CN117229173B

CN117229173B - 覆盖层材料及其制备方法和包含其的有机电致发光器件

Info

Publication number: CN117229173B
Application number: CN202311524809.XA
Authority: CN
Inventors: 汪康; 马晓宇; 金成寿; 韩瑞锋; 张鹤; 王聪聪; 张思铭
Original assignee: Jilin Optical and Electronic Materials Co Ltd
Current assignee: Jilin Optical and Electronic Materials Co Ltd
Priority date: 2023-11-16
Filing date: 2023-11-16
Publication date: 2024-02-20
Anticipated expiration: 2043-11-16
Also published as: CN117229173A

Abstract

本发明属于有机电致发光材料技术领域，提供了一种覆盖层材料及其制备方法和包含其的有机电致发光器件，结构通式如说明书所示。本发明化合物作为低折射率CPL，母核至少含有一个氰基，与高折射率CPL搭配，使得来自器件内发出的光经高‑低折射率的膜层产生微腔，相互干涉，从而将器件内发出的光中特定波长的光线发射出去，可以窄化发射光谱，增强特定波长的光线的发光强度，提高器件的发光效率，同时保证器件寿命及低驱动电压等性能。

Description

覆盖层材料及其制备方法和包含其的有机电致发光器件

技术领域

本发明属于有机电致发光材料领域，具体涉及一种覆盖层材料及其制备方法和包含其的有机电致发光器件。

背景技术

有机电致发光器件(OLED)是一种基于有机材料的电致发光特性的光电子器件，通常由阳极、有机功能层及阴极构成。OLED的光效率通常可分为内量子效率和外量子效率。其中，外量子效率是指有机层中产生的光被提取到器件外部的效率，除受内量子效率影响外还与光提取效率密切相关。

一般来说，有机发光二极管的视角特性广为人知，但从光源光谱的角度来看，根据视角的不同会出现相当大的偏差，这是由于适当的折射率之间出现偏差所致。

目前，常采用在阴极上方增加一层高折射率的覆盖层(CPL)的方案以增加光提取效率。然而仅单一层高折射率CPL对器件的性能改善有限，且对高折射率材料的开发也存在瓶颈，使得光提取效率难以提升。通过不同折射率的CPL形成高-低折射率的叠层膜结构，使得来自器件内发出的光经高-低折射率的膜层产生微腔，相互干涉，从而将器件内发出的光中特定波长的光线发射出去，可以窄化发射光谱，增强特定波长光线的发光强度，提高器件的发光效率。

因此，开发出一种低折射率CPL使之与高折射率CPL搭配提高器件发光效率，同时保证器件寿命驱动电压整体性能，具有很重要的实际应用价值。

发明内容

有鉴于此，本发明提供了一种覆盖层材料及其制备方法，将本发明所述的覆盖层材料应用在特定的发光器件上，具有低驱动电压、高发光效率和长使用寿命。

需要说明的是，本发明化合物作为低折射率CPL，母核至少含有一个氰基，与高折射率CPL搭配，使得来自器件内发出的光经高-低折射率的膜层产生微腔，相互干涉，从而将器件内发出的光中特定波长的光线发射出去，可以窄化发射光谱，增强特定波长的光线的发光强度，提高器件的发光效率，同时保证器件寿命及低驱动电压等性能。

为了实现上述目的，本发明采用如下技术方案：

本发明的第一技术目的是提供一种覆盖层材料，具有式I所示结构：

；

其中，

Z₁-Z₅各自独立的选自C-CN、N、C-Ar₁，且至少一个为C-CN；

Ar₁独立的选自氢、C3-C10的环烷基、取代或未取代的C6-C24的芳基、含氮的强吸电子基团，所述含氮的强吸电子基团包括：

；其中取代基选自F、被氟部分或全部取代的C1-C12的烷基；

L选自连接键，苯基，萘基，联苯基，三联苯基；

R₁，R₂各自独立的选自F、氰基、C1~C12的烷基、被氟部分或全部取代的C1-C12的烷基、C3-C10的环烷基、三甲基硅烷基；

m，n各自独立的选自1，2，3，4，5。

进一步地，式I包括式I-1至式I-24所示结构：

。

上述“被氟部分或全部取代的C1-C12的烷基”选自被氟部分或全部取代的甲基，被氟部分或全部取代的乙基，被氟部分或全部取代的丙基，被氟部分或全部取代的丁基，被氟部分或全部取代的戊基，被氟部分或全部取代的己基。

进一步地，L选自连接键，苯基，萘基，联苯基；

R₁，R₂各自独立的选自F、CF₃、CF₂CF₃、氰基、三甲基硅烷基、甲基、乙基、丙基、叔丁基、环己基、环戊基、被氟部分取代的甲基、被氟部分取代的乙基、被氟部分或全部取代的丙基、被氟部分或全部取代的丁基、被氟部分或全部取代的戊基、被氟部分或全部取代的己基。

更进一步地，Ar₁独立的表示为氢或选自如下基团：

；

其中，

P选自1-5的整数，*代表连接位置。

最优选地，m=n，R₁与R₂相同。

具体地，所述覆盖层材料具体具有如下结构，但不仅限于此：

。

本发明的第二技术目的是提供上述覆盖层材料的制备方法，本发明的覆盖层材料可通过所属领域的技术人员已知的合成方法制备。或者，优选以下反应流程来进行制备，具体合成路线，如下：

；

上述式中，R’选自或；Hal₁独立地选自Cl，Br，I；

Z₁-Z₅，L，m，n，R₁-R₂如上述式I中所定义。

特别地，对于没有公开的原料，本领域技术人员能够采用经典的Suzuki偶联反应，Buchwald–Hartwig偶联反应合成，并应用到本发明中。

具体制备方法：

N₂保护下，将反应物A-I(1.0eq)、反应物B-I（1-1.4eq）、钯催化剂(0.01-0.04eq），碱（2.0-2.4eq）和/或膦配体（0.02-0.15eq）分别加入到甲苯、乙醇、水(2-4:1:1)的混合溶剂中，升温至80-100℃，反应8-12h，冷却至室温，加入H₂O，待固体析出完毕后过滤，将滤饼烘干，用管柱色谱法纯化，用旋转式蒸发器去除溶剂，得到的固体干燥，即最终得到式I。

可选地，所述钯催化剂选自三(二亚苄基丙酮)二钯Pd₂(dba)₃、四(三苯基膦)钯Pd(PPh₃)₄、二氯化钯PdCl₂、1，1'-二(二苯膦基)二茂铁二氯化钯PdCl₂(dppf)、醋酸钯Pd(OAc)₂、双(三苯基磷)二氯化钯Pd(PPh₃)₂Cl₂中的任意一种或至少两种的组合；

所述膦配体选自三苯基膦PPh₃、三叔丁基膦P(t-Bu)₃、2-二环己基磷-2，4，6-三异丙基联苯X-phos、三乙基膦PET₃、三甲基膦PMe₃、三苯基膦PPh₃、二苯基磷酸钾KPPh₂中的任意一种或至少两种的组合；

所述碱选自乙酸钾AcOK、K₂CO₃、K₃PO₄、Na₂CO₃、CsF、Cs₂CO₃或叔丁醇钠t-BuONa中的任意一种或至少两种的组合。

且，本发明的第三技术目的是提供一种有机电致发光器件，所述有机电致发光器件包含上述的覆盖层材料。

经由上述的技术方案可知，与现有技术相比，本发明具有如下有益效果：

1、本发明化合物母核至少含有一个氰基，且取代基Ar₁，R₁选自特定的取代基，与现有技术相比，能够进一步降低折射率。

2、本发明化合物作为低折射率CPL，与高折射率CPL搭配，使得来自器件内发出的光经高-低折射率的膜层产生微腔，相互干涉，从而将器件内发出的光中特定波长的光线发射出去，可以窄化发射光谱，增强特定波长的光线的发光强度，减少光损耗，提高器件发光效率，同时保证具有较低的驱动电压和较长的器件寿命。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。

图1是本发明实施例3提供的反应物A-263的核磁共振氢谱图。

图2是本发明实施例4提供的化合物349的核磁共振氢谱图。

具体实施方式

下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明实施例公开提供了覆盖层材料的制备方法。

另外，需要说明的是，本发明进行一系列钯催化偶联反应，一方面利用Br的活性大于F和Cl及I的活性大于F、Cl和Br这一差异，另一方面通过控制反应条件及反应位点，并且用管柱色谱法或过硅胶漏斗纯化反应，去除副产物，得到目标化合物。参考公知常识如下：

《过渡金属有机化学》（原著第六版），罗伯特·H·克拉布特里(RobertH.Crabtree)，出版社：上海华东理工大学出版社，出版时间：2017-09-00，ISBN:978-7-5628-5111-0，第388页。

《有机化学与光电材料实验教程》，陈润锋，出版社:东南大学出版社，出版时间:2019-11-00，ISBN:9787564184230，第174页。

实施例1：化合物6的合成

；

CAS：反应物A-6：1948247-84-4

CAS：反应物B-6：625122-29-4

N₂保护下，将反应物A-6(1.0eq)、反应物B-6（1.2eq）、四（三苯基膦）钯（0.02mmol）和碳酸钾（2.2eq）分别加入到甲苯、乙醇、水(3:1:1)的混合溶剂中升温至85℃，反应12h，冷却至室温，加入H₂O，待固体析出完毕后过滤，将滤饼烘干，用管柱色谱法纯化，用旋转式蒸发器去除溶剂，得到的固体干燥，得到化合物6（产率：71.8.%，测试值MS(ESI，m/Z):[M+H]+=755.33）。

表征：

HPLC纯度：＞99.8%。

元素分析：

理论值：C, 65.17; H, 2.80; F, 30.17; N, 1.85

测试值：C, 64.99; H, 2.94; F, 30.20; N, 1.92

实施例2：化合物205的合成

；

CAS：反应物a-205：14862-52-3

CAS：反应物b-205：1423-26-3

CAS：反应物A-205：2041800-12-6

N₂保护下，将反应物a-205(1.0eq)、反应物b-205（1.8eq）、四（三苯基膦）钯（0.02mmol）和碳酸钾（2.2eq）分别加入到甲苯、乙醇、水(3:1:1)的混合溶剂中升温至85℃，反应12h，冷却至室温，加入H₂O，待固体析出完毕后过滤，将滤饼烘干，用管柱色谱法纯化，用旋转式蒸发器去除溶剂，得到的固体干燥，得到中间体c-205（产率：51.4%，测试值MS(ESI，m/Z):[M+H]+= 400.17）。

N₂保护下，将中间体c-205(1.0eq)，反应物d-205(1.1eq)，PdCl₂(dppf) (0.02eq)和醋酸钾(2.5eq)溶解于DMF中，升温至90℃，反应8h。使用旋转式蒸发器去除溶剂，残留物加入二氯甲烷搅拌、过滤，用管柱色谱法纯化剩余物质，获得反应物B-205（产率：80.3%，测试值MS(ESI，m/Z):[M+H]+= 492.26）。

N₂保护下，将反应物A-205(1.0eq)、反应物B-205（1.2eq）、四（三苯基膦）钯（0.02mmol）和碳酸钾（2.3eq）分别加入到甲苯、乙醇、水(3:1:1)的混合溶剂中升温至85℃，反应12h，冷却至室温，加入H₂O，待固体析出完毕后过滤，将滤饼烘干，用管柱色谱法纯化，用旋转式蒸发器去除溶剂，得到的固体干燥，得到化合物205（产率：75.5%，测试值MS(ESI，m/Z):[M+H]+= 621.30）。

表征：

HPLC纯度：＞99.8%。

元素分析：

理论值：C, 71.50; H, 3.41; F, 18.34; N, 6.76

测试值：C, 71.25; H, 3.61; F, 18.36; N, 6.81

实施例3：化合物263的合成

；

CAS：反应物a-263：408352-58-9

CAS：反应物b-263：98-80-6

CAS：反应物B-263：2101318-93-6

N₂保护下，将反应物a-263(1.0eq)、反应物b-263（0.8eq）、四（三苯基膦）钯（0.02mmol）和碳酸钾（2.4eq）分别加入到甲苯、乙醇、水(3:1:1)的混合溶剂中升温至85℃，反应8h，冷却至室温，加入H₂O，待固体析出完毕后过滤，将滤饼烘干，用管柱色谱法纯化，用旋转式蒸发器去除溶剂，得到的固体干燥，得到反应物A-263（产率：61.8%，测试值MS(ESI，m/Z):[M+H]+= 258.13）。

N₂保护下，将反应物A-263(1.0eq)、反应物B-263（1.1eq）、四（三苯基膦）钯（0.02mmol）和碳酸钾（2.3eq）分别加入到甲苯、乙醇、水(3:1:1)的混合溶剂中升温至85℃，反应12h，冷却至室温，加入H₂O，待固体析出完毕后过滤，将滤饼烘干，用管柱色谱法纯化，用旋转式蒸发器去除溶剂，得到的固体干燥，得到化合物263（产率：82.0%，测试值MS(ESI，m/Z):[M+H]+= 458.37）。

表征：

反应物A-263的核磁共振氢谱如图1所示。

HPLC纯度：＞99.7%。

元素分析：

理论值：C, 83.82; H, 3.96; N, 12.22

测试值：C, 83.59; H, 4.15; N, 12.30

实施例4：化合物349的合成

；

CAS：反应物a-349：2529606-99-1

反应物B-349与实施例2中反应物B-205为相同物质，合成路线相同。

步骤1：

将反应物a-349(1.0eq)溶解在乙腈(CH₃CN)中，添加N-溴代琥珀酰亚胺（NBS）(1.1eq)，8h后投入蒸馏水终止反应，用乙酸乙酯萃取2次，用碳酸氢钠水溶液及水清洗有机层，然后用无水硫酸钠干燥有机层，用旋转式蒸发器去除溶剂，得到中间体b-349（产率：80.1%，测试值MS(ESI，m/Z):[M+H]+= 327.20）。

步骤2：

在氩气保护下，将中间体b-349 (1.0eq)中加入氰化铜（CuCN）(2.1eq)，并加入N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP，N-methyl-2-pyrrolidinone)，加热至180℃搅拌24小时。冷却至室温后，加入氨水，搅拌后过滤，得到的固体用蒸馏水冲洗，然后用乙醇清洗，用管柱色谱法纯化剩余物质，滤液用旋转式蒸发器去除溶剂，得到的固体干燥，得到中间体c-349（产率：64.6%，测试值MS(ESI，m/Z):[M+H]+= 274.23）。

步骤3：

将中间体c-349(1.0eq)中加入冰醋酸：硫酸：蒸馏水（4:1:1）中进行加热，冷却至4℃，加入1.64 M亚硝酸钠水溶液，搅拌30分钟。将溶液在4℃下缓慢滴入溶解在盐酸（HCl）中的（1.2eq）氯化铜，此后，加热至45℃并搅拌30分钟，加热至80℃并搅拌30分钟。冷却至室温后，用氯仿萃取有机层3次。用碳酸氢钠和水的水溶液清洁有机层，将得到的有机层用无水硫酸钠干燥，通过管柱色谱法纯化剩余物质，得到反应物A-349（产率：44.6%，测试值MS(ESI，m/Z):[M+H]+= 293.21）。

步骤4：

N₂保护下，将反应物A-349(1.0eq)、反应物B-349（1.3eq）、醋酸钯(Pd(OAc)₂)(0.02eq）和2-环己基-2,4,6-三异丙基联苯(X-Phos)(0.04eq)，碳酸铯(Cs₂CO₃)（2.3eq）分别加入到甲苯、乙醇、水(4:1:1)的混合溶剂中，升温至85℃，反应10h，冷却至室温，加入H₂O，待固体析出完毕后过滤，用管柱色谱法纯化剩余物质，滤液用旋转式蒸发器去除溶剂，得到的固体干燥，得到化合物349（产率：71.3%，测试值MS(ESI，m/Z):[M+H]+= 623.33）。

表征：

化合物349的核磁共振氢谱如图2所示。

HPLC纯度：＞99.6%。

元素分析：

理论值：C, 67.42; H, 3.07; F, 18.28; N, 11.23

测试值：C, 67.19; H, 3.24; F, 18.30; N, 11.31

实施例5-100

参照实施例的合成方法完成对如下化合物的合成，其分子式和质谱如下表1所示。本申请中质谱测试采用的质谱仪型号为Waters XEVO TQD，低精度，ESI源测试。

另外，本发明其他化合物参照上述所列举的实施例的合成方法即可获得，所以在此不再一一例举。

制备光学特性评估所用单层膜

将实施例1-实施例100、对比化合物1-10分别在硅基板上制作膜厚80nm的蒸镀膜，测定波长460nm、530nm、620nm的折射率n及消光系数k值，对比化合物1-10结构如下，测定数据如下表2所示：

。

由表2可知，符合本发明通式的化合物在460nm下各色域中折射率为1.480-1.500，对比例的折射率1.427-1.824，且消光系数k值在各色域中几乎为0，不影响发光层的发光。

以下结合具体应用例对本申请提供的覆盖层材料和有机电致发光器件进行具体说明。

应用例1：有机电致发光器件制备：

a、ITO阳极：将涂层为ITO(氧化铟锡)-Ag-ITO(氧化铟锡)，厚度为14nm/150nm/14nm的玻璃基板在蒸馏水中清洗2次，超声波洗涤30min，再用蒸馏水反复清洗2次，超声波洗涤10min，随后用真空烘箱220℃烘烤2小时，降温即可使用。以该基板为阳极，使用蒸镀机进行蒸镀器件工艺，在其上依次蒸镀其它功能层。

b、HIL（空穴注入层）：以1Å/s的蒸镀速率，真空蒸镀厚度为10nm的空穴注入层材料HT和P-dopant作为空穴注入层，HT和P-dopant的化学式如下所示，所述HT和P-dopant的蒸镀速率比为97：3；

c、HTL（空穴传输层）：以1.5Å/s的蒸镀速率，在空穴注入层上面真空蒸镀130nm的HT作为空穴传输层；

d、Prime（发光辅助层）：以0.5Å/s的蒸镀速率，在空穴传输层上面真空蒸镀5nm的prime作为发光辅助层，prime化学式如下所示；

e、EML（发光层）：以1Å/s的蒸镀速率，在发光辅助层上真空蒸镀厚度为30nm的主体材料(Host)和掺杂材料(Dopant)作为发光层，Host和Dopant的化学式如下所示，所述Host和Dopant的蒸镀速率比为95:5。

f、HB（空穴阻挡层）：以0.5Å/s的蒸镀速率，在发光层上真空蒸镀厚度为5.0nm的HB作为空穴阻挡层，HB的化学式如下所示。

g、ETL（电子传输层）：以1Å/s的蒸镀速率，在空穴阻挡层上真空蒸镀厚度为30nm的ET和Liq作为电子传输层，ET的化学式如下所示，ET和Liq的蒸镀速率比为50：50。

h、EIL（电子注入层）：以0.5Å/s的蒸镀速率，在电子传输层上蒸镀厚度为1.0nm的Yb膜层，形成电子注入层。

i、阴极：以1Å/s的蒸镀速率比，蒸镀镁和银13nm，其蒸镀速率比为1:9，得到OLED器件。

j、CPL-1(低折射率层)：以1Å/s的蒸镀速率，在阴极上真空蒸镀厚度为20nm的本发明化合物6，作为低折射率层。

k、CPL-2(高折射率层)：以1Å/s的蒸镀速率，在CPL-1上真空蒸镀厚度为45nm的CPL-2，CPL-2的化学式如下所示，作为高折射率层。

l、将蒸镀完成的基板进行封装：首先采用涂胶设备将清洗后盖板用UV胶进行涂覆工艺，然后将涂覆完成的盖板移至压合工段，将蒸镀完成的基板置于盖板上端，最后将基板和盖板在贴合设备作用下进行贴合，同时完成对UV胶光照固化。

。

应用例2-100：按照上述有机电致发光器件的制备方法制备应用例2-100的有机电致发光器件，区别在于将应用例1中的化合物6分别替换为对应的化合物，形成低折射率层。

对比例1-10：

按照上述有机电致发光器件的制备方法制备对比例1-10的有机电致发光器件，区别在于将应用例1中的化合物6分别替换为对比化合物1-10，作为低折射率层材料，其中对比化合物1-10的结构式如上所示。

对比例11-23：

按照上述有机电致发光器件的制备方法制备对比例11-23的有机电致发光器件，区别在于将CPL-1层和CPL-2层为相同物质，为表3中相应的化合物。

在1000（nits）亮度下对上述器件实施例1-100以及器件对比例1-23得到的有机电致发光器件的驱动电压、发光效率、BI值以及寿命进行表征，测试结果如下表3：

由表3可知，符合本发明通式的化合物与高折射率CPL组合所制备的器件性能优于仅含有高折射率CPL所制备的器件性能，也优于现有技术中低折射率与高折射率CPL材料搭配的器件性能。

器件的性能是各种性能综合作用的结果，例如材料之间的HOMO，LUMO，三线态能级，蒸镀形态，自由基活性，载流子平衡，蒸镀温度，测试条件（温度，亮度，电流密度）等因素都会对器件造成影响。对比化合物1，对比化合物6，对比化合物7的折射率略低于本发明化合物，从器件性能上看，本发明的低折射率化合物与高折射率化合物的相互作用使得器件的聚光作用更加显著，器件性能在效率上得到了提升。

对比化合物4与化合物260为平行对比例，结构区别为本发明化合物R₁为氟，对比化合物4无取代，化合物260具有更低的折射率，更高的发光效率；

对比化合物6与本发明化合物226；对比化合物7与本发明化合物209；对比化合物8与本发明化合物291，对比化合物9与本发明化合物292，区别在于本发明化合物母核中含有氰基，且与R₁取代基共同作用，使化合物在器件中不易结晶，具有更好的出光特性，相较于现有的低折射率材料，在同样器件条件下本发明提供的化合物表现出更高的发光效率，且维持了较高的器件寿命和低驱动电压。

综上，本发明化合物母核至少具有一个氰基，且R₁，Ar₁选自特定的取代基，与现有技术相比，一方面在本发明范围内的化合物具有较低折射率，另一方面，本发明化合物与高折射率CPL搭配制备的有机电致发光器件能更好的起到聚光作用，减少光损耗，提高发光效率，具有较低的驱动电压和较长的器件寿命。

对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims

1.一种覆盖层材料，其特征在于，具有式I所示结构：

；式I中，

Z₁-Z₅各自独立的选自C-CN、N、C-Ar₁，且至少一个为C-CN；

Ar₁独立的选自氢、取代或未取代的C6-C24的芳基、含氮的强吸电子基团，所述含氮的强吸电子基团为：

；

其中取代基选自F、被氟部分或全部取代的C1-C12的烷基；

L选自连接键；

R₁，R₂各自独立的选自F、C1~C12的烷基、被氟部分或全部取代的C1-C12的烷基、C3-C10的环烷基、三甲基硅烷基；

m，n各自独立的选自1，2，3，4，5。

2.根据权利要求1所述的覆盖层材料，其特征在于，式I为式I-1至式I-6所示结构：

。

3.根据权利要求1或2所述的覆盖层材料，其特征在于，所述被氟部分或全部取代的C1-C12的烷基选自被氟部分或全部取代的甲基，被氟部分或全部取代的乙基，被氟部分或全部取代的丙基，被氟部分或全部取代的丁基，被氟部分或全部取代的戊基，被氟部分或全部取代的己基。

4.根据权利要求3所述的覆盖层材料，其特征在于，

R₁，R₂各自独立的选自F、CF₃、CF₂CF₃、三甲基硅烷基、甲基、乙基、丙基、叔丁基、环己基、环戊基、被氟部分取代的甲基、被氟部分取代的乙基、被氟部分或全部取代的丙基、被氟部分或全部取代的丁基、被氟部分或全部取代的戊基、被氟部分或全部取代的己基。

5.根据权利要求1所述的覆盖层材料，其特征在于，所述取代或未取代的C6-C24的芳基选自如下基团：

；P选自1-5的整数，*代表连接位置。

6.根据权利要求5所述的覆盖层材料，其特征在于，m=n，R₁与R₂相同。

7.根据权利要求1或6所述的覆盖层材料，其特征在于，所述覆盖层材料选自下述结构式所示化合物中的任一种：

。

8.一种如权利要求1所述的覆盖层材料的制备方法，其特征在于，所述方法具体包括如下步骤：

N₂保护下，将反应物A-I(1.0eq)、反应物B-I（1-1.4eq）、钯催化剂(0.01-0.04eq）、碱（2.0-2.4eq）和膦配体（0.02-0.15eq），或反应物A-I(1.0eq)、反应物B-I（1-1.4eq）、钯催化剂(0.01-0.04eq）、碱（2.0-2.4eq）分别加入到甲苯、乙醇、水(2-4:1:1)的混合溶剂中，升温至80-100℃，反应8-12h，冷却至室温，加入H₂O，待固体析出完毕后过滤，将滤饼烘干，用管柱色谱法纯化，用旋转式蒸发器去除溶剂，得到的固体干燥，即最终得到式I；

具体合成路线，如下：

；

其中，R’选自或；

Hal₁独立的选自氯、溴或碘；

Z₁-Z₅，L，m，n，R₁-R₂具有如权利要求1所述定义。

9.根据权利要求8所述的覆盖层材料的制备方法，其特征在于，所述钯催化剂选自三(二亚苄基丙酮)二钯Pd₂(dba)₃、四(三苯基膦)钯Pd(PPh₃)₄、二氯化钯PdCl₂、1，1'-二(二苯膦基)二茂铁二氯化钯PdCl₂(dppf)、醋酸钯Pd(OAc)₂、双(三苯基磷)二氯化钯Pd(PPh₃)₂Cl₂中的任意一种或至少两种的组合；

所述膦配体选自三苯基膦PPh₃、三叔丁基膦P(t-Bu)₃、2-二环己基磷-2，4，6-三异丙基联苯X-phos、三乙基膦PET₃、三甲基膦PMe₃、二苯基磷酸钾KPPh₂中的任意一种或至少两种的组合；

10.一种有机电致发光器件，其特征在于，所述有机电致发光器件包含如权利要求1所述的覆盖层材料。