第一柔性层111的上部、无机层130、第二柔性层112、缓冲层140、第一绝缘层150、栅绝缘层122以及层间介质层123。

本实施例中，第二开孔500可以延伸至第一柔性层111，使得第二开孔500的内壁在垂直于第一柔性层111的方向上的尺寸较大，从而可以进一步增大薄膜封装层300的封装范围，避免外界的水汽、氧气以及其他离子进入有机发光层230。

在一种实施方式中，第一柔性层111被第一开孔400贯穿的区域在垂直于第一柔性层111表面的方向上的尺寸可以为0.1μm～10μm(包括端点值)。由此，由于在制备过程中显示基板100形成于刚性衬底，制备完成后需要将显示基板100从刚性基底上剥离，通过使第一柔性层111被第一开孔400贯穿的区域在垂直于第一柔性层111表面的方向上的尺寸为0.1μm～10μm，可以避免在剥离过程中应力不均，从而可以避免显示基板100断裂，有效提升显示面板10的制备可靠性。

图5示出根据本申请另一实施例的显示面板10的局部剖面结构示意图。在一种实施方式中，如图5所示，显示基板100包括第一柔性层111、第二柔性层112和薄膜晶体管层120，第二柔性层112位于第一柔性层111和薄膜晶体管层120之间；其中，第一开孔400贯穿第一柔性层111，第二开孔500贯穿第二柔性层112。本实施例中，相较于图2和图3所示实施例，第一开孔400在垂直于第一柔性层111表面方向上的尺寸更大，第二开孔500在垂直于第一柔性层111表面方向上的尺寸更小，第二开孔500未延伸至第一柔性层111，从而更加便于显示基板100的剥离，避免产生应力不均。

图6示出根据本申请又一实施例的显示面板10的局部剖面结构示意图。在一种实施方式中，如图6所示，显示基板100包括第一柔性层111、第二柔性层112和薄膜晶体管层120，第二柔性层112位于第一柔性层111和薄膜晶体管层120之间；其中，第一开孔400贯穿第一柔性层111，且第一开孔400贯穿第二柔性层112的一部分，第二开孔500贯穿第二柔性层112的另一部分。由此，相较于上述图5所示实施例，第一开孔400在垂直于第一柔性层111表面方向上的尺寸更大，第二开孔500在垂直于第一柔性层111表面方向上的尺寸更小，由于第一开孔400位于开孔区10b，进一步方便制备过程中显示基板100的剥离，提升显示面板10的制备可靠性。可选地，第二柔性层112被第一开孔400贯穿的区域在垂直于第二柔性层112表面的方向上的尺寸可以为0.1μm～10μm(包括端点值)，但不限于此。

在一种实施方式中，如图1-图3所示，显示面板10还可以包括隔离墙600，隔离墙600环绕第二开孔500设置，且位于过渡区10c，有机发光层230和第二电极层240在隔离墙600处被隔断；其中，隔离墙600的内周面和/或外周面设置有凹槽。示例性地，隔离墙600的外表面上可以设置有保护层800。隔离墙600可以包括在背离柔性基底110的方向上依次设置的第一隔离部610、第二隔离部620和第三隔离部630，第一隔离部610的顶面，第二隔离部620的内周面和/或外周面以及第三隔离部630的底面可以共同限定出凹槽。例如，参照图3，隔离墙600的内周面和外周面可以均设置有凹槽，使其纵截面呈工字形。隔离墙600可以为间隔设置的多个。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上。

本实施例中，通过使隔离墙600的内周面和/或外周面设置有凹槽，有机发光层230和第二电极层240在凹槽处可以被断开，从开孔区10b进入的水汽和氧气无法继续向显示区10a的有机发光层230继续延伸，从而可以提升显示面板10的显示可靠性。

在一种实施方式中，显示基板100包括柔性基底110以及沿背离柔性基底110的方向依次设置的栅极121、栅绝缘层122、层间介质层123和源漏电极层124，第一电极层210与源漏电极层124连接；其中，隔离墙600与源漏电极层124的材质相同，且隔离墙600和源漏电极层124通过一次工艺形成。其中，上述“工艺”可以包括光刻胶的涂布、曝光、显影、刻蚀、光刻胶的剥离等步骤。“一次工艺”指的是在同一工艺制程中形成隔离墙600和源漏电极层124，此时隔离墙600和源漏电极层124可以采用同一掩膜版形成。

例如，在形成层间介质层123后，可以在层间介质层123的背离柔性基底110的一侧形成金属层。然后对金属层进行图案化，形成第一极、第二极和隔离墙600。其中，隔离墙600、第一极和第二极可以采用金属材料或合金材料制作而成，例如由钼、铝及钛等形成的金属单层或多层结构。其中，在隔离墙600、第一极和第二极为多层结构时，该多层结构可以为多金属层叠层，例如钛、铝、钛(Ti/Al/Ti)三层金属叠层；或钼、铝、钼(Mo/Al/Mo)三层金属叠层等。

本实施例中，隔离墙600与源漏电极层124可以利用同一掩膜版形成，隔离墙600的工艺制程更加简单，节省一次工艺，从而可以提升显示面板10的制备效率，降低显示面板10的制备成本。

根据本申请第二方面实施例的显示装置，包括上述任一实施方式的显示面板10。示例性地，显示装置可以为电子纸、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

根据本申请实施例的显示装置，通过采用上述的显示面板10，避免由于外界的水氧进入显示区的有机发光层而导致有机发光层失效，有效延长显示面板的使用寿命，从而提升显示装置的可靠性。

本申请还提供了一种显示面板的制备方法。图7示出根据本申请实施例的显示面板的制备方法的流程示意图。如图7所示，该制备方法包括：

步骤S701：提供一显示基板；

步骤S702：形成像素单元、薄膜封装层、第一开孔和第二开孔；其中，像素单元设置于显示基板的一侧，像素单元包括沿背离显示基板的方向依次设置的第一电极层、像素界定层、有机发光层和第二电极层；第一开孔和第二开孔相连通，第一开孔位于开孔区，第二开孔位于第一开孔的靠近像素界定层的一侧，第二开孔的一部分区域位于开孔区且另一部分区域位于过渡区，第二开孔隔断有机发光层且隔断第二电极层，第二开孔的内径大于第一开孔的内径；薄膜封装层设置于第二电极层的背离显示基板的一侧，薄膜封装层覆盖第二开孔的内壁。

示例性地，第一电极层和第二电极层中的其中一个为阳极，第一电极层和第二电极层中的另一个为阴极。阳极和阴极用于给有机发光层提供电场，使有机发光层在电场的作用下发光。阳极可以为ITO、IZO、ZnO等材料制备而成；有机发光层可以包括小分子有机材料或聚合物分子有机材料，可以为荧光发光材料或磷光发光材料，可以发红光、绿光、蓝光，或可以发白光等；阴极可以为Li、Al、Mg、Ag等金属材料制作而成。

示例性地，像素界定层上可以开设有多个开口，第一电极层可以通过对应的开口暴露。有机发光层均位于开口内且覆盖第一电极层。第二电极层覆盖有机发光层和像素界定层。

例如，薄膜封装层可以包括第一无机膜层、有机膜层和第二无机膜层，有机膜层设于第一无机膜层和第二无机膜层之间。其中，第一无机膜层和第二无机膜层可以通过化学气相沉积法制备。有机膜层可以通过喷墨打印设备打印墨水，经流平和固化之后形成。显示面板还可以包括阻挡层，以阻挡墨水的流动，防止墨水超出第一无机膜层的包裹范围。

根据本申请实施例的显示面板的制备方法，制备出的显示面板的封装范围更大，起到有效的隔绝水氧通路的作用，从而避免由于外界的水汽、氧气以及其他离子进入有机发光层而导致有机发光层失效，有效延长显示面板的使用寿命。

在一种实施方式中，在步骤S702中，形成像素单元、薄膜封装层、第一开孔和第二开孔，可以包括：在显示基板的一侧分别形成第一电极层和像素界定层；形成环形槽；其中，环形槽贯穿显示基板的一部分；在像素界定层的背离显示基板的一侧分别形成有机发光层和第二电极层；其中，环形槽隔断有机发光层且隔断第二电极层；在第二电极层的背离显示基板的一侧形成薄膜封装层；其中，薄膜封装层覆盖环形槽的内壁；在环形槽内对薄膜封装层、第二电极层、有机发光层以及显示基板的另一部分进行切割，以形成第一开孔和第二开孔。

例如，可以采用激光切割工艺对薄膜封装层、第二电极层、有机发光层以及显示基板的另一部分进行切割。在图4的示例中，第一开孔400贯穿第一柔性层111的一部分，第二开孔500贯穿第一柔性层111的另一部分，且第二开孔500贯穿第二柔性层112。制备时，在环形槽900内对薄膜封装层300、第二电极层240、有机发光层230以及第一柔性层111的一部分进行切割。在图8的示例中，第一开孔400贯穿第一柔性层111，第二开孔500贯穿第二柔性层112。制备时，在环形槽900内对薄膜封装层300、第二电极层240、有机发光层230以及第一柔性层111进行切割。在图9的示例中，第一开孔400贯穿第一柔性层111，且第一开孔400贯穿第二柔性层112的一部分，第二开孔500贯穿第二柔性层112的另一部分。制备时，在环形槽900内对薄膜封装层300、第二电极层240、有机发光层230、第二柔性层112的一部分以及第一柔性层111进行切割。其中，环形槽900可以采用光刻工艺形成。

本实施例中，可以在环形槽内对薄膜封装层、第二电极层、有机发光层以及显示基板的另一部分进行切割，相较于相关技术中直接切割显示基板的方式，可以避免无机膜层(如缓冲层、第一绝缘层、栅绝缘层和层间介质层)产生裂纹，且可以避免有机膜层碳化，从而避免损失开孔边缘，有效提升信赖性。

上述实施例的显示面板100和显示装置的其他构成可以采用于本领域普通技术人员现在和未来知悉的各种技术方案，这里不再详细描述。

在本说明书的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者多个该特征。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接，还可以是通信；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

上文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，上文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。

以上所述，仅为本申请的具体实施方式，但本申请的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本申请揭露的技术范围内，可轻易想到其各种变化或替换，这些都应涵盖在本申请的保护范围之内。因此，本申请的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (12)

1.一种显示面板，其特征在于，具有显示区、开孔区和过渡区，所述过渡区位于所述显示区和所述开孔区之间，所述显示面板包括显示基板、像素单元和薄膜封装层，其中，

所述像素单元设置于所述显示基板的一侧，所述像素单元包括沿背离所述显示基板的方向依次设置的第一电极层、像素界定层、有机发光层和第二电极层；

所述显示基板上设置有相连通的第一开孔和第二开孔，所述第一开孔位于所述开孔区，所述第二开孔位于所述第一开孔的靠近所述像素界定层的一侧，所述第二开孔的一部分区域位于所述开孔区且另一部分区域位于所述过渡区，所述第二开孔隔断所述有机发光层且隔断所述第二电极层，所述第二开孔的内径大于所述第一开孔的内径；

所述薄膜封装层设置于所述第二电极层的背离所述显示基板的一侧，所述薄膜封装层覆盖所述第二开孔的内壁。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示基板包括柔性基底和薄膜晶体管层，所述薄膜晶体管层位于所述柔性基底和所述像素单元之间；所述第二开孔包括第一子孔和第二子孔，所述第一子孔的至少部分由所述柔性基底限定出，所述第二子孔位于所述第一子孔的背离所述第一开孔的一侧，所述第一子孔的最大内径大于所述第二子孔的内径。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示基板包括第一柔性层、第二柔性层和薄膜晶体管层，所述第二柔性层位于所述第一柔性层和所述薄膜晶体管层之间；其中，所述第一开孔贯穿所述第一柔性层的一部分，所述第二开孔贯穿所述第一柔性层的另一部分，且所述第二开孔贯穿所述第二柔性层。

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第一柔性层被所述第一开孔贯穿的区域在垂直于所述第一柔性层表面的方向上的尺寸为0.1μm～10μm。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示基板包括第一柔性层、第二柔性层和薄膜晶体管层，所述第二柔性层位于所述第一柔性层和所述薄膜晶体管层之间；其中，所述第一开孔贯穿所述第一柔性层，所述第二开孔贯穿所述第二柔性层。

6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示基板包括第一柔性层、第二柔性层和薄膜晶体管层，所述第二柔性层位于所述第一柔性层和所述薄膜晶体管层之间；其中，所述第一开孔贯穿所述第一柔性层，且所述第一开孔贯穿所述第二柔性层的一部分，所述第二开孔贯穿所述第二柔性层的另一部分。

7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述第二柔性层被所述第一开孔贯穿的区域在垂直于所述第二柔性层表面的方向上的尺寸为0.1μm～10μm。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的显示面板，其特征在于，还包括：

隔离墙，环绕所述第二开孔设置，且位于所述过渡区，所述有机发光层和所述第二电极层在所述隔离墙处被隔断；其中，所述隔离墙的内周面和/或外周面设置有凹槽。

9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述显示基板包括柔性基底以及沿背离所述柔性基底的方向依次设置的栅极、栅绝缘层、层间介质层和源漏电极层，所述第一电极层与所述源漏电极层连接；其中，所述隔离墙与所述源漏电极层的材质相同，且所述隔离墙和所述源漏电极层通过一次工艺形成。

10.一种显示装置，其特征在于，包括根据权利要求1-9中任一项所述的显示面板。

11.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：

提供一显示基板；

形成像素单元、薄膜封装层、第一开孔和第二开孔；其中，所述像素单元设置于所述显示基板的一侧，所述像素单元包括沿背离所述显示基板的方向依次设置的第一电极层、像素界定层、有机发光层和第二电极层；所述第一开孔和所述第二开孔相连通，所述第一开孔位于开孔区，所述第二开孔位于所述第一开孔的靠近所述像素界定层的一侧，所述第二开孔的一部分区域位于所述开孔区且另一部分区域位于过渡区，所述第二开孔隔断所述有机发光层且隔断所述第二电极层，所述第二开孔的内径大于所述第一开孔的内径；所述薄膜封装层设置于所述第二电极层的背离所述显示基板的一侧，所述薄膜封装层覆盖所述第二开孔的内壁。

12.根据权利要求11所述的制备方法，其特征在于，形成像素单元、薄膜封装层、第一开孔和第二开孔，包括：

在所述显示基板的一侧分别形成第一电极层和像素界定层；

形成环形槽；其中，所述环形槽贯穿所述显示基板的一部分；

在所述像素界定层的背离所述显示基板的一侧分别形成有机发光层和第二电极层；其中，所述环形槽隔断所述有机发光层且隔断所述第二电极层；

在所述第二电极层的背离所述显示基板的一侧形成薄膜封装层；其中，所述薄膜封装层覆盖所述环形槽的内壁；

在所述环形槽内对所述薄膜封装层、所述第二电极层、所述有机发光层以及所述显示基板的另一部分进行切割，以形成第一开孔和第二开孔。