CN117127160B - 一种可大面积镀膜基板装置 - Google Patents
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Abstract
本申请提出了一种可大面积镀膜基板装置，所述坩埚组件设置在所述镀膜腔体内，所述基板调节组件设置在镀膜腔体内且与坩埚组件相对设置，所述坩埚组件与基板调节组件之间设置有修正板组件，由于所述坩埚组件距离基本中心投影位置越近，有效蒸发效率越高，因此坩埚组件正上方的镀膜厚度总是最厚的，越远离越薄，修正板组件通过修正板的形状对坩埚组件的蒸发镀膜的较厚的镀膜区进行局部遮挡，从而减少镀膜厚度，以此来控制镀膜均匀性，所述调节螺杆用于调节所述夹持装置相对于坩埚组件的高度，通过调节螺杆以及修正板组件的配合来更好的调节基板镀膜的均匀性，成本低且效率高。
Description
技术领域
本发明涉及镀膜技术领域，更具体地，涉及一种可大面积镀膜基板装置。
背景技术
在蒸发台设备中，蒸发源被加热蒸发，蒸发的气体呈球面状向外扩散。气体扩散到衬底表面时凝结，一段时间后凝结颗粒长大连接形成一层薄膜。衬底被装附在呈球面的载体上，一般来说，衬底载体与蒸发源之间距离越大，衬底上生成的膜厚均匀性越好，衬底载体与蒸发源之间距离越小，衬底上生成膜厚均匀性越差。而衬底载体与蒸发源之间距离越大要求蒸发环境设备的腔体体积越大，腔体体积越大，腔体制作成本越高。
现有技术设计了镀膜机和镀膜控制方法，例如，中国专利CN111455343A，公开了镀膜机包括：镀膜腔；靶材组件，设置于所述镀膜腔内；基板固定组件，设置于所述镀膜腔内，且与所述靶材组件相对设置；挡板，用于改变从所述靶材组件发射的粒子向所述基板固定组件的运动方向，通过设置挡板以改变由靶材组件发射的粒子向基板固定组件的运动方向，这样，能够在避免改变溅射功率和溅射气氛等相关参数的情况下，实现对镀膜速度的调节，有利于简化控制过程以及保持镀膜进程的连续性，提高了镀膜过程的便利程度。
然而，该专利中的挡板只能够进行水平移动，同时，是通过分别移动挡板，交替的使得两个靶材组件分别进行镀膜，起到的是一个完全遮挡与完全不遮挡的一个作用，并不能起到修正的作用。
有鉴于此，本发明提供一种可大面积镀膜基板装置，能够通过修正板(挡板)和基板调节件组件的配合工作，达到完整且均匀镀膜。
发明内容
本发明的目的在于，提供一种可大面积镀膜基板装置，能够通过修正板(挡板)和基板调节件组件的配合工作，达到完整且均匀镀膜。
本申请提出了一种可大面积镀膜基板装置，所述坩埚组件7设置在所述镀膜腔体1内，所述基板调节组件设置在镀膜腔体1内且与坩埚组件7相对设置，所述坩埚组件7与基板调节组件之间设置有修正板组件，由于所述坩埚组件7距离基本中心投影位置越近，有效蒸发效率越高，因此坩埚组件7正上方的镀膜厚度总是最厚的，越远离越薄，修正板组件通过修正板的形状对坩埚组件7的蒸发镀膜的较厚的镀膜区进行局部遮挡，从而减少镀膜厚度，以此来控制镀膜均匀性，所述调节螺杆32用于调节所述夹持装置31相对于坩埚组件7的高度，通过调节螺杆32以及修正板组件的配合来更好的调节基板镀膜的均匀性，成本低且效率高。
一种可大面积镀膜基板装置，其包括镀膜腔体1，其特征在于：坩埚组件7设置在所述镀膜腔体1内，坩埚组件7为两个，基板调节组件设置在镀膜腔体1内且与坩埚组件7相对设置，所述坩埚组件7与基板调节组件之间设置有修正板组件，由于所述坩埚组件7距离基本中心投影位置越近，有效蒸发效率越高，因此坩埚组件7正上方的镀膜厚度总是最厚的，越远离越薄，修正板组件通过修正板的形状对坩埚组件7的蒸发镀膜的较厚的镀膜区进行局部遮挡，从而减少镀膜厚度，以此来控制镀膜均匀性，所述基板调节组件包括用于承载基板的承载板311，所述基板为满布凹槽的基板，所述承载板311的四角均设有调节螺杆32，所述调节螺杆32用于调节所述承载板311相对于坩埚组件7的高度，所述调节螺杆32的上部与升降板5连接，所述升降板5与贯穿镀膜腔体1的回转轴2固定，回转轴2用于动能传递带基板调节组件旋转，使得坩埚组件7的镀膜材料能够镀膜至基板的凹槽内且保证基板凹槽内镀膜的均匀性。
进一步的，所述升降板5的上部设有连接板6，用于使得升降板5与回转轴2连接固定。
进一步的，所述升降板5的四角均设有第一调节孔，所述调节螺杆32的上部穿过对应的第一调节孔，一个第一调节孔连接一根调节螺杆32。
进一步的，每个第一调节孔的上部设有第一调节螺母321，下部设有第二调节螺母322，通过拧松第一调节螺母321、第二调节螺母322来调节升降板5的高度以及升降板5的平行。
进一步的，所述承载板311上部设有装载板312，所述装载板312上部设有盖板313，所述装载板312用于安装基板，所述装载板312、盖板313组合安装后用于夹持基板，所述装载板312、承载板311组合安装后用于承载装载板312、盖板313。
进一步的，所述装载板312为中空结构，所述装载板312的内壁四周设有一圈装载台阶314，用于承托基板。
进一步的，所述装载板312的内壁四角为凹型圆弧结构315，由于加工需要，便于加工，减少成本。
进一步的，所述盖板313为中空结构，所述盖板313与所述装载板312可拆卸连接。
进一步的，所述承载板311为中空结构，所述承载板311的上部靠近其承载板311的中空结构处设有一圈承载台阶316，用于承托装载板312同时，当装载板312滑出时，给装载板312一个定向的作用。
进一步的，所述承载板311面对操作台的一侧设有锁接柱317，所述锁接柱317与装载板312通过卡扣318卡接，方便拆卸装载板312。
进一步的，所述承载板311的两侧均设有凸块319，所述凸块319对应第一调节孔的位置设有第二调节孔，所述调节螺杆32的下部穿过对应的第二调节孔，一个第二调节孔连接一根调节螺杆32。
进一步的，每个第二调节孔的上部设有第三调节螺母323，下部设有第四调节螺母324，通过拧松第三调节螺母323、第四调节螺母324来调节承载板311的高度以及承载板311的平行。
进一步的，所述装载板312面对操作台的一侧设有抽拉把手320，方便取出装载板312。
在一些实施方式中，当每个坩埚的中心线与基板调节组件的水平线相交点在基板调节组件的水平线的1/4-3/4以外，修正板组件包括多个子修正板4，所述镀膜腔体1的两侧均设置至少一个所述子修正板4，所述子修正板4包括修正连杆41和子修正片42，子修正片42与修正连杆41的上部转动连接，所述修正连杆41位于坩埚组件7的两侧，所述子修正片42位于坩埚组件7的上部且所述镀膜腔体1的两侧设置的子修正片42相对设置，使得基板的凹槽能够被镀膜率超过70％。
在一些实施方式中，当每个坩埚的中心线与基板调节组件的水平线相交点在基板调节组件的水平线的1/4-3/4内，修正板组件包括一个子修正板4，所述子修正板4包括修正连杆41和多片子修正片42，子修正片42与修正连杆41的上部转动连接，所述修正连杆41位于坩埚组件7的中部，多片子修正片42位于坩埚组件7的上部且多片子修正片42相对于修正连杆41的中心交叉设置。
进一步的，每个坩埚与基板形成一个入射角度B，所述入射角度B大于70°，同时，每个坩埚与基板的距离小于1.2米，使得基板的凹槽能够被镀膜率超过70％。
本发明的有益效果为：本申请提出了一种可大面积镀膜基板装置，所述坩埚组件7设置在所述镀膜腔体1内，所述基板调节组件设置在镀膜腔体1内且与坩埚组件7相对设置，所述坩埚组件7与基板调节组件之间设置有修正板组件，由于所述坩埚组件7距离基本中心投影位置越近，有效蒸发效率越高，因此坩埚组件7正上方的镀膜厚度总是最厚的，越远离越薄，修正板组件通过修正板的形状对坩埚组件7的蒸发镀膜的较厚的镀膜区进行局部遮挡，从而减少镀膜厚度，以此来控制镀膜均匀性，所述调节螺杆32用于调节所述夹持装置31相对于坩埚组件7的高度，通过调节螺杆32以及修正板组件的配合来更好的调节基板镀膜的均匀性，成本低且效率高。
附图说明
结合以下附图一起阅读时，将会更加充分地描述本申请内容的上述和其他特征。可以理解，这些附图仅描绘了本申请内容的若干实施方式，因此不应认为是对本申请内容范围的限定。通过采用附图，本申请内容将会得到更加明确和详细地说明。
图1为本申请的可大面积镀膜基板装置的实施例1的结构示意图。
图2为本申请的可大面积镀膜基板装置的实施例2的结构示意图。
图3为本申请的可大面积镀膜基板装置的基板调节组件的结构示意图。
图4为本申请的可大面积镀膜基板装置的基板调节组件的爆炸图。
图5为图4的局部放大图A。
图6为本申请的可大面积镀膜基板装置的实施例1的入射角度示意图。
图7为本申请的可大面积镀膜基板装置的实施例1的镀膜路线示意图。
图8为本申请的可大面积镀膜基板装置的实施例2的入射角度示意图。
图9为本申请的可大面积镀膜基板装置的实施例2的镀膜路线示意图。
主要元件符号说明：
镀膜腔体1、回转轴2、承载板311、装载板312、盖板313、装载台阶314、凹型圆弧结构315、承载台阶316、锁接柱317、卡扣318、凸块319、抽拉把手320、调节螺杆32、第一调节螺母321、第二调节螺母322、第三调节螺母323、第四调节螺母324、子修正板4、修正连杆41、子修正片42、升降板5、连接板6、坩埚组件7。
具体实施方式
描述以下实施例以辅助对本申请的理解，实施例不是也不应当以任何方式解释为限制本申请的保护范围。
在以下描述中，本领域的技术人员将认识到，在本论述的全文中，组件可描述为单独的功能单元(可包括子单元)，但是本领域的技术人员将认识到，各种组件或其部分可划分成单独组件，或者可整合在一起(包括整合在单个的系统或组件内)。组件或系统之间的连接并不旨在限于直接连接。相反，在这些组件之间的数据可由中间组件修改、重格式化、或以其它方式改变。另外，可使用另外或更少的连接。还应注意，术语“联接”、“连接”、或“输入”“固定”应理解为包括直接连接、通过一个或多个中间媒介来进行的间接的连接或固定。
在本申请的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“侧面”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该申请产品使用时或惯常认知的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“水平”、“竖直”等术语并不表示要求部件绝对水平或悬垂，而是可以稍微倾斜。如“水平”仅仅是指其方向相对“竖直”而言更加水平，并不是表示该结构一定要完全水平，而是可以稍微倾斜。
实施例1：
如图1、图6、图7所示，为本申请的可大面积镀膜基板装置的实施例1的结构示意图。
一种可大面积镀膜基板装置，其包括镀膜腔体1，坩埚组件7设置在所述镀膜腔体1内，坩埚组件7为两个，基板调节组件设置在镀膜腔体1内且与坩埚组件7相对设置，所述坩埚组件7与基板调节组件之间设置有修正板组件，由于所述坩埚组件7距离基本中心投影位置越近，有效蒸发效率越高，因此坩埚组件7正上方的镀膜厚度总是最厚的，越远离越薄，修正板组件通过修正板的形状对坩埚组件7的蒸发镀膜的较厚的镀膜区进行局部遮挡，从而减少镀膜厚度，以此来控制镀膜均匀性，所述基板调节组件包括用于承载基板的承载板311，所述基板为满布凹槽的基板，所述承载板311的四角均设有调节螺杆32，所述调节螺杆32用于调节所述承载板311相对于坩埚组件7的高度，所述调节螺杆32的上部与升降板5连接，所述升降板5与贯穿镀膜腔体1的回转轴2固定，回转轴2用于动能传递带基板调节组件旋转，使得坩埚组件7的镀膜材料能够镀膜至基板的凹槽内且保证基板凹槽内镀膜的均匀性。
每个坩埚的中心线与基板调节组件的水平线相交点在基板调节组件的水平线的1/4-3/4以外，修正板组件包括多个子修正板4，所述镀膜腔体1的两侧均设置至少一个所述子修正板4，所述子修正板4包括修正连杆41和子修正片42，子修正片42与修正连杆41的上部转动连接，所述修正连杆41位于坩埚组件7的两侧，所述子修正片42位于坩埚组件7的上部且所述镀膜腔体1的两侧设置的子修正片42相对设置，使得基板的凹槽能够被镀膜率超过70％。
如图3所示，为本申请的可大面积镀膜基板装置的基板调节组件的结构示意图；如图4所示，为本申请的可大面积镀膜基板装置的基板调节组件的爆炸图，如图5所示，为图4的局部放大图A。
所述升降板5的上部设有连接板6，用于使得升降板5与回转轴2连接固定，所述升降板5的四角均设有第一调节孔，所述调节螺杆32的上部穿过对应的第一调节孔，一个第一调节孔连接一根调节螺杆32，每个第一调节孔的上部设有第一调节螺母321，下部设有第二调节螺母322，通过拧松第一调节螺母321、第二调节螺母322来调节升降板5的高度以及升降板5的平行，所述承载板311上部设有装载板312，所述装载板312上部设有盖板313，所述装载板312用于安装基板，所述装载板312、盖板313组合安装后用于夹持基板，所述装载板312、承载板311组合安装后用于承载装载板312、盖板313，所述装载板312为中空结构，所述装载板312的内壁四周设有一圈装载台阶314，用于承托基板，所述装载板312的内壁四角为凹型圆弧结构315，便于取出基板。
所述盖板313为中空结构，所述盖板313与所述装载板312可拆卸连接，所述承载板311为中空结构，所述承载板311的上部靠近其承载板311的中空结构处设有一圈承载台阶316，用于承托装载板312同时，当装载板312滑出时，给装载板312一个定向的作用，所述承载板311面对操作台的一侧设有锁接柱317，所述锁接柱317与装载板312通过卡扣318卡接，所述承载板311的两侧均设有凸块319，所述凸块319对应第一调节孔的位置设有第二调节孔，所述调节螺杆32的下部穿过对应的第二调节孔，一个第二调节孔连接一根调节螺杆32，每个第二调节孔的上部设有第三调节螺母323，下部设有第四调节螺母324，通过拧松第三调节螺母323、第四调节螺母324来调节承载板311的高度以及承载板311的平行，所述装载板312面对操作台的一侧设有抽拉把手320，方便取出装载板312。
实施例2：
如图2、图8、图9所示，为本申请的可大面积镀膜基板装置的实施例2的结构示意图。
一种可大面积镀膜基板装置，其包括镀膜腔体1，坩埚组件7设置在所述镀膜腔体1内，坩埚组件7为两个，基板调节组件设置在镀膜腔体1内且与坩埚组件7相对设置，所述坩埚组件7与基板调节组件之间设置有修正板组件，由于所述坩埚组件7距离基本中心投影位置越近，有效蒸发效率越高，因此坩埚组件7正上方的镀膜厚度总是最厚的，越远离越薄，修正板组件通过修正板的形状对坩埚组件7的蒸发镀膜的较厚的镀膜区进行局部遮挡，从而减少镀膜厚度，以此来控制镀膜均匀性，所述基板调节组件包括用于承载基板的承载板311，所述基板为满布凹槽的基板，所述承载板311的四角均设有调节螺杆32，所述调节螺杆32用于调节所述承载板311相对于坩埚组件7的高度，所述调节螺杆32的上部与升降板5连接，所述升降板5与贯穿镀膜腔体1的回转轴2固定，回转轴2用于动能传递带基板调节组件旋转，使得坩埚组件7的镀膜材料能够镀膜至基板的凹槽内且保证基板凹槽内镀膜的均匀性。
每个坩埚的中心线与基板调节组件的水平线相交点在基板调节组件的水平线的1/4-3/4内，修正板组件包括一个子修正板4，所述子修正板4包括修正连杆41和多片子修正片42，子修正片42与修正连杆41的上部转动连接，所述修正连杆41位于坩埚组件7的中部，多片子修正片42位于坩埚组件7的上部且多片子修正片42相对于修正连杆41的中心交叉设置,每个坩埚与基板形成一个入射角度B，所述入射角度B大于70°，同时，每个坩埚与基板的距离小于1.2米，使得基板的凹槽能够被镀膜率超过70％。
如图3所示，为本本申请的可大面积镀膜基板装置的基板调节组件的结构示意图；如图4所示，为本申请的可大面积镀膜基板装置的基板调节组件的爆炸图。
所述升降板5的上部设有连接板6，用于使得升降板5与回转轴2连接固定，所述升降板5的四角均设有第一调节孔，所述调节螺杆32的上部穿过对应的第一调节孔，一个第一调节孔连接一根调节螺杆32，每个第一调节孔的上部设有第一调节螺母321，下部设有第二调节螺母322，通过拧松第一调节螺母321、第二调节螺母322来调节升降板5的高度以及升降板5的平行，所述承载板311上部设有装载板312，所述装载板312上部设有盖板313，所述装载板312用于安装基板，所述装载板312、盖板313组合安装后用于夹持基板，所述装载板312、承载板311组合安装后用于承载装载板312、盖板313，所述装载板312为中空结构，所述装载板312的内壁四周设有一圈装载台阶314，用于承托基板，所述装载板312的内壁四角为凹型圆弧结构315，便于取出基板。
所述盖板313为中空结构，所述盖板313与所述装载板312可拆卸连接，所述承载板311为中空结构，所述承载板311的上部靠近其承载板311的中空结构处设有一圈承载台阶316，用于承托装载板312同时，当装载板312滑出时，给装载板312一个定向的作用，所述承载板311面对操作台的一侧设有锁接柱317，所述锁接柱317与装载板312通过卡扣318卡接，所述承载板311的两侧均设有凸块319，所述凸块319对应第一调节孔的位置设有第二调节孔，所述调节螺杆32的下部穿过对应的第二调节孔，一个第二调节孔连接一根调节螺杆32，每个第二调节孔的上部设有第三调节螺母323，下部设有第四调节螺母324，通过拧松第三调节螺母323、第四调节螺母324来调节承载板311的高度以及承载板311的平行，所述装载板312面对操作台的一侧设有抽拉把手320，方便取出装载板312。
本发明的有益效果为：本申请提出了一种可大面积镀膜基板装置，所述坩埚组件7设置在所述镀膜腔体1内，所述基板调节组件设置在镀膜腔体1内且与坩埚组件7相对设置，所述坩埚组件7与基板调节组件之间设置有修正板组件，由于所述坩埚组件7距离基本中心投影位置越近，有效蒸发效率越高，因此坩埚组件7正上方的镀膜厚度总是最厚的，越远离越薄，修正板组件通过修正板的形状对坩埚组件7的蒸发镀膜的较厚的镀膜区进行局部遮挡，从而减少镀膜厚度，以此来控制镀膜均匀性，所述调节螺杆32用于调节所述夹持装置31相对于坩埚组件7的高度，通过调节螺杆32以及修正板组件的配合来更好的调节基板镀膜的均匀性，成本低且效率高。
尽管本申请已公开了多个方面和实施方式，但是其它方面和实施方式对本领域技术人员而言将是显而易见的，在不脱离本申请构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本申请的保护范围。本申请公开的多个方面和实施方式仅用于举例说明，其并非旨在限制本申请，本申请的实际保护范围以权利要求为准。
Claims (9)
1.一种可大面积镀膜基板装置，其包括镀膜腔体(1)，其特征在于：坩埚组件(7)设置在所述镀膜腔体(1)内，坩埚组件(7)为两个，基板调节组件设置在镀膜腔体(1)内且与坩埚组件(7)相对设置，所述坩埚组件(7)与基板调节组件之间设置有修正板组件，所述基板调节组件包括用于承载基板的承载板(311)，所述基板为满布凹槽的基板，所述承载板(311)的四角均设有调节螺杆(32)，所述调节螺杆(32)用于调节所述承载板(311)相对于坩埚组件(7)的高度，所述调节螺杆(32)的上部与升降板(5)连接，所述升降板(5)与贯穿镀膜腔体(1)的回转轴(2)固定，回转轴(2)用于动能传递带基板调节组件旋转，所述承载板(311)面对操作台的一侧设有锁接柱(317)，所述锁接柱(317)与装载板(312)通过卡扣(318)卡接。
2.如权利要求1所述的可大面积镀膜基板装置，其特征在于，所述升降板(5)的上部设有连接板(6)，用于使得升降板(5)与回转轴(2)连接固定。
3.如权利要求1所述的可大面积镀膜基板装置，其特征在于，所述升降板(5)的四角均设有第一调节孔，所述调节螺杆(32)的上部穿过对应的第一调节孔，一个第一调节孔连接一根调节螺杆(32)。
4.如权利要求3所述的可大面积镀膜基板装置，其特征在于，每个第一调节孔的上部设有第一调节螺母(321)，下部设有第二调节螺母(322)，通过拧松第一调节螺母(321)、第二调节螺母(322)来调节升降板(5)的高度以及升降板(5)的平行。
5.如权利要求1所述的可大面积镀膜基板装置，其特征在于，所述承载板(311)上部设有装载板(312)，所述装载板(312)上部设有盖板(313)，所述装载板(312)用于安装基板，所述装载板(312)、盖板(313)组合安装后用于夹持基板，所述装载板(312)、承载板(311)组合安装后用于承载装载板(312)、盖板(313)。
6.如权利要求1所述的可大面积镀膜基板装置，其特征在于，所述承载板(311)为中空结构，所述承载板(311)的上部靠近其承载板(311)的中空结构处设有一圈承载台阶(316)，用于承托装载板(312)同时，当装载板(312)滑出时，给装载板(312)一个定向的作用。
7.如权利要求1所述的可大面积镀膜基板装置，其特征在于，所述承载板(311)的两侧均设有凸块(319)，所述凸块(319)对应第一调节孔的位置设有第二调节孔，所述调节螺杆(32)的下部穿过对应的第二调节孔，一个第二调节孔连接一根调节螺杆(32)。
8.如权利要求1所述的可大面积镀膜基板装置，其特征在于，当每个坩埚的中心线与基板调节组件的水平线相交点在基板调节组件的水平线的1/4-3/4以外，修正板组件包括多个子修正板(4)，所述镀膜腔体(1)的两侧均设置至少一个所述子修正板(4)，所述子修正板(4)包括修正连杆(41)和子修正片(42)，子修正片(42)与修正连杆(41)的上部转动连接，所述修正连杆(41)位于坩埚组件(7)的两侧，所述子修正片(42)位于坩埚组件(7)的上部且所述镀膜腔体(1)的两侧设置的子修正片(42)相对设置。
9.如权利要求1所述的可大面积镀膜基板装置，其特征在于，当每个坩埚的中心线与基板调节组件的水平线相交点在基板调节组件的水平线的1/4-3/4内，修正板组件包括一个子修正板(4)，所述子修正板(4)包括修正连杆(41)和多片子修正片(42)，子修正片(42)与修正连杆(41)的上部转动连接，所述修正连杆(41)位于坩埚组件(7)的中部，多片子修正片(42)位于坩埚组件(7)的上部且多片子修正片(42)相对于修正连杆(41)的中心交叉设置。
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