CN117597613A - 偏振板的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明的目的在于，提供一种能够提高偏振元件与保护膜之间的粘接剂层的耐水性的偏振板的制造方法。本发明提供一种偏振板的制造方法，其具有：粘接剂制备工序，制备用于形成粘接剂层的粘接剂；以及贴合工序，将粘接剂涂布于偏振元件和透明保护膜中的至少一者的表面并将偏振元件与透明保护膜贴合，上述粘接剂制备工序包括：准备工序，得到含有聚乙烯醇系树脂的水溶液A；第1添加工序，向上述水溶液A中添加脲系化合物而得到水溶液B；以及第2添加工序，向上述水溶液B中添加二醛而得到粘接剂，上述贴合工序以向上述水溶液B中添加上述二醛之后的经过时间成为100小时以下的方式进行。

Description

偏振板的制造方法

技术领域

本发明涉及偏振板的制造方法。

背景技术

液晶显示装置(LCD)不仅被用于液晶电视，还被广泛用于个人电脑、移动电话等移动设备、汽车导航等车载用途。通常，液晶显示装置具有在液晶单元的两侧利用粘合剂贴合有偏振板的液晶面板，通过用液晶面板控制来自于背光的光来进行显示。近年来，有机EL显示装置也与液晶显示装置同样地被广泛用于电视、移动电话等移动设备、汽车导航等车载用途。在有机EL显示装置中，为了抑制外部光被金属电极(阴极)反射而被观察为镜面，有时在图像显示面板的观察侧表面配置圆偏振板(包含偏振元件和λ/4板的层叠体)。

在偏振板中，在偏振元件与保护膜的粘接中，从得到良好的粘接性的观点出发，使用聚乙烯醇系树脂粘接剂。在专利文献1(日本特开2009-42383号公报)中记载了通过将聚乙烯醇系树脂和氧锆盐的重量比调整为特定范围的粘接剂，能够提高偏振元件与保护膜之间的粘接性和耐温水性。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2009-42383号公报

发明内容

发明要解决的课题

本发明的目的在于，提供一种在偏振元件与保护膜的贴合中使用包含聚乙烯醇系树脂的粘接剂的偏振板的制造方法，其中，能够提高偏振元件与保护膜之间的粘接剂层的耐水性。

用于解决课题的手段

本发明提供以下例示的偏振板的制造方法。

〔1〕一种偏振板的制造方法，所述偏振板具有偏振元件和透明保护膜，所述偏振元件是使二色性色素在聚乙烯醇系树脂层吸附取向而成的，所述透明保护膜经由粘接剂层层叠于上述偏振元件的至少一个面，

所述偏振板的制造方法具有：

粘接剂制备工序，制备用于形成上述粘接剂层的粘接剂；以及

贴合工序，将上述粘接剂涂布于上述偏振元件和上述透明保护膜中的至少一者的表面并将上述偏振元件与上述透明保护膜贴合，

上述粘接剂制备工序包括：

准备工序，得到含有聚乙烯醇系树脂的水溶液A；

第1添加工序，向上述水溶液A中添加第1化合物而得到水溶液B；以及

第2添加工序，向上述水溶液B中添加第2化合物而得到粘接剂，

上述第1化合物为选自脲、脲衍生物、硫脲和硫脲衍生物中的至少1种，上述第2化合物为二醛，

上述贴合工序以向上述水溶液B中添加上述第2化合物之后的经过时间成为100小时以下的方式进行。

〔2〕一种偏振板的制造方法，所述偏振板具有偏振元件和透明保护膜，所述偏振元件是使二色性色素在聚乙烯醇系树脂层吸附取向而成的，所述透明保护膜经由粘接剂层层叠于上述偏振元件的至少一个面，

所述偏振板的制造方法具有：

粘接剂制备工序，制备用于形成上述粘接剂层的粘接剂；以及

贴合工序，将上述粘接剂涂布于上述偏振元件和上述透明保护膜中的至少一者的表面并将上述偏振元件与上述透明保护膜贴合，

上述粘接剂制备工序包括：

准备工序，得到含有聚乙烯醇系树脂的水溶液A；

第1添加工序，向上述水溶液A中添加第1化合物而得到水溶液B；以及

第2添加工序，向上述水溶液B中添加第2化合物而得到粘接剂，

在上述第1添加工序和上述第2添加工序中的至少一个工序中还添加第3化合物，

上述第1化合物为选自脲、脲衍生物、硫脲和硫脲衍生物中的至少1种，上述第2化合物为二醛，上述第3化合物为二羧酸，

上述贴合工序以向上述水溶液B中添加上述第2化合物之后的经过时间成为200小时以下的方式进行。

〔3〕根据〔1〕或〔2〕中记载的偏振板的制造方法，其中，在上述粘接剂中，相对于上述聚乙烯醇系树脂100质量份，上述第1化合物的含量为0.1质量份以上且400质量份以下。

〔4〕根据〔1〕～〔3〕中任一项记载的偏振板的制造方法，其中，在上述粘接剂中，相对于上述第1化合物1质量份，上述第2化合物的含量为0.03质量份以上且20质量份以下。

〔5〕根据〔1〕～〔4〕中任一项记载的偏振板的制造方法，其中，上述二醛为乙二醛。

〔6〕根据〔2〕中记载的偏振板的制造方法，其中，在上述粘接剂中，相对于上述聚乙烯醇系树脂100质量份，上述第3化合物的含量为0.01质量份以上且400质量份以下。

〔7〕根据〔1〕～〔6〕中任一项记载的偏振板的制造方法，其中，上述粘接剂层的厚度为0.01μm以上且7μm以下。

发明效果

根据本发明的偏振板的制造方法，能够提高偏振元件与保护膜之间的粘接剂层的耐水性。

具体实施方式

以下，对本发明的实施方式进行说明。本发明并不限定于以下的实施方式。

[偏振板的制造方法]

本实施方式的制造方法是具有偏振元件和透明保护膜的偏振板的制造方法，所述偏振元件是使二色性色素在包含聚乙烯醇系树脂(以下，也称为“PVA系树脂”。)的层吸附取向而成的，所述透明保护膜经由粘接剂层层叠于上述偏振元件的至少一个面，所述偏振板的制造方法具有：粘接剂制备工序，制备用于形成上述粘接剂层的粘接剂；以及贴合工序，将上述粘接剂涂布于上述偏振元件和上述透明保护膜中的至少一者的表面并将上述偏振元件与上述透明保护膜贴合。在偏振元件的两面经由粘接剂层贴合有透明保护膜的偏振板的制造方法中，偏振元件两面的粘接剂层中，至少偏振元件单面的粘接剂层、优选偏振元件两面的粘接剂层是使用上述粘接剂层制备工序中制备的粘接剂而形成的。

＜第1方式＞

在本发明的偏振板的制造方法的第1方式中，上述粘接剂制备工序包括：准备工序，得到含有PVA系树脂的水溶液A；第1添加工序，向上述水溶液A中添加第1化合物而得到水溶液B；以及第2添加工序，向上述水溶液B中添加第2化合物而得到粘接剂，上述贴合工序以向上述水溶液B中添加上述第2化合物之后的经过时间(以下，也称为“经过时间T1”。)成为100小时以下的方式进行。通过将经过时间T1设为100小时以下，能够制造具有耐水性高的粘接剂层的偏振板。

(第1化合物)

第1化合物是选自脲、脲衍生物、硫脲和硫脲衍生物中的至少1种。第1化合物可以单独使用1种或组合使用2种以上。第1化合物中有水溶性的化合物和水难溶性的化合物，可以使用任一种第1化合物。在将水难溶性的第1化合物用于水溶性粘接剂的情况下，优选在形成粘接剂层后以不引起雾度上升等的方式来设计分散方法。通过包含第1化合物，能够抑制偏振元件的透射率的降低。推测偏振元件的透射率降低的原因之一是构成偏振元件的PVA系树脂通过脱水而多烯化。推测通过粘接剂层中所含的第1化合物转移至偏振元件而具有抑制多烯化的效果。

(脲衍生物)

脲衍生物是脲分子的4个氢原子中的至少1个被取代基取代了的化合物。在该情况下，取代基没有特别限制，优选为包含碳原子、氢原子和氧原子的取代基。

作为脲衍生物的具体例，作为1取代脲，可举出甲基脲、乙基脲、丙基脲、丁基脲、异丁基脲、N-十八烷基脲、2-羟基乙基脲、羟基脲、乙酰基脲、烯丙基脲、2-丙炔基脲、环己基脲、苯基脲、3-羟基苯基脲、(4-甲氧基苯基)脲、苄基脲、苯甲酰基脲、邻甲苯基脲、对甲苯基脲。

作为2取代脲，可举出1,1-二甲基脲、1,3-二甲基脲、1,1-二乙基脲、1,3-二乙基脲、1,3-二(羟基甲基)脲、1,3-叔丁基脲、1,3-二环己基脲、1,3-二苯基脲、1,3-二(4-甲氧基苯基)脲、1-乙酰基-3-甲基脲、2-咪唑烷酮(乙烯脲)、四氢-2-嘧啶酮(丙烯脲)。

作为4取代脲，可举出四甲基脲、1,1,3,3-四乙基脲、1,1,3,3-四丁基脲、1,3-二甲氧基-1,3-二甲基脲、1,3-二甲基-2-咪唑烷酮、1,3-二甲基-3,4,5,6-四氢-2(1H)-嘧啶酮。

(硫脲衍生物)

硫脲衍生物是硫脲分子的4个氢原子中的至少1个被取代基取代的化合物。在该情况下，对于取代基没有特别限制，优选为包含碳原子、氢原子和氧原子的取代基。

作为硫脲衍生物的具体例，作为1取代硫脲，可举出N-甲基硫脲、乙基硫脲、丙基硫脲、异丙基硫脲、1-丁基硫脲、环己基硫脲、N-乙酰基硫脲、N-烯丙基硫脲、(2-甲氧基乙基)硫脲、N-苯基硫脲、(4-甲氧基苯基)硫脲、N-(2-甲氧基苯基)硫脲、N-(1-萘基)硫脲、(2-吡啶基)硫脲、邻甲苯基硫脲、对甲苯基硫脲。

作为2取代硫脲，可举出1,1-二甲基硫脲、1,3-二甲基硫脲、1,1-二乙基硫脲、1,3-二乙基硫脲、1,3-二丁基硫脲、1,3-二异丙基硫脲、1,3-二环己基硫脲、N,N-二苯基硫脲、N,N’-二苯基硫脲、1,3-二(邻甲苯基)硫脲、1,3-二(对甲苯基)硫脲、1-苄基-3-苯基硫脲、1-甲基-3-苯基硫脲、N-烯丙基-N’-(2-羟基乙基)硫脲、乙烯硫脲。

作为3取代硫脲，可举出三甲基硫脲，作为4取代硫脲，可举出四甲基硫脲、1,1,3,3-四乙基硫脲。

在第1化合物中，在用于层间填充构成的图像显示装置时，从抑制高温环境下的透射率的降低、且偏振度的降低少的方面(抑制正交漏光的方面)考虑，优选脲衍生物或硫脲衍生物，更优选脲衍生物。脲衍生物中，优选为1取代脲或2取代脲，更优选为1取代脲。2取代脲中有1,1-取代脲和1,3-取代脲，更优选1,3-取代脲。

(第2化合物)

第2化合物为二醛。作为第2化合物的二醛可以用作交联剂。作为二醛，例如可举出乙二醛、丙二醛(malondialdehyde)、丁二醛(succinaldehyde)等。特别优选结构简洁且富有反应性的乙二醛。以下，有时对乙二醛进行说明，但作为二醛，如上所述，可以使用以往公知的二醛，并不限定于乙二醛。

＜粘接剂制备工序＞

粘接剂制备工序包括：准备工序，得到含有PVA系树脂的水溶液A；第1添加工序，向上述水溶液A中添加第1化合物而得到水溶液B；以及第2添加工序，向上述水溶液B中添加第2化合物而得到粘接剂。

＜准备工序＞

在准备工序中，向水中添加PVA系树脂并搅拌，得到水溶液A。从粘接性的观点出发，PVA系树脂的平均聚合度优选为100以上且5500以下左右，进一步优选为1000以上且4500以下。从粘接性的观点出发，平均皂化度优选为85摩尔％以上且100摩尔％以下左右，进一步优选为90摩尔％以上且100摩尔％以下。

作为PVA系树脂，优选含有乙酰乙酰基，其理由在于，PVA系树脂层与保护膜的密合性优异，耐久性优异。含乙酰乙酰基的PVA系树脂例如可以通过利用任意的方法使PVA系树脂与双烯酮反应而得到。含乙酰乙酰基的PVA系树脂的乙酰乙酰基改性度代表性地为0.1摩尔％以上，优选为0.1摩尔％以上且20摩尔％以下左右。水溶液A的树脂浓度优选为0.1质量％以上且15质量％以下，进一步优选为0.5质量％以上且10质量％以下。

用于制备水溶液A的水为纯水、超纯水、井水、自来水等，没有特别限制，从保持所形成的粘接剂层的均匀性、透明性的观点出发，优选纯水或超纯水。水溶液A被供于第1添加工序。水溶液A可以在制备后立即供于第1添加工序，或者也可以在保存一段时间后供于第1添加工序。在保存水溶液A的情况下，保存环境优选为温度10℃以上且40℃以下、相对湿度30RH％以上且90RH％以下。保存期间没有特别限定，例如可以保存10分钟以上，可以保存60天以下，优选保存30天以下，进一步优选保存10天以下。

＜第1添加工序＞

在第1添加工序中，向水溶液A中添加第1化合物而得到水溶液B。相对于PVA系树脂100质量份，第1化合物的含量优选为0.1质量份以上且400质量份以下，更优选为1质量份以上且200质量份以下，进一步优选为3质量份以上且100质量份以下。如果小于0.1质量份，则有时在高温环境下的偏振元件的多烯化的抑制效果不充分。另一方面，在超过400质量份的情况下，有时在制作偏振板后第1化合物析出，雾度上升。向水溶液A中添加第1化合物后，优选充分搅拌而得到水溶液B。

＜第2添加工序＞

在第2添加工序中，向水溶液B中添加第2化合物而得到粘接剂。相对于PVA系树脂100质量份，第2化合物的含量优选为1质量份以上且60质量份以下，更优选为1.5质量份以上且50质量份以下，进一步优选为2质量份以上且45质量份以下。如果小于1质量份，则有时耐水性的提高效果不充分。另一方面，在超过60质量份的情况下，有时粘接剂的配液稳定性降低。

在粘接剂中，相对于作为第1化合物的脲系化合物1质量份，作为第2化合物的二醛的含量优选为20质量份以下，更优选为15质量份以下，进一步优选为10质量份以下，下限没有限定，例如为0.03质量份以上。通过使粘接剂中的脲系化合物与二醛的含有比为上述的范围内，从而容易兼顾由脲系化合物带来的耐水性的提高效果和由二醛带来的粘接性的提高效果。可以理解为通过由二醛带来的粘接性的提高效果，从而能够得到耐水性的提高效果。在相对于脲系化合物1质量份包含超过20质量份的二醛的情况下，有时无法充分发挥由脲系化合物带来的高温耐久性的提高效果。粘接剂中的脲系化合物与二醛的含有比以及粘接剂层中的脲系化合物与二醛的含有比可以视为相同。

粘接剂除了PVA系树脂、第1化合物和第2化合物以外还可以包含其他添加剂。作为其他添加剂，可以添加二醛以外的其他交联剂、增塑剂、硅烷偶联剂、抗静电剂、微粒等以往公知的适当的添加剂。其他添加剂的添加时机没有限定，可以在准备工序、第1添加工序、第2添加工序等中添加。

粘接剂可以包含水。水的添加时机没有限定，可以在准备工序、第1添加工序、第2添加工序等中添加水。

粘接剂也可以含有有机溶剂。从与水具有混溶性的观点出发，有机溶剂优选醇类，醇类中，更优选为甲醇或乙醇。在粘接剂含有甲醇的情况下，粘接剂的甲醇的浓度优选为10质量％以上且70质量％以下，更优选为15质量％以上且60质量％以下，进一步优选为20质量％以上且60质量％以下。通过使甲醇的浓度为10质量％以上，从而更容易抑制高温环境下的PVA系树脂的多烯化。另外，通过使甲醇的含有率为70质量％以下，能够抑制色调的变差。脲衍生物的一部分在水中的溶解度低，另一方面，在醇类中的溶解度充分。在该情况下，将脲系化合物溶解于醇类中，制备脲系化合物的醇溶液后，将脲系化合物的醇溶液添加到PVA水溶液中，制备粘接剂也是优选的方式之一。

＜贴合工序＞

在贴合工序中，将在粘接剂制备工序中制备的粘接剂涂布于偏振元件和透明保护膜中的至少一者的表面并将偏振元件与透明保护膜贴合。贴合工序以在粘接剂制备工序的第2添加工序中向水溶液B中添加第2化合物之后的经过时间(以下，也称为“经过时间T1”。)成为100小时以下的方式进行。在贴合工序中，更具体而言，将粘接剂涂布于偏振元件和透明保护膜中的至少一者的表面，经由粘接剂层将偏振元件与透明保护膜贴合，然后使粘接剂层固化或干燥。经过时间T1是指从在第2添加工序中向水溶液B中添加第2化合物起至在贴合工序中经由粘接剂层将偏振元件与透明保护膜贴合为止所经过的时间，不包括为了使粘接剂层干燥所需的时间。通过使经过时间T1为100小时以下，能够得到具有优异的耐水性的粘接剂层。

经过时间T1优选为90小时以下，更优选为80小时以下。对于经过时间T1而言，由于期望在向水溶液B中添加第2化合物后进行充分搅拌，因此例如可以为1分钟以上、5分钟以上、或10分钟以上。

粘接剂的涂布时的厚度可以设定为任意的值，例如可以以在干燥后能够得到具有所期望的厚度的粘接剂层的方式进行设定。由粘接剂构成的粘接剂层的厚度优选为0.01μm以上且7μm以下，更优选为0.01μm以上且5μm以下，进一步优选为0.01μm以上且2μm以下，最优选为0.01μm以上且1μm以下。涂布方法没有特别限定，可以采用辊法、喷雾法、浸渍法等各种方法。

在涂布粘接剂后，利用辊式层压机等将偏振元件与透明保护膜贴合。贴合后进行干燥，形成干燥的粘接剂层。干燥温度例如为5～150℃，优选为30～120℃，干燥时间例如为120秒以上，优选为300秒以上。

粘接剂制备工序、涂布粘接剂的工序、将偏振元件与透明保护膜贴合的工序中，优选对温度进行管理，例如优选在20～50℃的范围内进行管理。通过管理温度，能够进一步提高粘接剂层的耐水性。

在偏振元件的两面经由粘接剂层贴合有透明保护膜的构成中，偏振元件两面的粘接剂层中，关于偏振元件单面的粘接剂剂层，可以使用与通过上述粘接剂制备工序制备的粘接剂不同的其他粘接剂来形成。作为其他粘接剂，可例示活性能量射线固化型粘接剂。

(活性能量射线固化型粘接剂)

活性能量射线固化型粘接剂是通过照射紫外线等活性能量射线而固化的粘接剂，例如可举出包含聚合性化合物和光聚合性引发剂的粘接剂、包含光反应性树脂的粘接剂、包含粘结剂树脂和光反应性交联剂的粘接剂等。作为聚合性化合物，可举出光固化性环氧系单体、光固化性丙烯酸系单体、光固化性氨基甲酸酯系单体等光聚合性单体、以及来自于这些单体的低聚物等。作为上述光聚合引发剂，可举出包含因照射紫外线等活性能量射线而产生中性自由基、阴离子自由基、阳离子自由基之类的活性种的物质的化合物。

＜偏振板＞

偏振板具有偏振元件和透明保护膜，所述偏振元件是使二色性色素在聚乙烯醇系树脂层吸附取向而成的，所述透明保护膜经由粘接剂层而层叠于上述偏振元件的至少一个面。偏振板可以是调整了含水率的偏振板，优选具有下述(a)和(b)中的至少一者的特征。

(a)偏振元件的含水率为温度20℃、相对湿度30％的平衡含水率以上且温度20℃、相对湿度70％的平衡含水率以下。

(b)偏振板的含水率为温度20℃、相对湿度30％的平衡含水率以上且温度20℃、相对湿度70％的平衡含水率以下。

＜偏振元件＞

作为使二色性色素在包含PVA系树脂的层(以下，也称为“PVA系树脂层”。)吸附取向而成的偏振元件，可以使用公知的偏振元件。作为偏振元件，可举出通过将PVA系树脂膜用二色性色素染色并进行单轴拉伸而得到的拉伸膜；通过使用具有在基材膜上涂布包含PVA系树脂的涂布液而形成的涂布层的层叠膜，将涂布层用二色性色素染色并将层叠膜进行单轴拉伸而得到的拉伸层。拉伸可以在用二色性色素染色后进行，也可以一边染色一边拉伸，还可以在拉伸后进行染色。

PVA系树脂是通过将聚乙酸乙烯酯系树脂皂化而得到的。作为聚乙酸乙烯酯系树脂，除了作为乙酸乙烯酯的均聚物的聚乙酸乙烯酯以外，还可举出乙酸乙烯酯和能够与其共聚的其他单体的共聚物。作为能够共聚的其他单体，例如可举出不饱和羧酸类、乙烯等烯烃类、乙烯基醚类、不饱和磺酸类等。

PVA系树脂层优选由硼吸附率为5.70质量％以上的PVA系树脂形成。即，实施染色、拉伸前的原料阶段中的PVA系树脂的硼吸附率为5.70质量％以上。通过使用这样的PVA系树脂，例如即使在暴露于温度105℃的高温环境下时，透射率也不易降低。另外，PVA系树脂的硼吸附率优选为10质量％以下。通过使用这样的PVA系树脂来制作偏振元件，从而不会使硼酸处理槽中的硼酸浓度为高浓度，另外也能够缩短硼酸处理的处理时间，容易得到所期望的偏振元件，还能够提高偏振元件的生产率。如果PVA系树脂的硼吸附率为10质量％以下，则硼适量进入PVA系树脂层，容易减小偏振元件的收缩力。其结果，在组装于图像显示装置时，不易产生在前面板等其他部件与偏振板之间产生剥离等不良情况。PVA系树脂的硼吸附率可以利用后述实施例中记载的方法进行测定。

PVA系树脂的硼吸附率是反映PVA系树脂中的分子链彼此的间隔、晶体结构的特性。认为硼吸附率为5.70质量％以上的PVA系树脂与硼吸附率小于5.70质量％的PVA系树脂相比，分子链彼此的间隔宽，PVA系树脂的晶体少。因此，推测硼、第1金属离子、第2金属离子容易进入PVA系树脂层中，在高温环境下容易防止多烯化。

PVA系树脂的硼吸附率例如可以通过在制造偏振元件之前的阶段对PVA系树脂进行热水处理、酸性溶液处理、超声波照射处理、放射线照射处理等预处理进行调整。通过这些处理，能够扩大PVA系树脂中的分子链彼此的间隔、或破坏晶体结构。作为热水处理，例如可举出在30℃～100℃的纯水中浸渍1秒～90秒并使其干燥的处理。作为酸性溶液处理，例如可举出在10质量％～20质量％的浓度的硼酸水溶液中浸渍1秒～90秒并使其干燥的处理。作为超声波处理，例如可举出以200W～500W的输出功率照射20～29kc的频率的超声波30秒～10分钟的处理。超声波处理可以在水等溶剂中进行。

PVA系树脂的皂化度优选为85摩尔％以上，更优选为90摩尔％以上，进一步优选为99摩尔％以上且100摩尔％以下。作为PVA系树脂的聚合度，例如为1000以上且10000以下，优选为1500以上且5000以下。PVA系树脂可以被改性，例如可以是用醛类改性了的聚乙烯醇缩甲醛、聚乙烯醇缩乙醛、聚乙烯醇缩丁醛等。

偏振元件的厚度优选为3μm以上且35μm以下，更优选为4μm以上且30μm以下，进一步优选为5μm以上且25μm以下。通过使偏振元件的厚度为35μm以下，能够抑制在高温环境下PVA系树脂的多烯化对光学特性的降低造成的影响。通过使偏振元件的厚度为3μm以上，容易制成实现所期望的光学特性的构成。

偏振元件优选包含第1化合物和第2化合物。在本实施方式中，由于偏振元件与透明保护膜通过由含有第1化合物和第2化合物的粘接剂形成的粘接剂层而贴合，所以从粘接剂层转移的第1化合物的一部分和第2化合物的一部分有可能包含在偏振元件中。偏振元件中的第1化合物和第2化合物可以包括在偏振元件的制造过程中添加的化合物。通过具备包含第1化合物和第2化合物的粘接剂层，从而即使将偏振板暴露于高温环境下，透射率也不易降低。另外，通过具备包含第1化合物和第2化合物的粘接剂层，从而即使将偏振板暴露于高温环境下，也能够抑制偏振度的降低。在将两个偏振板以成为正交尼科尔关系的方式配置而使用的情况下，如果偏振板的偏振度降低，则容易发生漏光(以下，也称为“正交漏光(日文：クロス抜け)”)，但根据本发明，即使暴露于高温环境下，偏振度也不易降低，因此也容易抑制正交漏光。推测这是因为，通过偏振元件中所含的第1化合物和第2化合物的协同效应抑制了PVA系树脂的多烯化。

在制造偏振元件时，作为含有第1化合物和第2化合物的方法，可举出在含有第1化合物和/或第2化合物的处理溶剂中浸渍PVA系树脂层的方法、或将处理溶剂喷雾、流下或滴加至PVA系树脂层的方法。其中，优选使用使PVA系树脂层浸渍于含有第1化合物和第2化合物这两者的处理溶剂中的方法。第1化合物和第2化合物的具体例可举出作为上述的粘接剂中含有的化合物而例示的化合物。

使PVA系树脂层浸渍于包含第1化合物和第2化合物的处理溶剂中的工序可以与后述的偏振元件的制造方法中的溶胀、拉伸、染色、交联、清洗等工序同时进行，也可以与这些工序分开设置。使PVA系树脂层中含有第1化合物和第2化合物的工序优选在将PVA系树脂层用碘染色后进行，更优选与染色后的交联工序同时进行。根据这样的方法，色调变化小，能够减小对偏振元件的光学特性的影响。

为了使偏振元件含有第1化合物和第2化合物，可以进行偏振元件的制造时的添加和向粘接剂中的添加这两者。例如，可以使用含有第1化合物和第2化合物的粘接剂作为粘接剂，并且在制造偏振元件时也添加第1化合物和第2化合物中的至少一种。

偏振元件通常含有钾离子(也称为“第1金属离子”)，优选还含有钾离子以外的其他金属离子(也称为“第2金属离子”)。偏振元件中的第2金属离子的含有率优选为0.05质量％以上且10.0质量％以下，更优选为0.05质量％以上且8.0质量％以下，进一步优选为0.1质量％以上且6.0质量％以下。在偏振元件的第2金属离子含有率超过10.0质量％的情况下，有时高温高湿环境下的偏振度降低。另外，在第2金属离子的含有率小于0.05质量％的情况下，有时高温环境下的耐久性的提高效果不充分。需要说明的是，偏振元件中的第2金属离子的含有率例如可以通过高频电感耦合等离子体(Inductively Coupled Plasma：ICP)发光分光分析法，以金属元素相对于偏振元件的质量的质量分率(质量％)的形式算出。认为金属元素在偏振元件中以金属离子或其与聚乙烯醇系树脂的构成要素形成交联结构的状态存在，此处所说的第2金属离子的含有率是以金属原子计的值。

第2金属离子只要是钾离子以外的金属离子就没有限定，优选为碱金属以外的金属的离子，特别是从调整色调、赋予耐久性的观点出发，优选包含钴、镍、锌、铬、铝、铜、锰、铁等过渡金属的金属离子中的至少1种。这些金属离子中，从调整色调、赋予耐热性等观点出发，优选锌离子。

偏振元件的硼的含有率优选为2.4质量％以上。另外，硼的含有率优选为3.9质量％以上且8.0质量％以下，更优选为4.2质量％以上且7.0质量％以下，进一步优选为4.4质量％以上且6.0质量％以下。在偏振元件的硼含有率超过8.0质量％的情况下，偏振元件的收缩力变大，有时会产生与组装到图像显示装置时所贴合的前面板等其他部件之间发生剥离等不良情况。另外，在硼的含有率小于2.4质量％的情况下，有时无法实现所期望的光学特性。需要说明的是，偏振元件中的硼的含有率例如可以通过高频电感耦合等离子体(Inductively Coupled Plasma：ICP)发光分光分析法，以硼相对于偏振元件的质量的质量分率(质量％)的形式算出。认为硼在偏振元件中以硼酸或其与聚乙烯醇系树脂的构成要素形成交联结构的状态存在，此处所说的硼的含有率是以硼原子(B)计的值。

通过使偏振元件的硼的含有率为2.4质量％以上且8.0质量％以下，即使在作为层间填充构成的图像显示装置的构成要素暴露于高温环境下的情况下，也进一步抑制透射率的降低。推测这是因为，偏振元件在硼的含有率为2.4质量％以上且8.0质量％以下的情况下，即使在高温环境下也不易发生多烯化，透射率的降低得到抑制。

从抑制高温环境下的偏振元件的光学特性的降低的观点出发，偏振元件中的钾离子的含有率优选为0.28质量％以上，更优选为0.32质量％以上，进一步优选为0.34质量％以上，并且，从抑制高温环境下的色调变化的观点出发，优选为0.60质量％以下，更优选为0.55质量％以下，进一步优选为0.50质量％以下。钾离子的含有率可以利用与第2金属离子的含有率同样的方法进行测定，此处所说的钾离子的含有率是以钾原子计的值。

(偏振元件的制造方法)

偏振元件的制造方法没有特别限定，典型的是将预先卷绕成卷状的PVA系树脂膜送出并进行拉伸、染色、交联等而制作的方法(以下，称为“制造方法1”。)；包括将包含PVA系树脂的涂布液涂布于基材膜上而形成作为涂布层的PVA系树脂层，并对所得到的层叠体进行拉伸的工序的方法(以下，称为“制造方法2”。)。

制造方法1可以经过如下工序进行制造：将PVA系树脂膜进行单轴拉伸的工序、将PVA系树脂膜用碘等二色性色素染色而使其吸附二色性色素的工序、将吸附有二色性色素的PVA系树脂膜用硼酸水溶液进行处理的工序、以及在利用硼酸水溶液的处理后进行水洗的工序。

溶胀工序是将PVA系树脂膜浸渍于溶胀浴中的处理工序。通过溶胀工序，除了能够除去PVA系树脂膜的表面的污物、封端剂等以外，还可以通过使PVA系树脂膜溶胀来抑制染色不均。溶胀浴通常使用水、蒸馏水、纯水等以水为主成分的介质。溶胀浴可以按照常规方法适当地添加表面活性剂、醇等。从控制偏振元件的钾的含有率的观点出发，可以在溶胀浴中使用碘化钾，在该情况下，溶胀浴中的碘化钾的浓度优选为1.5质量％以下，更优选为1.0质量％以下，进一步优选为0.5质量％以下。

溶胀浴的温度优选为10℃以上且60℃以下左右，更优选为15℃以上且45℃以下左右，进一步优选为18℃以上且30℃以下左右。由于PVA系树脂膜的溶胀程度受到溶胀浴的温度的影响，所以在溶胀浴中的浸渍时间无法一概而定，优选为5秒以上且300秒以下左右，更优选为10秒以上且200秒以下左右，进一步优选为20秒以上且100秒以下左右。溶胀工序可以仅实施1次，也可以根据需要实施多次。

染色工序是将PVA系树脂膜浸渍于染色浴(碘溶液)中的处理工序，可以使碘等二色性色素在PVA系树脂膜吸附并取向。碘溶液通常优选为碘水溶液，含有碘和作为溶解助剂的碘化物。作为碘化物，可举出碘化钾、碘化锂、碘化钠、碘化锌、碘化铝、碘化铅、碘化铜、碘化钡、碘化钙、碘化锡、碘化钛等。其中，从控制偏振元件中的钾的含有率的观点出发，适宜为碘化钾。

染色浴中的碘的浓度优选为0.01质量％以上且1质量％以下左右，更优选为0.02质量％以上且0.5质量％以下左右。染色浴中的碘化物的浓度优选为0.01质量％以上且10质量％以下左右，更优选为0.05质量％以上且5质量％以下左右，进一步优选为0.1质量％以上且3质量％以下左右。

染色浴的温度优选为10℃以上且50℃以下左右，更优选为15℃以上且45℃以下左右，进一步优选为18℃以上且30℃以下左右。由于PVA系树脂膜的染色程度受到染色浴的温度的影响，所以在染色浴中的浸渍时间无法一概而定，优选为10秒以上且300秒以下左右，更优选为20秒以上且240秒以下左右。染色工序可以仅实施1次，也可以根据需要实施多次。

交联工序是将经染色工序染色的PVA系树脂膜浸渍于包含硼化合物的处理浴(交联浴)中的处理工序，聚乙烯醇系树脂膜通过硼化合物而交联，碘分子或染料分子可以吸附于该交联结构。作为硼化合物，例如可举出硼酸、硼酸盐、硼砂等。交联浴通常为水溶液，但也可以为具有与水的混溶性的有机溶剂和水的混合溶液。从控制偏振元件中的钾的含有率的观点出发，交联浴优选包含碘化钾。

交联浴中，硼化合物的浓度优选为1质量％以上且15质量％以下左右，更优选为1.5质量％以上且10质量％以下左右，更优选为2质量％以上且5质量％以下左右。在交联浴中使用碘化钾的情况下，交联浴中的碘化钾的浓度优选为1质量％以上且15质量％以下左右，更优选为1.5质量％以上且10质量％以下左右，更优选为2质量％以上且5质量％以下左右。

交联浴的温度优选为20℃以上且70℃以下左右，更优选为30℃以上且60℃以下左右。由于PVA系树脂膜的交联程度受到交联浴的温度的影响，所以在交联浴中的浸渍时间无法一概而定，优选为5秒以上且300秒以下左右，更优选为10秒以上且200秒以下左右。

交联工序可以仅实施1次，也可以根据需要实施多次。

拉伸工序是将PVA系树脂膜沿至少一个方向拉伸至规定的倍率的处理工序。通常，将PVA系树脂膜沿输送方向(长度方向)进行单轴拉伸。拉伸的方法没有特别限制，湿润拉伸法和干式拉伸法均可以采用。拉伸工序可以仅实施1次，也可以根据需要实施多次。拉伸工序在偏振元件的制造中可以在任意阶段进行。

湿润拉伸法中的处理浴(拉伸浴)通常可以使用水或与水具有混溶性的有机溶剂和水的混合溶液等溶剂。从控制偏振元件中的钾的含有率的观点出发，拉伸浴优选包含碘化钾。在拉伸浴中使用碘化钾的情况下，拉伸浴中的碘化钾的浓度优选为1质量％以上且15质量％以下左右，更优选为2质量％以上且10质量％以下左右，更优选为3质量％以上且6质量％以下左右。从抑制拉伸中的膜断裂的观点出发，处理浴(拉伸浴)中可以包含硼化合物。在包含硼化合物的情况下，拉伸浴中的硼化合物的浓度优选为1质量％以上且15质量％以下左右，更优选为1.5质量％以上且10质量％以下左右，更优选为2质量％以上且5质量％以下左右。

拉伸浴的温度优选为25～80℃，更优选为40～80℃，进一步优选为50～75℃，特别优选为65～75℃。由于PVA系树脂膜的拉伸程度受到拉伸浴的温度的影响，所以在拉伸浴中的浸渍时间无法一概而定，优选为10秒以上且800秒以下左右，更优选为30秒以上且500秒以下左右。湿润拉伸法中的拉伸处理可以与溶胀工序、染色工序、交联工序和清洗工序中的任一个以上的处理工序一起实施。

作为干式拉伸法，例如可举出辊间拉伸方法、加热辊拉伸方法、压缩拉伸方法等。需要说明的是，干式拉伸法可以与干燥工序一起实施。

对聚乙烯醇系树脂膜实施的总拉伸倍率(累积的拉伸倍率)可以根据目的而适当设定，优选为2倍以上且7倍以下左右，更优选为3倍以上且6.8倍以下左右，进一步优选为3.5倍以上且6.5倍以下左右。

清洗工序是将聚乙烯醇系树脂膜浸渍于清洗浴中的处理工序，能够除去残留于聚乙烯醇系树脂膜的表面等的异物。清洗浴通常使用水、蒸馏水、纯水等以水为主成分的介质。另外，从控制偏振元件中的钾的含有率的观点出发，优选在清洗浴中使用碘化钾，在该情况下，清洗浴中，碘化钾的浓度优选为1质量％以上且10质量％以下左右，更优选为1.5质量％以上且4质量％以下左右，进一步优选为1.8质量％以上且3.8质量％以下左右。

清洗浴的温度优选为5℃以上且50℃以下左右，更优选为10℃以上且40℃以下左右，进一步优选为15℃以上且30℃以下左右。由于PVA系树脂膜的清洗程度受到清洗浴的温度的影响，所以在清洗浴中的浸渍时间无法一概而定，优选为1秒以上且100秒以下左右，更优选为2秒以上且50秒以下左右，进一步优选为3秒以上且20秒以下左右。清洗工序可以仅实施1次，也可以根据需要实施多次。

此外，在上述工序中、或者作为与上述工序不同的工序，优选具有金属离子处理工序。金属离子处理工序通过在包含第2金属离子的金属盐的溶液中浸渍聚乙烯醇系树脂膜来进行。通过金属离子处理工序，使聚乙烯醇系树脂膜中含有第2金属离子。

第2金属离子只要是钾离子以外的金属离子就没有限定，优选为碱金属以外的金属的离子，特别是从调整色调、赋予耐久性的观点出发，优选包含钴、镍、锌、铬、铝、铜、锰、铁等过渡金属的金属离子中的至少1种。这些金属离子中，从调整色调、赋予耐热性等观点出发，优选锌离子。作为锌盐，可举出氯化锌、碘化锌等卤化锌、硫酸锌、乙酸锌等。

在金属离子处理工序中可以使用金属盐溶液。以下，在金属离子处理工序中，作为使用锌盐水溶液时的代表例，对在含锌溶液中的浸渍处理进行说明。

锌盐水溶液中的锌离子的浓度为0.1～10质量％左右，优选为0.3～7质量％的范围。另外，锌盐溶液使用利用碘化钾等而含有钾离子和碘离子的水溶液时容易浸渗锌离子，是优选的。锌盐溶液中的碘化钾浓度优选设为0.1～10质量％左右，进一步优选设为0.2～5质量％。

在含锌溶液中进行浸渍处理时，锌盐溶液的温度通常为15～85℃左右，优选为25～70℃。浸渍时间通常为1～120秒左右，优选为3～90秒钟的范围。在含锌溶液中进行浸渍处理时，通过调整锌盐溶液的浓度、聚乙烯醇系树脂膜在锌盐溶液中的浸渍温度、浸渍时间等条件，以聚乙烯醇系树脂膜中的锌含量成为上述范围的方式进行调整。何时进行在含锌溶液中的浸渍处理没有特别限制。可以单独进行在含锌液体中的浸渍处理，也可以使锌盐共存于染色浴、交联浴、拉伸浴中，与染色工序、交联工序、拉伸工序中的至少一个工序同时进行。

干燥工序是将在清洗工序中进行了清洗的PVA系树脂膜干燥而得到偏振元件的工序。干燥通过任意适当的方法进行，例如可举出自然干燥、送风干燥、加热干燥。

制造方法2可以经过如下工序进行制造：将包含PVA系树脂的涂布液涂布于基材膜上的工序、对所得到的层叠膜进行单轴拉伸的工序、通过将经过单轴拉伸的层叠膜的PVA系树脂层用二色性色素染色而使其吸附从而制成偏振元件的工序、将吸附有二色性色素的膜用硼酸水溶液进行处理的工序、以及在利用硼酸水溶液的处理后进行水洗的工序。用于形成偏振元件的基材膜也可以作为偏振元件的保护层使用。根据需要，可以将基材膜从偏振元件剥离除去。

＜透明保护膜＞

本实施方式中使用的透明保护膜(以下，也简称为“保护膜”。)经由粘接剂层贴合于偏振元件的至少单面。该透明保护膜贴合于偏振元件的单面或两面，优选贴合于两面。

保护膜可以同时具有其他光学功能，也可以形成为层叠有多个层的层叠结构。从光学特性的观点出发，保护膜的膜厚优选薄，但如果过薄，则强度降低，加工性差。作为适当的膜厚，为5μm以上且100μm以下，优选为10μm以上且80μm以下，更优选为15μm以上且70μm以下。

保护膜可以使用酰化纤维素(日文：セルロ一スアシレ一ト)系膜、包含聚碳酸酯系树脂的膜、包含降冰片烯等环烯烃系树脂的膜、(甲基)丙烯酸系聚合物膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯等聚酯树脂系膜等膜。在使用PVA粘接剂等水系粘接剂在偏振元件的两面贴合保护膜的情况下，从透湿度的观点出发，优选至少一侧的保护膜为酰化纤维素系膜或(甲基)丙烯酸系聚合物膜中的任一种，其中，优选酰化纤维素膜。

至少一个保护膜可以出于视角补偿等目的而具有相位差功能。在该情况下，保护膜自身可以具有相位差功能，也可以另外具有相位差层，还可以是两者的组合。具备相位差功能的膜可以经由粘接剂直接贴合于偏振元件，也可以是隔着贴合于偏振元件的其他保护膜并经由粘合剂或粘接剂贴合的构成。

＜第2方式＞

在本发明的偏振板的制造方法的第2方式中，上述粘接剂制备工序包括：准备工序，得到含有PVA系树脂的水溶液A；第1添加工序，向上述水溶液A中添加第1化合物而得到水溶液B；以及第2添加工序，向上述水溶液B中添加第2化合物而得到粘接剂，上述贴合工序以向上述水溶液B中添加上述第2化合物之后的经过时间(以下，也称为“经过时间T2”。)成为200小时以下的方式进行。第2方式与第1方式的不同在于，在上述第1添加工序和上述第2添加工序的至少一者中添加第3化合物、以及经过时间T2的范围。以下，在第2方式中，仅对与第1方式不同之处进行说明。

在第1添加工序中添加第3化合物的情况下，可以在添加第1化合物之前、之后或同时将第3化合物添加到水溶液A中。在第2添加工序中添加第3化合物的情况下，可以在添加第2化合物之前、之后或同时将第3化合物添加到水溶液B中。

在第2方式中，通过粘接剂包含第3化合物，能够将直至进行上述贴合工序为止的经过时间T2设定为比第1方式的经过时间T1长。在第2方式中，如果经过时间T2为200小时以下，则能够得到具有优异的耐水性的粘接剂层。推测这是因为，通过使粘接剂包含第3化合物，能够抑制粘接剂中的第2化合物的分解，能够提高粘接剂的适用期。

经过时间T2是指从在第2添加工序中向水溶液B中添加第2化合物起至在贴合工序中经由粘接剂层将偏振元件与透明保护膜贴合为止所经过的时间，不包括为了使粘接剂层干燥所需的时间。

经过时间T2优选为190小时以下，更优选为180小时以下。对于经过时间T2而言，由于期望在向水溶液B中添加第2化合物后进行充分搅拌，例如可以为1分钟以上、5分钟以上、10分钟以上。

(第3化合物)

第3化合物为二羧酸。作为二羧酸，例如可举出草酸、丙二酸、琥珀酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、辛二酸、壬二酸、癸二酸、邻苯二甲酸、间苯二甲酸、对苯二甲酸、酒石酸、谷氨酸、苹果酸、马来酸、富马酸、衣康酸、粘康酸、1,4-环己烷二甲酸、1,4-萘二甲酸、2,6-萘二甲酸、2,7-萘二甲酸、4,4’-联苯二甲酸、2,5-吡啶二甲酸、3,5-吡啶二甲酸、二苯基砜二甲酸、二苯基甲烷二甲酸、草酰乙酸、甲基富马酸、2,6-吡啶二甲酸等。其中，优选使用柠檬酸、苹果酸、马来酸或酒石酸。这些二羧酸可以单独使用1种或组合使用2种以上。

在粘接剂中，相对于PVA系树脂100质量份，第3化合物的含量例如为0.01质量份以上且400质量份以下，优选为0.05质量份以上且50质量份以下，更优选为0.1质量份以上且10质量份以下。如果小于0.01质量份，则有时适用期的提高效果不充分、有时在高温环境下的偏振元件的多烯化的抑制效果不充分。另一方面，在超过400质量份的情况下，有时在偏振板制作后第3化合物析出。

在粘接剂中，相对于作为第2化合物的二醛1质量份，第3化合物的含量优选为0.001质量份以上且100质量份以下，优选为0.01质量份以上且80质量份以下。如果小于0.001质量份，则有时适用期的提高效果不充分。另一方面，在超过100质量份的情况下，有时在偏振板制作后第3化合物析出。

第3化合物可以与在第1方式中说明的第1化合物和第2化合物同样地包含在偏振元件中。使偏振元件中含有第3化合物的方法可以应用与在第1方式中说明的含有第1化合物和第2化合物的方法相同的方法。

[图像显示装置的构成]

如上制造的偏振板用于液晶显示装置、有机EL显示装置等各种图像显示装置。对于图像显示装置，在以偏振板的两面与空气层以外的层、具体而言粘合剂层等固体层接触的方式构成的层间填充构成的情况下，在高温环境下透射率容易降低。在使用了本实施方式的偏振板的图像显示装置中，即使为层间填充构成，也能够抑制高温环境下的偏振板的透射率的降低。作为图像显示装置，可例示具有图像显示单元、层叠于图像显示单元的观察侧表面的第1粘合剂层、以及层叠于第1粘合剂层的观察侧表面的偏振板的构成。所述图像显示装置可以进一步具有层叠于偏振板的观察侧表面的第2粘合剂层、和层叠于第2粘合剂层的观察侧表面的透明部件。特别是，本实施方式的偏振板适合用于如下的图像显示装置：所述图像显示装置具有在图像显示装置的观察侧配置有透明部件，偏振板与图像显示单元通过第1粘合剂层贴合，偏振板与透明部件通过第2粘合剂层贴合而成的层间填充构成。在本说明书中，有时将第1粘合剂层和第2粘合剂层中的任一者或两者简称为“粘合剂层”。需要说明的是，作为用于偏振板与图像显示单元的贴合的部件、以及用于偏振板与透明部件的贴合的部件，不限定于粘合剂层，也可以为粘接剂层。

＜图像显示单元＞

作为图像显示单元，可举出液晶单元、有机EL单元。作为液晶单元，可以使用利用外部光的反射型液晶单元、利用来自于背光等光源的光的透射型液晶单元、利用来自于外部的光和来自于光源的光这两者的半透射半反射型液晶单元中的任一者。在液晶单元利用来自于光源的光的情况下，图像显示装置(液晶显示装置)在与图像显示单元(液晶单元)的观察侧相反的一侧也配置偏振板，进一步配置光源。光源侧的偏振板与液晶单元优选经由适当的粘合剂层进行贴合。作为液晶单元的驱动方式，例如可以使用VA模式、IPS模式、TN模式、STN模式、弯曲取向(π型)等任意类型的方式。

作为有机EL单元，适宜使用在透明基板上依次层叠透明电极、有机发光层和金属电极而形成有发光体(有机电致发光体)的单元等。有机发光层是各种有机薄膜的层叠体，例如可以采用包含三苯胺衍生物等的空穴注入层与包含蒽等荧光性的有机固体的发光层的层叠体、这些发光层与包含苝衍生物等的电子注入层的层叠体、或者空穴注入层、发光层和电子注入层的层叠体等各种层构成。

＜图像显示单元与偏振板的贴合＞

在图像显示单元与偏振板的贴合中，适宜使用粘合剂层(粘合片)。其中，从作业性等观点出发，优选将在偏振板的一面附设有粘合剂层的带粘合剂层的偏振板与图像显示单元进行贴合的方法。粘合剂层向偏振板的附设可以通过适当的方式进行。作为其例子，可举出制备使基础聚合物或其组合物溶解或分散于包含甲苯、乙酸乙酯等适宜的溶剂的单独物或混合物的溶剂中而成的10质量％以上且40质量％以下左右的粘合剂溶液，将其以流延方式、涂敷方式等适宜的展开方式直接附设于偏振板上的方式；在间隔件上形成粘合剂层并将其转移至偏振板的方式等。

＜粘合剂层＞

粘合剂层可以由1层或2层以上构成，优选由1层构成。粘合剂层可以由以(甲基)丙烯酸系树脂、橡胶系树脂、氨基甲酸酯系树脂、酯系树脂、有机硅系树脂、聚乙烯基醚系树脂为主成分的粘合剂组合物构成。其中，以透明性、耐候性、耐热性等优异的(甲基)丙烯酸系树脂作为基础聚合物的粘合剂组合物是适宜的。粘合剂组合物可以为活性能量射线固化型或热固化型。

作为粘合剂组合物中使用的(甲基)丙烯酸系树脂(基础聚合物)，适宜使用以(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等(甲基)丙烯酸酯中的1种或2种以上为单体的聚合物或共聚物。优选使极性单体与基础聚合物共聚。作为极性单体，可举出(甲基)丙烯酸化合物、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯化合物、(甲基)丙烯酸羟基乙酯化合物、(甲基)丙烯酰胺化合物、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基氨基乙酯化合物、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯化合物等具有羧基、羟基、酰胺基、氨基、环氧基等的单体。

粘合剂组合物可以仅包含上述基础聚合物，但通常还含有交联剂。作为交联剂，可例示2价以上且在与羧基之间形成羧酸金属盐的金属离子、在其与羧基之间形成酰胺键的多胺化合物、在其与羧基之间形成酯键的聚环氧化合物或多元醇、在其与羧基之间形成酰胺键的多异氰酸酯化合物。其中，优选多异氰酸酯化合物。

活性能量射线固化型粘合剂组合物具有受到紫外线、电子束之类的活性能量射线的照射而固化的性质，具有在活性能量射线照射前也具有粘合性而能够与膜等被粘物密合、通过活性能量射线的照射而固化从而能够调整密合力的性质。活性能量射线固化型粘合剂组合物优选为紫外线固化型。活性能量射线固化型粘合剂组合物除了基础聚合物、交联剂以外，还含有活性能量射线聚合性化合物。根据需要，可以含有光聚合引发剂、光敏剂等。

粘合剂组合物可以包含用于赋予光散射性的微粒、珠(树脂珠、玻璃珠等)、玻璃纤维、基础聚合物以外的树脂、增粘剂、填充剂(金属粉、其他无机粉末等)、抗氧化剂、紫外线吸收剂、染料、颜料、着色剂、消泡剂、防腐蚀剂、光聚合引发剂等添加剂。

粘合剂层可以通过将上述粘合剂组合物的有机溶剂稀释液涂布在基材膜、图像显示单元或偏振板的表面上并使其干燥而形成。基材膜通常为热塑性树脂膜，作为其典型的例子，可举出实施了脱模处理的隔膜。隔膜例如可以是对包含聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚碳酸酯、聚芳酯等树脂的膜的形成有粘合剂层的面实施了有机硅处理等脱模处理而得到的膜。

可以在隔膜的脱模处理面直接涂布粘合剂组合物而形成粘合剂层，将该带隔膜的粘合剂层层叠于偏振板的表面。也可以在偏振板的表面直接涂布粘合剂组合物而形成粘合剂层，在粘合剂层的外表面层叠隔膜。

在将粘合剂层设置于偏振板的表面时，优选对偏振板的贴合面和/或粘合剂层的贴合面实施等离子体处理、电晕处理等表面活化处理，更优选实施电晕处理。

另外，也可以准备在第2隔膜上涂布粘合剂组合物而形成粘合剂层、并在所形成的粘合剂层上层叠有隔膜的粘合剂片，将从该粘合剂片剥离第2隔膜后的带隔膜的粘合剂层层叠于偏振板。第2隔膜使用与隔膜相比与粘合剂层的密合力弱、容易剥离的隔膜。

粘合剂层的厚度没有特别限定，例如优选为1μm以上且100μm以下，更优选为3μm以上且50μm以下，可以为20μm以上。

＜透明部件＞

作为配置于图像显示装置的观察侧的透明部件，可举出透明板(窗口层)、触控面板等。作为透明板，可以使用具有适当的机械强度和厚度的透明板。作为这样的透明板，例如可举出聚酰亚胺系树脂、丙烯酸系树脂、聚碳酸酯系树脂之类的透明树脂板、或玻璃板等。可以在透明板的观察侧层叠防反射层等功能层。另外，在透明板为透明树脂板的情况下，为了提高物理强度，可以层叠硬涂层，为了降低透湿度，可以层叠低透湿层。作为触控面板，可以使用电阻膜方式、静电电容方式、光学方式、超声波方式等各种触控面板、具备触摸传感器功能的玻璃板、透明树脂板等。在使用静电电容方式的触控面板作为透明部件的情况下，优选在比触控面板更靠观察侧的位置设置由玻璃或透明树脂板形成的透明板。

＜偏振板与透明部件的贴合＞

偏振板与透明部件的贴合适宜使用粘合剂或活性能量射线固化型粘接剂。在使用粘合剂的情况下，粘合剂的附设可以通过适当的方式进行。作为具体的附设方法，例如可举出在上述的图像显示单元与偏振板的贴合中使用的粘合剂层的附设方法。

在使用活性能量射线固化型粘接剂的情况下，出于防止固化前的粘接剂溶液的扩展的目的，适宜使用如下方法：以包围图像显示面板上的周缘部的方式设置围堰材料(日文：ダム材)，在围堰材料上载置透明部件，注入粘接剂溶液。在注入粘接剂溶液后，根据需要进行位置对准和脱泡后，照射活性能量射线而进行固化。

实施例

以下，基于实施例具体地说明本发明。以下的实施例所示的材料、试剂、物质量及其比例、操作等只要不脱离本发明的主旨就可以适当变更。因此，本发明并不限定限制于以下的实施例。

(1)偏振元件的厚度的测定：

使用株式会社尼康制的数字测微计“MH-15M”进行测定。

(2)偏振板的可见度修正偏振度、可见度修正单体透射率、色调的测定：

使用带积分球的分光光度计〔日本分光株式会社制的“V7100”，2度视野；C光源〕进行测定。

(3)硼含有率的测定：

使偏振元件0.2g溶解于1.9质量％的甘露醇水溶液200g。接下来，用1摩尔/L的氢氧化钠水溶液对所得到的水溶液进行滴定，根据中和所需的氢氧化钠水溶液的量与标准曲线的比较，算出偏振元件的硼含有率。

(4)锌离子含有率的测定：

在精确称量的偏振元件中加入硝酸，用Milestone General制微波试样前处理装置(ETHOSD)进行酸分解，将所得到的溶液作为测定液。锌离子含有率是利用AgilentTechnologies制ICP发光分光分析装置(5110ICP-OES)对测定液的锌浓度进行定量，以相对于偏振元件质量的锌质量的形式算出的。

(5)PVA系树脂膜的硼吸附率的测定：

将裁切成100mm见方的PVA系树脂膜在30℃的纯水中浸渍60秒钟，然后，在包含硼酸5份的60℃的水溶液中浸渍120秒。将从硼酸水溶液中取出的PVA系树脂膜在80℃烘箱中干燥11分钟。在23℃、55％％RH的环境下调湿24小时，得到了含硼的PVA膜。使这样得到的含硼的PVA系树脂膜0.2g溶解于1.9质量％的甘露醇水溶液200g中。接下来，用1摩尔/L的氢氧化钠水溶液对所得到的水溶液进行滴定，根据中和所需的氢氧化钠水溶液的量与标准曲线的比较，算出PVA系树脂膜的硼含有率。将这样得到的PVA系树脂膜的硼含有率用作PVA系树脂膜的硼吸附率。

(偏振元件1的制作)

将硼吸附率为5.71质量％的厚度30μm的聚乙烯醇系树脂膜在21.5℃的纯水中浸渍79秒后(溶胀处理)，在碘化钾/硼酸/水的质量比为2/2/100且包含1.0mM的碘的23℃的水溶液中浸渍151秒(染色工序)。然后，在碘化钾/硼酸/水的质量比为2.5/4/100的68.5℃的水溶液中浸渍76秒(第1交联工序)。接着，在碘化钾/硼酸/氯化锌/水的质量比为3/5.5/0.6/100的45℃的水溶液中浸渍11秒(第2交联工序、金属离子处理工序)。然后，浸渍于清洗浴中进行清洗(清洗工序)，在38℃下进行干燥(干燥工序)，得到了碘在聚乙烯醇吸附取向而成的厚度12μm的偏振元件。拉伸主要在染色工序和第1交联工序的工序中进行，总拉伸倍率为5.85倍。所得到的偏振元件的锌离子含有率为0.17质量％，硼含有率为4.62质量％。

(粘接剂用的PVA溶液的制备)

将含有乙酰乙酰基的改性PVA系树脂(三菱化学株式会社制：GOHSENX Z-410)50g溶解于950g的纯水中，在90℃下加热2小时后，冷却至常温，得到了粘接剂用的PVA溶液(准备工序)。

(偏振板用的粘接剂1的制备)

在准备工序中得到的PVA溶液中添加脲和纯水并进行搅拌(第1添加工序)，从脲的添加起96小时后，添加市售的乙二醛溶液(乙二醛浓度40质量％)和纯水并进行搅拌，得到了粘接剂1(第2添加工序)。粘接剂1的组成如表1所示。

(偏振板用的粘接剂2的制备)

在准备工序中得到的PVA溶液(PVA浓度3.0质量％)中添加脲、马来酸和纯水并进行搅拌(第1添加工序)，从脲的添加起96小时后，添加市售的乙二醛溶液(乙二醛浓度40质量％)和纯水并进行搅拌，得到了粘接剂2(第2添加工序)。粘接剂2的组成如表1所示。

[表1]

(酰化纤维素膜的皂化)

将市售的酰化纤维素膜TJ40UL(富士胶片株式会社制：膜厚40μm)在保持为55℃的1.5mol/L的NaOH水溶液(皂化液)中浸渍2分钟，对膜进行水洗。然后，将膜在25℃的0.05mol/L的硫酸水溶液中浸渍30秒，进一步在流水下通过水洗浴30秒，使膜成为中性的状态。然后，反复进行3次利用气刀的除水。除去水之后，将膜在70℃的干燥区域滞留15秒钟而进行干燥，从而制作了经皂化处理的膜。

(偏振板1a、1b、1c的制作)

经由在上述中制备、然后保存了规定时间的粘接剂1，使用辊贴合机在偏振元件1的两面贴合了经皂化处理的酰化纤维素膜。贴合后，在80℃下干燥5分钟，分别得到了偏振板1a、1b、1c。经过时间T1是从在粘接剂1的制备时添加乙二醛起至从辊贴合机取出干燥前的偏振板1a、1b、1c为止的时间。以经过时间T1成为表2中记载的时间的方式保存粘接剂1并使用。

(偏振板2a、2b、2c的制作)

经由在上述中制备、然后保存了规定时间的粘接剂2，使用辊贴合机在偏振元件1的两面贴合经皂化处理的酰化纤维素膜。贴合后，在80℃下干燥5分钟，分别得到了偏振板2a、2b、2c。经过时间T2是从在粘接剂2的制备时添加乙二醛起至从辊贴合机取出干燥前的偏振板2a、2b、2c为止的时间。以经过时间T2成为表3中记载的时间的方式保存粘接剂1并使用。

(偏振板(偏振元件)的含水率的调整)

将上述得到的偏振板1a、1b、1c、2a、2b、2c在温度20℃且相对湿度30％、35％、40％、45％、50％或55％的条件下保存72小时。使用卡尔费休法在保存66小时、69小时和72小时时测定含水率。在任一湿度条件下，在保存66小时、69小时、72小时时含水率的值均没有变化。因此，各偏振板的含水率可以视为与本实验例中使用的72小时的保存环境的平衡含水率相同。在偏振板的含水率在某保存环境中达到平衡时，可以视为偏振板中的偏振元件的含水率也同样地在该保存环境中达到平衡。另外，在偏振板中的偏振元件的含水率在某保存环境中达到平衡时，可以视为偏振板的含水率也同样地在该保存环境中达到平衡。

(偏振板1a、1b、1c、2a、2b、2c的含水率的调整)

以偏振板1a、1b、1c、2a、2b、2c的含水率成为温度20℃、相对湿度55％的环境的平衡含水率的方式在温度20℃、相对湿度55％的条件下保存72小时，调整偏振板1a、1b、1c、2a、2b、2c的含水率。

＜耐水性评价(温水浸渍试验)＞

本实施例的耐水性试验依据日本特开2009-025728号公报[0060]中记载的耐水性试验进行。

在上述制作的偏振板的单面形成丙烯酸系粘合剂(琳得科株式会社制，产品编号：#7)，进一步以偏振板的吸收轴方向(拉伸方向)为长边，以50mm×20mm的大小裁切成长条状，准确地测定长边方向的尺寸。在此，评价样品由于吸附于偏振元件的碘而在整个面上均匀地呈现特有的颜色。

将该样品的1个短边侧用把持件把持，将长度方向的8成左右浸渍于60℃的水槽中，保持4小时。然后，将样品从水槽中取出，擦去水分。通过温水的浸渍，从而偏振板的偏振元件收缩。通过对样品短边的中央的、从样品的端部(保护膜的端部)至收缩的偏振元件的端部为止的距离进行测定，按照以下基准对该偏振元件的收缩程度进行3阶段评价。将结果示于表2、表3。

从样品的端部至偏振元件的端部为止的距离为1mm以下的情况：A

从样品的端部至偏振元件的端部为止的距离超过1mm且为3mm以下的情况：B

从样品的端部至偏振元件的端部为止的距离大于3mm的情况：C

[表2]

可知对于在粘接剂中包含第1化合物(脲)和第2化合物(乙二醛)的偏振板，通过经过时间T1为100小时以内，从而耐水性优异。

[表3]

可知对于在粘接剂中包含第1化合物(脲)、第2化合物(乙二醛)和第3化合物(马来酸)的偏振板，通过经过时间T2为200小时以内，从而耐水性优异。另外，对比表1和表2所示的结果可知，通过在粘接剂中除了第1化合物(脲)和第2化合物(乙二醛)以外还包含第3化合物(马来酸)，能够延长为了提供耐水性优异的偏振板而允许的经过时间。

Claims (7)

1.一种偏振板的制造方法，所述偏振板具有偏振元件和透明保护膜，所述偏振元件是使二色性色素在聚乙烯醇系树脂层吸附取向而成的，所述透明保护膜经由粘接剂层层叠于所述偏振元件的至少一个面，

所述偏振板的制造方法具有：

粘接剂制备工序，制备用于形成所述粘接剂层的粘接剂；以及

贴合工序，将所述粘接剂涂布于所述偏振元件和所述透明保护膜中的至少一者的表面并将所述偏振元件与所述透明保护膜贴合，

所述粘接剂制备工序包括：

准备工序，得到含有聚乙烯醇系树脂的水溶液A；

第1添加工序，向所述水溶液A中添加第1化合物而得到水溶液B；以及

第2添加工序，向所述水溶液B中添加第2化合物而得到粘接剂，

所述第1化合物为选自脲、脲衍生物、硫脲和硫脲衍生物中的至少1种，所述第2化合物为二醛，

所述贴合工序以向所述水溶液B中添加所述第2化合物之后的经过时间成为100小时以下的方式进行。

2.一种偏振板的制造方法，所述偏振板具有偏振元件和透明保护膜，所述偏振元件是使二色性色素在聚乙烯醇系树脂层吸附取向而成的，所述透明保护膜经由粘接剂层层叠于所述偏振元件的至少一个面，

所述偏振板的制造方法具有：

粘接剂制备工序，制备用于形成所述粘接剂层的粘接剂；以及

贴合工序，将所述粘接剂涂布于所述偏振元件和所述透明保护膜中的至少一者的表面并将所述偏振元件与所述透明保护膜贴合，

所述粘接剂制备工序包括：

准备工序，得到含有聚乙烯醇系树脂的水溶液A；

第1添加工序，向所述水溶液A中添加第1化合物而得到水溶液B；以及

第2添加工序，向所述水溶液B中添加第2化合物而得到粘接剂，

在所述第1添加工序和所述第2添加工序中的至少一者中还添加第3化合物，

所述第1化合物为选自脲、脲衍生物、硫脲和硫脲衍生物中的至少1种，所述第2化合物为二醛，所述第3化合物为二羧酸，

所述贴合工序以向所述水溶液B中添加所述第2化合物之后的经过时间成为200小时以下的方式进行。

3.根据权利要求1或2所述的偏振板的制造方法，其中，在所述粘接剂中，相对于所述聚乙烯醇系树脂100质量份，所述第1化合物的含量为0.1质量份以上且400质量份以下。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的偏振板的制造方法，其中，在所述粘接剂中，相对于所述第1化合物1质量份，所述第2化合物的含量为0.03质量份以上且20质量份以下。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的偏振板的制造方法，其中，所述二醛为乙二醛。

6.根据权利要求2所述的偏振板的制造方法，其中，在所述粘接剂中，相对于所述聚乙烯醇系树脂100质量份，所述第3化合物的含量为0.01质量份以上且400质量份以下。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的偏振板的制造方法，其中，所述粘接剂层的厚度为0.01μm以上且7μm以下。