CN117340689A - 一种玻璃基板的抛光方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种玻璃基板的抛光方法，所述玻璃基板的抛光方法包括对待抛光的玻璃进行粗抛；对玻璃进行精抛；对精抛后的玻璃进行平整度分析和分类；根据平整度分类结果，对分类为未达到预设平整度标准的玻璃，进行手动抛磨,并再次对玻璃进行精抛及进行平整度分析和分类；根据平整度分类结果，对分类为达到预设平整度标准的玻璃进行终抛。本发明提供的玻璃基板的抛光方法，通过对玻璃进行平整度分析，对不同面型的玻璃基板小面积有针对性的手工抛光改变玻璃面型，取到修型的作用，使得玻璃的平整度整体上有改善，减少了玻璃的报废，提升了玻璃基板的质量。同时通过抛光工艺的控制，玻璃表面划痕等缺陷控制良好。

Description

一种玻璃基板的抛光方法

技术领域

本发明涉及玻璃抛光领域，尤其涉及一种玻璃基板的抛光方法。

背景技术

光掩膜基板是图形转换及光刻技术中的重要的原材料，它是在平整、洁净的玻璃基板上通过镀铬膜，再在铬膜上旋涂一层光刻胶而获得的。光掩膜基板通过曝光、显影、蚀刻、去胶等光刻工艺获得光掩膜版。无论是光掩膜基板的制备还是后续的制版过程，都对精密性有很强的要求。如果玻璃基板不平整，在曝光时各胶面曝光点接受到的曝光能量强弱会有轻微的差异，曝光光源会有一定角度的倾斜，而造成后续蚀刻得到的图形边缘有轻微倾斜，而使得图形失真，信息传递出现差异。玻璃基底的平整度是光掩膜基板重要的基础，后段镀铬及涂胶工艺是在此基础之上进行的，如果基底平整度不好，不仅对在基底上的铬膜及胶膜的均匀性有影响，而且获得预期的光刻图形不理想，精度也不能满足预期。

随着玻璃基板尺寸的增大及光刻技术的发展，对玻璃的表面缺陷及平整度的要求越来越高。为获得高光洁、缺陷少的玻璃，一般流程是磨棱磨边后的玻璃，经过化学机械抛光来去除表面的划痕、疵点等异常。化学机械抛光基本原理是将待加工的玻璃在一定的下压力及抛光液(由超细颗粒、化学氧化剂和液体介质组成的混合液)的存在下相对于一个抛光垫作旋转运动,借助磨粒的机械磨削及化学氧化剂的腐蚀作用来完成对玻璃表面的材料去除,并获得光洁表面。但由于浮化玻璃的生产时，并非采用线切割直接裁切而成，而是在锡液槽中浮力自然摊开，所以整片玻璃必定按照曲面形态自然形成的，裁切之后单片玻璃之间的表面差异很大，化学机械抛光虽然能够去除玻璃表面的划痕、疵点、崩面等表面缺陷，但是由于大尺寸的玻璃基板一般采用摇摆旋转的方式抛光，玻璃各点压力的差异较大，各点的轨迹在理论上就是不均匀性，所以的抛蚀量存在差异。实际生产中，抛光后平整度整体上不仅无改善，而且有变差的趋势。

现有技术中抛光分成粗抛和精抛，粗抛的抛蚀量较大，主要解决明显的、较深的缺陷，而精抛主要解决轻微的表面缺陷。两次摇摆旋转的抛光使得平整度均有增大趋势，只能采用批次挑选的方法来实现生产，在多组抛光产品中根据平整度的数据进行分类，达不到要求的进行重新抛光或报废处理，每重新抛光一次就有一次折损的可能，不仅是平整度折损，还有化学机械抛光过程中划痕的折损，同时还有由于每次抛蚀均会产生一定的抛蚀量，最终使得玻璃厚度不够而报废。

发明内容

鉴于目前现有技术存在的上述不足，本发明提供获得高等级平整度的玻璃基板抛光方法，能够制备出一种高平整度、划痕缺陷良好的光掩膜用玻璃基板。

为达到上述目的，本发明的玻璃基板的抛光方法的步骤包括：

对待抛光后的玻璃进行粗抛；

对玻璃进行精抛；

对精抛后的玻璃进行平整度分析和分类；

根据平整度分类结果，对分类为未达到预设平整度标准的玻璃，进行手动抛磨,并再次对玻璃进行精抛及进行平整度分析和分类；

根据平整度分类结果，对分类为达到预设平整度标准的玻璃进行终抛。

依照本发明的一个方面，所述进行粗抛、进行精抛和进行终抛中的一个或多个步骤采用化学机械单面抛光方式。

依照本发明的一个方面，所述化学机械单面抛光方式为：将玻璃放置于吸附垫上吸附，相对位置另一端为抛光垫，所述吸附垫定中心匀速旋转，抛光垫来回直线运转对吸附垫上的玻璃进行抛光。

依照本发明的一个方面，采用化学机械单面抛光方式的粗抛过程中，采用的抛光垫为开槽式的抛光垫，开槽占比10-20％，优选开槽占比15％，硬度为70HC-100HC，优选硬度为80HC；抛光垫开槽设置方便抛光液流入，使得抛光液与被抛光的玻璃充分接触，获得更加均匀的抛蚀量；槽口的粗糙结构可以增大抛磨力；玻璃表面被抛磨下的玻璃粉末脱落后会流入到凹槽内，从固定盘中脱落，减少了玻璃粉末与加工件玻璃表面直接接触造成划痕。采用化学机械单面抛光方式的精抛过程中，采用的抛光垫为一体化抛光垫，硬度为40-70HC；采用化学机械单面抛光方式的终抛过程中，采用的抛光垫硬度为35HC-55HC。

依照本发明的一个方面，所述方法还包括以下步骤：在执行每个步骤之前，进行清洁及晾干。

依照本发明的一个方面，所述清洁的具体方式至少包括机械力刷洗和冲洗中一种或两种，包括但不限于海绵、尼龙刷、喷淋等人工或机械化清洗，避免残留物对下一步骤的影响。

依照本发明的一个方面，所述对精抛后的玻璃进行平整度分析和分类包括：根据玻璃厚度数据或平面度数据所绘制的玻璃平面面型图进行平整度分析和分类。

依照本发明的一个方面，所述化学机械单面抛光方式包括：在化学机械单面抛光过程中采用抛光粉。采用化学机械单面抛光方式的粗抛过程中，采用的抛光粉精度为5-200纳米，优选抛光粉精度为60纳米粒径氧化铝抛光粉，质量浓度为15％-25％，优选质量浓度为20％；采用化学机械单面抛光方式的精抛过程中，采用的抛光粉精度为5-200纳米，优选抛光粉精度为30纳米粒径氧化铝抛光粉，质量浓度为15％-25％，优选质量浓度为20％；采用化学机械单面抛光方式的终抛过程中，采用的抛光粉精度为5-200纳米，优选抛光粉精度为10纳米粒径氧化铝抛光粉，质量浓度为15％-25％，优选质量浓度为20％。

依照本发明的一个方面，所述进行手动抛磨包括：对根据玻璃平面面型图分析出的局部区域进行人工手持抛光机抛光；其中，人工手持抛光机抛光的过程中，抛光轮采用尼龙抛光轮或羊毛毡抛光轮，抛光液为氧化铝抛光液。

依照本发明的一个方面，所述的局部区域为玻璃面型图中所显示的凸面顶部及凹面高位、梯形面的高位，照一定的规则进行人工抛磨处理，对异常的区域针对性的处理，玻璃平整度均有大的改善，起到来料管控的作用。。

依照本发明的一个方面，为避免产生划痕，抛光粉配置时添加分散剂、搅动减少团聚；抛光液并不全溶于水，添加分散剂及搅拌的方式减少抛光粉的沉积、团聚；采用化学机械单面抛光方式的精抛过程中的抛光液管道设置有循环过滤芯，对超过0.1微米的玻璃碎渣、抛光粉成团物进行了过滤，避免与玻璃表面直接接触而造成划痕。

本发明的优点是：本发明通过对玻璃进行平整度分布分析并分类，达不到预设平整度标准的玻璃，根据玻璃平面面型图对局部区域进行手动抛磨处理并再次精抛和检测平整度分布情况，直至达到预设平整度标准为止；人工手动抛磨为根据玻璃平面面型图对局部区域进行抛磨修补，将玻璃平面面型图所显示的凹面、凸面及梯形面按照一定的规则进行人工处理，起到来料管控的作用，方法简单，作用效果明显，处理后玻璃平整度均有较好的改善，不需要多次返抛和挑选，也不会大量出现需要多次返抛及厚度不够而报废的情况，节省了玻璃材料的消耗和加工效率；同时本发明采用直线式的抛光机，不同于常用的摇摆式抛光机理论轨迹不均匀的问题，因此能避免抛光后玻璃平整度增大的情况；通过精抛，粗抛，终抛抛光过程中的处理和控制，尤其是抛光垫、抛光粉等工艺的选取，玻璃面上的划痕等缺陷处理良好，得到表面光洁、划痕缺陷控制良好的玻璃。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明的实施例提供的玻璃基板抛光方法流程图；

图2为发明化学机械单面抛光方式中抛光机的工作原理示意图；

图3为发明的实施例中5mm玻璃的玻璃平面面型示意图；

图4为本发明的化学机械单面抛光方式中抛光机运动轨迹示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

实施例一

图1是本发明提供的玻璃基板的抛光方法流程示意图。图2示出了化学机械单面抛光方式中抛光机的工作原理。如图2所示，抛光机包括固定盘1，固定盘上的吸附垫2、相对固定盘1另一端的固定盘2、加压减压装置6、抛光液供应管道7，固定盘2上黏贴抛光垫4。下面结合附图1和附图2，本发明提供的玻璃基板抛光方法包括：

步骤S01，对磨边棱后的玻璃进行粗抛；

将玻璃5放置于抛光机固定盘1吸附垫上吸附，固定盘2黏贴抛光垫的抛光机4；抛光作业时固定盘1带动吸附垫定中心匀速旋转，固定盘2连同贴好的抛光垫沿着同一直线来回匀速运动，抛光垫为开槽式的抛光垫，开槽占比10-20％，硬度70HC-100HC；粗抛粉5-200纳米粒径氧化铝抛光粉，浓度为15％-25％；加压减压装置施加一定的压力值。

粗抛是将玻璃在一定的压力及抛光液(由超细颗粒、化学氧化剂和液体介质组成的混合液)的存在下相对于一个抛光垫作旋转运动,借助磨粒的机械磨削及化学氧化剂的腐蚀作用来完成对工件表面的材料去除,并获得光洁表面。粗抛采用开槽式抛光垫、大粒径粗抛粉，增加抛磨力，提升抛光效率，提高抛蚀速率。

步骤S02，对玻璃进行精抛；

将玻璃放置于抛光机固定盘1吸附垫上吸附，固定盘2黏贴抛光垫的抛光机4；抛光作业时固定盘1带动吸附垫定中心匀速旋转，固定盘2连同黏贴抛光垫的抛光机4沿着同一直线来回匀速运动。抛光垫硬度为40-70HC；精抛粉5-200纳米粒径氧化铝抛光粉，浓度为15％-25％；加压减压装置施加一定压力值。

精抛目的是在于去除玻璃表面微小的划痕、裂纹。

步骤S03，对精抛后的玻璃进行平整度分析和分类；

平整度分析为采用专业平整度测试仪对玻璃厚度或平面度进行测试，根据测量出来的厚度数据或平面度数据所绘制的玻璃平面面型图进行分析，根据玻璃平面面型图的数据对玻璃分为达到预设标准的玻璃和未达到预设标准的玻璃。

步骤S04，根据平整度分类结果，对分类为未达到预设平整度标准的玻璃，进行手动抛磨,并再次对玻璃进行精抛及进行平整度分析和分类；

根据玻璃平面面型图进行平整度分析，确认玻璃需要手动抛磨的区域进行正面反面手抛，手工抛光所用的抛光轮为尼龙抛光轮，抛光液为氧化铝抛光液。通过人工手抛等方式控制精抛后平整度结果，为下一步骤提供合乎要求的平整度产品。

步骤S05，根据平整度分类结果，对分类为达到预设平整度标准的玻璃进行终抛。

将玻璃放置于抛光机固定盘1吸附垫上吸附，固定盘2黏贴抛光垫的抛光机4；抛光作业时固定盘1带动吸附垫定中心主动旋转，固定盘2连同黏贴抛光垫的抛光机4沿着同一直线来回匀速运动。抛光垫硬度为35HC-55HC；抛光粉选择5-200纳米粒径氧化硅终抛粉，浓度为15％-25％；加压减压装置施加一定压力值。

终抛通过减少抛光粉粒径，降低抛光硬度等方式来缓慢抛光，降低玻璃的抛蚀速率，使得抛光过程更加精细化，玻璃表面的次微米的缺陷被进一步的处理，形成光洁的表面

实施例二

下面结合附图1和附图2、图3，以具体的实施例抛光方法作详细说明。

图2示出了化学机械单面抛光方式中抛光机的工作原理。如图2所示，抛光机包括固定盘1，固定盘上的吸附垫2、相对固定盘1另一端的固定盘2、加压减压装置6、抛光液供应管道7，固定盘2上黏贴抛光垫4。

本实施例中:以尺寸为800*800*6mm的方形玻璃例，

对磨边棱后的玻璃进行清洁及晾干，清洁具体方式包括机械力刷洗及冲洗，包括但不限于海绵、尼龙刷、喷淋等人工、机械化清洗、超声波清洗等，主要目的是冲洗掉玻璃表面的灰尘以及边棱处理过程中一些玻璃碎渣。这些碎渣未处理的话，粗抛时就有可能混入抛光液中在玻璃表面形成重划痕。

对磨边棱后的清洁干净的玻璃进行粗抛，将玻璃5放置于抛光机固定盘1吸附垫上吸附，固定盘2黏贴抛光垫的抛光机4；抛光作业时固定盘1带动吸附垫定中心匀速旋转，转速0.5rpm，固定盘1尺寸φ1400mm，固定盘2尺寸1500*3000mm，固定盘2连同贴好的抛光垫沿着3000mm方向来回匀速运动，线速度30mm/s,移动最大位移为1m。抛光垫为开槽式的抛光垫，开槽占比10-20％，硬度70HC-100HC；粗抛粉5-200纳米粒径氧化铝抛光粉，浓度为15％-25％；加压减压装置施加压力160kg.

化学机械单面抛光方式中的粗抛，其原理是将玻璃在一定的压力及抛光液(由超细颗粒、化学氧化剂和液体介质组成的混合液)的存在下相对于一个抛光垫作旋转运动,借助磨粒的机械磨削及化学氧化剂的腐蚀作用来完成对工件表面的材料去除,并获得光洁表面。

玻璃吸附在吸附垫上，其原理是玻璃挤压吸附垫后，吸附垫内部的微孔形成真空负压，依靠负压将玻璃吸附在抛光机的固定盘1上而不会脱落，卸料时用机械或人工泄压之后卸料即可。

固定盘1带动吸附垫定中心匀速旋转，固定盘2来回匀速直线运转。抛光作业时，假设固定盘2上有一抛光粉P，则P点相对于玻璃的相对运动轨迹，是直线运动与匀速旋转运动的叠加。如图4：理论上其轨迹是均匀的。因此其抛蚀量也是均匀的。理论表明直线型抛光机抛光均匀性较摇摆式的好很多，理论上是均匀性。

如前所述的开槽式的抛光垫，抛光垫开槽均匀分布在抛光垫上，抛光垫开槽一是方便抛光液流入槽内，使得抛光液与被抛光的玻璃充分接触，获得更加均匀的抛蚀量；其二是开槽能增加抛光垫的粗糙程度，尤其是在抛磨时槽口的粗糙结构使得抛磨力增大，抛光效率提升，抛蚀速率增高；其三是玻璃表面被抛磨下的玻璃粉末脱落后会流入到凹槽内，从固定盘2中脱落，从而减少了玻璃粉末与加工件玻璃表面直接接触造成划痕的可能。

对粗抛后的玻璃进行清洁及晾干，清洁具体方式包括机械力刷洗及冲洗，包括但不限于海绵、尼龙刷、喷淋等人工、机械化清洗、超声波清洗等。抛光后玻璃表面会吸附很多的抛光液，需要简单清洁，否则容易干燥黏牢在玻璃表面，在下道工序中造成划痕等异常

对粗抛后的清洁干净的玻璃进行精抛。将玻璃放置于抛光机固定盘1吸附垫上吸附，固定盘2黏贴抛光垫的抛光机4；固定盘1转速0.2rpm，转盘尺寸φ1400mm，固定盘2尺寸1500*3000mm，线速度15mm/s,移动最大位移为0.8m，抛光作业时固定盘1带动吸附垫定中心匀速旋转，固定盘2连同黏贴抛光垫的抛光机4沿着3000mm方向来回匀速运动。抛光垫硬度为40-70HC；精抛粉5-200纳米粒径氧化铝抛光粉，浓度为15％-25％；加压减压装置施加压力50kg.

以上所述的化学机械单面抛光方式的粗抛与精抛原理相同。主要差异是抛光垫、抛光粉的选择上的差异，选择硬度更软，磨削能力更弱的抛光垫，以及粒径更细的抛光粉，目的是在于去除玻璃表面微小的划痕、裂纹。本步骤所述精抛垫硬度为40-70HC，择优选择50HC，精抛粉为30纳米粒径氧化铝抛光粉；相对于粗抛，其抛蚀速率减少了一半，一般为20-40μm/hr，其原因主要有三个方面：其一是抛光粉的粒径减小及抛光垫的硬度变弱，使得抛光时摩擦力减弱，磨抛效率降低；其二是，抛光垫采用一体化的抛光垫，相对于粗抛，造成抛光液与玻璃的接触不是那么充分；其三是，抛光过程中，固定盘1的外加压力一般会降低。因此抛光的效率必须下降。

这种缓慢的精抛过程对粗抛过程中产生的轻微划痕等缺陷有明显的改善，即使是在理想状态下，上道粗抛步骤由于抛光垫的硬度大、粗抛粉粒径大，在抛蚀过程中玻璃的浅表层会产生微细的划印，通过本步骤缓慢的精抛后，经过缓慢抛光划痕基本消失，也不再产生划痕。不产生划痕主要是以下几个原因。其一，在抛光液管道7中添加循环过滤芯，对超过0.1微米的玻璃碎渣、抛光粉成团物进行了过滤，避免与玻璃表面直接接触而造成划痕。其二，抛光粉配置时采用添加分散剂、搅动等方式来进行分散抛光粉减少团聚。作为一种混合物，抛光液并不全溶于水，添加分散剂及搅拌的方式减少抛光粉的沉积、团聚。其三，抛光液分布均匀，有利于抛光过程中磨点与玻璃接触时处于湿润状态，抛光后的玻璃粉等硬质微粒及时被抛光液带走。

对精抛后的玻璃进行清洁及晾干，清洁具体方式包括机械力刷洗及冲洗，包括但不限于海绵、尼龙刷、喷淋等人工、机械化清洗、超声波清洗等。检测前清洁避免检测过程的颗粒等污染玻璃表面造成检测结果的不准确。

对上述精抛后清洁干净的玻璃进行平整度分布分析并分类。测量的方法是采用专业平整度测试仪，根据玻璃厚度数据或平面度数据绘制的玻璃平面面型图，根据玻璃平面面型图记录出人工手动抛的局部区域位置。

在光掩膜基板行业，一般1平米以内的产品20微米的平整度属于较高水平，高于20微米的产品有修正的必要。采取的措施如下：

对1平米以内平整度小于20微米加工件，达到了预设平整度标准。

对检测达到预设标准的玻璃进行清洁及晾干，清洁具体方式包括机械力刷洗及冲洗，包括但不限于海绵、尼龙刷、喷淋等人工、机械化清洗、超声波清洗等。检测后进行清洁及冲洗，检测本身也存在一些污染，避免对下道步骤的影响。

对1平米以内平整度不小于20微米的进行手动抛磨处理。具体如下：根据玻璃平面面型图进行平整度分析，确认玻璃正反面均为凸面，找到凸面的最高位置，人工画出大体范围进行正面反面手抛，手工抛光所用的抛光轮为尼龙抛光轮，抛光液为氧化铝抛光液。通过人工手抛等方式控制精抛后平整度结果，为下一步骤提供合乎要求的平整度产品。其中重要的内容包括两个方面：其一是测试精抛片的平整度分布情况，其二是对平整度达不到要求的玻璃片进行人工抛光。经过粗抛和精抛抛光处理，玻璃表面的平整度确认有向好的情况，但能否达到要求，需要通过数据测试确认。平整度的测试，一般有两种方式，一种采用水平尺或水平仪进行测试，记录多个点的平整度情况，另外一种是采用光学平整度仪器进行测试。无论那种测试都能得到玻璃的一个大体的面型。相对于理想的平面，一般均有凹面、凸面两种待改善的面。所以一般情况下，玻璃两面主要分成以下几种情况：

凹面+凹面b.凹面+平面c.凸面+凸面d.凸面+平面e.凹面+凸面

原则上对于凹面主要是边缘部位需要抛磨掉一定的量；对于凸面，需要对中间凸出的部分抛磨掉一定的量。根据这个原则，对照平整度的数据，在玻璃面上记录好需要人工手动抛磨的位置区域，根据手动抛磨后再次测量的数据，决定是否需要继续人工手抛；当多次人工手抛磨仍未达到要求的，可以再次返精抛处理再进行测试，直至达到预设标准要求为止。

未经过抛光处理的玻璃，理论上有梯形面的可能，但经过抛光处理后梯形面出现的可能很低，对于梯形面，需要对高出的部分根据高出多少，逐渐降低或延长手动抛磨时间处理。

对手动抛磨后的玻璃进行清洁及晾干，清洁具体方式包括机械力刷洗及冲洗，包括但不限于海绵、尼龙刷、喷淋等人工、机械化清洗、超声波清洗等。

对手动抛磨后的清洁干净的玻璃进行精抛。

对精抛后的玻璃进行清洁及晾干，清洁具体方式包括机械力刷洗及冲洗，包括但不限于海绵、尼龙刷、喷淋等人工、机械化清洗、超声波清洗等。检测前清洁避免检测过程的颗粒等污染玻璃表面造成检测结果的不准确，

对上述精抛后清洁后的玻璃进行平整度分布分析并分类。检测数据变为1平米以内平整度小于20微米。达到了预设平整度标准。

将上述检测达到预设标准的玻璃清洁后进行终抛。将玻璃放置于抛光机固定盘1吸附垫上吸附，固定盘2黏贴抛光垫的抛光机4；固定盘1转速0.12rpm，转盘尺寸φ1400mm，固定盘2尺寸1500*3000mm，线速度12mm/s,移动最大位移为0.6m，抛光作业时固定盘1带动吸附垫定中心主动旋转，固定盘2连同黏贴抛光垫的抛光机4沿着3000mm方向来回匀速运动。抛光垫硬度为35HC-55HC；抛光粉选择5-200纳米粒径氧化硅终抛粉，浓度为15％-25％；加压减压装置施加压力-30kg。

终抛主要目的有以下几个方面，其一是继续优化表面的划痕等缺陷，由于上道步骤的产品经过平整度的测量控制，所以平整度已经达到较好的水平，对玻璃表面进行抛光表面缺陷的进一步精细化的控制是本工序的重要目的。通过继续减少抛光粉粒径，降低抛光硬度等方式来缓慢抛光，降低玻璃的抛蚀速率，使得抛光过程更加精细化，玻璃表面的次微米的缺陷被进一步的处理，形成光洁的表面。其二是平整度的控制，与精抛、粗抛的原理一致，采用终抛的方式，平整度可达到微弱的改善。

下表为采用抛光垫开槽占比不同，硬度不同；抛光粉精度不同，浓度不同的玻璃基板的测试结果：

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本领域技术的技术人员在本发明公开的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种玻璃基板的抛光方法，其特征在于，玻璃基板抛光方法的步骤包括：

对待抛光的玻璃进行粗抛；

对玻璃进行精抛；

对精抛后的玻璃进行平整度分析和分类；

根据平整度分类结果，对分类为未达到预设平整度标准的玻璃，进行手动抛磨,并再次对玻璃进行精抛及进行平整度分析和分类；

根据平整度分类结果，对分类为达到预设平整度标准的玻璃进行终抛。

2.根据权利要求1所述的玻璃基板的抛光方法，其特征在于，所述步骤进行粗抛、进行精抛和进行终抛中的一个或多个步骤采用化学机械单面抛光方式。

3.根据权利要求2所述的玻璃基板的抛光方法，其特征在于，所述化化学机械单面抛光方式包括：将玻璃放置于吸附垫上吸附，相对位置另一端为抛光垫，所述吸附垫定中心匀速旋转，抛光垫来回直线运转对吸附垫上的玻璃进行抛光。

4.根据权利要求2所述的玻璃基板的抛光方法，其特征在于，所述化学机械单面抛光方式包括：在化学机械单面抛光过程中采用抛光粉。

5.根据权利要求3所述的玻璃基板的抛光方法，其特征在于，采用化学机械单面抛光方式的粗抛过程中，采用的抛光垫为开槽式的抛光垫，开槽占比10-20％，硬度为70HC-100HC；采用化学机械单面抛光方式的精抛过程中，采用的抛光垫为一体化抛光垫，硬度为40-70HC；采用化学机械单面抛光方式的终抛过程中，采用的抛光垫硬度为35HC-55HC。

6.根据权利要求1所述的玻璃基板的抛光方法，其特征在于，所述方法还包括以下步骤：在执行每个步骤之前，进行清洁及晾干。

7.根据权利要求6所述的玻璃基板的抛光方法，其特征在于，所述清洁的具体方式至少包括机械力刷洗和冲洗中一种或两种。

8.根据权利要求1至7中任意一项所述的玻璃基板的抛光方法，其特征在于，所述对精抛后的玻璃进行平整度分析和分类包括：根据玻璃厚度数据或平面度数据所绘制的玻璃平面面型图进行平整度分析和分类。

9.根据权利要求8所述的玻璃基板的抛光方法，其特征在于，所述进行手动抛磨包括：对根据玻璃平面面型图分析出的局部区域进行人工手持抛光机抛光；其中，人工手持抛光机抛光的过程中，抛光轮采用尼龙抛光轮或羊毛毡抛光轮，抛光液为氧化铝抛光液。

10.根据权利要求9所述的玻璃基板的抛光方法，其特征在于，所述的局部区域为玻璃面型图中所显示的凸面顶部及凹面高位、梯形面的高位。