CN117572721A - 一种曝光式光管理膜制备工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及的一种曝光式光管理膜制备工艺，其特征在于包括如下步骤：A、准备基材；B、在基材涂布一层乳剂涂层；C、通过定向光照射曝光的方式照射步骤B中乳剂涂层使其感光，为若干均匀纵向间隔或/和若干均匀横向间隔，两相邻纵向间隔和两相邻横向间隔之间形成间隔线；D、将步骤C中做好的材料经过显影剂显影变色；E、将步骤D做好材料经过定影剂洗去多余未曝光组分。通过上述步骤制作防窥膜操作较为简单，同时制作的防窥膜透光度更好，由此通过上述步骤制作的防窥膜在提升防窥膜透光性能的同时简化了制作设备，基本不需要大型设备便可以完成制作。
Description
技术领域
本发明属于光管理膜领域，具体地说，是涉及一种曝光式光管理膜制备工艺。
背景技术
目前光控膜领域包括防窥膜领域在制作防窥膜时，首先是将透明固化胶层上进行压印，形成光栅结构的透光部分，再将印压完成的光栅结构的白色部分之间充分涂布遮光胶水，进一步通过紫外光照射的烘箱进行热处理的方式制作，如申请号为202211373387.6，名称为一种防窥膜的制备方法的专利申请，通过该工艺方法制作防窥膜，工艺较为复杂，同时制作的防窥膜稳定性不佳。
发明内容
本发明的目的在于针对上述现有技术的技术问题，提供一种曝光式光管理膜制备工艺。
为解决上述技术问题提供的一种曝光式光管理膜制备工艺，包括如下步骤：
A：准备透明材质的TPU、CPI、PET、PC或玻璃基材；
B：在基材(1)涂布一层乳剂涂层；
C：通过定向光照射曝光的方式照射步骤B中乳剂涂层使其感光，为若干均匀纵向间隔或/和若干均匀横向间隔，两相邻纵向间隔和两横向间隔之间构成间隔线；
D：将步骤C中做好的材料经过显影剂显影变色；
E：将步骤D做好材料经过定影剂洗去多余未曝光组分。
进一步的，所述的乳剂层含有银盐。
更进一步的，步骤B中乳剂涂层的厚度为30-70um，所述乳剂涂层包含的银盐为卤化银。
更进一步的，所述纵向间隔的间距和横向间隔的间距均为2-100um。
更进一步的，所述两相邻纵向间隔及两横向间隔之间形成的变色间隔线的宽度为1-20um。
更进一步的，步骤D中所使用的显影剂为对苯二酚。
更进一步的，步骤E中所使用的定影剂为Na2S2O3。
本发明涉及的一种曝光式光管理膜制备工艺，其特征在于包括如下步骤：A、准备基材；B、在基材涂布一层乳剂涂层；C、通过定向光照射曝光的方式照射步骤B中乳剂涂层使其感光，为若干均匀纵向间隔或/和若干均匀横向间隔，两相邻纵向间隔和两相邻横向间隔之间形成间隔线；D、将步骤C中做好的材料经过显影剂显影变色；E、将步骤D做好材料经过定影剂洗去多余未曝光组分。通过上述步骤制作防窥膜操作较为简单，同时制作的防窥膜透光度更好，由此通过上述步骤制作的防窥膜在提升防窥膜透光性能的同时简化了制作设备，基本不需要大型设备便可以完成制作。
附图说明
图1-图3为曝光式光管理膜结构示意图。
具体实施方式
如在说明书及权利要求当中使用了某些词汇来指称特定组件。本领域技术人员应可理解，硬件制造商可能会用不同名词来称呼同一个组件。本说明书及权利要求并不以名称的差异来作为区分组件的方式，而是以组件在功能上的差异来作为区分的准则。如在通篇说明书及权利要求当中所提及的“包括”为一开放式用语，故应解释成“包括但不限定于”。说明书后续描述为实施本发明的较佳实施方式，然所述描述乃以说明本发明的一般原则为目的，并非用以限定本发明的范围。本发明的保护范围当视所附权利要求所界定者为准。
以下结合附图对本发明作进一步详细说明，但不作为对发明的限定。
实施例
如1-3所示，一种曝光式光管理膜制备工艺，其特征在于包括如下步骤：
A：准备透明材质的TPU、CPI、PET、PC或玻璃基材1；
B：在基材1涂布一层乳剂涂层2；
C：通过定向光照射曝光的方式照射步骤B中乳剂涂层2使其感光，为若干均匀纵向间隔a1或/和若干均匀横向间隔a2，两相邻纵向间隔a1和两横向间隔a2之间构成间隔线b；
D：将步骤C中做好的材料经过显影剂显影变色；
E：将步骤D做好材料经过定影剂洗去多余未曝光组分。
优选的，所述的乳剂层2含有银盐。
如图1和2所示，在步骤C中如果只进行若干均匀纵向间隔a1或若干均匀横向间隔a2照射曝光，则该防窥膜只能进行单向防窥功能，如果同时进行若干均匀纵向间隔a1和同时进行若干均匀横向间隔a2照射曝光，便可以进行全向防窥功能。
通过上述步骤制作防窥膜操作较为简单，同时制作的防窥膜透光度更好，由此通过上述步骤制作的防窥膜在提升防窥膜透光性能的同时简化了制作设备，基本不需要大型设备便可以完成制作。
更优选的，步骤B中乳剂涂层2的厚度c为30-70um，所述乳剂涂层2包含的银盐为卤化银。
更优选的，所述纵向间隔a1的间距和横向间隔a2的间距均为2-100um。
更优选的，所述两相邻纵向间隔a1及两横向间隔a2之间形成的变色间隔线b的宽度为1-20um。
更优选的，步骤D中所使用的显影剂为对苯二酚。
更优选的，步骤E中所使用的定影剂为Na2S2O3。在实际生产过程中，所述乳剂涂层2中包含的银盐以AgBr为例，其与定影剂Na2S2O3反应式如下所示：AgBr+Na2S2O3＝Na3[Ag(S2O3)2]+NaBr，因此通过Na2S2O3可以很好的的洗掉多余的银盐，使防窥膜性能更佳。
上述说明示出并描述了本发明的优选实施例，但如前所述，应当理解本发明并非局限于本文所披露的形式，不应看作是对其他实施例的排除，而可用于各种其他组合、修改和环境，并能够在本文所述发明构想范围内，通过上述教导或相关领域的技术或知识进行改动。而本领域人员所进行的改动和变化不脱离本发明的精神和范围，则都应在本发明所附权利要求的保护范围内。
Claims (7)
1.一种曝光式光管理膜制备工艺，其特征在于包括如下步骤：
A：准备透明材质的TPU、CPI、PET、PC或玻璃基材(1)；
B：在基材(1)涂布一层乳剂涂层(2)；
C：通过定向光照射曝光的方式照射步骤B中乳剂涂层(2)使其感光，为若干均匀纵向间隔(a1)或/和若干均匀横向间隔(a2)，两相邻纵向间隔(a1)和两横向间隔(a2)之间构成间隔线(b)；
D：将步骤C中做好的材料经过显影剂显影变色；
E：将步骤D做好材料经过定影剂洗去多余未曝光组分。
2.根据权利要求1所述的一种曝光式光管理膜制备工艺，其特征在于：所述的乳剂层(2)含有银盐。
3.根据权利要求2所述的一种曝光式光管理膜制备工艺，其特征在于：步骤B中乳剂涂层(2)的厚度(c)为30-70um，所述乳剂涂层(2)包含的银盐为卤化银。
4.根据权利要求1所述的一种曝光式光管理膜制备工艺，其特征在于：所述纵向间隔(a1)的间距和横向间隔(a2)的间距均为2-100um。
5.根据权利要求1-4任一所述的一种曝光式光管理膜制备工艺，其特征在于：所述两相邻纵向间隔(a1)及两横向间隔(a2)之间形成的变色间隔线(b)的宽度为1-20um。
6.根据权利要求5所述的一种曝光式光管理膜制备工艺，其特征在于：步骤D中所使用的显影剂为对苯二酚。
7.根据权利要求6所述的一种曝光式光管理膜制备工艺，其特征在于：步骤E中所使用的定影剂为Na2S2O3。
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