CN118019397A - 显示面板、显示设备及显示面板的检测方法 - Google Patents

显示面板、显示设备及显示面板的检测方法 Download PDF

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CN118019397A CN202410153930.4A CN202410153930A CN118019397A CN 118019397 A CN118019397 A CN 118019397A CN 202410153930 A CN202410153930 A CN 202410153930A CN 118019397 A CN118019397 A CN 118019397A
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付焕章
齐超
彭建波
张翱
曾传鹏
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Abstract

本发明涉及显示面板,具体提供一种显示面板、显示设备及显示面板的检测方法。为此目的,本发明提供的显示面板包括衬底、隔离结构、第一发光元件和走线;衬底上设置开孔区、围绕开孔区的显示区以及在开孔区和显示区之间的隔离区;隔离结构设置在隔离区中,用于阻隔水氧从开孔区进入显示区;第一发光元件设置在隔离区中;走线用于向第一发光元件供电。通过走线向第一发光元件供电后,能够根据第一发光元件的发光情况能够判断水氧是否侵入隔离区。若第一发光元件出现显示暗点,则说明水氧侵入隔离区,很有可能继续向显示区蔓延;若第一发光元件未出现显示暗点,则说明水氧未侵入隔离区。

Description

显示面板、显示设备及显示面板的检测方法
技术领域
本发明涉及显示面板,具体提供一种显示面板、显示设备及显示面板的检测方法。
背景技术
当下全面屏成为发展趋势,为了提高屏占比,许多显示产品在显示区内设置开孔区,将摄像头等传感器放在开孔区的下方,以减小屏幕边框,提高占屏比。
水氧容易从开孔区逐渐侵入显示区,显示区内设置有电致发光材料,在受到水氧侵入的情况下容易失效,从而使得显示区内出现显示暗点等不良问题。而目前还难以有效地检测水氧是否从开孔区侵入显示面板,通常都是在显示区出现显示暗点的情况下才能够发现水氧侵入显示面板。
发明内容
本发明旨在解决现有技术的问题,提供一种显示面板、显示设备及显示面板的检测方法。
在第一方面,本发明提供一种显示面板,包括:衬底;设置在所述衬底上的开孔区、围绕所述开孔区的显示区以及在所述开孔区和所述显示区之间的隔离区;隔离结构,设置在所述隔离区中,用于阻隔水氧从所述开孔区进入所述显示区;第一发光元件,设置在所述隔离区中;以及走线,用于向所述第一发光元件供电。
在一些示例性实施方式中,第一发光元件包括:第一阳极,其中所述第一阳极为围绕所述开孔区的一体环状结构;设置在所述第一阳极上的第一发光层;以及设置在所述发光材料上的第一阴极。
在一些示例性实施方式中,所述第一发光元件包括:第一阳极,其中所述第一阳极为多个彼此间隔的点状结构,所述点状结构整体以环状形式围绕所述开孔区;设置在所述第一阳极上的第一发光层,其中所述第一发光层包括红色发光材料、绿色发光材料以及蓝色发光材料,分别设置在对应的所述第一阳极远离所述衬底的一侧;以及位于所述第一发光层远离所述衬底一侧的第一阴极。
在一些示例性实施方式中,所述隔离结构设置多个,多个所述隔离结构彼此间隔;所述第一发光元件设置多个,多个所述第一发光元件分别设置在相邻的所述隔离结构之间。
在一些示例性实施方式中,所述隔离结构为隔离柱;或者,所述隔离结构为隔离坝;或者,所述隔离结构包括隔离柱和隔离坝。
在一些示例性实施方式中,所述显示区包括栅极;所述走线与所述栅极同层设置。
在一些示例性实施方式中,显示面板还包括:位于所述隔离结构所在层和走线所在层之间的介质层;所述第一阳极位于所述介质层远离衬底的一侧,其中所述第一阳极通过所述介质层中的过孔与对应的走线电连接。
在第二方面,本发明提供一种显示设备,包括上述的显示面板。
在第三方面,本发明提供一种显示面板的制备方法,包括,在衬底上形成开孔区、围绕所述开孔区的显示区以及在所述开孔区和所述显示区之间的隔离区;在所述隔离区内形成隔离结构和第一发光元件,其中所述隔离结构用于阻隔水氧从所述开孔区进入所述显示区;形成走线,用于向所述第一发光元件供电。
在第四方面,本发明提供一种显示面板的检测方法,包括:通过所述走线向所述第一发光元件供电;基于所述第一发光元件的发光情况判断所述显示面板是否存在水氧侵入。
在一些示例性的实施方式中,所述隔离结构设置多个,多个所述隔离结构彼此间隔,所述第一发光元件设置多个,多个所述第一发光元件分别设置在相邻的隔离结构之间;所述显示面板的检测方法还包括:基于不发光的所述第一发光元件距离所述显示区的位置判断水氧侵入的程度。
与现有技术相比,本发明具有以下有益效果:
本发明提供的显示面板包括衬底、隔离结构、第一发光元件和走线;衬底上设置开孔区、围绕开孔区的显示区以及在开孔区和显示区之间的隔离区;隔离结构设置在隔离区中,用于阻隔水氧从开孔区进入显示区;第一发光元件设置在隔离区中;走线用于向第一发光元件供电。通过走线向第一发光元件供电后,能够根据第一发光元件的发光情况能够判断水氧是否侵入隔离区。若第一发光元件出现显示暗点,则说明水氧侵入隔离区,很有可能继续向显示区蔓延;若第一发光元件未出现显示暗点,则说明水氧未侵入隔离区。
附图说明
下面结合附图来描述本发明的优选实施方式,附图中:
图1是本公开至少一实施例提供的显示面板的平面示意图;
图2A是本公开至少一实施例提供的显示面板中隔离区的第一种平面示意图;
图2B是图2A中显示面板沿A-A线的截面图;
图3A是本公开至少一实施例提供的显示面板中隔离区的第二种平面示意图;
图3B是图3A中显示面板沿A-A线的第一种截面图;
图3C是图3A中显示面板沿A-A线的第二种截面图;
图3D是图3A中局部的平面示意图;
图4A是图1中显示面板沿B-B线的第一种剖面图;
图4B是图1中显示面板沿C-C线的第一种剖面图;
图5A是图1中显示面板沿B-B线的第二种剖面图;
图5B是图1中显示面板沿C-C线的第二种剖面图;
图6A-图6H为本公开至少一实施例提供的一种显示面板在制备过程中的截面示意图。
附图标记说明:
AA、显示区;8、子像素;9、像素驱动电路;1、衬底;11、阻挡层;12、缓冲层;2、开孔区;3、隔离区;31、隔离结构;311、隔离柱;3111、第一金属膜层;3112、第一绝缘膜层;3113、第二金属膜层;312、隔离坝;32、走线;321、第一走线;322、第二走线;323、第三走线;33、第一阳极;34、第一发光层;35、第一阴极;36、介质层;37、第一像素界定层;4、薄膜晶体管;41、有源层;42、栅极;43、栅绝缘层;431、第一栅绝缘层;432、第二栅绝缘层;44、间绝缘层;45、源漏电极层;46、底栅;5、存储电容;51、第一极板;52、第二极板;61、平坦层;62、第二像素界定层;63、隔垫物;64、第二阳极;65、第二发光层;66、第二阴极;7、封装层。
具体实施方式
下面参照附图来描述本发明的优选实施方式。本领域技术人员应当理解的是,这些实施方式仅仅用于解释本发明的技术原理,并非旨在限制本发明的保护范围。
需要说明的是,在本发明的描述中,术语“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”等指示的方向或位置关系的术语是基于附图所示的方向或位置关系,这仅仅是为了便于描述,而不是指示或暗示所述装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
此外,还需要说明的是,在本发明的描述中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“设置”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,还可以是两个元件内部的连通。对于本领域技术人员而言,可根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
在对本公开实施例提供的显示面板、显示设备及显示面板制造方法进行详细说明之前,有必要对于相关技术进行以下说明。
显示面板包括衬底,衬底包括显示区和非显示区。为了提升显示区的占屏比,在显示区内设置开孔区和隔离区,隔离区围绕开孔区设置,显示区围绕隔离区设置。通过将摄像头等传感器放在开孔区的下方,以减小屏幕边框(即,非显示区宽度),提高占屏比。
显示区内设置有有机发光材料,有机发光材料一旦接触水氧就会失效,导致显示区出现显示暗点等不良。
申请人发现,在一些情况下,水氧仍然有可能从开孔区经隔离区向显示区侵入,而水氧的侵入难以提前检测,直至水氧从开孔区经隔离区侵入显示区后才能有所察觉。
为了解决上述技术问题,本公开实施例提供一种显示面板、显示装置及显示面板的制备方法,能够检测水氧是否从开孔区处侵入显示面板。
图1是本公开至少一实施例提供的显示面板的平面示意图;
图2A是本公开至少一实施例提供的显示面板中隔离区的第一种平面示意图。
如图1和图2A所示,本公开实施例提供的显示面板包括衬底,衬底包括显示区AA、开孔区2和隔离区3,隔离区3和显示区AA均围绕开孔区2,隔离区3位于开孔区2和显示区AA之间。隔离区3设置有隔离结构31、走线32和第一发光元件EL1,隔离结构31用于阻隔水氧从开孔区2进入显示区AA,走线32用于向第一发光元件EL1供电。
第一发光元件EL1设置在隔离结构31靠近和/或远离显示区AA的一侧。隔离区3内如果遭受到水氧侵入,被水氧侵入部位的第一发光元件EL1会失效而不能发光。通过走线32向第一发光元件EL1供电,根据第一发光元件EL1的发光情况能够判断水氧是否侵入隔离区3。例如,通过走线32向第一发光元件EL1供电后,第一发光元件EL1出现显示暗点,则说明水氧侵入隔离区3,很有可能继续向显示区AA蔓延;例如,通过走线32向第一发光元件EL1供电后,第一发光元件EL1未出现显示暗点,则说明水氧未侵入隔离区3。
图2B是图2A中显示面板沿A-A线的截面图。
例如,如图2B所示,第一发光元件EL1包括依次设置在衬底1显示侧的第一阳极33、第一发光层34和第一阴极35,走线32用于向第一阳极33供电,使位于第一阳极33和第一阴极35之间的第一发光层34发光。例如,第一阴极35在隔离区3内整面设置。
在一些实施方式中,如图2B所示,第一阳极33为围绕开孔区2的一体环状结构,以简化第一阳极33所在层的构图。
图3A是本公开至少一实施例提供的显示面板中隔离区的第二种平面示意图;图3B是图3A中显示面板沿A-A线的第一种截面图;
图3D是图3A中局部的平面示意图。
在另一些实施方式中,如图3A、3B和3D所示,第一阳极33为多个彼此间隔的点状结构,该点状结构整体以环状形式围绕开孔区2。第一发光层34包括红色发光材料、绿色发光材料和蓝色发光材料,三种颜色的发光材料设置在对应的第一阳极33上。相应的,如图3C所示,走线32包括第一走线321、第二走线322和第三走线323,分别与对应红色发光材料、绿色发光材料和蓝色发光材料的第一阳极33电连接,即,第一走线321与对应红色发光材料的第一阳极33电连接以单独驱动红色发光材料发光,第二走线322与对应绿色发光材料的第一阳极33电连接以单独驱动绿色发光材料发光,第三走线323与对应蓝色发光材料的第一阳极33电连接以单独驱动蓝色发光材料发光。例如,红色发光材料、绿色发光材料和蓝色发光材料为不同的发光材料。例如,红色发光材料、绿色发光材料和蓝色发光材料的基材相同,通过在基材上注入不同的类型的离子以发出红光、绿光或蓝光。
在一些示例中,如图3B所示,第一发光层34在隔离区3的至少部分区域内连续设置。例如,第一发光层34在相邻的隔离结构31之间连续设置。例如,第一发光层34在隔离区3内整面设置。例如,第一发光层34在跨越至少部分隔离结构31的方向上连续设置,在隔离结构31延伸的方向上间隔设置。
在一些示例中,如图3C所示,隔离区3设置有第一像素界定层37,第一发光层34通过像素界定的方式被划分为多个彼此间隔的区域,每个区域的第一发光层34均对应第一阳极33。
图4A是图1或者图2A中显示面板沿B-B线的第一种剖面图,图4B是图1中显示面板沿C-C线的第一种剖面图。
在一些示例中,如图4A和图4B所示,隔离结构31设置多个,多个隔离结构31彼此间隔。第一发光元件EL1设置多个,多个第一发光元件EL1分别设置在相邻的隔离结构31之间。在隔离结构31的隔离作用下,能够降低水氧侵入第一发光元件EL1所在区域的可能性。同时,一旦水氧从开孔区2侵入隔离区3,通过多个第一发光元件EL1的发光情况能够判断出水氧侵入的程度。
例如,隔离结构31包括隔离柱311;或者,隔离结构31包括隔离坝312;或者,隔离结构31包括隔离柱311和隔离坝312。其中,隔离柱311位于隔离坝312靠近和/或远离显示区AA的一侧。隔离柱311用于隔断开孔区2在切割处的水氧向显示区AA侵入。隔离坝312用以阻隔有机封装材料,避免有机封装材料溢出,同时也能够阻挡水汽向显示区AA侵入。例如,隔离柱311位于隔离坝312靠近开孔区2的一侧以及远离开孔区2的一侧中的至少一处。
例如,如图4A所示,隔离区3还包括介质层36,介质层36位于隔离结构31所在层和走线32所在层之间,第一阳极33位于介质层36远离衬底1的一侧。第一阳极33通过介质层36中的过孔与对应的走线32电连接。
如图1和图4A所示,显示区AA内设置有像素阵列,像素阵列包括多个子像素8。子像素8包括像素驱动电路9和第二发光元件EL2,像素驱动电路9被配置为驱动第二发光元件EL2发光。
如图4B所示,像素驱动电路9包括薄膜晶体管4和存储电容5等结构。薄膜晶体管4包括依次设置在衬底1上的有源层41、栅极42、栅绝缘层43(例如包括第一栅绝缘层431和第二栅绝缘层432)、层间绝缘层44和源漏电极层45。存储电容5包括第一极板51和第二极板52。其中,第一极板51与栅极42同层设置,第二极板52位于栅绝缘层43与层间绝缘层44之间。例如,源漏电极层45包括源电极S和漏电极D。
本发明公开的实施例中,两个或更多个功能层同层设置指的是这些同层设置的功能层可以采用相同的材料层并利用相同制备工艺(例如构图工艺等)形成,从而可以简化显示面板的制备工艺。
例如,显示面板的显示区AA还包括平坦层61、第二像素界定层62以及隔垫物63。平坦层61用于平坦化薄膜晶体管4,第二像素界定层62在平坦层61远离薄膜晶体管4的一侧,第二像素界定层62用于界定多个子像素8。隔垫物63在第二像素界定层62远离平坦层61的一侧。例如,显示区AA中每个子像素8包括的第二发光元件EL2包括第二阳极64、第二发光层65以及第二阴极66。第二阳极64通过平坦层61中的过孔连接到薄膜晶体管4的漏电极D。例如,第二阴极66在衬底1上整面形成。例如,第二阳极64与第二发光层65之间以及第二阴极66与第二发光层65之间还可以包括有助于第二发光层65发光的辅助发光层(图中未示出),例如包括电子传输层、电子注入层、空穴传输层以及空穴注入层中的一种或多种。辅助发光层例如为有机材料层。例如,辅助发光层也可以在衬底1上整面形成。
在一些示例中,第一阴极35和第二阴极66同时形成在显示区AA和隔离区3,以此简化显示面板的制备工艺。类似地,第一阳极33和第二阳极64可以同层设置,第一发光层34和第二发光层65可以同层设置,走线32与栅极42可以同层设置,第一像素界定层37和第二像素界定层62可以同层设置,以简化显示面板的制备工艺。
例如,显示面板还可以包括封装层7,封装层7可以包括无机封装层/有机封装层/无机封装层三层叠层结构,用于封装显示区AA。
在一些示例中,显示面板还可以包括设置在衬底1上的阻挡层11和缓冲层12,阻挡层11可以防止水氧等杂质从衬底1渗入到薄膜晶体管4等功能结构中,缓冲层12可以提供平坦的表面,以便于显示面板其他功能层的设置。阻挡层11和缓冲层12可以共同对衬底1上的其他功能结构起到保护作用。
图5A是图1中显示面板沿B-B线的第二种剖面图,图5B是图1中显示面板沿C-C线的第二种剖面图。
例如,如图5B所示,薄膜晶体管4还包括底栅46,底栅46位于有源层41下方,例如阻挡层11和缓冲层12之间。
在一些示例中,如图5A和图5B所示,隔离柱311包括依次堆叠于衬底1上的多层金属膜层及绝缘膜层。例如,隔离柱311包括依次设置于衬底1显示侧的走线32层、介质层36和第一金属膜层3111,其中,走线32层与栅极42同层设置,介质层36与层间绝缘层44和第二栅绝缘层432中的至少一个同层设置,第一金属膜层3111与源漏电极层45同层设置。又例如,隔离柱311还包括位于走线32层与衬底1之间的第二金属膜层3113和第一绝缘膜层3112,第一绝缘膜层3112位于走线32层和第二金属膜层3113之间,其中,第二金属膜层3113与底栅46同层设置,第一绝缘膜层3112与缓冲层12和第一栅绝缘层431中的至少一个同层设置。
例如,隔离坝312与平坦层61和第二像素界定层62中的至少一个同层设置。
本公开至少一实施例还提供一种显示面板的制备方法,该制备方法可以制备上述显示面板。该制备方法包括:在衬底上形成开孔区、围绕开孔区的显示区以及在开孔区和显示区之间的隔离区;在隔离区内形成隔离结构和第一发光元件,其中隔离结构用于阻隔水氧从开孔区进入显示区;形成走线,用于向第一发光元件供电。
下面,以形成图3A、图3C、图5A和图5B所示的显示面板为例,对本公开实施例提供的显示面板的制备方法进行介绍。
图6A-图6H为本公开至少一实施例提供的一种显示面板在制备过程中的截面示意图。
首先,提供衬底1,例如,当显示面板为柔性显示面板时,所提供的衬底1可以为聚酰亚胺(PI)等柔性基板,当显示面板为刚性基板时,衬底1可以为玻璃、石英等刚性基板。
例如,如图6A和图6B所示,可以通过沉积等方法在衬底1上形成阻挡层11;采用构图工艺在阻挡层11上同时形成底栅46和第二金属膜层3113;在底栅46和第二金属膜层3113上通过沉积等方法同时形成缓冲层12和第一绝缘膜层3112的一部分。例如,阻挡层11可以整面形成在衬底1上,缓冲层12和第一绝缘膜层3112的一部分也可以整面同时形成在衬底1上。例如,阻挡层11可以采用氧化硅、氮化硅、或者氮氧化硅等无机绝缘材料,缓冲层12也可以采用氧化硅、氮化硅、或者氮氧化硅等无机绝缘材料。
例如,在阻挡层11和缓冲层12形成之后,如图6C和图6D所示,在显示区AA形成薄膜晶体管4以及存储电容5等结构,在隔离区3内形成走线32和隔离柱。
例如,如图6C和图6D所示,采用构图工艺在衬底1上形成有源层41;在有源层41上通过沉积等方式形成第一栅绝缘层431和第一绝缘膜层3112的一部分;在第一栅绝缘层431上采用构图工艺同时形成栅极42、第一极板51和走线32;在栅极42、第一极板51和走线32上通过沉积等方式同时形成第二栅绝缘层432和介质层36的一部分;采用构图工艺同时形成第二极板52;在第二极板52上采用沉积等方式同时形成层间绝缘层44和介质层36的一部分;然后,刻蚀栅绝缘层43以及层间绝缘层44以形成暴露有源层41的过孔。例如,一次构图工艺包括光刻胶的形成、曝光、显影以及刻蚀等工艺。
此时,走线32与栅极42同层形成,介质层36与第二栅绝缘层432和层间绝缘层44同层形成,第一绝缘层与缓冲层12和第一栅绝缘层431同层形成,第二金属膜层3113与底栅46同层形成。由此,简化了显示面板的制备工艺。
例如,栅极42、第一极板51和走线32的材料包括铝、钛、钴等金属或者合金材料。在制备时,首先采用溅射或者蒸镀等方式形成一层栅极42材料层,然后对栅极42材料层进行构图工艺,以形成图案化的栅极42、第一极板51以及走线32。同层形成的其他结构的形成方式与此类似,因此不再赘述。
例如,有源层41可以采用多晶硅和金属氧化物等材料,栅绝缘层43可以采用氧化硅、氮化硅或者氮氧化硅等无机绝缘材料,第二极板52可以采用铝、钛、钴等金属或者合金材料,层间绝缘层44可以采用氧化硅、氮化硅或者氮氧化硅等无机绝缘材料。本公开的实施例对各功能层的材料不做限定,各功能层的材料并不局限于上述示例。
如图6E和图6F所示,在层间绝缘层44中的过孔形成后,形成源漏电极层45和第一金属膜层3111,由此简化了显示面板的制备工艺。
例如,源漏电极层45可以形成为多层金属结构,例如三层金属结构。例如,在一个示例中,可以采用溅射或者蒸镀等方式依次形成钛材料层、铝材料层以及钛材料层,然后采用同一次构图工艺对三个材料层进行构图,从而形成构成源电极S和漏电极D的钛/铝/钛三层金属结构。
例如,通过构图工艺形成平坦层61和隔离坝的一部分。例如,平坦层61的材料可以采用聚酰亚胺、环氧树脂等有机绝缘材料。
例如,如图6G和图6H,在形成平坦层61后,在平坦层61和介质层36中形成过孔,之后采用构图工艺同时形成第一阳极33和第二阳极64,第一阳极33通过过孔与走线32电连接,第二阳极64通过该过孔与漏电极D电连接。例如,第一阳极33和第二阳极64的材料包括ITO、IZO等金属氧化物或者Ag、Al、Mo等金属或其合金。
例如,如图5A和图5B,通过构图工艺形成第一像素界定层37(见图3C)、第二像素界定层62和隔离坝312的一部分。第一像素界定层37中具有暴露第一阳极33的开口,第二像素界定层62中具有暴露第二阳极64的开口,以便之后形成第一发光元件EL1的第一发光层34和第一阴极35以及形成第二发光元件EL2的第二发光层65和第二阴极66等结构。例如,第一像素界定层37和第二像素界定层62的材料可以包括聚酰亚胺、环氧树脂等有机绝缘材料。
例如,通过构图工艺形成隔垫物63。隔垫物63的材料包括聚酰亚胺、环氧树脂等有机绝缘材料。
例如,可以通过喷墨打印或者蒸镀等方式在第一像素界定层37的开口中形成第一发光层34,同时在第二像素界定层62的开口中形成第二发光层65,然后同时形成第一阴极35和第二阴极66。例如,第二发光层65与第二阳极64之间或者第二发光层65与第二阴极66之间还可以形成辅助发光层(未示出),辅助发光层例如包括电子注入层、电子传输层、空穴注入层以及空穴传输层中的一种或多种。
例如,第二发光层65的材料和辅助发光层的材料为有机材料,第二发光层65的材料可根据需求选择可发出某一颜色光(例如红光、蓝光或者绿光等)的发光材料。第二阴极66的材料可以包括Mg、Ca、Li或Al等金属或其合金,或者IZO、ZTO等金属氧化物,又或者PEDOT/PSS(聚3,4-乙烯二氧噻吩/聚苯乙烯磺酸盐)等具有导电性能有机材料。
例如,第二发光元件EL2形成后,可以显示面板整面形成封装层7(图中仅在显示区示出)。
本公开至少一实施例还提供一种显示面板的检测方法,该检测方法可以检测显示面板在隔离区3的水氧侵入程度。该检测方法包括:通过走线32向第一发光元件EL1供电,基于第一发光元件EL1的发光情况判断显示面板是否存在水氧侵入。
例如,通过走线32向第一发光元件EL1供电后,位于隔离区3的第一发光元件EL1出现显示暗点,则说明水氧已经从开孔区2侵入隔离区3,并且存在进一步向显示区AA侵入的可能性。例如,通过走线32向第一发光元件EL1供电后,位于隔离区3的第一发光元件EL1显示正常,则说明水氧未侵入隔离区3。
在一些示例中,以图3A所示的结构为例,隔离结构31设置多个,多个隔离结构31彼此间隔;第一发光元件EL1设置多个,多个第一发光元件EL1分别设置在相邻的隔离结构31之间。此时,本公开至少一实施例提供的显示面板的检测方法还包括:基于不发光的第一发光元件EL1距离显示区AA的位置判断水氧侵入的程度。
例如,隔离结构31设置三个,第一发光元件EL1设置两个。例如,通过走线32向全部的第一发光元件EL1供电后,若最靠近显示区AA的第一发光元件EL1出现显示暗点(即,存在不发光的第一发光元件EL1),则水氧侵入隔离区3的程度最为严重。例如,通过走线32向全部的第一发光元件EL1供电后,若仅最靠近开孔区2的第一发光元件EL1出现显示暗点(即,存在不发光的第一发光元件EL1),则水氧侵入隔离区3的程度最轻,水氧仍需要一段时间才有可能侵入显示区AA。
需要说明的是,本公开至少一实施例提供的显示面板的检测方法可以在显示面板出厂前进行检测,也可以在显示面板出厂后使用的过程中进行检测。在出厂前检测显示面板的情况下,若在隔离区3出现水氧侵入的情况,则该显示面板被标记为不合格产品。在出厂后使用的过程中检测的情况下,若在隔离区3出现水氧侵入的情况,用户能够有充足的时间做好准备工作,提前对显示面板进行更换,以免水氧侵入至显示区AA后影响使用。另外,在出厂后使用的过程中检测的情况下,若水氧侵入隔离区3的程度较轻,水氧不会在短时间内侵入显示区AA,此时可以加强对显示面板进行检测的频率,择机对显示面板进行更换。
需要说明的是,本公开至少一实施例提供的显示面板的检测方法可以在显示面板出厂前进行检测,也可以在显示面板出厂后使用的过程中进行检测。在出厂前检测显示面板的情况下,若在隔离区出现水氧侵入的情况,则该显示面板被标记为不合格产品。在出厂后使用的过程中检测的情况下,若在隔离区出现水氧侵入的情况,用户能够有充足的时间做好准备工作,提前对显示面板进行更换,以免水氧侵入至显示区AA后影响使用。另外,在出厂后使用的过程中检测的情况下,若水氧侵入隔离区的程度较轻,水氧不会在短时间内侵入显示区AA,此时可以加强对显示面板进行检测的频率,择机对显示面板进行更换。
本公开至少一实施例还提供一种显示设备,包括上述的显示面板。该显示设备可以为手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件,本公开的实施例对此不做限定。
还有以下几点需要说明:
(1)本公开实施例附图只涉及到与本公开实施例涉及到的结构,其他结构可参考通常设计。
(2)为了清晰起见,在用于描述本公开的实施例的附图中,层或区域的厚度被放大或缩小,即这些附图并非按照实际的比例绘制。可以理解,当诸如层、膜、区域或基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时,该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”或者可以存在中间元件。
(3)在不冲突的情况下,本公开的实施例及实施例中的特征可以相互组合以得到新的实施例。
以上所述,仅为本公开的具体实施方式,但本公开的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本公开揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本公开的保护范围之内。因此,本公开的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (11)

1.一种显示面板,其特征在于,包括:
衬底;
设置在所述衬底上的开孔区、围绕所述开孔区的显示区以及在所述开孔区和所述显示区之间的隔离区;
隔离结构,设置在所述隔离区中,用于阻隔水氧从所述开孔区进入所述显示区;
第一发光元件,设置在所述隔离区中;以及
走线,用于向所述第一发光元件供电。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,第一发光元件包括:
第一阳极,其中所述第一阳极为围绕所述开孔区的一体环状结构;
设置在所述第一阳极上的第一发光层;以及
设置在所述发光材料上的第一阴极。
3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一发光元件包括:
第一阳极,其中所述第一阳极为多个彼此间隔的点状结构,所述点状结构整体以环状形式围绕所述开孔区;
设置在所述第一阳极上的第一发光层,其中所述第一发光层包括红色发光材料、绿色发光材料以及蓝色发光材料,分别设置在对应的所述第一阳极远离所述衬底的一侧;以及
位于所述第一发光层远离所述衬底一侧的第一阴极。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的显示面板,其特征在于,
所述隔离结构设置多个,多个所述隔离结构彼此间隔;
所述第一发光元件设置多个,多个所述第一发光元件分别设置在相邻的所述隔离结构之间。
5.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,
所述隔离结构为隔离柱;或者
所述隔离结构为隔离坝;或者
所述隔离结构包括隔离柱和隔离坝。
6.根据权利要求2或3所述的显示面板,其特征在于,
所述显示区包括栅极;
所述走线与所述栅极同层设置。
7.根据权利要求6所述的显示面板,其特征在于,还包括:
位于所述隔离结构所在层和走线所在层之间的介质层;
所述第一阳极位于所述介质层远离衬底的一侧,其中所述第一阳极通过所述介质层中的过孔与对应的走线电连接。
8.一种显示设备,其特征在于,包括如权利要求1至7中任意一项所述的显示面板。
9.一种显示面板的制备方法,其特征在于,包括,
在衬底上形成开孔区、围绕所述开孔区的显示区以及在所述开孔区和所述显示区之间的隔离区;
在所述隔离区内形成隔离结构和第一发光元件,其中所述隔离结构用于阻隔水氧从所述开孔区进入所述显示区;
形成走线,用于向所述第一发光元件供电。
10.一种如权利要求1至7任意一项所述的显示面板的检测方法,其特征在于,包括:
通过所述走线向所述第一发光元件供电;
基于所述第一发光元件的发光情况判断所述显示面板是否存在水氧侵入。
11.根据权利要求10所述的显示面板的检测方法,其特征在于,
所述隔离结构设置多个,多个所述隔离结构彼此间隔,所述第一发光元件设置多个,多个所述第一发光元件分别设置在相邻的隔离结构之间;
所述显示面板的检测方法还包括:
基于不发光的所述第一发光元件距离所述显示区的位置判断水氧侵入的程度。
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