KR20240057345A - 편광판 - Google Patents
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Abstract
[과제] 고온 환경 하에 있어서 투과율의 저하 및 크로스 누설의 발생을 억제할 수 있는 신규의 편광판을 제공한다.
[해결 수단] 폴리비닐알콜계 수지층에 이색성 색소를 흡착 배향시켜 이루어진 편광 소자와, 투명 보호 필름을 갖는 편광판으로서, 상기 편광 소자는, 시감도 보정 편광도가 99.9% 이상이며, 파장 780 nm에서의 직교 투과율이 1.8% 이하인 편광판.
[해결 수단] 폴리비닐알콜계 수지층에 이색성 색소를 흡착 배향시켜 이루어진 편광 소자와, 투명 보호 필름을 갖는 편광판으로서, 상기 편광 소자는, 시감도 보정 편광도가 99.9% 이상이며, 파장 780 nm에서의 직교 투과율이 1.8% 이하인 편광판.
Description
본 발명은 편광판에 관한 것이다.
액정 표시 장치(LCD)는, 액정 텔레비전뿐만 아니라, 퍼스널 컴퓨터, 휴대전화 등의 모바일, 카내비게이션 등의 차량 탑재 용도에도 널리 이용되고 있다. 통상 액정 표시 장치는, 액정 셀의 양측에 점착제로 편광판을 접합한 액정 패널을 가지며, 백라이트로부터의 광을 액정 패널로 제어함으로써 표시가 행해지고 있다. 최근에는, 유기 EL 표시 장치도 액정 표시 장치와 마찬가지로 텔레비전, 휴대전화 등의 모바일, 카내비게이션 등의 차량 탑재 용도로 널리 이용되고 있다. 유기 EL 표시 장치에서는, 외광이 금속 전극(음극)에서 반사되어 경면(鏡面)처럼 시인되는 것을 억지하기 위해, 화상 표시 패널의 시인측 표면에 원편광판(편광 소자와 λ/4판을 포함하는 적층체)이 배치되는 경우가 있다.
편광판은, 상기와 같이 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치 등의 화상 표시 장치의 부재로서, 차량에 탑재될 기회가 늘고 있다. 차량 탑재용 화상 표시 장치에 이용되는 편광판은, 텔레비전이나 휴대전화 등의 모바일 용도와 비교하여 고온 환경 하에 노출되는 경우가 많기 때문에, 보다 고온에서의 특성 변화가 작은 것(고온 내구성)이 요구된다.
한편, 외표면으로부터의 충격에 의한 화상 표시 패널의 파손 방지 등을 목적으로, 화상 표시 패널보다 시인측에 투명 수지판이나 유리판 등의 전면판(「윈도우층」이라고도 불림)을 설치하는 구성이 증가하고 있다. 터치 패널을 구비한 화상 표시 장치에서는, 화상 표시 패널보다 시인측에 터치 패널이 설치되고, 터치 패널보다 더 시인측에 전면판을 구비하는 구성이 널리 채용되고 있다.
이러한 구성에 있어서, 화상 표시 패널과 전면판이나 터치 패널 등의 투명 부재와의 사이에 공기층이 존재하면, 공기층 계면에서의 광의 반사에 의해 외광의 비침이 발생하여, 화면의 시인성이 저하되는 경향이 있다. 그 때문에, 화상 표시 패널의 시인측 표면에 배치되는 편광판과 투명 부재 사이의 공간을, 공기층 이외의 층이며 통상은 고체층(이하, 「층간 충전제」라고 부르는 경우가 있다.)으로 충전하는 구성(이하, 「층간 충전 구성」이라고 부르는 경우가 있다.)을 채용하는 움직임이 확산되고 있다. 층간 충전제는, 바람직하게는 편광판 또는 투명 부재와 굴절률이 비슷한 재료이다. 층간 충전제로는, 계면에서의 반사에 의한 시인성 저하를 억지함과 더불어, 각 부재 사이를 접착 고정할 목적으로, 점착제나 UV 경화형 접착제가 이용된다(예컨대 특허문헌 1 참조).
층간 충전 구성은 옥외에서 사용되는 경우가 많은 휴대전화 등의 모바일 용도에서의 채용이 확산되고 있다. 또한, 최근 시인성에 대한 요구가 높아짐에 따라, 카내비게이션 장치 등의 차량 탑재 용도에 있어서도, 화상 표시 패널 표면에 전면 투명판을 배치하여, 패널과 전면 투명판 사이를 점착제층 등으로 충전한 층간 충전 구성의 채용이 검토되고 있다.
그러나, 이러한 구성을 채용하는 경우, 고온 환경 하에서 편광판의 투과율이 현저히 저하된다는 것이 보고되어 있다. 특허문헌 2에서는 그 문제의 해결책으로서, 편광판의 단위 면적당 수분량을 소정량 이하로 하고, 또한 편광 소자에 인접하는 투명 보호 필름의 포화 흡수량을 소정량 이하로 함으로써 투과율의 저하를 억제하는 방법을 제안하고 있다. 특허문헌 3에서는, 수계 접착제에 요소계 화합물을 함유시킴으로써 투과율의 저하를 억제하는 방법을 제안하고 있다.
그러나, 고온 환경 하에서의 투과율의 저하를 억제할 수 있다 하더라도, 2개의 편광판을 크로스니콜의 관계가 되도록 배치하여 이용한 경우에, 광이 빠지는 문제(이하 「크로스 누설」이라고도 칭한다.)가 발생하는 경우가 있었다. 특히, 층간 충전제의 두께가 100 μm 이상인 구성은, 크로스 누설이 보다 발생하기 쉽다는 것을 알았다. 본 발명은, 고온 환경 하에 있어서 투과율의 저하 및 크로스 누설의 발생을 억제할 수 있는 신규의 편광판을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은, 이하에 예시하는 편광판을 제공한다.
〔1〕폴리비닐알콜계 수지층에 이색성 색소를 흡착 배향시켜 이루어진 편광 소자와, 투명 보호 필름을 갖는 편광판으로서,
상기 편광 소자는, 시감도 보정 편광도가 99.9% 이상이며, 파장 780 nm에서의 직교 투과율이 1.8% 이하인 편광판.
〔2〕상기 편광 소자와 상기 투명 보호 필름은, 요소계 화합물을 함유하는 수계 접착제로 형성되는 접착제층에 의해 접합되어 있고,
상기 요소계 화합물은, 요소, 요소 유도체, 티오요소 및 티오요소 유도체로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종인, 〔1〕에 기재된 편광판.
〔3〕상기 요소계 화합물은, 요소 유도체 및 티오요소 유도체로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종인, 〔2〕에 기재된 편광판.
〔4〕상기 수계 접착제는 폴리비닐알콜계 수지를 포함하는, 〔2〕 또는 〔3〕에 기재된 편광판.
〔5〕상기 수계 접착제에 있어서, 상기 요소계 화합물의 함유량이, 상기 폴리비닐알콜계 수지 100 질량부에 대하여 0.1 질량부 이상 400 질량부 이하인, 〔4〕에 기재된 편광판.
〔6〕상기 수계 접착제는 메탄올을 포함하고,
상기 메탄올의 농도가 10 질량% 이상 70 질량% 이하인, 〔2〕∼〔5〕 중 어느 한 항에 기재된 편광판.
〔7〕상기 수계 접착제는 시클로덱스트린류를 포함하는, 〔2〕∼〔6〕 중 어느 한 항에 기재된 편광판.
〔8〕상기 접착제층은 두께가 0.01 μm 이상 7 μm 이하인, 〔2〕∼〔7〕 중 어느 한 항에 기재된 편광판.
〔9〕상기 편광 소자의 두께가 15 μm 이하인, 〔1〕∼〔8〕 중 어느 한 항에 기재된 편광판.
〔10〕상기 편광 소자의 함수율은, 온도 20℃ 상대 습도 30%의 평형 함수율 이상이고, 온도 20℃ 상대 습도 50%의 평형 함수율 이하인, 〔1〕∼〔9〕 중 어느 한 항에 기재된 편광판.
〔11〕상기 편광판의 함수율은, 온도 20℃ 상대 습도 30%의 평형 함수율 이상이고, 온도 20℃ 상대 습도 50%의 평형 함수율 이하인, 〔1〕∼〔9〕 중 어느 한 항에 기재된 편광판.
〔12〕상기 편광판의 한쪽 면에, 두께가 50 μm 이하인 점착제층이 형성되고, 상기 편광판의 다른 한쪽 면에, 두께가 50 μm 이상인 점착제층이 형성된, 〔1〕∼〔11〕 중 어느 한 항에 기재된 편광판.
본 발명에 의하면, 고온 내구성이 향상된 편광판을 제공하는 것이 가능해진다. 본 발명에 의하면, 층간 충전 구성의 화상 표시 장치에 이용된 경우에도, 고온 환경 하에 있어서 투과율의 저하 및 크로스 누설의 발생이 억제된 편광판을 제공하는 것이 가능해진다.
이하, 본 발명의 실시형태를 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시형태에 한정되는 것이 아니다.
[편광판]
본 발명의 실시형태에 따른 편광판은, 폴리비닐알콜계 수지를 포함하는 층에 이색성 색소를 흡착 배향시킨 편광 소자와, 투명 보호 필름을 갖는다. 상기 편광 소자는, 시감도 보정 편광도가 99.9% 이상이며, 파장 780 nm에서의 직교 투과율이 1.8% 이하이다. 상기 편광 소자는, 시감도 보정 편광도가 99.9% 이상이며, 바람직하게는 99.950% 이상 99.999% 이하이며, 보다 바람직하게는 99.990% 이상 99.999% 이하이다. 또한, 상기 편광 소자는, 파장 780 nm에서의 직교 투과율이 1.8% 이하이며, 바람직하게는 0.1% 이상 1.7% 이하이며, 보다 바람직하게는 0.2% 이상 1.6% 이하이며, 더욱 바람직하게는 0.3% 이상 1.5% 이하이며, 가장 바람직하게는 0.4% 이상 1.4% 이하이다. 본 실시형태에 따른 편광판의 편광 소자는, 시감도 보정 편광도 및 직교 투과율이 상기 범위 내인 것에 의해, 고온 환경 하에 장시간 노출된 경우에도 투과율의 저하 및 크로스 누설의 발생을 억제할 수 있다. 보다 많은 PVA-I5 착체를 편광 소자에 존재시킴으로써, 고온 환경 하에서의 PVA-I5 착체의 감소에 따르는 크로스 누설을 억제할 수 있다고 추정된다. 한편, PVA-I5 착체의 흡수 파장의 극대는 610 nm 부근에 있지만, 열화의 지표로는, 보다 장파장측의 직교 투과율이 크게 영향을 받기 쉬운 것을 발견하고, 특히 가시광 영역에서 최대 파장인 780 nm에서의 직교 투과율을 이용하는 것으로 하였다. 또한, 요오드 이온은, 폴리엔화를 촉진하는 작용을 갖는다. 보다 많은 PVA-I5 착체를 편광 소자에 존재시킴으로써, 고온 환경 하에 노출되기 전의 단계에서, 요오드 이온(I-)이 보다 적어졌다고 추측된다. 보다 많은 PVA-I5 착체를 편광 소자에 존재시키는 것이, 고온 환경 하에서의 투과율의 저하(폴리엔화)를 억제하는 것에 기여하고 있다고 생각된다. 본 명세서에 있어서, 편광 소자의 시감도 보정 편광도 및 직교 투과율은, 실시예에 기재된 측정 방법에 의해 측정된 값으로 한다.
본 실시형태의 편광판은, 편광 소자와 투명 보호 필름이, 바람직하게는, 요소계 화합물을 함유하는 수계 접착제로 형성되는 접착제층에 의해 접합되어 있다. 이러한 수계 접착제는 시클로덱스트린류를 포함하고 있어도 좋다. 본 실시형태에 따른 편광판은, 하기의 (a) 및 (b)의 적어도 하나의 특징을 갖는 것이 바람직하다.
(a) 편광 소자의 함수율이, 온도 20℃ 상대 습도 30%의 평형 함수율 이상이고, 온도 20℃ 상대 습도 50%의 평형 함수율 이하이다.
(b) 편광판의 함수율이, 온도 20℃ 상대 습도 30%의 평형 함수율 이상이고, 온도 20℃ 상대 습도 50%의 평형 함수율 이하이다.
고온 내구성이 우수한 종래의 편광판으로서, 예컨대 편광판 단독으로는 온도 95℃의 환경 하에 1000시간 방치해도 투과율의 저하가 억제된 편광판이 알려져 있다. 그러나, 이러한 편광판이라 하더라도 층간 충전 구성에 이용한 경우, 온도 105℃의 환경 하에서 240시간 방치하면 편광판 면내 중앙부에 투과율 및 편광도의 현저한 저하가 보이는 경우가 있다. 고온 환경 하에서의 편광판의 투과율 및 편광도의 현저한 저하는, 편광판의 한쪽 면이 화상 표시 셀과 접합되고, 다른쪽 면이 터치 패널이나 전면판 등의 투명 부재와 접합되어 있는 층간 충전 구성을 채용하는 화상 표시 장치가 고온 환경에 노출된 경우에 특히 발생하기 쉬운 문제라고 생각된다.
층간 충전 구성에서 투과율이 현저히 저하된 편광판은, 라만 분광 측정에서 1100 cm-1 부근(=C-C= 결합에 유래) 및 1500 cm-1 부근(-C=C- 결합에 유래)에 피크를 갖고 있으므로, 폴리엔 구조 (-C=C)n-를 형성하고 있다고 생각된다. 폴리엔 구조는, 편광 소자를 구성하는 폴리비닐알콜이 탈수에 의해 폴리엔화되어 생긴 것이라고 추정된다(특허문헌 2, 단락 [0012]).
본 실시형태에 따른 편광판은, 고온 내구성을 보다 향상시킬 수 있다. 본 실시형태에 따른 편광판은, 층간 충전 구성의 화상 표시 장치에 내장되어, 예컨대 온도 105℃의 고온 환경 하에서 노출되더라도 투과율의 저하 및 크로스 누설의 발생을 억제할 수 있다.
<편광 소자>
폴리비닐알콜(이하, 「PVA」라고도 칭한다.)계 수지를 포함하는 층(이하, 「PVA계 수지층」이라고도 칭한다.)에 이색성 색소를 흡착 배향시킨 편광 소자로는, 주지의 편광 소자를 이용할 수 있다. 편광 소자로는, PVA계 수지 필름을 이색성 색소로 염색하고, 일축 연신함으로써 얻어지는 연신 필름이나, 기재 필름 상에 PVA계 수지를 포함하는 도포액을 도포하여 형성한 도포층을 갖는 적층 필름을 이용하여, 도포층을 이색성 색소로 염색하고, 적층 필름을 일축 연신함으로써 얻어지는 연신층을 들 수 있다. 연신은 이색성 색소로 염색한 후에 행해도 좋고, 염색하면서 연신해도 좋고, 연신하고 나서 염색해도 좋다.
PVA계 수지는, 폴리아세트산비닐계 수지를 비누화함으로써 얻어진다. 폴리아세트산비닐계 수지로는, 아세트산비닐의 단독 중합체인 폴리아세트산비닐 외에, 아세트산비닐과 이것에 공중합 가능한 다른 단량체와의 공중합체를 들 수 있다. 공중합 가능한 다른 단량체로는, 예컨대 불포화 카르복실산류, 에틸렌 등의 올레핀류, 비닐에테르류, 불포화 술폰산류 등을 들 수 있다.
본 실시형태에서는, 붕소 흡착률이 5.70 질량% 이상인 PVA계 수지로 PVA계 수지층을 형성하는 것이 바람직하다. 즉, 염색이나 연신을 하기 전의 원료 단계에서의 PVA계 수지의 붕소 흡착률이 5.70 질량% 이상인 것이 바람직하다. 이러한 PVA계 수지를 이용함으로써, 시감도 보정 편광도가 99.9% 이상이며, 파장 780 nm에서의 직교 투과율이 1.8% 이하인 편광 소자를 얻기 쉬워진다. 또한, PVA계 수지의 붕소 흡착률은 10 질량% 이하인 것이 바람직하다. 이러한 PVA계 수지를 이용하여 편광 소자를 제작함으로써, 붕산 처리조 내의 붕산 농도를 고농도로 하지 않고, 또한 붕산 처리에 의한 처리 시간도 단축할 수도 있고, 원하는 편광 소자를 얻기 쉬워지고, 편광 소자의 생산성도 높일 수 있다. PVA계 수지의 붕소 흡착률을 10 질량% 이하로 하면, PVA계 수지층에 붕소가 적량 도입되어, 편광 소자의 수축력을 작게 하기 쉽다. PVA계 수지의 붕소 흡착률은, 후술하는 실시예에 기재된 방법으로 측정할 수 있다.
PVA계 수지의 붕소 흡착률은, PVA계 수지 중의 분자쇄끼리의 간격이나 결정 구조를 반영하고 있는 특성이다. 붕소 흡착률이 5.70 질량% 이상인 PVA계 수지는, 붕소 흡착률이 5.70 질량% 미만인 PVA계 수지에 비교하여, 분자쇄끼리의 간격이 넓고, PVA계 수지의 결정이 적다고 생각된다. 그 때문에, PVA계 수지층 중에 붕소, 제1 금속 이온, 제2 금속 이온이 인입되기 쉬워져, 고온 환경 하에서 편광도가 저하되기 어려워진다고 추측된다.
PVA계 수지의 붕소 흡착률은, 예컨대, 편광 소자를 제조하기 전의 단계에서 PVA계 수지에 대하여, 열수 처리, 산성 용액 처리, 초음파 조사 처리, 방사선 조사 처리 등의 사전 처리를 행함으로써 조정할 수 있다. 이러한 처리에 의해, PVA계 수지 중의 분자쇄끼리의 간격을 넓히거나, 결정 구조를 파괴하거나 할 수 있다. 열수 처리로는, 예컨대, 30℃∼100℃의 순수에 1초∼90초 침지시키고 건조시키는 처리를 들 수 있다. 산성 용액 처리로는, 예컨대, 10 질량%∼20 질량%의 농도의 붕산 수용액에 1초∼90초 침지시키고 건조시키는 처리를 들 수 있다. 초음파 처리로는, 예컨대, 20∼29 kc의 주파수의 초음파를, 200 W∼500 W의 출력으로 30초∼10분 조사하는 처리를 들 수 있다. 초음파 처리는, 물 등의 용매 중에서 행할 수 있다.
PVA계 수지의 비누화도는, 바람직하게는 약 85 몰% 이상, 보다 바람직하게는 약 90 몰% 이상, 더욱 바람직하게는 약 99 몰% 이상 100 몰% 이하이다. PVA계 수지의 중합도로는, 예컨대 1000 이상 10000 이하, 바람직하게는 1500 이상 5000 이하이다. PVA계 수지는 변성되어 있어도 좋으며, 예컨대 알데히드류로 변성된 폴리비닐포르말, 폴리비닐아세탈, 폴리비닐부티랄 등이어도 좋다.
편광 소자의 두께는, 바람직하게는 3 μm 이상 35 μm 이하, 보다 바람직하게는 4 μm 이상 30 μm 이하, 더욱 바람직하게는 5 μm 이상 25 μm 이하이며, 특히 바람직하게는 15 μm 이하이다. 편광 소자의 두께가 35 μm 이하임으로써, 고온 환경 하에서 PVA계 수지의 폴리엔화가 광학 특성의 저하에 미치는 영향을 억제할 수 있다. 편광 소자의 두께가 3 μm 이상임으로써 원하는 광학 특성을 달성하는 구성으로 하는 것이 용이해진다.
편광 소자는, 바람직하게는 요소계 화합물과 시클로덱스트린류를 포함한다. 본 실시형태에 있어서, 편광 소자와 중합성 액정 화합물의 경화층으로 이루어지는 위상차층이 요소계 화합물 및 시클로덱스트린류를 함유하는 접착제로 형성되는 접착제층에 의해 접합되어 있기 때문에, 요소계 화합물의 일부 및 시클로덱스트린류의 일부는 접착제층으로부터 이행하여 편광 소자에 포함되고 있다고 추측된다. 편광 소자 중의 요소계 화합물 및 시클로덱스트린류는, 편광 소자의 제조 과정에서 첨가된 것을 포함하고 있어도 좋다. 요소계 화합물과 시클로덱스트린류를 포함하는 편광 소자를 구비함으로써, 편광판을 고온 환경 하에 노출하더라도 투과율이 보다 저하되기 어려워진다. 또한, 요소계 화합물과 시클로덱스트린류를 포함하는 접착제층을 구비함으로써, 편광판을 고온 환경 하에 노출하더라도 편광도의 저하를 억제할 수 있다. 편광판의 편광도가 저하되면, 크로스 누설이 생기기 쉬워지지만, 본 실시형태에 의하면 고온 환경 하에 노출되더라도 편광도가 저하되기 어려워지므로, 크로스 누설도 억제하기 쉬워진다. 이러한 효과를 발휘하는 것은, 편광 소자에 포함되는 요소계 화합물과 시클로덱스트린류에 의해 PVA계 수지의 폴리엔화가 억제되기 때문이라고 추정된다.
편광 소자에 요소계 화합물과 시클로덱스트린류를 함유시키는 방법으로는, 요소계 화합물 및/또는 시클로덱스트린류를 함유하는 처리 용매에, PVA계 수지층을 침지하는 방법, 또는 처리 용매를 PVA계 수지층에 분무, 유하 혹은 적하하는 방법을 들 수 있다. 그 중에서도, 요소계 화합물과 시클로덱스트린류를 모두 함유하는 처리 용매에 PVA계 수지층을 침지시키는 방법이 바람직하게 이용된다.
요소계 화합물 및 시클로덱스트린류를 포함하는 처리 용매에 PVA계 수지층을 침지시키는 공정은, 후술하는 편광 소자의 제조 방법에서의 팽윤, 연신, 염색, 가교, 세정 등의 공정과 동시에 행해도 좋고, 이들 공정과는 별도로 마련해도 좋다. PVA계 수지층에 요소계 화합물 및 시클로덱스트린류를 함유시키는 공정은, PVA계 수지층을 요오드로 염색한 후에 행하는 것이 바람직하고, 염색 후의 가교 공정과 동시에 행하는 것이 보다 바람직하다. 이러한 방법에 의하면, 색상 변화가 작아, 편광 소자의 광학 특성에 미치는 영향을 작게 할 수 있다.
편광 소자에 요소계 화합물과 시클로덱스트린류를 함유시키기 위해, 편광 소자의 제조시에서의 첨가와 접착제에 대한 첨가의 양쪽을 모두 행해도 좋다. 또한, 편광 소자의 제조시에 요소계 화합물 및 시클로덱스트린류 중 한쪽을 함유시키고, 접착제에 다른 한쪽 또는 양쪽을 함유시켜도 좋고, 편광 소자의 제조시에 양쪽을 함유시키고, 접착제에 한쪽을 함유시켜도 좋다.
편광 소자는, 칼륨 이온(이하, 「제1 금속 이온」이라고 칭하는 경우가 있다.)을 포함하는 것이 바람직하고, 또한 칼륨 이온 이외의 금속 이온(이하, 「제2 금속 이온」이라고 칭하는 경우가 있다.)을 포함하는 것이 바람직하다.
편광 소자에서의 제2 금속 이온의 함유율은, 바람직하게는 0.05 질량% 이상 10.0 질량% 이하이며, 보다 바람직하게는 0.05 질량% 이상 8.0 질량% 이하이며, 더욱 바람직하게는 0.1 질량% 이상 6.0 질량% 이하이다. 제2 금속 이온의 함유율이 10.0 질량%를 넘는 경우에는, 고온 고습 환경에서 편광도가 저하되는 경우가 있다. 또한, 제2 금속 이온의 함유율이 0.05 질량% 미만인 경우에는, 고온 환경에서의 내구성의 향상 효과가 충분하지 않은 경우가 있다. 한편, 편광 소자에서의 제2 금속 이온의 함유율은, 예를 들면 고주파 유도 결합 플라즈마(Inductively Coupled Plasma: ICP) 발광 분광 분석법에 의해, 편광 소자의 질량에 대한 금속 원소의 질량 분율(질량%)로서 산출할 수 있다. 금속 원소는, 편광 소자 중에, 금속 이온 또는 그것이 폴리비닐알콜계 수지의 구성 요소와 가교 구조를 형성한 상태로 존재한다고 생각되지만, 여기서 말하는 제2 금속 이온의 함유율은 금속 원자로서의 값이다.
제2 금속 이온은, 칼륨 이온 이외의 금속 이온이라면 한정되지는 않고, 바람직하게는 알칼리 금속 이외의 금속의 이온이며, 특히 색조 조정이나 내구성 부여의 점에서 코발트, 니켈, 아연, 크롬, 알루미늄, 구리, 망간, 철 등의 전이 금속의 금속 이온의 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다. 이들 금속 이온 중에서도, 색조 조정이나 내열성 부여 등의 점에서 아연 이온이 바람직하다.
편광 소자의 붕소의 함유율은, 바람직하게는 2.4 질량% 이상이다. 또한, 붕소의 함유율은, 바람직하게는 3.9 질량% 이상 8.0 질량% 이하, 보다 바람직하게는 4.2 질량% 이상 7.0 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 4.4 질량% 이상 6.0 질량% 이하이다. 편광 소자의 붕소 함유율이 8.0 질량%를 넘는 경우에는, 편광 소자의 수축력이 커져, 화상 표시 장치에 내장하였을 때 접합되는 전면판 등의 다른 부재와의 사이에서 박리가 생기는 등의 문제가 생기는 경우가 있다. 또한, 붕소의 함유율이 2.4 질량% 미만인 경우에는, 원하는 광학 특성을 달성할 수 없는 경우가 있다. 한편, 편광 소자에서의 붕소의 함유율은, 예를 들면 고주파 유도 결합 플라즈마(Inductively Coupled Plasma: ICP) 발광 분광 분석법에 의해, 편광 소자의 질량에 대한 붕소의 질량 분율(질량%)로서 산출할 수 있다. 붕소는, 편광 소자 중에, 붕산 또는 그것이 폴리비닐알콜계 수지의 구성 요소와 가교 구조를 형성한 상태로 존재한다고 생각되지만, 여기서 말하는 붕소의 함유율은 붕소 원자(B)로서의 값이다.
편광 소자의 붕소의 함유율은, 2.4 질량% 이상 8.0 질량% 이하인 것이 바람직하고, 3.9 질량% 이상 8.0 질량% 이하인 것이 더욱 바람직하다. 이러한 수치 범위를 충족시킴으로써, 고온 환경 하에 노출된 경우에도 편광도의 저하가 억제된다.
편광 소자에서의 칼륨 이온의 함유율은, 고온 환경 하에서의 편광도의 저하를 억제하는 관점에서, 0.28 질량% 이상인 것이 바람직하고, 0.32 질량% 이상인 것이 보다 바람직하고, 0.34 질량% 이상인 것이 더욱 바람직하고, 그리고, 고온 환경 하에서의 색상 변화를 억제하는 관점에서, 0.60 질량% 이하인 것이 바람직하고, 0.55 질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.50 질량% 이하인 것이 더욱 바람직하다. 칼륨 이온의 함유율은, 제2 금속 이온의 함유율과 동일한 방법으로 측정할 수 있고, 여기서 말하는 칼륨 이온의 함유율은 칼륨 원자로서의 값이다.
상세한 메커니즘은 명확하지 않지만, 종래의 편광 소자보다 붕소의 함유량이 많고 칼륨 이온의 함유량이 적은 경우, 붕산 가교에 의해 편광 소자 중의 폴리비닐알콜의 수산기가 보호(안정화)되어 있는 점, 또한, 적량의 칼륨 이온의 함유율에 의해, 편광 소자 중에서 쌍이온이 되는 요오드 이온이 안정화되어 있는 것으로 추정된다.
(요소계 화합물)
요소계 화합물은, 요소, 요소 유도체, 티오요소 및 티오요소 유도체로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종이다. 요소계 화합물은, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다. 요소계 화합물에는 수용성인 것과 난수용성인 것이 있지만, 어느 요소계 화합물도 사용할 수 있다. 난수용성 요소계 화합물을 수용성 접착제에 이용하는 경우는, 접착제층을 형성 후, 헤이즈 상승 등이 일어나지 않도록 분산 방법을 연구하는 것이 바람직하다.
(요소 유도체)
요소 유도체는, 요소 분자의 4개의 수소 원자의 적어도 하나가, 치환기로 치환된 화합물이다. 이 경우, 치환기에 특별히 제한은 없지만, 탄소 원자, 수소 원자 및 산소 원자를 포함하는 치환기인 것이 바람직하다.
요소 유도체의 구체예로서, 1 치환 요소로서, 메틸요소, 에틸요소, 프로필요소, 부틸요소, 이소부틸요소, N-옥타데실요소, 2-히드록시에틸요소, 히드록시요소, 아세틸요소, 알릴요소, 2-프로피닐요소, 시클로헥실요소, 페닐요소, 3-히드록시페닐요소, (4-메톡시페닐)요소, 벤질요소, 벤조일요소, o-톨릴요소, p-톨릴요소를 들 수 있다.
2 치환 요소로서, 1,1-디메틸요소, 1,3-디메틸요소, 1,1-디에틸요소, 1,3-디에틸요소, 1,3-비스(히드록시메틸)요소, 1,3-tert-부틸요소, 1,3-디시클로헥실요소, 1,3-디페닐요소, 1,3-비스(4-메톡시페닐)요소, 1-아세틸-3-메틸요소, 2-이미다졸리디논(에틸렌요소), 테트라히드로-2-피리미디논(프로필렌요소)을 들 수 있다.
4 치환 요소로서, 테트라메틸요소, 1,1,3,3-테트라에틸요소, 1,1,3,3-테트라부틸요소, 1,3-디메톡시-1,3-디메틸요소, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, 1,3-디메틸-3,4,5,6-테트라히드로-2(1H)-피리미디논을 들 수 있다.
(티오요소 유도체)
티오요소 유도체는 티오요소 분자의 4개의 수소 원자의 적어도 하나가 치환기로 치환된 화합물이다. 이 경우, 치환기에 특별히 제한은 없지만, 탄소 원자, 수소 원자 및 산소 원자로 이루어지는 치환기인 것이 바람직하다.
티오요소 유도체의 구체예로서, 1 치환 티오요소로서, N-메틸티오요소, 에틸티오요소, 프로필티오요소, 이소프로필티오요소, 1-부틸티오요소, 시클로헥실티오요소, N-아세틸티오요소, N-알릴티오요소, (2-메톡시에틸)티오요소, N-페닐티오요소, (4-메톡시페닐)티오요소, N-(2-메톡시페닐)티오요소, N-(1-나프틸)티오요소, (2-피리딜)티오요소, o-톨릴티오요소, p-톨릴티오요소를 들 수 있다.
2 치환 티오요소로서, 1,1-디메틸티오요소, 1,3-디메틸티오요소, 1,1-디에틸티오요소, 1,3-디에틸티오요소, 1,3-디부틸티오요소, 1,3-디이소프로필티오요소, 1,3-디시클로헥실티오요소, N,N-디페닐티오요소, N,N'-디페닐티오요소, 1,3-디(o-톨릴)티오요소, 1,3-디(p-톨릴)티오요소, 1-벤질-3-페닐티오요소, 1-메틸-3-페닐티오요소, N-알릴-N'-(2-히드록시에틸)티오요소, 에틸렌티오요소를 들 수 있다.
3 치환 티오요소로서, 트리메틸티오요소를 들 수 있고, 4 치환 티오요소로서, 테트라메틸티오요소, 1,1,3,3-테트라에틸티오요소를 들 수 있다.
층간 충전 구성의 화상 표시 장치에 이용하였을 때에, 고온 환경 하에서의 투과율의 저하가 억제되고 편광도의 저하가 적은 점(크로스 누설이 억제되는 점)에서, 요소계 화합물 중에서는, 요소 유도체 또는 티오요소 유도체가 바람직하고, 요소 유도체가 보다 바람직하다. 요소 유도체 중에서도, 1 치환 요소 또는 2 치환 요소인 것이 바람직하고, 1 치환 요소인 것이 보다 바람직하다. 2 치환 요소에는 1,1-치환 요소와 1,3-치환 요소가 있지만, 1,3-치환 요소가 보다 바람직하다.
(시클로덱스트린류)
시클로덱스트린은, 글루코오스가 α-1,4 결합에서 환형으로 결합한 비환원성 환형 올리고당이다. 시클로덱스트린류를 구성하는 글루코오스수가 많을수록 분자 내 공동부의 내경이 커진다. 본 발명에서 이용되는 시클로덱스트린류로는, 구성하는 글루코오스수가 6개 이상인 것이 바람직하고, 예컨대 구성하는 글루코오스의 수가 각각 6, 7, 8, 9개인 α,β,γ,δ-시클로덱스트린을 들 수 있다. 시클로덱스트린류로는, α,β,γ,δ-시클로덱스트린에, 글루코오스 및 말토오스 등의 올리고당을 분기 당쇄에 갖는 분기 시클로덱스트린이 포함된다. 시클로덱스트린류로서, 상기 시클로덱스트린 또는 분기 시클로덱스트린에, 추가로 메틸기 등의 알킬기; 2-히드록시에틸기, 2-히드록시프로필기, 2,3-디히드록시프로필기, 2-히드록시부틸기 등의 히드록시알킬기 등을 결합시킨 시클로덱스트린 유도체 등이 포함된다. 시클로덱스트린류는, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.
(특징 (a))
특징 (a)를 갖는 경우, 편광 소자의 함수율은, 온도 20℃ 상대 습도 30%의 평형 함수율 이상이고, 온도 20℃ 상대 습도 50%의 평형 함수율 이하이다. 편광 소자의 함수율은, 바람직하게는 온도 20℃ 상대 습도 45%의 평형 함수율 이하이고, 보다 바람직하게는 온도 20℃ 상대 습도 42%의 평형 함수율 이하이며, 더욱 바람직하게는 온도 20℃ 상대 습도 38%의 평형 함수율 이하이다. 편광 소자의 함수율이 온도 20℃ 상대 습도 30%의 평형 함수율을 하회하면, 편광 소자의 핸들링성이 저하되어, 균열되기 쉬워진다. 편광 소자의 함수율이 온도 20℃ 상대 습도 50%의 평형 함수율을 상회하면, 편광 소자의 투과율이 저하되기 쉬워진다. 편광 소자의 함수율이 높으면, PVA계 수지의 폴리엔화가 진행되기 쉬워지기 때문이라고 추정된다. 편광 소자의 함수율은 편광판 중에서의 편광 소자의 함수율이다.
편광 소자의 함수율이 온도 20℃ 상대 습도 30%의 평형 함수율 이상이고, 온도 20℃ 상대 습도 50%의 평형 함수율 이하의 범위 내인지를 확인하는 방법으로서, 상기 온도와 상기 상대 습도의 범위로 조정된 환경에서 편광 소자를 보관하여, 일정 시간 질량의 변화가 없었을 경우에는 환경과 평형에 이르렀다고 간주하는 방법, 또는 상기 온도와 상기 상대 습도의 범위로 조정된 환경의 편광 소자의 평형 함수율을 미리 계산하고, 편광 소자의 함수율과 미리 계산한 평형 함수율을 대비함으로써 확인하는 방법을 들 수 있다.
함수율이 온도 20℃ 상대 습도 30%의 평형 함수율 이상이고, 온도 20℃ 상대 습도 50%의 평형 함수율 이하인 편광 소자를 제조하는 방법으로는, 특별히 한정되지 않지만, 예컨대 상기 온도와 상기 상대 습도의 범위로 조정된 환경에 편광 소자를 10분 이상 3시간 이하 보관하는 방법, 또는 30℃ 이상 90℃ 이하에서 가열 처리하는 방법을 들 수 있다.
상기 함수율인 편광 소자를 제조하는 다른 바람직한 방법으로는, 편광 소자의 적어도 편면에 보호 필름을 적층한 적층체를, 또는 편광 소자를 이용하여 구성한 편광판을, 상기 온도와 상기 상대 습도의 범위로 조정된 환경에, 10분 이상 120시간 이하 보관하는 방법, 또는 30℃ 이상 90℃ 이하에서 가열 처리하는 방법을 들 수 있다. 층간 충전 구성을 채용하는 화상 표시 장치의 제작시에 있어서, 편광판을 화상 표시 장치에 내장하고, 상기 온도와 상기 상대 습도의 범위로 조정된 환경에 편광판을 내장한 화상 표시 장치를 10분 이상 3시간 이하 보관 또는 30℃ 이상 90℃ 이하에서 가열한 후에, 전면판을 접합해도 좋다.
편광 소자의 함수율은, 편광 소자 단독 또는 편광 소자와 보호 필름의 적층체이며 편광판을 구성하기 위해 이용되는 재료 단계에서 함수율이 상기 수치 범위가 되도록 조정되어 있는 것이 바람직하다. 편광판을 구성한 후에 함수율을 조정한 경우에는, 컬이 지나치게 커져, 화상 표시 셀에 접합할 때에 문제가 발생하기 쉬워지는 경우가 있다. 편광판을 구성하기 전의 재료 단계에서 상기 함수율이 되도록 조정되어 있는 편광 소자를 이용하여 편광판을 구성함으로써, 함수율이 상기 수치 범위를 충족시키는 편광 소자를 구비하는 편광판을 용이하게 구성할 수 있다. 편광판을 화상 표시 셀에 접합한 상태에서, 편광판 중에서의 편광 소자의 함수율이 상기 수치 범위가 되도록 조정해도 좋다. 이 경우, 편광판은 화상 표시 셀에 접합되어 있기 때문에 컬이 생기기 어렵다.
(특징 (b))
특징 (b)를 갖는 경우, 편광판의 함수율은, 온도 20℃ 상대 습도 30%의 평형 함수율 이상이고, 온도 20℃ 상대 습도 50%의 평형 함수율 이하이다. 편광판의 함수율은, 바람직하게는 온도 20℃ 상대 습도 45%의 평형 함수율 이하이며, 보다 바람직하게는 온도 20℃ 상대 습도 42%의 평형 함수율 이하이고, 더욱 바람직하게는 온도 20℃ 상대 습도 38%의 평형 함수율 이하이다. 편광판의 함수율이 온도 20℃ 상대 습도 30%의 평형 함수율을 하회하면, 편광판의 핸들링성이 저하되어, 균열되기 쉬워진다. 편광판의 함수율이, 온도 20℃ 상대 습도 50%의 평형 함수율을 상회하면, 편광 소자의 투과율이 저하되기 쉬워진다. 편광판의 함수율이 높으면, PVA계 수지의 폴리엔화가 진행되기 쉬워지기 때문이라고 추정된다.
편광판의 함수율이 온도 20℃ 상대 습도 30%의 평형 함수율 이상이고, 온도 20℃ 상대 습도 50%의 평형 함수율 이하의 범위 내인지를 확인하는 방법으로서, 상기 온도와 상기 상대 습도의 범위로 조정된 환경에서 편광판을 보관하여, 일정 시간 질량의 변화가 없었을 경우에는 환경과 평형에 이르렀다고 간주하는 방법, 또는 상기 온도와 상기 상대 습도의 범위로 조정된 환경의 편광판의 평형 함수율을 미리 계산하고, 편광판의 함수율과 미리 계산한 평형 함수율을 대비함으로써 확인하는 방법을 들 수 있다.
함수율이 온도 20℃ 상대 습도 30%의 평형 함수율 이상이고, 온도 20℃ 상대 습도 50%의 평형 함수율 이하인 편광판을 제조하는 방법으로는, 특별히 한정되지 않지만, 예컨대 상기 온도와 상기 상대 습도의 범위로 조정된 환경에 편광판을 10분 이상 3시간 이하 보관하는 방법, 또는 30℃ 이상 90℃ 이하에서 가열 처리하는 방법을 들 수 있다.
층간 충전 구성을 채용하는 화상 표시 장치의 제작시에 있어서, 편광판을 화상 표시 장치에 내장하고, 상기 온도와 상기 상대 습도의 범위로 조정된 환경에 편광판을 내장한 화상 표시 장치를 10분 이상 3시간 이하 보관 또는 30℃ 이상 90℃ 이하에서 가열한 후에, 전면판을 접합해도 좋다.
(편광 소자의 제조 방법)
편광 소자의 제조 방법은 특별히 한정되지 않지만, 미리 롤 형상으로 감긴 PVA계 수지 필름을 송출하여 연신, 염색, 가교 등을 행하여 제작하는 방법(이하, 「제조 방법 1」이라고 한다.)이나 PVA계 수지를 포함하는 도포액을 기재 필름 상에 도포하여 도포층인 PVA계 수지층을 형성하고, 얻어진 적층체를 연신하는 공정을 포함하는 방법(이하, 「제조 방법 2」라고 한다.)이 전형적이다.
제조 방법 1은, PVA계 수지 필름을 일축 연신하는 공정, PVA계 수지 필름을 요오드 등의 이색성 색소로 염색하여 이색성 색소를 흡착시키는 공정, 이색성 색소가 흡착된 PVA계 수지 필름을 붕산 수용액으로 처리하는 공정 및 붕산 수용액에 의한 처리 후에 수세하는 공정을 거쳐 제조할 수 있다.
팽윤 공정은 PVA계 수지 필름을 팽윤욕 중에 침지하는 처리 공정이다. 팽윤 공정에 의해, PVA계 수지 필름 표면의 오염이나 블로킹제 등을 제거할 수 있는 것 외에, PVA계 수지 필름을 팽윤시킴으로써 염색 얼룩을 억제할 수 있다. 팽윤욕에는 통상 물, 증류수, 순수 등의 물을 주성분으로 하는 매체가 이용된다. 팽윤욕은 통상의 방법에 따라 계면활성제, 알콜 등이 적절히 첨가되어 있어도 좋다. 편광 소자의 칼륨 함유율을 제어하는 관점에서, 팽윤욕에 요오드화칼륨을 사용해도 좋고, 이 경우, 팽윤욕 중의 요오드화칼륨의 농도는 1.5 질량% 이하인 것이 바람직하고, 1.0 질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.5 질량% 이하인 것이 더욱 바람직하다.
팽윤욕의 온도는, 10℃ 이상 60℃ 이하인 것이 바람직하고, 15℃ 이상 45℃ 이하인 것이 보다 바람직하고, 18℃ 이상 30℃ 이하인 것이 더욱 바람직하다. 팽윤욕에 대한 침지 시간은, PVA계 수지 필름의 팽윤 정도가 팽윤욕 온도의 영향을 받기 때문에 일률적으로 결정할 수 없지만, 5초 이상 300초 이하인 것이 바람직하고, 10초 이상 200초 이하인 것이 보다 바람직하고, 20초 이상 100초 이하인 것이 더욱 바람직하다. 팽윤 공정은 1회만 실시되어도 좋고, 필요에 따라 복수회 실시되어도 좋다.
염색 공정은, PVA계 수지 필름을 염색욕(요오드 용액)에 침지하는 처리 공정이며, PVA계 수지 필름에 요오드 등의 이색성 색소를 흡착 및 배향시킬 수 있다. 요오드 용액은 통상 요오드 수용액인 것이 바람직하고, 요오드 및 용해 조제로서 요오드화물을 함유한다. 요오드화물로는, 요오드화칼륨, 요오드화리튬, 요오드화나트륨, 요오드화아연, 요오드화알루미늄, 요오드화납, 요오드화구리, 요오드화바륨, 요오드화칼슘, 요오드화주석, 요오드화티탄 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 편광 소자 중의 칼륨 함유율을 제어하는 관점에서, 요오드화칼륨이 적합하다.
염색욕 중의 요오드의 농도는, 0.01 질량% 이상 1 질량% 이하인 것이 바람직하고, 0.02 질량% 이상 0.5 질량% 이하인 것이 보다 바람직하다. 염색욕 중의 요오드화물의 농도는, 0.01 질량% 이상 10 질량% 이하인 것이 바람직하고, 0.05 질량% 이상 5 질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.1 질량% 이상 3 질량% 이하인 것이 더욱 바람직하다.
염색욕의 온도는, 10℃ 이상 50℃ 이하인 것이 바람직하고, 15℃ 이상 45℃ 이하인 것이 보다 바람직하고, 18℃ 이상 30℃ 이하인 것이 더욱 바람직하다. 염색욕에 대한 침지 시간은, PVA계 수지 필름의 염색 정도가 염색욕 온도의 영향을 받기 때문에 일률적으로 결정할 수 없지만, 10초 이상 300초 이하인 것이 바람직하고, 20초 이상 240초 이하인 것이 보다 바람직하다. 염색 공정은 1회만 실시되어도 좋고, 필요에 따라 복수회 실시되어도 좋다.
가교 공정은, 염색 공정에서 염색된 PVA계 수지 필름을, 붕소 화합물을 포함하는 처리욕(가교욕) 중에 침지하는 처리 공정이며, 붕소 화합물에 의해 폴리비닐알콜계 수지 필름이 가교되어, 요오드 분자 또는 염료 분자가 상기 가교 구조에 흡착될 수 있다. 붕소 화합물로는 예컨대 붕산, 붕산염, 붕사 등을 들 수 있다. 가교욕은 수용액이 일반적이지만, 물과의 혼화성이 있는 유기 용매 및 물의 혼합 용액이어도 좋다. 가교욕은, 편광 소자 중의 칼륨 함유율을 제어하는 관점에서, 요오드화칼륨을 포함하는 것이 바람직하다.
가교욕 중, 붕소 화합물의 농도는, 1 질량% 이상 15 질량% 이하인 것이 바람직하고, 1.5 질량% 이상 10 질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 2 질량% 이상 5 질량% 이하인 것이 더욱 바람직하다. 가교욕에 요오드화칼륨을 사용하는 경우, 가교욕 중의 요오드화칼륨의 농도는, 1 질량% 이상 15 질량% 이하인 것이 바람직하고, 1.5 질량% 이상 10 질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 2 질량% 이상 5 질량% 이하인 것이 더욱 바람직하다.
가교욕의 온도는, 20℃ 이상 70℃ 이하인 것이 바람직하고, 30℃ 이상 60℃ 이하인 것이 보다 바람직하다. 가교욕에 대한 침지 시간은, PVA계 수지 필름의 가교 정도가 가교욕 온도의 영향을 받기 때문에 일률적으로 결정할 수 없지만, 5초 이상 300초 이하인 것이 바람직하고, 10초 이상 200초 이하인 것이 보다 바람직하다. 가교 공정은 1회만 실시되어도 좋고, 필요에 따라 복수 회 실시되어도 좋다.
연신 공정은 PVA계 수지 필름을 적어도 한 방향으로 소정의 배율로 연신하는 처리 공정이다. 일반적으로는 PVA계 수지 필름을 반송 방향(길이 방향)으로 일축 연신한다. 연신 방법은 특별히 제한되지 않고, 습윤 연신법과 건식 연신법 어느 것이나 채용할 수 있다. 연신 공정은 1회만 실시되어도 좋고, 필요에 따라 복수회 실시되어도 좋다. 연신 공정은, 편광 소자의 제조에 있어서, 어느 단계에서 행해져도 좋다.
습윤 연신법에서의 처리욕(연신욕)은, 통상 물 또는 물과의 혼화성이 있는 유기 용매 및 물의 혼합 용액 등의 용매를 이용할 수 있다. 연신욕은, 편광 소자 중의 칼륨 함유율을 제어하는 관점에서, 요오드화칼륨을 포함하는 것이 바람직하다. 연신욕에 요오드화칼륨을 사용하는 경우, 연신욕 중의 요오드화칼륨의 농도는, 1 질량% 이상 15 질량% 이하인 것이 바람직하고, 2 질량% 이상 10 질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 3 질량% 이상 6 질량% 이하인 것이 더욱 바람직하다. 처리욕(연신욕)에는, 연신 중인 필름의 파단을 억제하는 관점에서, 붕소 화합물을 포함할 수 있다. 붕소 화합물을 포함하는 경우, 연신욕 중의 붕소 화합물의 농도는, 1 질량% 이상 15 질량% 이하인 것이 바람직하고, 1.5 질량% 이상 10 질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 2 질량% 이상 5 질량% 이하인 것이 더욱 바람직하다.
연신욕의 온도는, 25℃ 이상 80℃ 이하인 것이 바람직하고, 40℃ 이상 75℃ 이하인 것이 보다 바람직하고, 50℃ 이상 70℃ 이하인 것이 더욱 바람직하다. 연신욕에 대한 침지 시간은, PVA계 수지 필름의 연신 정도가 연신욕 온도의 영향을 받기 때문에 일률적으로 결정할 수 없지만, 10초 이상 800초 이하인 것이 바람직하고, 30초 이상 500초 이하인 것이 보다 바람직하다. 습윤 연신법에서의 연신 처리는, 팽윤 공정, 염색 공정, 가교 공정 및 세정 공정 중 어느 하나 이상의 처리 공정과 함께 행해도 좋다.
건식 연신법으로는, 예컨대 롤간 연신 방법, 가열 롤 연신 방법, 압축 연신 방법 등을 들 수 있다. 한편, 건식 연신법은 건조 공정과 함께 행해도 좋다.
폴리비닐알콜계 수지 필름에 실시되는 총 연신 배율(누적 연신 배율)은, 목적에 따라 적절하게 설정할 수 있지만, 2배 이상 7배 이하인 것이 바람직하고, 3배 이상 6.8배 이하인 것이 보다 바람직하고, 3.5배 이상 6.5배 이하인 것이 더욱 바람직하다.
세정 공정은, 폴리비닐알콜계 수지 필름을 세정욕 중에 침지하는 처리 공정이며, 폴리비닐알콜계 수지 필름의 표면 등에 잔존하는 이물을 제거할 수 있다. 세정욕은 통상 물, 증류수, 순수 등의 물을 주성분으로 하는 매체가 이용된다. 또한, 편광 소자 중의 칼륨 함유율을 제어하는 관점에서, 세정욕에 요오드화칼륨을 사용하는 것이 바람직하고, 이 경우, 세정욕 중 요오드화칼륨의 농도는, 1 질량% 이상 10 질량% 이하인 것이 바람직하고, 1.5 질량% 이상 4 질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 1.8 질량% 이상 3.8 질량% 이하인 것이 더욱 바람직하다.
세정욕의 온도는, 5℃ 이상 50℃ 이하인 것이 바람직하고, 10℃ 이상 40℃ 이하인 것이 보다 바람직하고, 15℃ 이상 30℃ 이하인 것이 더욱 바람직하다. 세정욕에 대한 침지 시간은, PVA계 수지 필름의 세정 정도가 세정욕 온도의 영향을 받기 때문에 일률적으로 결정할 수 없지만, 1초 이상 100초 이하인 것이 바람직하고, 2초 이상 50초 이하인 것이 보다 바람직하고, 3초 이상 20초 이하인 것이 더욱 바람직하다. 세정 공정은 1회만 실시되어도 좋고, 필요에 따라 복수회 실시되어도 좋다. 세정 공정에서의 연신 배율은 1.002배 이상인 것이 바람직하고, 1.003배 이상인 것이 보다 바람직하다. 또한, 세정 공정에서의 연신 배율은 1.02배 이하인 것이 바람직하고, 1.01배 이하인 것이 보다 바람직하다. 세정 공정에서의 연신 배율을 이와 같이 조정함으로써, 시감도 보정 편광도가 99.9% 이상이고, 파장 780 nm에서의 직교 투과율이 1.8% 이하인 편광 소자가 얻어지기 쉬워진다. 이것은, 세정 공정에서의 연신 배율을 조정함으로써, PVA의 결정의 배향도가 향상되고, 편광 소자 중의 요오드와 PVA 착체의 안정화가 촉진되는 것에 의한 것으로 추측된다.
건조 공정은 세정 공정에서 세정된 PVA계 수지 필름을 건조하여 편광 소자를 얻는 공정이다. 건조는 임의의 적절한 방법으로 행해지며, 예컨대 자연 건조, 송풍 건조, 가열 건조를 들 수 있다.
제조 방법 2는, PVA계 수지를 포함하는 도포액을 기재 필름 상에 도포하는 공정, 얻어진 적층 필름을 일축 연신하는 공정, 일축 연신된 적층 필름의 PVA계 수지층을 이색성 색소로 염색함으로써 흡착시켜 편광 소자로 하는 공정, 이색성 색소가 흡착된 필름을 붕산 수용액으로 처리하는 공정 및 붕산 수용액에 의한 처리 후에 수세하는 공정을 거쳐 제조할 수 있다. 편광 소자를 형성하기 위해 이용하는 기재 필름은 편광 소자의 보호층으로서 이용해도 좋다. 필요에 따라 기재 필름을 편광 소자로부터 박리 제거해도 좋다.
[투명 보호 필름]
본 실시형태에 있어서 이용되는 투명 보호 필름(이하, 단순히 「보호 필름」이라고도 칭한다.)은 편광 소자의 적어도 편면에 접착제층을 통해 접합된다. 이 투명 보호 필름은 편광 소자의 편면 또는 양면에 접합되지만, 양면에 접합되어 있는 것이 보다 바람직하다.
보호 필름은, 동시에 다른 광학적 기능을 갖고 있어도 좋고, 복수의 층이 적층된 적층 구조로 형성되어 있어도 좋다. 보호 필름의 막두께는 광학 특성의 관점에서 얇은 것이 바람직하지만, 지나치게 얇으면 강도가 저하되어 가공성이 떨어지는 것이 된다. 적절한 막두께로는, 5∼100 μm이며, 바람직하게는 10∼80 μm, 보다 바람직하게는 15∼70 μm이다.
보호 필름은, 셀룰로오스아실레이트계 필름, 폴리카보네이트계 수지로 이루어지는 필름, 노르보르넨 등 시클로올레핀계 수지로 이루어지는 필름, (메트)아크릴계 중합체 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르 수지계 필름 등의 필름을 이용할 수 있다. 편광 소자의 양면에 보호 필름을 갖는 구성의 경우, PVA 접착제 등의 수계 접착제를 이용하여 접합하는 경우는 투습도의 점에서 적어도 한쪽의 보호 필름은 셀룰로오스아실레이트계 필름 또는 (메트)아크릴계 중합체 필름의 어느 하나인 것이 바람직하고, 그 중에서도 셀룰로오스아실레이트 필름이 바람직하다.
적어도 한쪽의 보호 필름으로는, 시야각 보상 등의 목적으로 위상차 기능을 갖추고 있어도 좋고, 그 경우, 필름 자신이 위상차 기능을 갖고 있어도 좋고, 위상차층을 별도로 갖고 있어도 좋고, 양자의 조합이어도 좋다.
한편, 위상차 기능을 갖춘 필름은 접착제를 통해, 직접 편광 소자에 접합되는 구성에 대해 설명하였지만, 편광 소자에 접합된 별도의 보호 필름을 통해 점착제 또는 접착제를 통해 접합된 구성이더라도 상관없다.
[접착제층]
편광 소자에 보호 필름을 접합하기 위한 접착제층을 구성하는 접착제는, 적어도 한쪽은 수계 접착제가 이용되는 것이 바람직하다. 편광 소자의 양면에 보호 필름이 접합되어 있는 경우에는, 다른 한쪽에는, 수계 접착제, 용제계 접착제, 활성 에너지선 경화형 접착제 등 임의의 접착제를 이용할 수 있지만, 수계 접착제인 것이 바람직하다.
수계 접착제는, 내열성 향상의 관점에서, 요소계 화합물을 함유시키는 것도 유용하다. 수계 접착제는, 폴리비닐알콜계 수지(PVA계 수지)를 함유하는 것이 바람직하다. 수계 접착제는 추가로 시클로덱스트린류를 함유하는 것이 바람직하다. 수계 접착제에 첨가할 수 있는 요소계 화합물로는, 요소, 요소 유도체, 티오요소 및 티오요소 유도체로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종이며, 편광 소자가 함유해도 좋은 요소계 화합물을 예시할 수 있다. 수계 접착제에 첨가할 수 있는 시클로덱스트린류로는, 편광 소자가 함유해도 좋은 시클로덱스트린류를 예시할 수 있다.
접착제가 PVA계 수지를 함유하는 수계 접착제의 경우, 요소계 화합물의 첨가량은, PVA 수지 100 질량부에 대하여, 0.1 질량부 이상 400 질량부 이하인 것이 바람직하고, 1 질량부 이상 200 질량부 이하인 것이 보다 바람직하고, 3 질량부 이상 100 질량부 이하인 것이 더욱 바람직하다.
접착제가 PVA계 수지를 함유하는 수계 접착제의 경우, 시클로덱스트린류의 함유량은, PVA계 수지 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 1 질량부 이상 50 질량부 이하이며, 보다 바람직하게는 1.5 질량부 이상 40 질량부 이하이며, 더욱 바람직하게는 2 질량부 이상 35 질량부 이하이다. 1 질량부 미만이면, 고온 환경 하에서의 편광 소자의 폴리엔화의 억제 효과가 충분하지 않은 경우가 있다. 한편, 50 질량부를 넘는 경우에는, 편광판 제작 후에 시클로덱스트린류가 석출되는 경우가 있다.
접착제가 PVA계 수지를 함유하는 수계 접착제의 경우도, 내열성을 향상시키는 관점에서, 말레산 및 프탈산 등의 디카르복실산을 함유하고 있어도 좋다. 디카르복실산의 함유량은, PVA계 수지 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 0.01 질량부 이상 5 질량부 이하이며, 보다 바람직하게는 0.02 질량부 이상 1 질량부 이하이다.
접착제의 도포시의 두께는, 임의의 적절한 값으로 설정될 수 있다. 예컨대, 경화 후 또는 가열(건조) 후에, 원하는 두께를 갖는 접착제층(도공층)이 얻어지도록 설정한다. 접착제층의 두께는, 바람직하게는 0.01 μm 이상 7 μm 이하이며, 보다 바람직하게는 0.01 μm 이상 5 μm 이하이며, 더욱 바람직하게는 0.01 μm 이상 2 μm 이하이며, 가장 바람직하게는 0.01 μm 이상 1 μm 이하이다.
(수계 접착제)
수계 접착제로는, 임의의 적절한 수계 접착제가 채용될 수 있다. 그 중에서도, PVA계 수지를 포함하는 수계 접착제(PVA계 접착제)가 바람직하게 이용된다. 수계 접착제에 포함되는 PVA계 수지의 평균 중합도는, 접착성의 점에서, 바람직하게는 100∼5500, 더욱 바람직하게는 1000∼4500이다. 평균 비누화도는, 접착성의 점에서, 바람직하게는 85 몰%∼100 몰%이며, 더욱 바람직하게는 90 몰%∼100 몰%이다.
상기 수계 접착제에 포함되는 PVA계 수지로는, 아세토아세틸기를 함유하는 것이 바람직하고, 그 이유는, PVA계 수지층과 보호 필름의 밀착성이 우수하고, 내구성이 우수하기 때문이다. 아세토아세틸기 함유 PVA계 수지는, 예컨대, PVA계 수지와 디케텐을 임의의 방법으로 반응시킴으로써 얻어진다. 아세토아세틸기 함유 PVA계 수지의 아세토아세틸기 변성도는, 대표적으로는 0.1 몰% 이상이며, 바람직하게는 0.1 몰%∼20 몰%이다.
상기 수계 접착제의 수지 농도는, 바람직하게는 0.1 질량%∼15 질량%이며, 더욱 바람직하게는 0.5 질량%∼10 질량%이다.
수계 접착제에는 가교제를 함유시킬 수도 있다. 가교제로는 공지의 가교제를 이용할 수 있다. 예컨대, 수용성 에폭시 화합물, 디알데히드, 이소시아네이트 등을 들 수 있다.
PVA계 수지가 아세토아세틸기 함유 PVA계 수지인 경우는, 가교제로서 글리옥살, 글리옥실산염, 메틸올멜라민 중 어느 하나인 것이 바람직하고, 글리옥살, 글리옥실산염 중 어느 하나인 것이 바람직하고, 글리옥살인 것이 특히 바람직하다.
수계 접착제는 유기 용제를 함유할 수도 있다. 유기 용제는, 물과 혼화성을 갖는 점에서 알콜류가 바람직하고, 알콜류 중에서도 메탄올 또는 에탄올인 것이 보다 바람직하다. 요소계 화합물의 일부는 물에 대한 용해도가 낮은 반면, 알콜에 대한 용해도는 충분한 것이 있다. 그 경우는, 요소계 화합물을 알콜에 용해하여 요소계 화합물의 알콜 용액을 조제한 후, 요소계 화합물의 알콜 용액을 PVA 수용액에 첨가하여 접착제를 조제하는 것도 바람직한 양태의 하나이다.
수계 접착제의 메탄올의 농도는, 바람직하게는 10 질량% 이상 70 질량% 이하, 보다 바람직하게는 15 질량% 이상 60 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 20 질량% 이상 60 질량% 이하이다. 또한, 메탄올의 함유율이 70 질량% 이하임으로써, 색상의 악화를 억제할 수 있다.
(활성 에너지선 경화형 접착제)
활성 에너지선 경화형 접착제는, 자외선 등의 활성 에너지선을 조사함으로써 경화하는 접착제이며, 예컨대 중합성 화합물 및 광중합성 개시제를 포함하는 접착제, 광반응성 수지를 포함하는 접착제, 바인더 수지 및 광반응성 가교제를 포함하는 접착제 등을 들 수 있다. 상기 중합성 화합물로는, 광경화성 에폭시계 모노머, 광경화성 아크릴계 모노머, 광경화성 우레탄계 모노머 등의 광중합성 모노머 및 이들 모노머에 유래하는 올리고머 등을 들 수 있다. 상기 광중합개시제로는, 자외선 등의 활성 에너지선을 조사하여 중성 라디칼, 음이온 라디칼, 양이온 라디칼과 같은 활성종을 발생하는 물질을 포함하는 화합물을 들 수 있다.
<요소계 화합물 함유층>
요소계 화합물은, 상기와 같이 접착제층에 함유되는 경우에 한정되는 것은 아니며, 편광판의 내열성 향상의 관점에서, 접착제층 이외의 다른 층에 함유되어 있어도 좋다. 다른 층으로는, 투명 보호 필름의 설명에서 기재한 바와 같이, 최근, 편광판의 박형화의 요청에 부응하기 위해, 편광 소자의 편면에만 보호 필름을 갖는 편광판이 개발되고 있다. 이러한 구성에 있어서, 물리 강도를 높이는 것 등을 목적으로 하여, 편광 소자의 보호 필름을 갖지 않는 면에 경화층을 적층해도 좋다.
본 실시형태에서는, 이러한 경화층에 요소계 화합물을 함유시킬 수도 있다. 통상 이러한 경화층은 유기 용제를 포함하는 경화성 조성물로 형성되지만, 일본 특허 공개 2017-075986호 공보의 단락 [0020]∼[0042]에는 활성 에너지선 경화성 고분자 조성물의 수성 용액으로 이러한 경화층을 형성하는 방법이 기재되어 있다. 요소계 화합물은 수용성인 것이 많기 때문에, 이러한 조성물에 수용성의 요소계 화합물을 함유시켜도 좋다.
[편광판의 제조 방법]
본 실시형태의 편광판의 제조 방법은, 함수율 조정 공정과 적층 공정을 가질 수 있다. 함수율 조정 공정에서는, 특징 (a)를 갖는 편광판을 제조하는 경우는, 편광 소자의 함수율이 온도 20℃ 상대 습도 30%의 평형 함수율 이상이고, 온도 20℃ 상대 습도 50%의 평형 함수율 이하가 되도록 편광 소자의 함수율을 조정한다. 편광 소자의 함수율은, 전술한 편광 소자의 함수율의 기재에 따라서 조정할 수 있다. 함수율 조정 공정에서는, 특징 (b)를 갖는 편광판을 제조하는 경우는, 편광판의 함수율이 온도 20℃ 상대 습도 30%의 평형 함수율 이상이고, 온도 20℃ 상대 습도 50%의 평형 함수율 이하가 되도록 편광판의 함수율을 조정한다. 편광판의 함수율은, 전술한 편광판의 함수율의 기재에 따라서 조정할 수 있다. 적층 공정에서는, 편광 소자와 투명 보호 필름을 상기 접착제층을 통해 적층한다. 적층 공정에서는, 예컨대 요소계 화합물 및 시클로덱스트린류를 함유시키는 처리를 하지 않은 편광 소자와 투명 보호 필름을 요소계 화합물 및 시클로덱스트린류를 포함하는 접착제에 의해 접합한다. 함수율 조정 공정 및 적층 공정의 순서는 한정되지는 않고, 또한 함수율 조정 공정과 적층 공정이 병행하여 행해져도 좋다.
[화상 표시 장치의 구성]
본 실시형태의 편광판은, 액정 표시 장치나 유기 EL 표시 장치 등의 각종 화상 표시 장치에 이용된다. 화상 표시 장치에 대해, 편광판의 양면이 공기층 이외의 층, 구체적으로는 점착제층 등의 고체층이 접하도록 구성되어 있는 층간 충전 구성인 경우에는, 고온 환경 하에서 투과율이 저하되기 쉽다. 본 실시형태의 편광판을 이용한 화상 표시 장치에 있어서는, 층간 충전 구성이라 하더라도, 고온 환경 하에서의 편광판의 투과율 저하를 억제할 수 있다. 화상 표시 장치로는, 화상 표시 셀과, 화상 표시 셀의 시인측 표면에 적층된 제1 점착제층과, 제1 점착제층의 시인측 표면에 적층된 편광판을 갖는 구성이 예시된다. 이러한 화상 표시 장치는, 편광판의 시인측 표면에 적층된 제2 점착제층과, 제2 점착제층의 시인측 표면에 적층된 투명 부재를 더 가져도 좋다. 특히 본 실시형태의 편광판은, 화상 표시 장치의 시인측에 투명 부재가 배치되고, 편광판과 화상 표시 셀이 제1 점착제층에 의해 접합되고, 편광판과 투명 부재가 제2 점착제층에 의해 접합된 층간 충전 구성을 갖는 화상 표시 장치에 적합하게 이용된다. 본 명세서에 있어서는, 제1 점착제층 및 제2 점착제층 중 어느 한쪽 또는 양쪽을 단순히 「점착제층」이라고 칭하는 경우가 있다. 또한, 본 명세서에 있어서는, 「제1 점착제층/편광판/제2 점착제층」, 「제1 점착제층/편광판」, 「편광판/제2 점착제층」으로 이루어지는 층 구성을 「편광판」이라고도 칭하는 경우가 있다. 한편, 편광판과 화상 표시 셀의 접합에 이용되는 부재 및 편광판과 투명 부재의 접합에 이용되는 부재로는, 점착제층에 한정되지는 않고 접착제층이어도 좋다.
<화상 표시 셀>
화상 표시 셀로는, 액정 셀이나 유기 EL 셀을 들 수 있다. 액정 셀로는, 외광을 이용하는 반사형 액정 셀, 백라이트 등의 광원으로부터의 광을 이용하는 투과형 액정 셀, 외부로부터의 광과 광원으로부터의 광 양쪽을 이용하는 반투과 반반사형 액정 셀 중 어느 하나를 이용해도 좋다. 액정 셀이 광원으로부터의 광을 이용하는 것인 경우, 화상 표시 장치(액정 표시 장치)는, 화상 표시 셀(액정 셀)의 시인측과 반대측에도 편광판이 배치되고, 추가로 광원이 배치된다. 광원측의 편광판과 액정 셀은, 적절한 점착제층을 통해 접합되어 있는 것이 바람직하다. 액정 셀의 구동 방식으로는, 예컨대 VA 모드, IPS 모드, TN 모드, STN 모드나 벤드 배향(π형) 등의 임의의 타입인 것을 이용할 수 있다.
유기 EL 셀로는, 투명 기판 상에 투명 전극과 유기 발광층과 금속 전극을 차례로 적층하여 발광체(유기 일렉트로루미네선스 발광체)를 형성한 것 등이 적합하게 이용된다. 유기 발광층은, 다양한 유기 박막의 적층체이며, 예컨대 트리페닐아민 유도체 등으로 이루어지는 정공 주입층과, 안트라센 등의 형광성 유기 고체로 이루어지는 발광층의 적층체나, 이들 발광층과 페릴렌 유도체 등으로 이루어지는 전자 주입층의 적층체, 혹은 정공 주입층, 발광층 및 전자 주입층의 적층체 등, 다양한 층 구성이 채용될 수 있다.
<화상 표시 셀과 편광판의 접합>
화상 표시 셀과 편광판의 접합에는, 점착제층(점착 시트)이 적합하게 이용된다. 그 중에서도, 편광판의 한쪽 면에 점착제층이 부설된 점착제층 부착 편광판을 화상 표시 셀과 접합하는 방법이 작업성 등의 관점에서 바람직하다. 편광판에 대한 점착제층의 부설은 적절한 방식으로 행할 수 있다. 그 예로는, 톨루엔이나 아세트산에틸 등의 적절한 용제의 단독물 또는 혼합물로 이루어지는 용제에 베이스 폴리머 또는 그 조성물을 용해 혹은 분산시킨 10 질량% 이상 40 질량% 이하의 점착제 용액을 조제하고, 그것을 유연(流延) 방식이나 도공 방식 등의 적절한 전개 방식으로 편광판 상에 직접 부설하는 방식, 세퍼레이터 상에 점착제층을 형성하여 그것을 편광판에 이착(移着)하는 방식 등을 들 수 있다.
<점착제층>
점착제층은 1층 또는 2층 이상으로 이루어져도 좋지만, 바람직하게는 1층으로 이루어진다. 점착제층은 (메트)아크릴계 수지, 고무계 수지, 우레탄계 수지, 에스테르계 수지, 실리콘계 수지, 폴리비닐에테르계 수지를 주성분으로 하는 점착제 조성물로 구성할 수 있다. 그 중에서도 투명성, 내후성, 내열성 등이 우수한 (메트)아크릴계 수지를 베이스 폴리머로 하는 점착제 조성물이 적합하다. 점착제 조성물은 활성 에너지선 경화형 또는 열경화형이어도 좋다.
점착제 조성물에 이용되는 (메트)아크릴계 수지(베이스 폴리머)로는, (메트)아크릴산부틸, (메트)아크릴산에틸, (메트)아크릴산이소옥틸, (메트)아크릴산2-에틸헥실 등의 (메트)아크릴산에스테르의 1종 또는 2종 이상을 모노머로 하는 중합체 또는 공중합체가 적합하게 이용된다. 베이스 폴리머에는 극성 모노머를 공중합시키는 것이 바람직하다. 극성 모노머로는, (메트)아크릴산 화합물, (메트)아크릴산2-히드록시프로필 화합물, (메트)아크릴산히드록시에틸 화합물, (메트)아크릴아미드 화합물, N,N-디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트 화합물, 글리시딜(메트)아크릴레이트 화합물 등의, 카르복실기, 수산기, 아미드기, 아미노기, 에폭시기 등을 갖는 모노머를 들 수 있다.
점착제 조성물은, 상기 베이스 폴리머만을 포함하는 것이어도 좋지만, 통상은 가교제를 더 함유한다. 가교제로는, 2가 이상의 금속 이온으로서, 카르복실기와의 사이에서 카르복실산 금속염을 형성하는 금속 이온, 카르복실기와의 사이에서 아미드 결합을 형성하는 폴리아민 화합물, 카르복실기와의 사이에서 에스테르 결합을 형성하는 폴리에폭시 화합물 또는 폴리올, 카르복실기와의 사이에서 아미드 결합을 형성하는 폴리이소시아네이트 화합물이 예시된다. 그 중에서도 폴리이소시아네이트 화합물이 바람직하다.
활성 에너지선 경화형 점착제 조성물은, 자외선이나 전자선과 같은 활성 에너지선의 조사를 받아 경화하는 성질을 갖고 있고, 활성 에너지선 조사 전에도 점착성을 갖고 있어 필름 등의 피착체에 밀착시킬 수 있고, 활성 에너지선의 조사에 의해 경화하여 밀착력의 조정을 할 수 있는 성질을 갖는다. 활성 에너지선 경화형 점착제 조성물은, 자외선 경화형인 것이 바람직하다. 활성 에너지선 경화형 점착제 조성물은, 베이스 폴리머, 가교제 이외에, 활성 에너지선 중합성 화합물을 더 함유한다. 필요에 따라 광중합개시제, 광증감제 등을 함유시켜도 좋다.
점착제 조성물은, 광산란성을 부여하기 위한 미립자, 비드(수지 비드, 유리 비드 등), 유리 섬유, 베이스 폴리머 이외의 수지, 점착성 부여제, 충전제(금속 가루나 그 밖의 무기 분말 등), 산화방지제, 자외선흡수제, 염료, 안료, 착색제, 소포제, 부식방지제, 광중합개시제 등의 첨가제를 포함할 수 있다.
점착제층은, 상기 점착제 조성물의 유기 용제 희석액을 기재 필름, 화상 표시 셀 또는 편광판의 표면 상에 도포하여 건조시킴으로써 형성할 수 있다. 기재 필름은 열가소성 수지 필름인 것이 일반적이고, 그 전형적인 예로서, 이형 처리가 행해진 세퍼레이트 필름을 들 수 있다. 세퍼레이트 필름은, 예컨대 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트 등의 수지로 이루어지는 필름의 점착제층이 형성되는 면에, 실리콘 처리 등의 이형 처리가 행해진 것일 수 있다.
세퍼레이트 필름의 이형 처리면에 점착제 조성물을 직접 도포하여 점착제층을 형성하고, 이 세퍼레이트 필름 부착 점착제층을 편광체의 표면에 적층해도 좋다. 편광판의 표면에 점착제 조성물을 직접 도포하여 점착제층을 형성하고, 점착제층의 외면에 세퍼레이트 필름을 적층해도 좋다.
점착제층을 편광판의 표면에 형성할 때에는, 편광판의 접합면 및/또는 점착제층의 접합면에, 플라즈마 처리, 코로나 처리 등의 표면 활성화 처리를 행하는 것이 바람직하고, 코로나 처리를 행하는 것이 보다 바람직하다.
또한, 제2 세퍼레이트 필름 상에 점착제 조성물을 도포하여 점착제층을 형성하고, 형성된 점착제층 상에 세퍼레이트 필름을 적층한 점착제 시트를 준비하여, 이 점착제 시트로부터 제2 세퍼레이트 필름을 박리한 후의 세퍼레이트 필름 부착 점착제층을 편광판에 적층해도 좋다. 제2 세퍼레이트 필름은, 세퍼레이트 필름보다 점착제층과의 밀착력이 약하여, 박리하기 쉬운 것이 이용된다.
점착제층의 두께는, 특별히 한정되지 않지만, 예컨대 1 μm 이상 100 μm 이하인 것이 바람직하다. 제1 점착제층과 제2 점착제층을 구비하는 경우, 한쪽의 두께는 50 μm 이하이며, 다른쪽의 두께는 50 μm 이상이어도 좋다. 점착제층은, 두께가 50 μm 이하인 경우, 3 μm 이상 50 μm 이하인 것이 보다 바람직하고, 20 μm 이상이어도 좋고, 50 μm 미만이어도 좋다. 점착제층은, 두께가 50 μm 이상인 경우, 50 μm 이상 100 μm 이하인 것이 바람직하고, 80 μm 이하여도 좋다.
<투명 부재>
화상 표시 장치의 시인측에 배치되는 투명 부재로는, 투명판(윈도우층)이나 터치 패널 등을 들 수 있다. 투명판으로는, 적절한 기계 강도 및 두께를 갖는 투명판이 이용된다. 이러한 투명판으로는, 예컨대 폴리이미드계 수지, 아크릴계 수지나 폴리카보네이트계 수지와 같은 투명 수지판 혹은 유리판 등을 들 수 있다. 투명판의 시인측에는 반사 방지층 등의 기능층이 적층되어 있어도 상관없다. 또한, 투명판이 투명 수지판인 경우는, 물리 강도를 높이기 위해 하드 코트층이나, 투습도를 낮추기 위해 저투습층이 적층되어 있어도 상관없다. 터치 패널로는, 저항막 방식, 정전 용량 방식, 광학 방식, 초음파 방식 등의 각종 터치 패널이나, 터치 센서 기능을 갖춘 유리판이나 투명 수지판 등이 이용된다. 투명 부재로서 정전 용량 방식의 터치 패널이 이용되는 경우, 터치 패널보다 더 시인측에, 유리 또는 투명 수지판으로 이루어지는 투명판이 설치되는 것이 바람직하다.
<편광판과 투명 부재의 접합>
편광판과 투명 부재의 접합에는, 점착제 또는 활성 에너지선 경화형 접착제가 적합하게 이용된다. 점착제가 이용되는 경우, 점착제의 부설은 적절한 방식으로 행할 수 있다. 구체적인 부설 방법으로는, 예컨대 전술한 화상 표시 셀과 편광판의 접합에서 이용한 점착제층의 부설 방법을 들 수 있다.
활성 에너지선 경화형 접착제를 이용하는 경우, 경화 전의 접착제 용액의 확산을 방지할 목적으로, 화상 표시 패널 상의 주연부를 둘러싸도록 댐재가 설치되고, 댐재 상에 투명 부재를 배치하여, 접착제 용액을 주입하는 방법이 적합하게 이용된다. 접착제 용액의 주입 후에는, 필요에 따라 위치 맞춤 및 탈포(脫泡)가 행해진 후, 활성 에너지선이 조사되어 경화가 행해진다.
실시예
이하, 실시예에 기초하여 본 발명을 구체적으로 설명한다. 이하의 실시예에 나타내는 재료, 시약, 물질량과 그 비율, 조작 등은 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 한 적절하게 변경할 수 있다. 따라서, 본 발명은 이하의 실시예에 한정되어 제한되는 것은 아니다.
(편광 소자 1의 제작)
붕소 흡착률이 5.71 질량%인 두께 30 μm의 폴리비닐알콜계 수지 필름을, 21.5℃의 순수에 79초 침지한 후(팽윤 처리), 요오드화칼륨/붕산/물의 질량비가 2/2/100이며, 요오드를 1.0 mM 포함하는 23℃의 수용액에 151초 침지하였다(염색 공정). 그 후, 요오드화칼륨/붕산/물의 질량비가 2.5/4/100인 62.8℃의 수용액에 76초 침지하였다(제1 가교 공정). 계속해서, 요오드화칼륨/붕산/염화아연/물의 질량비가 3/5.5/0.6/100인 45℃의 수용액에 11초 침지하였다(제2 가교 공정, 금속 이온 처리 공정). 그 후, 세정욕에 침지시켜 세정하고(세정 공정), 38℃에서 건조시켜(건조 공정), 폴리비닐알콜에 요오드가 흡착 배향된 두께 12 μm의 편광 소자를 얻었다. 연신은, 주로 염색 공정 및 제1 가교 공정의 공정에서 행하고, 마지막 세정 공정에서는 1.002배의 연신을 행하였다. 이렇게 해서 얻어진 편광 소자의 토탈의 연신 배율은 5.86배였다. 얻어진 편광 소자의 아연 이온 함유율은 0.07 질량%, 붕소 함유율은 4.48 질량%이며, 파장 780 nm에서의 직교 투과율(Tc(780))은 1.5%였다.
(편광 소자 2의 제작)
붕소 흡착률이 5.71 질량%인 두께 30 μm의 폴리비닐알콜계 수지 필름을, 21.5℃의 순수에 79초 침지한 후(팽윤 처리), 요오드화칼륨/붕산/물의 질량비가 2/2/100이며, 요오드를 1.0 mM 포함하는 23℃의 수용액에 151초 침지하였다(염색 공정). 그 후, 요오드화칼륨/붕산/물의 질량비가 2.5/4/100인 62.8℃의 수용액에 76초 침지하였다(제1 가교 공정). 계속해서, 요오드화칼륨/붕산/염화아연/물의 질량비가 3/5.5/0.6/100인 45℃의 수용액에 11초 침지하였다(제2 가교 공정, 금속 이온 처리 공정). 그 후, 세정욕에 침지시켜 세정하고(세정 공정), 38℃에서 건조시켜(건조 공정), 폴리비닐알콜에 요오드가 흡착 배향된 두께 12 μm의 편광 소자를 얻었다. 연신은, 주로 염색 공정 및 제1 가교 공정의 공정에서 행하고, 마지막 세정 공정에서는 1.005배의 연신을 행하였다. 이렇게 해서 얻어진 편광 소자의 토탈의 연신 배율은 5.88배였다. 얻어진 편광 소자의 아연 이온 함유율은 0.07 질량%, 붕소 함유율은 4.48 질량%이며, 파장 780 nm에서의 직교 투과율(Tc(780))은 1.0%였다.
(편광 소자 3의 제작)
붕소 흡착률이 5.71 질량%인 두께 30 μm의 폴리비닐알콜계 수지 필름을, 21.5℃의 순수에 79초 침지한 후(팽윤 처리), 요오드화칼륨/붕산/물의 질량비가 2/2/100이며, 요오드를 1.0 mM 포함하는 23℃의 수용액에 151초 침지하였다(염색 공정). 그 후, 요오드화칼륨/붕산/물의 질량비가 2.5/4/100인 62.8℃의 수용액에 76초 침지하였다(제1 가교 공정). 계속해서, 요오드화칼륨/붕산/염화아연/물의 질량비가 3/5.5/0.6/100인 45℃의 수용액에 11초 침지하였다(제2 가교 공정, 금속 이온 처리 공정). 그 후, 세정욕에 침지시켜 세정하고(세정 공정), 38℃에서 건조시켜(건조 공정), 폴리비닐알콜에 요오드가 흡착 배향된 두께 12 μm의 편광 소자를 얻었다. 연신은, 주로 염색 공정 및 제1 가교 공정의 공정에서 행하고, 마지막 세정 공정에서는 1.01배의 연신을 행하였다. 이렇게 해서 얻어진 편광 소자의 토탈의 연신 배율은 5.91배였다. 얻어진 편광 소자의 아연 이온 함유율은 0.07 질량%, 붕소 함유율은 4.48 질량%이며, 파장 780 nm에서의 직교 투과율(Tc(780))은 0.5%였다.
(편광 소자 4의 제작)
붕소 흡착률이 5.71 질량%인 두께 30 μm의 폴리비닐알콜계 수지 필름을, 21.5℃의 순수에 79초 침지한 후(팽윤 처리), 요오드화칼륨/붕산/물의 질량비가 2/2/100이며, 요오드를 1.0 mM 포함하는 23℃의 수용액에 151초 침지하였다(염색 공정). 그 후, 요오드화칼륨/붕산/물의 질량비가 2.5/4/100인 62.8℃의 수용액에 76초 침지하였다(제1 가교 공정). 계속해서, 요오드화칼륨/붕산/염화아연/물의 질량비가 3/5.5/0.6/100인 45℃의 수용액에 11초 침지하였다(제2 가교 공정, 금속 이온 처리 공정). 그 후, 세정욕에 침지시켜 세정하고(세정 공정), 38℃에서 건조시켜(건조 공정), 폴리비닐알콜에 요오드가 흡착 배향된 두께 12 μm의 편광 소자를 얻었다. 연신은, 주로 염색 공정 및 제1 가교 공정의 공정에서 행하고, 마지막 세정 공정에서는 1.00배의 연신(연신을 하지 않음)을 행하였다. 이렇게 해서 얻어진 편광 소자의 토탈의 연신 배율은 5.85배였다. 얻어진 편광 소자의 아연 이온 함유율은 0.07 질량%, 붕소 함유율은 4.48 질량%이며, 파장 780 nm에서의 직교 투과율(Tc(780))은 2.0%였다.
(편광 소자 5의 제작)
붕소 흡착률이 5.71 질량%인 두께 30 μm의 폴리비닐알콜계 수지 필름을, 21.5℃의 순수에 79초 침지한 후(팽윤 처리), 요오드화칼륨/붕산/물의 질량비가 2/2/100이며, 요오드를 1.0 mM 포함하는 23℃의 수용액에 151초 침지하였다(염색 공정). 그 후, 요오드화칼륨/붕산/물의 질량비가 2.5/4/100인 62.8℃의 수용액에 90초 침지하였다(제1 가교 공정). 계속해서, 요오드화칼륨/붕산/염화아연/물의 질량비가 3/5.5/0.6/100인 45℃의 수용액에 11초 침지하였다(제2 가교 공정, 금속 이온 처리 공정). 그 후, 세정욕에 침지시켜 세정하고(세정 공정), 38℃에서 건조시켜(건조 공정), 폴리비닐알콜에 요오드가 흡착 배향된 두께 12 μm의 편광 소자를 얻었다. 연신은, 주로 염색 공정 및 제1 가교 공정의 공정에서 행하고, 마지막 세정 공정에서는 1.00배의 연신을 행하였다. 이렇게 해서 얻어진 편광 소자의 토탈의 연신 배율은 5.85배였다. 얻어진 편광 소자의 아연 이온 함유율은 0.07 질량%, 붕소 함유율은 4.48 질량%이며, 파장 780 nm에서의 직교 투과율(Tc(780))은 0.3%였다.
(편광 소자 1∼5의 시감도 보정 편광도의 측정)
얻어진 편광 소자로부터 세로 약 30 mm×가로 약 30 mm 사이즈의 시험편을 잘라내어 측정 샘플을 제작하였다. 얻어진 측정 샘플에 대해, 파장 380∼780 nm의 범위에서의 단체(單體) 투과율 및 편광도를 측정하였다.
편광도(λ)=100×{(Tp(λ)-Tc(λ))/(Tp(λ)+ Tc(λ))}1/2
로 정의된다.
Tp(λ)는, 입사하는 파장 λ nm의 직선 편광과 패럴렐 니콜의 관계로 측정한 편광 소자의 평행 투과율(%)이며, Tc(λ)는, 입사하는 파장 λ nm의 직선 편광과 크로스 니콜의 관계로 측정한 편광 소자의 직교 투과율(%)이다. 또한, 각 파장마다 구한 편광도(λ)에 대하여 시감도 보정을 행하여 시감도 보정 편광도 Py를 구하였다. Py는, C 광원을 구비한 적분구 부착 분광 광도계〔니혼분코(주) 제조의 「V7100」〕를 사용하여 측정하였다.
(편광 소자 1∼5의 파장 780 nm에서의 직교 투과율의 측정)
상기에서 측정한 파장 780 nm에서의 직교 투과율, 즉 Tc(780)를 이용하였다.
(PVA계 수지 필름의 붕소 흡착률의 측정)
사방 100 mm로 재단한 PVA계 수지 필름을, 30℃의 순수에 60초간 침지하고, 그 후, 붕산 5부를 포함하는 60℃의 수용액에 120초 침지시켰다. 붕산 수용액으로부터 취출한 PVA계 수지 필름을 80℃ 오븐에서 11분간 건조하였다. 23℃ 55%RH의 환경에서 24시간 조습하여, 붕소 함유 PVA 필름을 얻었다. 이렇게 해서 얻어진 붕소 함유 PVA계 수지 필름 0.2 g을, 1.9 질량%의 만니톨 수용액 200 g에 용해시켰다. 이어서, 얻어진 수용액을 1 몰/L의 수산화나트륨 수용액으로 적정하고, 중화에 필요한 수산화나트륨 수용액의 양과 검량선의 비교에 의해, PVA계 수지 필름의 붕소 함유율을 산출하였다. 이렇게 해서 얻어진 PVA계 수지 필름의 붕소 함유율을, PVA계 수지 필름의 붕소 흡착률로서 이용하였다.
(편광 소자의 아연 이온 함유율의 측정)
정칭(精秤)한 편광 소자에 질산을 가하고, 마일스톤 제네럴 제조 마이크로파 시료 전처리 장치(ETHOS D)로 산분해하여 얻어진 용액을 측정액으로 하였다. 아연 이온 함유율은, 애질런트 테크놀로지 제조 ICP 발광 분광 분석 장치(5110 ICP-OES)로 측정액의 아연 농도를 정량하여, 편광 소자 질량에 대한 아연 질량으로 산출하였다.
(편광 소자의 붕소 함유율의 측정)
편광 소자 0.2 g을 1.9 질량%의 만니톨 수용액 200 g에 용해시켰다. 이어서, 얻어진 수용액을 1 몰/L의 수산화나트륨 수용액으로 적정하고, 중화에 필요한 수산화나트륨 수용액의 양과 검량선의 비교에 의해, 편광 소자의 붕소 함유율을 산출하였다.
표 1에 편광 소자 1∼5의 시감도 보정 편광도(Py)와, 직교 투과율(Tc(780))의 값을 나타낸다.
(접착제용 PVA 용액의 조제)
아세토아세틸기를 함유하는 변성 PVA계 수지(미쓰비시케미컬(주) 제조: 고세넥스 Z-410) 50 g을 950 g의 순수에 용해하고, 90℃에서 2시간 가열 후 상온으로 냉각시켜, 접착제용 PVA 용액을 얻었다.
(요소 수용액의 조제)
순수 90 g에 요소(도쿄 카세이 고교 가부시키가이샤의 시약) 10 g을 첨가하여, 요소 10 중량% 수용액을 얻었다.
(편광판용 접착제 1의 조제)
상기에서 조제한, 접착제용 PVA 용액, 요소 수용액, 순수 및 메탄올을, PVA 농도 3.0%, 메탄올 농도 20%, 요소 농도 0.2%가 되도록 배합하여, 편광판용 접착제 1을 얻었다.
(편광판용 접착제 2의 조제)
상기에서 조제한, 접착제용 PVA 용액, 순수 및 메탄올을, PVA 농도 3.0%, 메탄올 농도 20%가 되도록 배합하여, 편광판용 접착제 2를 얻었다.
(셀룰로오스아실레이트 필름의 비누화)
시판하는 셀룰로오스아실레이트 필름 TD40(후지필름(주) 제조: 막두께 40 μm)을, 55℃로 유지한 1.5 mol/L의 NaOH 수용액(비누화액)에 2분간 침지하였다. 그 후, 필름을 수세하였다. 25℃의 0.05 mol/L의 황산 수용액에 30초 침지하였다. 수세욕을 30초 유수 하에 더 통과시켜, 필름을 중성의 상태로 하였다. 그리고, 에어나이프에 의한 물기 제거를 3회 반복하여 물기를 없앴다. 70℃의 건조 존에 15초간 체류시켜 건조하여, 비누화 처리한 필름을 제작하였다.
(편광판 1의 제작)
편광 소자 1의 양면에, 상기에서 제작한 비누화 처리한 셀룰로오스아실레이트 필름을, 편광판용 접착제 1을 통해, 롤 접합기를 이용하여 접합하였다. 건조 후의 접착제층의 두께가 양면 모두 80 nm이 되도록 조정하였다. 롤 접합기를 이용하여 접합한 후에 60℃에서 10분간 건조하여, 양면 셀룰로오스아실레이트 필름 부착 편광판 1을 얻었다.
(편광판 2∼6의 제작)
편광 소자와 편광판용 접착제에 대해, 표 2에 기재된 것을 이용한 점 외에는, 편광판 1과 동일하게 편광판 2∼6을 제작하였다.
(편광판(편광 소자)의 함수율의 조정)
상기에서 얻어진 편광판 1∼6을 온도 20℃에서, 상대 습도 30%, 35%, 40%, 45%, 50% 또는 55%의 조건으로 72시간 보관하였다. 보관 66시간, 69시간 및 72시간에서 칼피셔법을 이용하여 함수율을 측정하였다. 어느 습도 조건에서도, 보관 66시간, 69시간, 72시간에서 함수율의 값이 변하지 않았다. 따라서, 편광판 1∼6의 함수율은, 본 실험예에서 이용되는 72시간의 보관 환경의 평형 함수율과 동일하다고 간주할 수 있다. 편광판의 함수율이, 어떤 보관 환경에서 평형에 도달하였을 때에는, 편광판 중의 편광 소자의 함수율도 마찬가지로, 그 보관 환경에서 평형에 도달하였다고 간주할 수 있다. 또한, 편광판 중의 편광 소자의 함수율이, 어떤 보관 환경에서 평형에 도달하였을 때에는, 편광판의 함수율도 마찬가지로, 그 보관 환경에서 평형에 도달하였다고 간주할 수 있다.
(광학 적층체 1의 제작)
일본 특허 공개 제2018-025765호 공보의 실시예를 참고로, 상기에서 제작한 편광판 1의 양면에 아크릴계 점착제(제조원: 린테크(주), 품번: #7)를 도포함으로써, 편면에 두께가 25 μm인 점착제층(제1 점착제층)과 다른 한쪽 면에 두께가 150 μm인 제2 점착제층을 갖는 광학 적층체 1을 제작하였다. 한편, 편광판의 함수율은 온도 20℃에서 상대 습도 45%의 조건으로 72시간 보관한 것을 이용하였다.
(광학 적층체 2∼6의 제작)
편광판에 대해, 표 2에 기재된 것을 이용한 점 외에는, 광학 적층체 1과 동일하게 하여 광학 적층체 2∼6을 제작하였다.
(검사용 편광판 1)
편광판 1의 편면에만 아크릴계 점착제(제조원: 린테크(주), 품번: #7)를 적층하여, 검사용 편광판 1을 제작하였다. 이렇게 해서 제작한 검사용 편광판 1을 짧은 변이 흡수축과 평행해지도록 50 mm×100 mm의 크기로 재단하여, 상기 점착제층의 표면을 무알칼리 유리〔상품명“EAGLE XG”, 코닝사 제조, 두께 1.1 mm〕에 접합하여, 크로스 평가용 샘플 1을 제작하였다.
[고온 내구 시험 후의 단체 투과율 평가(105℃)]
상기에서 제작한 광학 적층체 1∼6을 각각, 긴 변이 흡수축과 평행해지도록 50 mm×100 mm의 크기로 재단하여, 제1 점착제층 및 제2 점착제층 각각의 표면을 무알칼리 유리〔상품명“EAGLE XG”, 코닝사 제조〕에 접합함으로써, 평가 샘플을 제작하였다.
이 평가 샘플에, 온도 50℃, 압력 5 kgf/㎠(490.3 kPa)로 1시간 오토클레이브 처리한 후, 온도 23℃, 상대 습도 55%의 환경 하에서 24시간 방치하였다. 그 후, 투과율을 측정하고(초기값), 온도 105℃의 가열 환경 하에 보관하고, 100시간 간격으로 투과율을 측정하였다. 초기값에 대하여 투과율 저하가 5% 이상에 도달한 시간을 기초로 이하의 기준으로 평가하였다. 얻어진 결과를 표 2에 나타낸다.
400시간 경과한 시점에서 투과율의 저하가 5% 미만인 것: A
300∼400시간에서 투과율의 저하가 5% 이상에 도달한 것: B
200∼300시간에서 투과율의 저하가 5% 이상에 도달한 것: C
200시간 경과한 시점에서 투과율의 저하가 5% 이상인 것: D
[고온 내구 시험 후의 크로스 누설의 평가]
고온 내구 후의 단체 투과율 평가 샘플을 300시간 후의 평가를 행한 후에, 상기 광학 적층체와 가열 환경 하에 투입하지 않은 크로스 평가용 샘플 1을 크로스니콜 상태가 되도록 배치하여, 백라이트 상에 얹었다. 주위를 차광하고, 크로스 누설을 육안으로, 이하의 기준에 따라서 평가하였다. 한편, 300시간이 경과한 시점에서 단체 투과율이 5% 이상 저하된 샘플에 대해서는, 폴리엔화에 의한 착색이 있기 때문에 크로스 누설의 평가 대상으로부터 제외하였다. 표 2에 결과를 나타낸다.
크로스 누설이 전혀 보이지 않는 것: A
크로스 누설이 거의 보이지 않는 것: B
크로스 누설이 약간 보이는 것: C
크로스 누설이 분명히 보이는 것: D
[백(白)휘도의 평가]
상기와 동일하게 평가 샘플을 제작하였다. 평가 샘플을 백색 백라이트 모듈의 발광면에 놓았다. 제1 점착제층에 접합된 유리판측이, 백색 백라이트 모듈을 향해 있었다. 백색 백라이트 모듈의 휘도는 1000 cd/㎥이었다. 제2 점착제층에 접합된 유리판측으로부터 휘도를 측정하였다. 휘도는 가부시키가이샤 탑콘 제조의 분광 방사 휘도계 SR-UL1을 이용하여 측정하였다. 한편, 측정은 2° 시야로 행하였다. 측정한 휘도를 이하의 기준으로 3단계 평가하였다. 표 2에 결과를 나타낸다.
적층체 4의 휘도에 대하여 휘도가 97% 이상인 것: A
적층체 4의 휘도에 대하여 휘도가 97%보다 낮은 것: B
적층체 4의 휘도에 대하여 휘도가 95%보다 낮은 것: C
Claims (12)
- 폴리비닐알콜계 수지층에 이색성 색소를 흡착 배향시켜 이루어진 편광 소자와, 투명 보호 필름을 갖는 편광판으로서,
상기 편광 소자는, 시감도 보정 편광도가 99.9% 이상이며, 파장 780 nm에서의 직교 투과율이 1.8% 이하인 편광판. - 제1항에 있어서, 상기 편광 소자와 상기 투명 보호 필름은, 요소계 화합물을 함유하는 수계 접착제로 형성되는 접착제층에 의해 접합되어 있고,
상기 요소계 화합물은, 요소, 요소 유도체, 티오요소 및 티오요소 유도체로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종인 편광판. - 제2항에 있어서, 상기 요소계 화합물은, 요소 유도체 및 티오요소 유도체로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종인 편광판.
- 제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 수계 접착제는 폴리비닐알콜계 수지를 포함하는 편광판.
- 제4항에 있어서, 상기 수계 접착제에 있어서, 상기 요소계 화합물의 함유량이, 상기 폴리비닐알콜계 수지 100 질량부에 대하여 0.1 질량부 이상 400 질량부 이하인 편광판.
- 제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 수계 접착제는 메탄올을 포함하고,
상기 메탄올의 농도가 10 질량% 이상 70 질량% 이하인 편광판. - 제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 수계 접착제는 시클로덱스트린류를 포함하는 편광판.
- 제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 접착제층은 두께가 0.01 μm 이상 7 μm 이하인 편광판.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 편광 소자의 두께가 15 μm 이하인 편광판.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 편광 소자의 함수율은, 온도 20℃ 상대 습도 30%의 평형 함수율 이상이고, 온도 20℃ 상대 습도 50%의 평형 함수율 이하인 편광판.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 편광판의 함수율은, 온도 20℃ 상대 습도 30%의 평형 함수율 이상이고, 온도 20℃ 상대 습도 50%의 평형 함수율 이하인 편광판.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 편광판의 한쪽 면에 두께가 50 μm 이하인 점착제층이 형성되고, 상기 편광판의 다른 한쪽 면에 두께가 50 μm 이상인 점착제층이 형성된 편광판.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JPJP-P-2022-169982 | 2022-10-24 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20240057345A true KR20240057345A (ko) | 2024-05-02 |
Family
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