CN117223409A - 光学层压体、包括其的光学构件及包括其的光学显示装置 - Google Patents

光学层压体、包括其的光学构件及包括其的光学显示装置 Download PDF

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李珍泳
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Abstract

提供了一种光学层压体，该光学层压体包括第二粘合层、层压在第二粘合层上的第二粘合层以及层压在第一粘合层和第二粘合层之间的遮光部分；包括其的光学构件以及包括其的光学显示装置。

Description

光学层压体、包括其的光学构件及包括其的光学显示装置
技术领域
本发明涉及一种光学层压体、包括其的光学构件及包括其的光学显示装置。
背景技术
光学显示装置通常在水平截面上包括在其中显示图像的显示区域和围绕显示区域的非显示区域。非显示区域包括黑矩阵或光阻挡层以防止存在于显示区域外部的内部元件从外部可见。
为了形成非显示区域，考虑在窗膜的下表面上形成光阻挡层的方法，所述窗膜具有在其上表面上形成的硬涂层。光阻挡层通过将用于光阻挡层的组合物以单元为单位以卷对卷的方式(roll-to-roll manner in units of cells)印刷在构成窗膜的基础膜的下表面上形成，或通过在用于光阻挡层的组合物上使用光刻胶技术形成。在其上形成光阻挡层的窗膜可以通过下述来使用：在窗膜的其上形成有光阻挡层的一侧上层压光学粘合膜(诸如光学透明粘合剂(OCA)或光学透明树脂(OCR))，然后以单元单位(cell unit)切割窗膜。
以卷对卷方式同时形成多个单元的方法不可避免地导致缺陷现象(包括印刷流图案(print flow pattern)和印刷污迹(print smearing))，导致废弃的基础膜或窗膜的显著增加，这导致成本上升。特别地，在小尺寸显示器(诸如移动显示器)的情况下，与大尺寸显示器相比，必须同时形成相对大量的单元，并且因此可进一步增加缺陷产生率。此外，先前使用一个光学粘合膜，因此，为了增加基础膜和光学元件两者的粘合性，必须需要基础膜的表面处理工艺，这降低了可加工性。
同时，近来，可折叠显示装置的开发已经持续进行。折叠不可避免地造成在其上形成光阻挡层的窗膜与光学粘合膜之间的应力。包括光阻挡层的窗膜和光学粘合膜在改善可折叠性方面具有限制。
在韩国专利申请公开号2006-0027222中公开了本发明的背景技术。
发明内容
技术问题
本发明涉及提供具有优异的可加工性和成本降低效果的光学层压体。
本发明还涉及提供能够实现优异的可折叠性的光学层压体。
本发明还涉及提供光学层压体，所述光学层压体能够通过使光学层压体的一个表面和另一个表面具有不同的粘合性来同时实现高粘合性和可重工性(reworkability，可再加工性)。
技术方案
本发明的一个方面涉及光学层压体。
1.光学层压体包括第二粘合层、层压在第二粘合层上的第一粘合层以及层压在第一粘合层和第二粘合层之间的光阻挡部分(light blocking part，光阻挡部)。
2.在1中，光阻挡层可以形成在第一粘合层或第二粘合层的边缘处。
3.在1-2中，光阻挡层的厚度可以是第一粘合层或第二粘合层的厚度的约0.01％至50％。
4.在1-3中，第一粘合层和第二粘合层在-20℃下可以各自具有约400kPa或更小的储能模量。
5.在1-4中，第一粘合层和第二粘合层在60℃下可以各自具有约5kPa至50kPa的储能模量。
6.在1-5中，第一粘合层和第二粘合层中的每一个可以是(甲基)丙烯酸类((meth)acrylic，(甲基)丙烯酸)粘合层。
7.在1-6中，第一粘合层可以由包含用于含羟基的(甲基)丙烯酸类共聚物的单体混合物和引发剂的粘合层组合物形成。
8.在7中，粘合层组合物还可以包含有机颗粒和无机颗粒中的一种或多种。
9.在1-8中，第二粘合层可以由包含用于含羟基的(甲基)丙烯酸类共聚物的单体混合物、引发剂以及含硅酮的(甲基)丙烯酸类化合物的粘合层组合物形成。
10.在9中，粘合层组合物还可以包含有机颗粒和无机颗粒中的一种或多种。
11.在1-10中，光学层压体还可以包括形成在第一粘合层和第二粘合层之间的第一保护层和第二保护层中的一个或多个。
12.在9中，第一保护层和第二保护层中的每一个可以与光阻挡部分的至少一个表面接触。
13.在11-12中，光学层压体可以包括第二粘合层以及依次层压在第二粘合层的上表面上的第二保护层、第一保护层以及第一粘合层，并且光阻挡部分可以形成在第二保护层和第一保护层之间。
14.在11-13中，光阻挡部分可以形成在第二保护层或第一保护层的边缘处。
15.在11-14中，第一保护层和第二保护层中的每一个可以包括(甲基)丙烯酸类涂层、环氧类(epoxy based，环氧树脂类)涂层或硅酮类涂层。
16.在11-15中，第二保护层、光阻挡部分和第一保护层的层压厚度可以为约50μm或更小。
17.在1中，光学层压体可以包括第二粘合层、层压在第二粘合层的上表面上的第一粘合层以及层压在第二粘合层和第一粘合层之间的光阻挡部分，并且还包括层压在第二粘合层的下表面上的第二被粘物以及层压在第一粘合层的上表面上的第一被粘物。
18.在1和17中，光阻挡部分可以形成在第一粘合层或第二粘合层的边缘处。
本发明的光学构件包括本发明的光学层压体。
本发明的光学显示装置包括本发明的光学层压体。
有益效果
本发明可以提供具有优异的可加工性和成本降低效果的光学层压体。
本发明可以提供能够实现优异的可折叠性的光学层压体。
本发明可以提供通过使光学层压体的一个表面和另一个表面具有不同的粘合性而能够同时实现高粘合性和可重工性的光学层压体。
附图说明
图1是根据本发明的一个实施方式的光学层压体的截面图。
图2是图1的光学层压体的分解透视图。
图3是根据本发明的另一个实施方式的光学层压体的截面图。
图4是根据本发明的又一个实施方式的光学层压体的截面图。
图5是根据本发明的一个实施方式的光学层压体的制造方法的示意图。
图6是根据本发明的另一个实施方式的光学层压体的制造方法的示意图。
图7中的(A)和(B)分别是用于测量剥离强度的样品的俯视图和截面图。
图8是示出了在剥离强度测量期间驱动的样品的截面图。
具体实施方式
在下文中，将参照附图更详细地描述本申请的实施方式。然而，在本申请中公开的技术不限于本文中描述的实施方式并且可以以其他形式体现。然而，提供本文中介绍的实施方式使得所公开的内容可以是彻底和完整的，并且本申请的精神可以充分地传达给本领域技术人员。
为了在附图中清楚地表达每个装置的部件，部件的尺寸(诸如宽度或厚度)被稍微放大，并且部件的宽度或厚度不旨在限制本发明的范围。在多个附图中，相同的参考标号指代基本上相同的部件。
在本说明书中，基于附图定义术语“上部”和“下部”，并且取决于观察点(point ofview)，“上部”可以改变为“下部”，并且“下部”可以改变为“上部”。此外，当一个元件被称为“在”另一元件“上”时，其不仅指该元件直接位于另一元件“上”形成的情况，而且还指另一结构插入其间的情况。另一方面，当一个元件被称为“直接在”另一元件“上”或“直接在”另一元件“上方”或“直接形成在”另一元件“上”时，其表示另一结构(诸如中间体)不插入其间。
如本文所使用的，术语“(甲基)丙烯酸类((meth)acrylic，(甲基)丙烯酸)”可以指丙烯酸类(acrylic，丙烯酸)和/或甲基丙烯酸类(methacrylic，甲基丙烯酸)。
如本文中使用的，术语“共聚物”可以包括聚合物或树脂。
如本文中使用的，术语“均聚物的玻璃化转变温度”可以指使用DSC Discovery(TAInstrument Inc.)在测量目标单体的均聚物上测量的玻璃化转变温度。具体地，可以以约20℃/min的加热速率将测量目标单体的均聚物加热至约180℃，随后将均聚物缓慢冷却至约-100℃，然后以约10℃/min的加热速率加热至约100℃以获得吸热转变曲线的数据，然后可以将吸热转变曲线的拐点确定为玻璃化转变温度。
如本文中使用的，“储能模量”是在自动应变条件下，在1rad/s的剪切速率和1％的应变下，使用ARES G2流变仪(TAInstruments)(其是动态粘弹性测量装置)测量的值。具体地，储能模量是在使用8mm夹具将1.0N的法向力施加至样品的状态下以5℃/min的加热速率将样品从-60℃加热至100℃时对样品测量的值，其中，通过层压多个粘合层以制备具有800μm厚度的样品，并且使用8mm直径的冲孔机对层压体进行穿孔来制备样品。
为了测量本说明书中的“剥离强度”，参照图7，将经历两次处理(总剂量：156次剂量)的粘合层6和PET膜5(同时使用电晕处理装置以78次剂量进行等离子体放电)顺序地层压在高强度玻璃板7上，并且在图7中，“a”是50mm，“b”是100mm，“c”是25mm，“d”是70mm，“e”是50mm，“f”是60mm，并且“g”是10mm。粘合层6具有25μm的厚度并且PET膜5具有75μm的厚度。制备图7的样品，并将制备的样品在25℃下放置30分钟。将样品固定至TA.XT_Plus质构分析仪(Stable Micro Systems)，并且通过图8中所示的方法在25℃下测量样品的剥离强度。参照图8，PET膜5的未与粘合层6层压的一端以180°的剥离角度弯曲，并且使用TA.XT_Plus质构分析仪以300mm/min的速度牵拉PET膜的一端，以测量粘合层6从高强度玻璃板7剥离的剥离强度。
在本说明书中，当提及数值范围时，“X至Y”是指“大于或等于X且小于或等于Y(X≤且≤Y)”。
本发明的光学层压体包括第二粘合层、层压在第二粘合层上的第一粘合层以及层压在第二粘合层和第一粘合层之间的光阻挡部分。第一粘合层和第二粘合层彼此面对地形成。
本发明的光学层压体在应用于光学显示装置时，可以同时执行将彼此不同的第一被粘物和第二被粘物彼此粘附的功能以及实现非显示区域和显示区域的功能。虽然没有特别限定，但在本说明书中，定义的是：第一被粘物层压至第一粘合层，并且第二被粘物层压至第二粘合层。
此外，本发明的光学层压体可以通过容易地控制第一粘合层和第二粘合层两者来同时实现难以彼此相容的高粘合性和可重工性，并且还可以实现优异的可折叠性。
将切割成100mm×100mm(长度x宽度)的尺寸的光学层压体层压至高强度玻璃板，使得第二粘合层层压至高强度玻璃板以制备样品。将样品放置在热板上并在80℃下放置10分钟，随后以2400mm/min的速度从高强度玻璃板剥离光学层压体，并且通过测定在高强度玻璃板上是否存在光学层压体的第二粘合层的残留物以及是否破坏光学层压体来测定“可重工性”。本发明的光学层压体具有优异的可重工性，特别是高温可重工性，这是因为在以上测定过程中在高强度玻璃板中没有第二粘合层的残留并且光学层压体没有被破坏。
可以通过以下方法评估“可折叠性”。
[评估可折叠性的方法]
通过依次堆叠窗膜、光学层压体和有机发光二极管(OLED)显示面板制造模块样品。在模块制造中使用的窗膜、光学层压体和OLED面板如下。
-窗膜：使用PET膜(厚度：100μm，Cosmoshine TA015,Toyobo Co.,Ltd.)。
-光学层压体：本发明的光学层压体。
-OLED面板：使用PET膜(厚度：100μm,Cosmoshine TA015,Toyobo Co.,Ltd.)。
将制造的模块样品切割成170mm×110mm(长度x宽度)的尺寸，并且使其在-20℃下经受100,000个折叠循环以评估模块样品中气泡、裂纹和分层的产生。当折叠时，将模块样品在其纵向和OLED面板的方向上以30个循环/分钟的折叠速率折叠，使得样品的弯曲部分具有1.5mm的曲率半径，此时，1个循环是指折叠样品以具有所述曲率半径，然后将样品展开回到其初始状态的操作。可以在25℃下评估可折叠性。本发明的光学层压体可以实现优异的可折叠性，这是因为在上述评估期间没有产生气泡、裂纹和分层。
此外，通过上述方法制造的本发明的光学层压体具有降低可加工性和成本的优异效果。即，以卷对卷方式在基础膜或窗膜上同时形成包括光阻挡部分(例如，图1中的光阻挡部分(30))的多个单元的常规方法不可避免地导致缺陷现象(诸如印刷流图案和印刷污迹)，导致废弃的基础膜或窗膜的显著增加，这导致成本上升，但是本发明的光学层压体不具有上述问题，并且因此在可加工性和成本降低方面是优异的。
在下文中，将参照图1和图2描述根据本发明的一个实施方式的光学层压体。
参照图1，光学层压体包括第一粘合层(10)、光阻挡部分(30)以及第二粘合层(20)。
光阻挡部分(30)
光阻挡部分(30)形成在第一粘合层(10)和第二粘合层(20)之间的界面的至少一部分上。具体地，光阻挡部分(30)被浸渍到第一粘合层(10)和第二粘合层(20)之间的界面处。如图1所示，术语“浸渍”是包括光阻挡部分(30)通过与第二粘合层(20)的一个表面(第二粘合层的上表面)接触而穿透第一粘合层(10)的一部分并且存在于第一粘合层(10)内部的情况或光阻挡部分(30)穿透第一粘合层(10)和第二粘合层(20)中的每一个的一部分并且存在于第一粘合层(10)和第二粘合层(20)内部的情况的概念。光阻挡部分(30)不形成为相对于第一粘合层(10)和/或第二粘合层(20)的单独层，并且因此可以减小光学显示装置的厚度。
光阻挡部分(30)形成在第一粘合层(10)和/或第二粘合层(20)的边缘处。具体地，如图2所示，可以形成光阻挡部分(30)，其中第一粘合层(10)的内侧的一部分是敞开的(open)。即，光阻挡部分(30)可以形成为包括内侧和外侧的闭合曲线或闭合多边形的形状，并且在其中可以包括部分空的区域。光阻挡部分(30)的内侧是指形成光阻挡部分的闭合曲线或闭合多边形的空的空间。光阻挡部分(30)的外侧是指与光阻挡部分(30)的内侧相对的表面。
当光学层压体应用于光学显示装置时，光阻挡部分(30)可以对应于非显示区域(NDA)。光学层压体包括显示区域(DA)和非显示区域(NDA)。显示区域(DA)是执行光学显示装置的显示功能并且使图像通过屏幕可见的部分。另一方面，非显示区域(NDA)不直接涉及显示功能。非显示区域(NDA)位于显示区域(NDA)的边缘并且围绕和保护显示区域(DA)，并且覆盖用于驱动图像的印刷电路板、驱动芯片等以便对用户不可见。
光阻挡部分(30)的厚度可以小于第一粘合层(10)或第二粘合层(20)的厚度。这使光阻挡部分(30)包括在第一粘合层(10)和第二粘合层(20)之间的界面处，并且还确保光学层压体的弯曲可靠性。
在一个实施方式中，光阻挡部分(30)的厚度可以是第一粘合层(10)或第二粘合层(20)的厚度的约0.01％至50％，例如，0.01％、0.1％、1％、5％、10％、15％、20％、25％、30％、35％、40％、45％和50％，并且优选约1％至30％。在以上范围内，光阻挡部分(30)可以包括在第一粘合层和第二粘合层之间的界面处，并且可以不影响光学层压体的弯曲可靠性。
光阻挡部分(30)的厚度可以在约1.0μm至25μm(例如，1μm、5μm、10μm、15μm、20μm和25μm，并且优选约1.0μm至10μm)范围内。在以上范围内，光阻挡部分(30)可以包括在第一粘合层和第二粘合层之间的界面处，可以确保光阻挡性能，并且可以减小光学层压体的厚度。
光阻挡部分(30)可以由可热固化或可光固化组合物或者用于光阻挡部分的组合物形成，所述组合物包含提供光阻挡效果的染料和颜料中的至少一种。
在一个实施方式中，用于光阻挡部分的组合物可以包含颜料、有机树脂粘结剂以及引发剂。通过包含以上组分，可以形成具有较小厚度并且更容易实现本发明的所有效果的光阻挡部分(30)。用于光阻挡部分的组合物还可以包含反应性不饱和化合物、溶剂以及添加剂中的一种或多种。
颜料可以包括碳黑、银-锡合金的混合颜料或它们的组合。碳黑的实例包括石墨化碳、炉黑、乙炔黑、科琴黑等，但本发明不限于此。颜料可以作为颜料分散体被包括，但是本发明不限于此。
有机树脂粘结剂可以包括丙烯酸类树脂、聚酰亚胺类树脂、聚氨酯类树脂或它们的组合。丙烯酸类树脂可以包括甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/苯乙烯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸2-羟基乙酯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/苯乙烯/甲基丙烯酸2-羟基乙酯共聚物等，并且聚氨酯类树脂可以是脂肪族聚氨酯树脂。然而，本发明不限于此。
引发剂可以包括光聚合引发剂和热聚合引发剂中的一种或多种。
光聚合引发剂可以包括苯乙酮类化合物、二苯甲酮类化合物、噻吨酮类化合物、苯偶姻类化合物、三嗪类化合物以及吗啉类化合物，但本发明不限于此。热聚合引发剂可以包括过氧化物、偶氮类化合物等，但本发明不限于此。
反应性不饱和化合物是具有至少两个反应性不饱和基团(例如，(甲基)丙烯酸酯基团)的化合物，并且反应性不饱和化合物的实例可以包括乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、双酚A环氧(甲基)丙烯酸酯、乙二醇单甲醚(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯以及磷酸三(甲基)丙烯酰氧基乙酯，但是本发明不必限于此。
溶剂可以包括二醇醚，诸如乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、丙二醇甲醚等；乙酸赛路苏(cellosolve acetate，溶纤剂乙酸酯)，诸如乙酸甲基赛路苏、乙酸乙基赛路苏、乙酸二乙基赛路苏等；卡必醇，诸如甲基乙基卡必醇、二乙基卡必醇、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲基乙基醚、二乙二醇二乙基醚等以及丙二醇烷基醚乙酸酯，诸如丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯等，但本发明不限于此。
添加剂可以包括本领域中众所周知的一种或多种添加剂，诸如紫外线(UV)吸收剂、硅烷偶联剂等。
用于光阻挡部分的组合物可以包含约1至50wt％的颜料、约0.5至20wt％的有机树脂粘结剂、约0.1至10wt％的引发剂以及余量的溶剂。在以上范围内，可以形成具有薄厚度的光阻挡部分并且可以表现出优异的光阻挡效果。用于光阻挡部分的组合物还可以包含1至20wt％的反应性不饱和化合物。
将参照图5和图6更详细地描述在第一粘合层(10)或第二粘合层(20)上形成光阻挡部分(30)的方法。
第一粘合层(10)和第二粘合层(20)
第一粘合层(10)和第二粘合层(20)可以固定形成在其间的界面处的光阻挡部分(30)，从而使得光学层压体能够提供稳定的光阻挡性能。由于第一粘合层(10)和第二粘合层(20)如上所述在性能和/或组成方面受到控制，因此包括光阻挡部分(30)的整个光学层压体可以具有优异的可折叠性。
由于第一粘合层(10)和第二粘合层(20)彼此面对地形成，因此具有不同表面特性的第一被粘物和第二被粘物可以彼此粘附。本发明的光学层压体可以通过容易地控制第一粘合层(10)和第二粘合层(20)两者来同时实现彼此难以相容的高粘合性和可重工性。
第一粘合层(10)在-20℃至60℃下可以具有与第二粘合层(20)的储能模量相同或不同的储能模量。
第一粘合层(10)和第二粘合层(20)在25℃下可以各自具有约10kPa至100kPa(例如，10kPa、20kPa、30kPa、40kPa、50kPa、60kPa、70kPa、80kPa、90kPa或100kPa，并且优选20kPa至70kPa)的储能模量。在以上范围内，光学层压体可以具有优异的处理/可加工性和室温弯曲可靠性，并且可以促进第一粘合层和第二粘合层之间的光阻挡部分的形成和浸渍。
第一粘合层(10)和第二粘合层(20)在-20℃下各自具有约400kPa或更小(例如，40kPa、50kPa，60kPa、70kPa、80kPa、90kPa、100kPa、110kPa、120kPa、130kPa、140kPa、150kPa、160kPa、170kPa、180kPa、190kPa、200kPa、210kPa、220kPa、230kPa、240kPa、250kPa、260kPa、270kPa、280kPa、290kPa、300kPa、310kPa、320kPa、330kPa、340kPa、350kPa、360kPa、370kPa、380kPa、390kPa或400kPa，优选40kPa至300kPa并且更优选大于50kPa且小于或等于200kPa)的储能模量。在以上范围内，粘合层可以在低温下表现出优异的柔性，使得光学层压体在低温下的弯曲可靠性是优异的，并且其有助于实现光阻挡部分的功能。
第一粘合层(10)和第二粘合层(20)在60℃下可以各自具有约5kPa至50kPa(例如，5kPa、10kPa、15kPa、20kPa、25kPa、30kPa、35kPa、40kPa、45kPa或50kPa，并且优选10kPa至45kPa)的储能模量。在以上范围内，光学层压体在低温条件和高温条件之间的热冲击下以及在高温和/或高湿条件下具有优异的弯曲可靠性，并且其有助于实现光阻挡部分的功能。
第一粘合层(10)和第二粘合层(20)在25℃下可以各自具有约700gf/in(＝gf/英寸)或更大(例如，700gf/in、750gf/in、800gf/in、850gf/in、900gf/in、950gf/in、1000gf/in、1050gf/in、1100gf/in、1150gf/in或1250gf/in，并且具体地，700gf/in至1200gf/in)的剥离强度。在以上范围内，当粘合层粘附至被粘物时，粘合层可以在室温下稳定地固定至被粘物以保护被粘物，并且可以防止第一粘合层或第二粘合层与光阻挡部分之间的分层。
第一粘合层(10)和第二粘合层(20)可以由相同或不同的粘合层组合物形成。优选地，第一粘合层(10)由与第二粘合层(20)的粘合层组合物不同的粘合层组合物形成，使得光学层压体可以通过在一个表面和另一个表面上具有不同物理性能来执行两种或更多种功能。例如，光学层压体可以同时实现高粘合性和可重工性。
在此，术语“不同的粘合层组合物”不仅可以包括其中粘合层组合物的组分不同的情况，而且包括其中即使组分是相同的类型，物理性能、化学性能、机械性能等也不同的情况。
第一粘合层(10)或第二粘合层(20)可以由(甲基)丙烯酸类、硅酮类、环氧类或氨基甲酸酯(urethane，聚氨酯)类粘合层组合物形成，但是本发明不限于此。优选地，考虑到易于获得材料、易于处理、易于实现性能等，第一粘合层(10)或第二粘合层(20)可以由(甲基)丙烯酸类粘合层组合物形成。
在一个实施方式中，粘合层组合物可以包含(甲基)丙烯酸类单体的单体混合物和引发剂，并且单体混合物可以形成含羟基的(甲基)丙烯酸类共聚物。单体混合物可以包括含羟基的(甲基)丙烯酸酯和共聚单体，其均聚物的玻璃化转变温度为0℃或更低，并且具体地为-100℃至0℃。
含羟基的(甲基)丙烯酸酯可以降低第一粘合层或第二粘合层在低温和室温下的储能模量并且可以增加粘合层的粘合强度。含羟基的(甲基)丙烯酸酯可以包括具有至少一个羟基的含有C4至C20烷基的(甲基)丙烯酸酯。具体地，含羟基的(甲基)丙烯酸酯可以包括(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丁酯和(甲基)丙烯酸6-羟基己酯中的一种或多种。在单体混合物中，含羟基的(甲基)丙烯酸酯可以以约0.5wt％至30wt％(例如，约0.5wt％、约1wt％、约5wt％、约10wt％、约15wt％、约20wt％、约25wt％或约30wt％，并且具体地约1wt％至25wt％)的量被包括。在以上范围内，粘合层在室温和低温下可以具有优异的可折叠性并且表现出优异的粘合强度。
共聚单体可以包括含烷基的(甲基)丙烯酸酯、含亚乙基氧基(ethylene oxidegroup)的单体、含亚丙基氧基(propylene oxide)的单体、含胺基的单体、含酰胺基的单体、含烷氧基的单体、含磷酸酯基的单体、含磺酸基的单体、含苯基的单体和含硅烷基的单体中的一种或多种。在单体混合物中，可以以约70wt％至99.5wt％(例如，70wt％、75wt％、80wt％、85wt％、90wt％、95wt％、99wt％或99.5wt％，并且具体地75wt％至99wt％)的量包含共聚单体。在以上范围内，粘合层在室温和低温下可以具有优异的可折叠性并且表现出优异的粘合强度。
含烷基的(甲基)丙烯酸酯可以形成粘合层的基体(matrix)并且改善粘合层的机械性能。含烷基的(甲基)丙烯酸酯可以包括未取代的含C1至C20线性或支化烷基的(甲基)丙烯酸酯。例如，含烷基的(甲基)丙烯酸酯可以包括(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯和(甲基)丙烯酸月桂酯中的一种或多种。
含亚乙基氧基的单体可以包括含有一个或多个亚乙基氧基(-CH2CH2O-)的至少一种(甲基)丙烯酸酯单体。例如，含亚乙基氧基的单体可以包括聚环氧乙烷烷基醚(甲基)丙烯酸酯中的任一种，所述聚环氧乙烷烷基醚(甲基)丙烯酸酯诸如聚环氧乙烷单甲醚(甲基)丙烯酸酯、聚环氧乙烷单乙醚(甲基)丙烯酸酯、聚环氧乙烷单丙醚(甲基)丙烯酸酯、聚环氧乙烷单丁醚(甲基)丙烯酸酯、聚环氧乙烷单戊醚(甲基)丙烯酸酯、聚环氧乙烷二甲醚(甲基)丙烯酸酯、聚环氧乙烷二乙醚(甲基)丙烯酸酯、聚环氧乙烷单异丙醚(甲基)丙烯酸酯、聚环氧乙烷单异丁醚(甲基)丙烯酸酯和聚环氧乙烷单叔丁醚(甲基)丙烯酸酯，但是本发明不必限于此。
含亚丙基氧基的单体可以包括聚环氧丙烷烷基醚(甲基)丙烯酸酯中的任一种，所述聚环氧丙烷烷基醚(甲基)丙烯酸酯诸如聚环氧丙烷单甲醚(甲基)丙烯酸酯、聚环氧丙烷单乙醚(甲基)丙烯酸酯、聚环氧丙烷单丙醚(甲基)丙烯酸酯、聚环氧丙烷单丁醚(甲基)丙烯酸酯、聚环氧丙烷单戊醚(甲基)丙烯酸酯、聚环氧丙烷二甲醚(甲基)丙烯酸酯、聚环氧丙烷二乙醚(甲基)丙烯酸酯、聚环氧丙烷单异丙醚(甲基)丙烯酸酯、聚环氧丙烷单异丁醚(甲基)丙烯酸酯、聚环氧丙烷单叔丁醚(甲基)丙烯酸酯，但是本发明不必限于此。
含胺基的单体可以包括含胺基的(甲基)丙烯酸类单体中的任一种，所述含胺基的(甲基)丙烯酸类单体诸如(甲基)丙烯酸单甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸单乙基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸单甲基氨基丙酯、(甲基)丙烯酸单乙基氨基丙酯、(甲基)丙烯酸二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸二乙基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸N-叔丁基氨基乙酯(N-tert-butylaminoethyl(meth)acrylate)以及甲基丙烯酰氧基乙基三甲基氯化铵(甲基)丙烯酸酯(methacryloxyethyltrimethyl ammonium chloride(meth)acrylate，(甲基)丙烯酸甲基丙烯酰氧基乙基三甲基氯化铵)，但本发明不必限于此。
含酰胺基的单体可以包括含酰胺基的(甲基)丙烯酸类单体中的任一种，所述含酰胺基的(甲基)丙烯酸类单体诸如(甲基)丙烯酰胺、N-甲基丙烯酰胺、N-甲基甲基丙烯酰胺、N-羟甲基(甲基)丙烯酰胺、N-甲氧基甲基(甲基)丙烯酰胺、N,N-亚甲基双(甲基)丙烯酰胺和2-羟乙基丙烯酰胺，但本发明不必限于此。
含烷氧基的单体可以包括(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基丙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基丙酯、(甲基)丙烯酸2-丁氧基丙酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基戊酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基戊酯、(甲基)丙烯酸2-丁氧基己酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基戊酯、(甲基)丙烯酸3-乙氧基戊酯和(甲基)丙烯酸3-丁氧基己酯中的任一种，但本发明不必限于此。
含磷酸酯基的单体可以包括含磷酸酯基的丙烯酸类单体中的任一种，所述含磷酸酯基的丙烯酸类单体诸如(甲基)丙烯酸2-甲基丙烯酰氧基乙基二苯基磷酸酯(2-methacryloyloxyethyldiphenylphosphate(meth)acrylate，2-甲基丙烯酰氧基乙基二苯基磷酸酯(甲基)丙烯酸酯)、(甲基)丙烯酸三甲基丙烯酰氧基乙基磷酸酯(trimethacryloyloxyethylphosphate(meth)acrylate，三甲基丙烯酰氧基乙基磷酸酯(甲基)丙烯酸酯)以及(甲基)丙烯酸三丙烯酰氧基乙基磷酸酯(triacryloyloxyethylphosphate(meth)acrylate，三丙烯酰氧基乙基磷酸酯(甲基)丙烯酸酯)，但本发明不必限于此。
含磺酸基的单体可以包括含磺酸基的丙烯酸类单体中的任一种，所述含磺酸基的丙烯酸类单体诸如(甲基)丙烯酸磺基丙基钠(sodium sulfopropyl(meth)acrylate)、(甲基)丙烯酸2-磺基乙基钠(sodium2-sulfoethyl(meth)acrylate)和2-丙烯酰胺基-2-甲基丙烷磺酸钠(sodium2-acrylamido-2-methylpropane sulfonate)，但本发明不必限于此。
含苯基的单体可以包括含苯基的丙烯酸类乙烯基单体(acrylic vinyl monomer)中的任一种，所述含苯基的丙烯酸类乙烯基单体诸如(甲基)丙烯酸对叔丁基苯酯、(甲基)丙烯酸邻联苯基酯(o-biphenyl(meth)acrylate)以及(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯，但本发明不必限于此。
含硅烷基的单体可以包括含硅烷基的乙烯基单体中的任一种，所述含硅烷基的乙烯基单体诸如(甲基)丙烯酸2-乙酰乙酰氧基乙酯、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三(2-甲氧基乙基)硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷和(甲基)丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷，但本发明不必限于此。
单体混合物还可以包括含杂脂环族基团的单体。
含杂脂环族基团的单体可以帮助实现可逆的剥离强度变化，即使在室温与高温之间的重复温度变化下。含杂脂环族基团的单体可以具有约10℃至200℃并且优选30℃至180℃的均聚物的玻璃化转变温度。在以上范围内，可以提高粘合层的剥离强度。
含杂脂环族基团的单体可以包括N-(甲基)丙烯酰吗啉和N-(甲基)丙烯酰吡咯烷酮中的一种或多种。优选地，含杂脂环族基团的单体包括N-(甲基)丙烯酰吗啉，从而增加本发明的室温下的剥离强度。
含杂脂环族基团的单体可以以约0.1wt％至20wt％(例如，约0.1wt％、约0.5wt％、约1wt％、约5wt％、约10wt％、约15wt％或约20wt％，并且优选约0.5wt％至约15wt％或约1wt％至约10wt％)的量包括在单体混合物中。在以上范围内，光学层压体在低温和高温和/或高湿度下可以具有优异的弯曲可靠性。
引发剂可以由单体混合物形成(甲基)丙烯酸类共聚物或可以固化(甲基)丙烯酸类共聚物。引发剂可以包括光聚合引发剂和热聚合引发剂中的一种或多种。光聚合引发剂包括任何引发剂，只要引发剂可以通过在经由光辐照等的固化期间引发自由基可聚合化合物的聚合实现交联结构。例如，可以使用苯偶姻类、苯乙酮类、羟基酮类、氨基酮类、氧化膦类光引发剂等。热聚合引发剂没有特别限制，只要它可以通过引发可聚合化合物的聚合实现交联结构，并且可以使用例如任何典型的引发剂诸如偶氮类化合物、过氧化物类化合物和氧化还原化合物。
基于100重量份的单体混合物，可以以约0.01重量份至5重量份(具体地0.05重量份至3重量份并且更具体地0.1重量份至1重量份)的量包括引发剂。在以上范围内，引发剂使粘合层完全固化，可以防止粘合层的透射率由于残留引发剂而劣化，可以减少粘合层中的气泡产生，并且可以表现出优异的反应性。
粘合层组合物还可以包含有机颗粒和无机颗粒中的一种或多种。
有机颗粒使粘合层表现出在室温和高温下的优异的可折叠性、优异的低温和/或室温粘弹性，并且表现出稳定的高温粘弹性，这是由于其交联结构导致的。此外，有机颗粒可以增加高温下的储能模量，从而增加高温下的可靠性。
有机颗粒可以具有特定的平均粒径，并且有机颗粒和(甲基)丙烯酸类共聚物之间的折射率差可以较小。因此，即使粘合层包括有机颗粒，粘合层也可以确保高透明性。有机颗粒可以包括具有约10nm至400nm(具体地10nm至300nm，更具体地10nm至200nm并且更具体地50nm至150nm的平均粒径的有机纳米颗粒。在以上范围内，可以防止有机纳米颗粒的聚集，有机纳米颗粒可以不影响粘合层的折叠，并且粘合层可以表现出优异的透明性。有机颗粒和(甲基)丙烯酸类共聚物之间的折射率差可以是约0.05或更小，具体地0或更大并且0.03或更小，并且更具体地0或更大并且0.02或更小。在以上范围内，粘合层可以表现出优异的透明性。有机颗粒可以具有约1.40至1.70并且具体地约1.48至约1.60的折射率。在以上范围内，粘合层可以表现出优异的透明性。
在一个实施方式中，有机纳米颗粒可以是核-壳型有机纳米颗粒，并且核和壳可以满足以下等式1：当有机纳米颗粒具有核-壳型颗粒形式时，粘合层可以表现出优异的可折叠性、以及弹性和柔性之间的优异的平衡性能。
[等式1]
Tg(c)<Tg(s)
(其中，在等式1中，Tg(c)是核的玻璃化转变温度(单位：℃)，并且Tg(s)是壳的玻璃化转变温度(单位：℃))。
在本说明书中，术语“壳”是指有机纳米颗粒中的最外层。核可以是一种球形颗粒。然而，核还可以包括围绕球形颗粒的附加层，只要核具有所述玻璃化转变温度。
具体地，核的玻璃化转变温度可以在约-150℃至10℃(具体地约-150℃至-5℃并且更具体地约-150℃至-20℃)的范围内。在以上范围内，粘合层可以在低温和/或室温下具有粘弹性效果。核可以包括各自具有上述玻璃化转变温度的聚(甲基)丙烯酸烷基酯和聚硅氧烷中的至少一种。
聚(甲基)丙烯酸烷基酯可以包括聚丙烯酸甲酯、聚丙烯酸乙酯、聚丙烯酸丙酯、聚丙烯酸丁酯、聚丙烯酸异丙酯、聚丙烯酸己酯、聚甲基丙烯酸己酯、聚丙烯酸乙基己酯和聚甲基丙烯酸乙基己酯中的一种或多种，但本发明不必限于此。
聚硅氧烷可以是例如有机硅氧烷(共)聚合物((co)polymer，(共)聚物)。有机硅氧烷(共)聚合物可以用作非交联或交联有机硅氧烷(共)聚合物。交联有机硅氧烷(共)聚合物可以用于确保耐冲击性和可着色性。交联有机硅氧烷(共)聚合物是交联有机硅氧烷，并且具体地，交联有机硅氧烷(共)聚合物可以包括交联二甲基硅氧烷、甲基苯基硅氧烷、二苯基硅氧烷以及它们中的两种或更多种的混合物。使用两种或更多种有机硅氧烷的共聚物，折射率可以控制为约1.41至约1.50。
有机硅氧烷(共)聚合物的交联状态可以基于在各种有机溶剂中的溶解度来确定。随着交联状态增加，通过溶剂的溶解度降低。丙酮、甲苯等可以用作用于确定交联状态的溶剂，并且具体地，有机硅氧烷(共)聚合物可以具有不溶解在丙酮或甲苯中的部分。有机硅氧烷共聚物在甲苯中可以具有约30％或更多的不溶物。
此外，有机硅氧烷(共)聚合物还可以包括丙烯酸烷基酯交联聚合物。丙烯酸烷基酯交联聚合物可以包括丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸2-乙基己酯等。例如，可以使用具有低玻璃化转变温度的丙烯酸正丁酯或丙烯酸2-乙基己酯。
具体地，壳的玻璃化转变温度可以在约15℃至150℃(具体地约35℃至150℃并且更具体地50℃至140℃)的范围内。在上述范围内，有机纳米颗粒在(甲基)丙烯酸类共聚物中的分散性可以是优异的。壳可以包括具有上述玻璃化转变温度的聚甲基丙烯酸烷基酯。例如，壳可以包括聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚甲基丙烯酸乙酯、聚甲基丙烯酸丙酯、聚甲基丙烯酸丁酯、聚甲基丙烯酸异丙酯、聚甲基丙烯酸异丁酯和聚甲基丙烯酸环己酯中的一种或多种，但本发明不必限于此。
核可以以约30wt％至99wt％(具体地约40wt％至约95wt％并且更具体地约50wt％至约90wt％)的量包含在有机纳米颗粒中。在以上范围内，可以改善光学层压体在宽温度范围内的可折叠性。
壳可以以约1wt％至约70wt％(具体地约5wt％至约60wt％并且更具体地约10wt％至约50wt％)的量包含在有机纳米颗粒中。在以上范围内，可以改善光学层压体在宽温度范围内的可折叠性。
有机颗粒例如有机纳米颗粒可以通过乳液聚合方法制备，但本发明不限于此。
基于100重量份的单体混合物，可以以约0.1重量份至约20重量份(例如，约0.1重量份、约0.5重量份、约1重量份、约2重量份、约3重量份、约4重量份、约5重量份、约6重量份、约7重量份、约8重量份、约9重量份、约10重量份、约11重量份、约12重量份、约13重量份、约14重量份、约15重量份、约16重量份、约17重量份、约18重量份、约19重量份或约20重量份，具体地，约0.5重量份至约10重量份并且更具体地，约0.5重量份至约5重量份)的量包含有机颗粒。在以上范围内，可以平衡粘合层的粘弹性、模量和恢复力，并且即使在高温下，粘合层也可以实现优异的折叠性能。
粘合层组合物还可以包含：含硅酮的(甲基)丙烯酸类化合物。
含硅酮的(甲基)丙烯酸类化合物可以包含(甲基)丙烯酸酯基团作为光固化反应基团，通过该基团，含硅酮的(甲基)丙烯酸类化合物通过光固化反应偶联至含羟基的(甲基)丙烯酸类共聚物。光固化改善粘合层在高温下的流动性并且使含硅酮的(甲基)丙烯酸类化合物的含硅酮部分容易地朝向粘合层的表面移动，从而降低粘合层在高温下的剥离强度。此外，当温度被改变至室温时，含硅酮部分被再次移动到粘合层中以增加粘合层的剥离强度，从而即使在室温和高温之间重复的温度变化之后，也能够使剥离强度可逆地变化。这使得粘合层能够在室温具有充分的剥离强度以用于优异地粘附至被粘物，并且在高温下具有降低的剥离强度以用于高温下的优异的可重工性。特别地，由于近来的微加工和精加工，即使在重复的高温重工操作(rework operation)中，含硅酮的(甲基)丙烯酸类化合物也可以提供优异的可重工性。
在一个实施方式中，由包含含硅酮的(甲基)丙烯酸类化合物的粘合层组合物形成的粘合层可以具有通过以下等式2计算的约80％或更大的剥离强度比。通过满足等式2，即使在室温和高温之间重复的温度变化之后，也能够使剥离强度可逆变化，从而使得能够重复地重工操作，并且即使在重工之后也能够确保足够的剥离强度以具有优异的可靠性。优选地，等式2的剥离强度比可以是例如80％、81％、82％、83％、84％、85％、86％、87％、88％、89％、90％、91％、92％、93％、94％、95％、96％、97％、98％、99％或100％，并且具体地可以在约80％至100％的范围内。
[等式2]
剥离强度比＝P3/P1×100
(其中，在等式2中，
P1是在25℃下的粘合层的剥离强度(单位：gf/in)，并且
P3是在10个循环的剥离强度测试之后测量的粘合层在25℃下的剥离强度(单位：gf/in)，其中，一个循环是指将粘合层在25℃下放置30分钟，以5℃/min的加热速率将粘合层从25℃加热至80℃，将粘合层在80℃下放置24小时，并且以5℃/min的冷却速率将粘合层从80℃冷却至25℃的操作)。
含硅酮的(甲基)丙烯酸类化合物不包括在用于含羟基的(甲基)丙烯酸类共聚物的单体混合物中，而是包括在含羟基的(甲基)丙烯酸类共聚物聚合之后的粘合剂组合物中。通过该工艺，可以容易地实现本发明的效果。
含硅酮的(甲基)丙烯酸类化合物可以包括在其末端具有至少一个(甲基)丙烯酸酯基团的有机聚硅氧烷。(甲基)丙烯酸酯基团可以引入有机聚硅氧烷的侧链部分、一端或两端，但优选地，其一端或两端，并且更优选地，其一端，以促进含硅酮部分的移动。
含硅酮的(甲基)丙烯酸类化合物可以包括在其一端具有(甲基)丙烯酸酯基团的有机聚硅氧烷和在其两端具有(甲基)丙烯酸酯基团的有机聚硅氧烷中的一种或多种。
含硅酮的(甲基)丙烯酸类化合物可以具有约4,000至20,000g/mol(例如，4000g/mol、5000g/mol、6000g/mol、7000g/mol、8000g/mol、9000g/mol、10000g/mol、11000g/mol、12000g/mol、13000g/mol、14000g/mol、15000g/mol、16000g/mol、17000g/mol、18000g/mol、19000g/mol或20000g/mol，并且优选4,000g/mol至15,000g/mol)的官能团当量重量。在上述范围内，通过与含羟基的(甲基)丙烯酸类共聚物的光固化反应，可以增加室温下的剥离强度并且可以抑制副反应。
含硅酮的(甲基)丙烯酸类化合物在室温下可以是液体，以促进粘合层的制造并且增加粘合层的透明性和含硅酮部分的流动性。在一个实施方式中，含硅酮的(甲基)丙烯酸类化合物在25℃下可以具有约50至300mm2/s并且优选50至250mm2/s的粘度。在以上范围内，与粘合剂组合物中的其他组分的相容性可以是优异的。
含硅酮的(甲基)丙烯酸类化合物可以包括二烷基硅氧烷单元或包含二芳基硅氧烷单元的线性有机聚硅氧烷化合物。
在一个实施方式中，含硅酮的(甲基)丙烯酸类化合物可以由化学式1或2表示。
[化学式1]
(其中，在化学式1中，
R1、R2、R3、R4、R5和R6各自独立地是氢原子、C1至C10烷基或C6至C10芳基，
R7是甲基或氢，
X是甲基、乙基、甲氧基或乙氧基，并且n是100至500的整数)。
[化学式2]
(其中，在化学式2中，
R1、R2、R3、R4、R5和R6各自独立地是氢原子、C1至C10烷基或C6至C10芳基，
R7和R8各自独立地是甲基或氢，并且
n是50至250的整数)。
优选地，在化学式1和化学式2中，R1至R6各自独立地是C1至C5烷基，例如，甲基、乙基、丙基、丁基或戊基。
基于100重量份的含羟基的(甲基)丙烯酸类共聚物，可以以约0.1重量份至5重量份(例如，0.1重量份、0.2重量份、0.5重量份、1.0重量份、1.5重量份、2.0重量份、2.5重量份、3.0重量份、3.5重量份、4.0重量份、4.5重量份、5.0重量份并且优选0.3重量份至5重量份)的量包含含硅酮的(甲基)丙烯酸类化合物，在以上范围内，在高温下能够防止含硅酮的(甲基)丙烯酸类化合物从粘合层渗出，同时使得剥离强度能够根据温度变化可逆地变化。
粘合层组合物还可以包含交联剂。
交联剂可以通过增加粘合层组合物的交联度来改善粘合层的机械强度。交联剂可以包括能够用活性能量线固化的多官能(甲基)丙烯酸酯。在一个实施方式中，交联剂可以包括双官能(甲基)丙烯酸酯，诸如1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,8-辛二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇己二酸酯二(甲基)丙烯酸酯(neopentyl glycol adipate di(meth)acrylate)、二(甲基)丙烯酸二环戊基酯(dicyclopentanyl di(meth)acrylate)、己内酯改性的二(甲基)丙烯酸二环戊烯基酯、环氧乙烷改性的二(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸二(甲基)丙烯酰氧基乙酯、烯丙基化二(甲基)丙烯酸环己酯、三环癸烷二甲醇(甲基)丙烯酸酯、二羟甲基二环戊烷二(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性的六氢邻苯二甲酸二(甲基)丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇改性的三甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、金刚烷二(甲基)丙烯酸酯以及9,9-双[4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)苯基]芴；三官能丙烯酸酯，诸如三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、丙酸改性的二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、环氧丙烷改性的三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三官能氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯以及异氰脲酸三(甲基)丙烯酰氧基乙酯；四官能丙烯酸酯，诸如二甘油四(甲基)丙烯酸酯和季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯；五官能丙烯酸酯，诸如二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯；和六官能丙烯酸酯，诸如二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己内酯改性的二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯和氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(例如，异氰酸酯单体和三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯的反应产物)，但本发明不限于此。这些可以单独或以两种或更多的组合使用。优选地，交联剂可以包括多元醇的多官能(甲基)丙烯酸酯。基于100重量份的单体混合物，可以以约0重量份至10重量份(具体地0.001重量份至7重量份并且具体地0.01重量份至5重量份)的量包含交联剂。在以上范围内，可以实现优异的粘合强度和增加的可靠性。
粘合层组合物还可以包含上述含杂脂环族基团的单体。含杂脂环族基团的单体基本上与以上描述的那些相同。
基于100重量份的单体混合物，可以以约0.1重量份至20重量份、并且优选0.5重量份至15重量份和1重量份至10重量份的量包含含杂脂环族基团的单体。在以上范围内，光学层压体在低温和高温和/或高湿度下可以具有优异的弯曲可靠性。
粘合层组合物还可以包含硅烷偶联剂。硅烷偶联剂可以包括本领域已知的任何常规硅烷偶联剂。例如，硅烷偶联剂可以包括选自由以下组成的组中的一种或多种：具有环氧结构的硅化合物，诸如3-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、3-缩水甘油氧基丙基三乙氧基硅烷、3-缩水甘油氧基丙基甲基二甲氧基硅烷和2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷；含可聚合不饱和基团的硅化合物，诸如乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、(甲基)丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷；含氨基的硅化合物，诸如3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷和N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷；和3-氯丙基三甲氧基硅烷，但本发明不限于此。优选地，可以使用具有环氧结构的硅烷偶联剂。基于100重量份的单体混合物，可以以约0重量份至1.0重量份(具体地0.05重量份至0.5重量份)的量包含硅烷偶联剂。在以上范围内，存在增加可靠性的效果。
粘合层组合物可以选择性地还包含典型的添加剂，诸如固化促进剂、离子液体、锂盐、无机填料、软化剂、分子量调节剂、抗氧化剂、抗老化剂、稳定剂、赋予粘附力的树脂、重整树脂(reforming resin)(多元醇、酚、丙烯酸类、聚酯、聚烯烃、环氧树脂、环氧化聚丁二烯树脂等)、流平剂、消泡剂、增塑剂、染料、颜料(着色颜料、体质颜料等)、处理剂、UV阻挡剂、荧光增白剂、分散剂、热稳定剂、光稳定剂、UV吸收剂、抗静电剂、凝结剂、润滑剂、溶剂等。
可以通过部分聚合用于(甲基)丙烯酸类共聚物的单体混合物，并且包含引发剂等来制备粘合层组合物。可以进一步添加上述交联剂、硅烷偶联剂、添加剂等。粘合剂组合物可以通过部分聚合用于(甲基)丙烯酸类共聚物的单体混合物以制备包含含羟基的(甲基)丙烯酸类共聚物(预聚物)和未聚合的单体混合物的粘性液体，然后将引发剂等添加至粘性液体来制备。上述交联剂、硅烷偶联剂、添加剂等可以进一步添加至粘性液体。部分聚合可以包括溶液聚合、悬浮聚合、光聚合、本体聚合或乳液聚合。具体地，通过将引发剂添加至单体混合物可以在50℃至100℃下进行溶液聚合。引发剂可以包括苯乙酮类自由基光聚合引发剂，包括2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮等。可以进行部分聚合以实现在25℃下约1,000cP至10,000cP并且具体地约4,000cP至9,000cP的粘度。
在一个实施方式中，第一粘合层可以由包含用于含羟基的(甲基)丙烯酸类共聚物的单体混合物和引发剂的粘合层组合物形成。第二粘合层可以由包含用于含羟基的(甲基)丙烯酸类共聚物的单体混合物、引发剂和含硅酮的(甲基)丙烯酸类化合物的粘合层组合物形成。这可以帮助第一粘合层侧提供高粘合性并且第二粘合层侧提供在高温下的可重工性，同时帮助光学层压体提供优异的可折叠性。
在一个实施方式中，用于第一粘合层的粘合层组合物和用于第二粘合层的粘合层组合物中的每一种还可以包含上述有机颗粒和无机颗粒中的一种或多种。
可以通过典型的方法制备第一粘合层或第二粘合层。例如，第一粘合层或第二粘合层可以通过用粘合层组合物涂覆释放膜(release film)，随后固化来制备。固化可以包括在无氧条件下用低压灯在约300nm至约400nm的波长处和约400mJ/cm2至3000mJ/cm2的剂量下辐照。
第一粘合层(10)和第二粘合层(20)可以各自具有相同或不同的厚度。具体地，第一粘合层(10)和第二粘合层(20)中的每一个可以具有约10μm至100μm并且优选约20μm至50μm的厚度。
在下文中，将参照图3描述根据本发明的另一个实施方式的光学层压体。
参照图3，光学层压体包括第二粘合层(20)以及依次层压在第二粘合层(20)的上表面上的第二保护层(40)、第一保护层(50)以及第一粘合层(10)，并且光阻挡部分(30)形成在第二保护层(40)和第一保护层(50)之间。根据本发明的另一个实施方式的光学层压体与本发明的一个实施方式的光学层压体基本相同，不同之处在于，还包括第一保护层(50)和第二保护层(40)。
第一保护层(50)和第二保护层(40)中的每一个可以形成为与光阻挡部分(30)的至少一个表面接触。光阻挡部分(30)可以形成在第二保护层(40)或第一保护层(50)的边缘处，并且可以浸渍在第二保护层(40)和第一保护层(50)中的至少一个中。
图3示出了包括第一保护层(50)和第二保护层(40)两者的光学层压体。然而，仅包括第一保护层(50)或仅包括第二保护层(40)的光学层压体也可以包括在本发明的范围内。
第一保护层(50)形成在光阻挡部分(30)的上表面上以用作被构造为保护光阻挡部分(30)的外涂层。优选地，第一保护层(50)可以形成在第一粘合层(10)的下表面上。第二保护层(40)形成在光阻挡部分(30)的下表面上以保护光阻挡部分(30)。优选地，第二保护层(40)可以形成在第二粘合层(20)的上表面上。
第一保护层(50)和第二保护层(40)可以各自由本领域技术人员已知的典型的涂层材料形成，只要其是光学透明的并且不影响本发明的效果。具体地，第一保护层(50)和第二保护层(40)中的每一个可以由提供适当模量范围的材料形成，使得即使在宽的温度范围内，光阻挡部分(30)也可以实现光阻挡功能，并且光学层压体可以提供可折叠性。例如，第一保护层(50)和第二保护层(40)中的每一个可以由(甲基)丙烯酸类、环氧类或硅酮类材料形成。
第一保护层(50)、光阻挡部分(30)和第二保护层(40)的层压体可以具有约50μm或更小并且优选5μm至20μm的厚度。在以上范围内，可以帮助提供光阻挡性能、粘合性和优异的可折叠性。
光阻挡部分(30)的厚度可以小于第一保护层(50)或第二保护层(40)的厚度。因此，光阻挡层(30)可以包括在第一保护层(50)或第二保护层(40)的界面处，并且可以确保光学层压体的弯曲可靠性。
在一个实施方式中，光阻挡部分(30)的厚度可以是第一保护层(50)或第二保护层(40)的厚度的约0.01％至50％，例如，0.01％、0.1％、1％、5％、10％、15％、20％、25％、30％、35％、40％、45％或50％，并且优选约1％至30％。在以上范围内，光阻挡部分(30)可以包括在第一保护层(50)或第二保护层(40)的界面处，并且可以不影响光学层压体的弯曲可靠性。
光阻挡部分(30)的厚度可以在1.0μm至25μm(例如，1μm、5μm、10μm、15μm、20μm或25μm，并且优选1.0μm至10μm)的范围内。在以上范围内，光阻挡部分(30)可以包括在第一保护层(50)或第二保护层(40)的界面处，可以确保光阻挡性能，并且可以减小光学层压体的厚度。
光阻挡部分(30)可以由上述组合物形成。
将参照图4描述根据本发明的又一个实施方式的光学层压体。
参照图4，光学层压体可以包括第二粘合层(20)、层压在第二粘合层(20)的上表面上的第一粘合层(10)以及层压在第二粘合层(20)和第一粘合层(10)之间的光阻挡部分(30)，并且还可以包括层压在第二粘合层(20)的下表面上的第二被粘物(70)以及层压在第一粘合层(10)的上表面上的第一被粘物(60)。光阻挡部分(30)可以形成在第一粘合层(10)或第二粘合层(20)的边缘处，并且光阻挡部分(30)可以浸渍在第一粘合层(10)和第二粘合层(20)中的至少一个中。本发明的再一个实施方式的光学层压体与本发明的一个实施方式的光学层压体基本相同，不同之处在于还包括第二被粘物(70)和第一被粘物(60)。
第一被粘物(60)可以包括光学显示装置中包括的各种光学元件。例如，第一被粘物(60)也可以包括窗膜。窗膜可以包括基础膜和形成在基础膜的上表面上的硬涂层。第一粘合层(10)可以粘附到窗膜的基础膜上。基础膜可以包括由光学透明树脂形成的膜。例如，树脂可以包括以下中的一种或多种：聚酯，包括聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸丁二醇酯等；纤维素酯，包括丙烯酸类、环烯烃聚合物(COP)、三乙酰纤维素(TAC)等；聚乙酸乙烯酯；聚氯乙烯(PVC)；聚降冰片烯；聚碳酸酯(PC)；聚酰胺(PI)；聚酰胺；聚缩醛；聚苯醚；聚苯硫醚；聚砜；聚醚砜；聚芳酯和聚酰亚胺，但本发明不限于此。
第二被粘物(70)可以包括光学显示装置中包括的各种光学元件。例如，第二被粘物(70)可以包括偏光片、偏光板、亮度增强膜、抗反射膜、各种光学膜、用于显示装置的面板等。
本发明的光学构件包括本发明的光学层压体。
本发明的光学显示装置包括本发明的光学层压体或光学构件。
光学显示装置可以包括柔性或非柔性光学显示装置。在一个实施方式中，光学显示装置可以包括发光显示装置(包括有机发光显示装置等)、液晶显示装置等，但本发明不限于此。
将参照图5描述根据本发明的一个实施方式的光学层压体的制造方法。
参照图5，光学层压体可以通过包括以下操作的方法来制造：在第二粘合层(20)的上表面上形成光阻挡部分(30)；以及在第二粘合层(20)和光阻挡部分(30)中的每一个的上表面上层压第一粘合层(10)。
用于形成光阻挡部分(30)、第二粘合层(20)以及第一粘合层(10)中的每一个的组合物与上述基本相同。
光阻挡部分(30)可以通过光刻胶方法形成在第二粘合层(20)的上表面上。具体地，可以在第二粘合层(20)的上表面上将用于光阻挡部分(30)的组合物施加至预定厚度并且然后通过使用光掩模固化和显影。可以参照本领域技术人员已知的常规方法进行更详细的光刻胶方法。可以通过分别在第一粘合层(10)的上表面和第二粘合层(20)的下表面上进一步层压释放膜(1)和(2)来保护粘合层。
虽然图5中未示出，但可以另外包括将包括释放膜(2)、第二粘合层(20)、光阻挡部分(30)、第一粘合层(10)和释放膜(1)的层压体切割成预定尺寸的方法。
将参照图6描述根据本发明的另一个实施方式的光学层压体的制造方法。
参照图6，光学层压体可以通过包括以下操作的方法来制造：制备包括第二保护层(40)、光阻挡部分(30)和第一保护层(50)的层压体；将第一粘合层(10)层压在第一保护层(50)侧上；并且将第二粘合层(20)层压在第二保护层(40)侧上。
用于形成第一保护层(50)、第二保护层(40)、光阻挡部分(30)、第二粘合层(20)和第一粘合层(10)中的每一个的组合物与上述基本相同。
可以通过光刻胶方法在第二保护层(40)的上表面上形成光阻挡部分(30)。具体地，可以在第二保护层(40)的上表面上将用于光阻挡部分(30)的组合物施加至预定厚度，然后通过使用光掩模固化并显影。可以参照本领域技术人员已知的常规方法进行更详细的光刻胶方法。可以通过分别在第一保护层(50)的上表面和第二保护层(40)的下表面上进一步层压释放膜(1)和(2)来保护保护层。
虽然在图6中未示出，但是可以另外包括将包括释放膜(2)、第二粘合层(20)、第二保护层(40)、光阻挡部分(30)、第一保护层(50)、第一粘合层10以及释放膜(1)的层压体切割成预定尺寸的方法。
发明模式
在下文中，将通过本发明的优选实施例更详细地描述本发明的构造和操作。然而，提供这些实施例作为本发明的优选实施例，并且不应被解释为以任何方式限制本发明的范围。
实施例
(1)第一粘合层的制备
通过乳液聚合方法制备有机纳米颗粒。核由聚丙烯酸丁酯形成，并且壳由聚甲基丙烯酸甲酯形成。在有机纳米颗粒中，以35wt％的量包含壳，并且以65wt％的量包含核。有机纳米颗粒具有100nm的平均粒径和1.48的折射率。
在反应器中将包括17重量份的丙烯酸4-羟基丁酯和83重量份的丙烯酸2-乙基己酯的100重量份的单体混合物、1重量份的有机纳米颗粒和0.03重量份的Irgacure 651(2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮，BASF Co.,Ltd.)作为引发剂充分混合。用氮气交换反应器中的溶解氧，并且通过使用低压汞灯辐照紫外线几分钟来部分聚合混合物以制备在25℃下具有5,000cPs粘度的粘性液体。将0.5重量份的Irgacure 184(1-羟基环己基苯基酮，BASF Co.,Ltd.)作为引发剂添加至粘性液体并混合以制备粘合剂组合物。将粘合剂组合物施加在两片释放处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜之间，并且以2000mJ/cm2的剂量用紫外线辐照以产生厚度为50μm的第一粘合层和PET膜的粘合片。所制备的第一粘合层在25℃下的剥离强度为1,000gf/in。
(2)第二粘合层的制备
通过乳液聚合制备有机纳米颗粒。核由聚丙烯酸丁酯形成，并且壳由聚甲基丙烯酸甲酯形成。在有机纳米颗粒中，以35wt％的量包含壳，并且以65wt％的量包含核。有机纳米颗粒满足等式1，并且具有100nm的平均粒径和1.48的折射率。
在反应器中将100重量份的混合物，包含82重量份的丙烯酸2-乙基己酯、10重量份的丙烯酸2-羟基乙酯、7重量份的丙烯酰吗啉、1重量份的有机纳米颗粒和0.005重量份的光引发剂(Omnirad 651，2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮，IGM)充分混合。用氮气交换反应器中的溶解氧，并且通过使用低压汞灯辐照紫外线几分钟来部分聚合单体混合物以制备25℃下具有500cPs至5,000cPs粘度的粘性液体。通过包括0.1重量份的1,6-己二醇二丙烯酸酯和0.5重量份的在其两端具有(甲基)丙烯酸酯基团的聚二甲基硅氧烷(Shin-etsu ChemicalCo.,Ltd,X-22-2426)制备用于第二粘合层的组合物。将制备的组合物施加至作为释放膜的PET膜(厚度：75μm)，并且将PET膜(厚度：75μm)再次层压在所获得的释放层上，并且通过用2000mJ/cm2的紫外线辐照制备PET膜(厚度：75μm)/第二粘合层(厚度：25μm)/PET膜(厚度：75μm)的粘合片。第二粘合层在25℃下具有1,300gf/in的剥离强度。
(3)光学层压体的制备
通过将包含碳黑的用于光阻挡部分的组合物施加至制备的第二粘合层的边缘表面至预定厚度并且将其固化来形成光阻挡部分。此后，层压制备的第一粘合层以制备具有图1的截面图和图2的分解透视图的光学层压体。当通过上述方法评估时，光学层压体在高温下具有优异的可重工性和可折叠性。
(4)光学层压体的制备
通过光刻胶方法用上述用于光阻挡层的组合物处理第二保护层的上表面，在第二保护层(丙烯酸类涂层)的上表面的边缘处形成光阻挡部分。第一保护层(外涂层)形成在其上形成有光阻挡部分的第二保护层的上表面上，并且第一保护层形成为覆盖光阻挡部分和第二保护层。第二保护层、光阻挡部分和第一保护层的层压体的厚度为10μm。
通过在第二保护层的下表面上层压第二粘合层并且在第一保护层的上表面上层压第一粘合层来制造具有图3的截面图的光学层压体。当通过上述方法评估时，光学层压体在高温下具有优异的可重工性和可折叠性。
本领域普通技术人员可以容易地执行本发明的简单修改或改变，并且可以认为这样的修改或改变包括在本发明的范围内。

Claims (20)

1.一种光学层压体，包括：
第二粘合层；层压在所述第二粘合层上的第一粘合层；以及
光阻挡部分，所述光阻挡部分层压在所述第一粘合层和所述第二粘合层之间。
2.根据权利要求1所述的光学层压体，其中，光阻挡层形成在所述第一粘合层或所述第二粘合层的边缘处。
3.根据权利要求1所述的光学层压体，其中，光阻挡层的厚度是所述第一粘合层或所述第二粘合层的厚度的约0.01％至50％。
4.根据权利要求1所述的光学层压体，其中，所述第一粘合层和所述第二粘合层在-20℃下各自具有约400kPa或更小的储能模量。
5.根据权利要求1所述的光学层压体，其中，所述第一粘合层和所述第二粘合层在60℃下各自具有约5kPa至50kPa的储能模量。
6.根据权利要求1所述的光学层压体，其中，所述第一粘合层和所述第二粘合层中的每一个为(甲基)丙烯酸类粘合层。
7.根据权利要求1所述的光学层压体，其中，所述第一粘合层由包含用于含羟基的(甲基)丙烯酸类共聚物的单体混合物和引发剂的粘合层组合物形成。
8.根据权利要求7所述的光学层压体，其中，所述粘合层组合物还包含有机颗粒和无机颗粒中的一种或多种。
9.根据权利要求1所述的光学层压体，其中，所述第二粘合层由包含用于含羟基的(甲基)丙烯酸类共聚物的单体混合物、引发剂和含硅酮的(甲基)丙烯酸类化合物的粘合层组合物形成。
10.根据权利要求9所述的光学层压体，其中，所述粘合层组合物还包含有机颗粒和无机颗粒中的一种或多种。
11.根据权利要求1所述的光学层压体，还包括形成在所述第一粘合层和所述第二粘合层之间的第一保护层和第二保护层中的一个或多个。
12.根据权利要求11所述的光学层压体，其中，所述第一保护层和所述第二保护层中的每一个都与所述光阻挡部分的至少一个表面接触。
13.根据权利要求11所述的光学层压体，其中，
所述光学层压体包括所述第二粘合层以及依次层压在所述第二粘合层的上表面上的所述第二保护层、所述第一保护层和所述第一粘合层，并且
所述光阻挡部分形成在所述第二保护层和所述第一保护层之间。
14.根据权利要求13所述的光学层压体，其中，所述光阻挡部分形成在所述第二保护层或所述第一保护层的边缘处。
15.根据权利要求11所述的光学层压体，其中，所述第一保护层和所述第二保护层中的每一个包括(甲基)丙烯酸类涂层、环氧类涂层或硅酮类涂层。
16.根据权利要求14所述的光学层压体，其中，所述第二保护层、所述光阻挡部分和所述第一保护层的层压厚度为约50μm或更小。
17.根据权利要求1所述的光学层压体，其中，所述光学层压体包括所述第二粘合层、层压在所述第二粘合层的上表面上的所述第一粘合层以及层压在所述第二粘合层和所述第一粘合层之间的所述光阻挡部分，并且所述光学层压体还包括层压在所述第二粘合层的下表面上的第二被粘物以及层压在所述第一粘合层的上表面上的第一被粘物。
18.根据权利要求17所述的光学层压体，其中，所述光阻挡部分形成在所述第一粘合层或所述第二粘合层的边缘处。
19.一种光学构件，包括权利要求1至18中任一项所述的光学层压体。
20.一种光学显示装置，包括权利要求1至18中任一项所述的光学层压体。
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