CN117325063A - 一种双面晶片抛光机 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种双面晶片抛光机,包括箱体、转动机构、上下料机构、清理机构、辅助机构、定位机构、限位机构、顶升机构、防护机构和驱动机构,所述箱体的一端设置有对抛光盘以及清理时方向调节的转动机构,所述转动机构的一侧设置有对抛光盘取放时的上下料机构;本发明通过转动机构的设置,可用于对自动切换更换时实现方向以及高度位置的调节作业,而上下料机构则利于对更换时对盘体进行支撑载放,同时方便进行取放作业,第一电机起到方向调整的作用,电动滑台可调节所需的高度位置,第一电动推杆起到位置延伸调节的作用,载架、支撑杆和支撑座则对盘体完成支撑,从而方便进行上下料工作。

Description

一种双面晶片抛光机
技术领域
本发明涉及双面抛光机技术领域,具体涉及一种双面晶片抛光机。
背景技术
晶片是一种光学器件,通常用于选择性地透过或阻挡特定波长范围的光线,以满足特定的光学或光电应用需求。它们在许多领域中都有广泛的应用,包括成像、光谱分析、通信、激光技术和光学传感器等。而在晶片加工过程中需要通过成型、切割和抛光等多道工序进行加工,且抛光尤为重要,主要的作用保证晶片的清晰度,维保晶片加工效率,采用双面抛光机来进行抛光作业,不仅能够同时对双面进行抛光,而且抛光的效率显著提高。
申请号为CN201810996937.7的中国专利提供了一种双面抛光机与抛光方法。该双面抛光机包括机架、上抛光盘、下抛光盘、中心齿轮、外齿轮和驱动组件,上抛光盘、下抛光盘、中心齿轮、外齿轮分别独立地设置于机架上,中心齿轮设置于外齿轮的中心位置处,中心齿轮与外齿轮之间具有容纳空间,用于啮合放置晶片的游星轮,容纳空间位于上抛光盘与下抛光盘之间,驱动组件包括:第一驱动装置,设置于机架上并与上抛光盘连接,用于驱动上抛光盘转动;第二驱动装置,设置于机架上并与下抛光盘连接,用于驱动下抛光盘与上抛光盘同向转动;第三驱动装置,设置于机架上并与中心齿轮连接,用于驱动中心齿轮转动;第四驱动装置,设置于机架上并与外齿轮连接,用于驱动外齿轮转动。
双面抛光机中的磨盘在使用一段时间后会有磨损,会对晶片的抛光产生影响,导致晶片抛光不平,无法保证抛光运行时的稳定性。
发明内容
本发明的目的在于提供一种双面晶片抛光机,具备了可自动切换更换磨盘的优点,不仅提高了拆装更换时的效率,而且保证了抛光的精度以及运行时的稳定性,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种双面晶片抛光机,包括箱体、转动机构、上下料机构、清理机构、辅助机构、定位机构、限位机构、顶升机构、防护机构和驱动机构,所述箱体的一端设置有对抛光盘以及清理时方向调节的转动机构,所述转动机构的一侧设置有对抛光盘取放时的上下料机构,所述转动机构的另一侧设置有清理机构,所述辅助机构设置于箱体顶部的一端,所述定位机构分别设置于辅助机构的两侧,所述限位机构设置于箱体的顶部,所述限位机构位于辅助机构的下方所述防护机构设置于箱体的顶部,所述驱动机构设置于箱体内腔的底部。
示例性的,所述转动机构包括底板、第一电机、电动滑台和顶板,所述底板安装于箱体一端的下部,所述第一电机安装于底板的顶部,所述电动滑台键连接于第一电机的输出轴,所述顶板安装于箱体一端的上部,所述电动滑台的顶端贯穿顶板,所述电动滑台与顶板之间转动连接。
示例性的,所述上下料机构包括第一连接架、第一电动推杆、载架、支撑杆和支撑座,所述第一连接架安装于电动滑台移动端的一侧,所述第一电动推杆固定贯穿安装于第一连接架的一侧,所述载架安装于第一电动推杆的输出端,所述支撑杆安装于载架的外侧,所述支撑座安装于支撑杆远离载架的一端。
示例性的,所述清理机构包括第二连接架、第二电动推杆、第二电机、横板、第三电机、固定架和毛刷板,所述第二连接架安装于电动滑台移动端的另一侧,所述第二电动推杆贯穿固定安装于第二连接架的一侧,所述第二电机安装于第二电动推杆的输出端,所述横板键连接于第二电机的输出轴,所述第三电机安装于横板的顶部,所述固定架键连接于第三电机的输出轴,所述毛刷板栓接于固定架的底部。
示例性的,所述辅助机构包括支柱、支板、第三电动推杆、连接座、上磨盘、连接块、插槽、集流盘和排液管;
所述支柱安装于箱体顶部的一端,所述支板安装于支柱的顶端,所述第三电动推杆安装于支板顶部的一端,所述连接座转动连接于第三电动推杆的输出端,所述插槽开设于上磨盘内侧壁,所述上磨盘通过插槽卡接于连接座的底部,所述连接块分别安装于上磨盘内壁的另外两侧,所述集流盘固定安装于连接座的上方,所述排液管贯穿连通于集流盘内腔的底部,所述排液管的底端贯穿连接座。
示例性的,所述定位机构包括竖板、第四电动推杆、传动架、横杆、第一弹簧、挡板、插块和加固架,所述竖板分别固定安装于连接座的两侧,所述第四电动推杆固定安装于竖板内侧的上部,所述传动架固定安装于第四电动推杆的输出端,所述第一弹簧安装于连接座的内侧壁,所述挡板与第一弹簧并且远离连接座内侧壁的一端连接,所述插块安装于挡板的底端,所述横杆安装于传动架内侧的一端,所述横杆活动穿过连接座以及第一弹簧的内部并且与挡板固定连接,所述插块插于插槽的内部。
示例性的,所述加固架的一端安装于挡板和插块的夹角连接处,所述加固架的另一端活动穿过连接座并且与传动架固定连接。
示例性的,所述限位机构包括限位块、下磨盘和限位槽,所述限位块分别安装于箱体凹陷处内腔底部的四周,所述下磨盘放置于限位块的顶部,所述限位槽开设于下磨盘底部的四周,所述限位块位于限位槽的内部。
示例性的,所述顶升机构包括载板、第五电动推杆和推块,所述载板设置于驱动机构的外侧,所述第五电动推杆分别安装于载板顶部的两端,所述推块安装于第五电动推杆的输出端。
示例性的,所述防护机构包括第二弹簧、顶块、防护圈和凹槽,所述第二弹簧分别安装于箱体顶部凹陷处的两侧,所述顶块安装于第二弹簧的顶端,所述防护圈底部的两侧均开设有凹槽,所述顶块位于凹槽的内部。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:
1、本发明通过转动机构的设置,可用于对自动切换更换时实现方向以及高度位置的调节作业,而上下料机构则利于对更换时对盘体进行支撑载放,同时方便进行取放作业,第一电机起到方向调整的作用,电动滑台可调节所需的高度位置,第一电动推杆起到位置延伸调节的作用,载架、支撑杆和支撑座则对盘体完成支撑,从而方便进行上下料工作。
2、本发明经清理机构的设置,可用于对两组盘体进行清理作业,以避免造成盘底磨面槽口处堵塞,保证抛光时不受影响,利用第二电动推杆起到位置延伸调节的通,第二电机可对毛刷板完成正反面的调节工作,且第三电机配合毛刷板直接对盘体的磨面进行清理。
3、本发明经定位机构的设置,起到了对上部位置的盘体进行支撑固定,以保证其转动抛光时的稳定性,同时可辅助其提高拆装时的效率,第四电动推杆可用于使其施加推力解除夹持固定,传动架、横杆、第一弹簧、挡板和插块的配合则利于实现对上部的盘体进行弹性夹持固定。
附图说明
图1为本发明结构示意图;
图2为本发明箱体的内部结构示意图;
图3为本发明限位块结构示意图;
图4为本发明下磨盘结构示意图;
图5为本发明第二弹簧结构示意图;
图6为本发明驱动机构结构示意图;
图7为本发明支柱结构示意图;
图8为本发明连接块结构示意图;
图9为本发明电动滑台结构示意图;
图10为本发明固定架结构示意图。
图中:1、箱体;2、转动机构;21、底板;22、第一电机;23、电动滑台;24、顶板;3、上下料机构;31、第一连接架;32、第一电动推杆;33、载架;34、支撑杆;35、支撑座;4、清理机构;41、第二连接架;42、第二电动推杆;43、第二电机;44、横板;45、第三电机;46、固定架;47、毛刷板;5、辅助机构;51、支柱;52、支板;53、第三电动推杆;54、连接座;55、上磨盘;56、连接块;57、插槽;58、集流盘;59、排液管;6、定位机构;61、竖板;62、第四电动推杆;63、传动架;64、横杆;65、第一弹簧;66、挡板;67、插块;68、加固架;7、限位机构;71、限位块;72、下磨盘;73、限位槽;8、顶升机构;81、载板;82、第五电动推杆;83、推块;9、防护机构;91、第二弹簧;92、顶块;93、防护圈;94、凹槽;10、驱动机构。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
本发明提供一种双面晶片抛光机,包括箱体1、转动机构2、上下料机构3、清理机构4、辅助机构5、定位机构6、限位机构7、顶升机构8、防护机构9和驱动机构10,箱体1的一端设置有对抛光盘以及清理时方向调节的转动机构2,转动机构2的一侧设置有对抛光盘取放时的上下料机构3,所述转动机构2的另一侧设置有清理机构4,辅助机构5设置于箱体1顶部的一端,定位机构6分别设置于辅助机构5的两侧,限位机构7设置于箱体1的顶部,限位机构7位于辅助机构5的下方防护机构9设置于箱体1的顶部,驱动机构10设置于箱体1内腔的底部。
转动机构2起到上下料以及清理时的方向变动调节的优点,上下料机构3用于自动切换磨盘时进行上下料的优点,清理机构4则对两组磨盘进行需要时清理的优点,辅助机构5可用于进行匹配下方的下磨盘72实现双面抛光,定位机构6可对上部的盘体进行夹持固定,顶升机构8可用于对下磨盘72顶升以辅助其完成切换盘体的作用,防护机构9用于对抛光时起到防护遮挡的作用,驱动机构10可在旋转抛光时进行动力驱动。
如图6所示,驱动机构10包括驱动电机、主齿轮、副齿轮、传动柱和收集盘以及第一齿圈和第二齿圈;
驱动电机工作时会带动主齿轮一同转动,之后再由主齿轮和副齿轮啮合带动传动柱和收集盘以及第一齿圈一同进行转动即可完成动力驱动作业,通过第一齿圈和第二齿圈之间放置游星轮带动晶片转动达到双面抛光工作,且传动柱的顶部开设有与连接块56相适配的槽口,方便在传动柱转动时带动上磨盘55一同进行转动,驱动机构10内部结构采用现有技术中成熟的驱动方式以及结构完成整体旋转时的驱动作业。
如图9所示,转动机构2包括底板21、第一电机22、电动滑台23和顶板24,底板21安装于箱体1一端的下部,第一电机22安装于底板21的顶部,电动滑台23键连接于第一电机22的输出轴,顶板24安装于箱体1一端的上部,电动滑台23的顶端贯穿顶板24,电动滑台23与顶板24之间转动连接,第一电机22和电动滑台23的配合利于达到高度以及方向的转动调节。
调节时:
第一电机22会带动电动滑台23转动,且转动最大限度为正反180°,此时会使连接在电动滑台23一侧的上下料机构3一同进行转动,并且位于箱体1的顶部即可,然后根据所需由电动滑台23调整所需的高度位置即可。
如图9所示,上下料机构3包括第一连接架31、第一电动推杆32、载架33、支撑杆34和支撑座35,第一连接架31安装于电动滑台23移动端的一侧,第一电动推杆32固定贯穿安装于第一连接架31的一侧,载架33安装于第一电动推杆32的输出端,支撑杆34安装于载架33的外侧,支撑座35安装于支撑杆34远离载架33的一端,可用于在延伸完成后实现对下方顶升的下磨盘72进行插入并向上对其进行支撑辅助取放料,也可直接移动至所需高度然后进行延伸对上方的上磨盘55进行支撑取放料。
取放料时:
会由第一电机22使在整体上下料机构3旋转调整至所箱体1的上方,然后会由第五电动推杆82推动推块83向上移动,在推块83向上移动时会将下磨盘72顶升至所需的高度位置,之后第一电动推杆32推动载架33和支撑座35延伸,直至位于下磨盘72的底部,最后电动滑台23带动其向上移动直至接触下磨盘72并将其带动再次向上位移,此时推块83回至原位;
第一电机22带动上下料机构3以及取下的下磨盘72一同回转至原位,放料时预先将下磨盘72放置在支撑座35的顶部,然后转动方向并且调整所需的高度后向下位移,之后推块83向上移动直至接触下磨盘72对其进行支撑并带动其回缩至原位即可完成下模的取放料工作以及自动更换的优点;
针对于上模预先使支撑座35转动方向,并且延伸,同时上移至上磨盘55的底部并且接触,然后由定位机构6解除对上磨盘55固定,此时全部支撑力在于支撑座35,随后向下移动,并且回缩,最后回转至初始位置即可;
如上述的方式将新的上磨盘55移动至下料位置,然后再由定位机构6对进行夹持固定即可完成安装作业,在切换或是更换上磨盘55,其操作方式与下磨盘72取下以及上料的方式大致相同,唯一的区别在于上磨盘55在取放料时需要由定位机构6进行固定或是解除固定即可。
如图10所示,清理机构4包括第二连接架41、第二电动推杆42、第二电机43、横板44、第三电机45、固定架46和毛刷板47,第二连接架41安装于电动滑台23移动端的另一侧,第二电动推杆42贯穿固定安装于第二连接架41的一侧,第二电机43安装于第二电动推杆42的输出端,横板44键连接于第二电机43的输出轴,第三电机45安装于横板44的顶部,固定架46键连接于第三电机45的输出轴,毛刷板47栓接于固定架46的底部,利于实现对上下两组盘体的清理工作;
清理时:
针对下磨盘清理,如上述取放料时相同的方式转动并且调整所需的高度即可,延伸时由第二电动推杆42推动毛刷板47移动时所需的位置,然后向下调节高度直至接触下磨盘72,此时由第三电机45直接带动固定架46和毛刷板47旋转即进行清理作业;
上磨盘55清理时:
预先由第二电机43通过横板44调整毛刷板47的方向,使其清理面朝上,之后再向上移动接触上磨盘55的底部,在使其旋转清理即可,清理完成后移动至预设的高度,并且回转至初始位置即可。
如图7和8所示,辅助机构5包括支柱51、支板52、第三电动推杆53、连接座54、上磨盘55、连接块56、插槽57、集流盘58和排液管59;
支柱51安装于箱体1顶部的一端,支板52安装于支柱51的顶端,第三电动推杆53安装于支板52顶部的一端,连接座54转动连接于第三电动推杆53的输出端,插槽57开设于上磨盘55内侧壁,上磨盘55通过插槽57卡接于连接座54的底部,连接块56分别安装于上磨盘55内壁的另外两侧,集流盘58固定安装于连接座54的上方,排液管59贯穿连通于集流盘58内腔的底部,排液管59的底端贯穿连接座54。
第三电动推杆53推动连接座54可用于调整上磨盘55向下移动的位置,直至接触物料使其辅助进行转动抛光即可,连接块56利于插入式配合传动柱跟随转动,而插槽57可配合插块67完成拆入固定工作,集流盘58和排液管59利于抛光液向下滴流;
整体辅助机构5为现有的向下延伸跟随转动式的抛光技术,但区别于现有技术中的不同时开设了与插块67相适配的插槽57,利于快速切换或是更换上磨盘55。
如图8所示,定位机构6包括竖板61、第四电动推杆62、传动架63、横杆64、第一弹簧65、挡板66、插块67和加固架68,竖板61分别固定安装于连接座54的两侧,第四电动推杆62固定安装于竖板61内侧的上部,传动架63固定安装于第四电动推杆62的输出端,所述第一弹簧65安装于连接座54的内侧壁,所述挡板66与第一弹簧65并且远离连接座54内侧壁的一端连接,所述插块67安装于挡板66的底端,所述横杆64安装于传动架63内侧的一端,所述横杆64活动穿过连接座54以及第一弹簧65的内部并且与挡板66固定连接,所述插块67插于插槽57的内部。
在对上磨盘55固定时:
如附图中所示为固定状态,而取消固定时则由第四电动推杆62的推动力带动传动架63推动横杆64和第一弹簧65向内侧移动,直至插块67脱离插槽57,然后便可辅助其进行取下切换工作,夹持时第四电动推杆62拉动其回缩使插块67插至第一弹簧65内部即可完成支撑固定作业;
第四电动推杆62和传动架63之间的连接处可通过螺栓固定,两者直接接触不进行栓接固定时也可进行工作达到预设的效果,此时第一弹簧65的作用便可为了在不固定时实现弹性复位的作用。
如图8所示,所述加固架68的一端安装于挡板66和插块67的夹角连接处,所述加固架68的另一端活动穿过连接座54并且与传动架63固定连接。
如图3和所示,限位机构7包括限位块71、下磨盘72和限位槽73,限位块71分别安装于箱体1凹陷处内腔底部的四周,下磨盘72放置于限位块71的顶部,限位槽73开设于下磨盘72底部的四周,限位块71位于限位槽73的内部。
下磨盘72开设的限位槽73适配限位块71可用于对下磨盘72在放置时进行限位工作。
如图6所示,顶升机构8包括载板81、第五电动推杆82和推块83,载板81设置于驱动机构10的外侧,第五电动推杆82分别安装于载板81顶部的两端,推块83安装于第五电动推杆82的输出端,载板81固定于上述传动柱表面的上部。
顶升下磨盘72时,直接由第五电动推杆82推动推块83,而推块83会推动下磨盘72向上移动,此时下磨盘72脱离配限位块71,直至上升至可取下的高度即可。
如图5所示,防护机构9包括第二弹簧91、顶块92、防护圈93和凹槽94,第二弹簧91分别安装于箱体1顶部凹陷处的两侧,顶块92安装于第二弹簧91的顶端,防护圈93底部的两侧均开设有凹槽94,顶块92位于凹槽94的内部,第二弹簧91和顶块92可对防护圈93弹性支撑限位工作;
放置防护圈93时,直接将防护圈93配合开设的凹槽94放置在顶块92的顶部,并且由第二弹簧91实现弹性支撑,利于受力后自适应上下移动,而防护圈93则利于在工作时放置抛光液飞溅。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (9)

1.一种双面晶片抛光机,其特征在于:包括箱体(1)、转动机构(2)、上下料机构(3)、清理机构(4)、辅助机构(5)、定位机构(6)、限位机构(7)、顶升机构(8)、防护机构(9)和驱动机构(10),所述箱体(1)的一端设置有对抛光盘以及清理时方向调节的转动机构(2),所述转动机构(2)的一侧设置有对抛光盘取放时的上下料机构(3),所述转动机构(2)的另一侧设置有清理机构(4),所述辅助机构(5)设置于箱体(1)顶部的一端,所述定位机构(6)分别设置于辅助机构(5)的两侧,所述限位机构(7)设置于箱体(1)的顶部,所述限位机构(7)位于辅助机构(5)的下方,所述防护机构(9)设置于箱体(1)的顶部,所述驱动机构(10)设置于箱体(1)内腔的底部;
所述辅助机构(5)包括支柱(51)、支板(52)、第三电动推杆(53)、连接座(54)、上磨盘(55)、连接块(56)、插槽(57)、集流盘(58)和排液管(59);
所述支柱(51)安装于箱体(1)顶部的一端,所述支板(52)安装于支柱(51)的顶端,所述第三电动推杆(53)安装于支板(52)顶部的一端,所述连接座(54)转动连接于第三电动推杆(53)的输出端,所述插槽(57)开设于上磨盘(55)内侧壁,所述上磨盘(55)通过插槽(57)卡接于连接座(54)的底部,所述连接块(56)分别安装于上磨盘(55)内壁的另外两侧,所述集流盘(58)固定安装于连接座(54)的上方,所述排液管(59)贯穿连通于集流盘(58)内腔的底部,所述排液管(59)的底端贯穿连接座(54)。
2.根据权利要求1所述的一种双面晶片抛光机,其特征在于:所述转动机构(2)包括底板(21)、第一电机(22)、电动滑台(23)和顶板(24),所述底板(21)安装于箱体(1)一端的下部,所述第一电机(22)安装于底板(21)的顶部,所述电动滑台(23)键连接于第一电机(22)的输出轴,所述顶板(24)安装于箱体(1)一端的上部,所述电动滑台(23)的顶端贯穿顶板(24),所述电动滑台(23)与顶板(24)之间转动连接。
3.根据权利要求2所述的一种双面晶片抛光机,其特征在于:所述上下料机构(3)包括第一连接架(31)、第一电动推杆(32)、载架(33)、支撑杆(34)和支撑座(35),所述第一连接架(31)安装于电动滑台(23)移动端的一侧,所述第一电动推杆(32)固定贯穿安装于第一连接架(31)的一侧,所述载架(33)安装于第一电动推杆(32)的输出端,所述支撑杆(34)安装于载架(33)的外侧,所述支撑座(35)安装于支撑杆(34)远离载架(33)的一端。
4.根据权利要求2所述的一种双面晶片抛光机,其特征在于:所述清理机构(4)包括第二连接架(41)、第二电动推杆(42)、第二电机(43)、横板(44)、第三电机(45)、固定架(46)和毛刷板(47),所述第二连接架(41)安装于电动滑台(23)移动端的另一侧,所述第二电动推杆(42)贯穿固定安装于第二连接架(41)的一侧,所述第二电机(43)安装于第二电动推杆(42)的输出端,所述横板(44)键连接于第二电机(43)的输出轴,所述第三电机(45)安装于横板(44)的顶部,所述固定架(46)键连接于第三电机(45)的输出轴,所述毛刷板(47)栓接于固定架(46)的底部。
5.根据权利要求1所述的一种双面晶片抛光机,其特征在于:所述定位机构(6)包括竖板(61)、第四电动推杆(62)、传动架(63)、横杆(64)、第一弹簧(65)、挡板(66)、插块(67)和加固架(68),所述竖板(61)分别固定安装于连接座(54)的两侧,所述第四电动推杆(62)固定安装于竖板(61)内侧的上部,所述传动架(63)固定安装于第四电动推杆(62)的输出端,所述第一弹簧(65)安装于连接座(54)的内侧壁,所述挡板(66)与第一弹簧(65)并且远离连接座(54)内侧壁的一端连接,所述插块(67)安装于挡板(66)的底端,所述横杆(64)安装于传动架(63)内侧的一端,所述横杆(64)活动穿过连接座(54)以及第一弹簧(65)的内部并且与挡板(66)固定连接,所述插块(67)插于插槽(57)的内部。
6.根据权利要求5所述的一种双面晶片抛光机,其特征在于:所述加固架(68)的一端安装于挡板(66)和插块(67)的夹角连接处,所述加固架(68)的另一端活动穿过连接座(54)并且与传动架(63)固定连接。
7.根据权利要求1所述的一种双面晶片抛光机,其特征在于:所述限位机构(7)包括限位块(71)、下磨盘(72)和限位槽(73),所述限位块(71)分别安装于箱体(1)凹陷处内腔底部的四周,所述下磨盘(72)放置于限位块(71)的顶部,所述限位槽(73)开设于下磨盘(72)底部的四周,所述限位块(71)位于限位槽(73)的内部。
8.根据权利要求1所述的一种双面晶片抛光机,其特征在于:所述顶升机构(8)包括载板(81)、第五电动推杆(82)和推块(83),所述载板(81)设置于驱动机构(10)的外侧,所述第五电动推杆(82)分别安装于载板(81)顶部的两端,所述推块(83)安装于第五电动推杆(82)的输出端。
9.根据权利要求1所述的一种双面晶片抛光机,其特征在于:所述防护机构(9)包括第二弹簧(91)、顶块(92)、防护圈(93)和凹槽(94),所述第二弹簧(91)分别安装于箱体(1)顶部凹陷处的两侧,所述顶块(92)安装于第二弹簧(91)的顶端,所述防护圈(93)底部的两侧均开设有凹槽(94),所述顶块(92)位于凹槽(94)的内部。
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