CN117116825B - 一种硅片治具的上料传送装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种硅片治具的上料传送装置，用于解决现有技术中电镀设备的传送机构，不适用于传送硅片治具，影响硅片镀铜效果的问题。本发明提供一种硅片治具的上料传送装置，包括：机架、若干硅片治具、定量上料机构、带传送组件、处理槽和治具传输机构。定量上料机构与带传送组件配合进行硅片治具的垂直上料，自动化程度高，结构简单，为装载硅片也留了足够的空间和时间间隙，有利于提高硅片镀铜效率，便于推广；治具传输机构传送稳定性强，大大减少了由于传送造成的硅片破裂，降低了硅片废率，有利于降低硅片栅线制作成本，促进光伏行业发展，在传送过程中不影响硅片进行镀铜处理，保证了硅片的镀铜效果。
Description
技术领域
本发明涉及硅片镀铜传送技术领域，特别是涉及一种硅片治具的上料传送装置。
背景技术
随着微电子行业的发展，硅片作为半导体元件制造的材料，被越来越多的应用到各种场景中，特别是在光伏行业，硅片是制作光伏电池的主要原料。在光伏电池制作中，需要在硅片表面印刷金属电极，实现电池的光电转换。现有金属电极多用银浆制成，银的成本高，且银栅线的电阻率低，宽度粗，电池片的占用面积大，发电效率低，不利于光伏电池向轻量高效方向发展，而铜具有比银高三倍的电阻率，且成本低，使用铜制作栅线宽度更细，有利于减少电池片的占用面积，增加发电效率，故利用电镀铜技术在硅片表面实现铜电极的印刷，对光伏行业的发展，具有重大的现实意义。
科技的进步，使得光伏电子产品向着更小、更轻、更薄的方向发展，硅片的面积也随之不断缩小，为保证加工效率，在硅片加工中，需要能提供更多装载容量的硅片治具对硅片进行承载，但现有电镀设备的传送机构，不适用于传送硅片治具，由于硅片的脆性大，一般的上料和传送机构稳定性差，不仅在传送过程中严重影响硅片的镀铜效果，还会造成硅片破裂，增加硅片废率，不利于降低硅片栅线制作成本，促进光伏行业发展。
发明内容
鉴于以上所述现有技术的缺点，本发明的目的在于提供一种硅片治具的上料传送装置，用于解决现有技术中电镀设备的传送机构，不适用于传送硅片治具，影响硅片镀铜效果的问题。
为实现上述目的及其他相关目的，本发明提供一种硅片治具的上料传送装置，包括：
机架和若干硅片治具；
所述机架的左部上壁和右部上壁分别设置有带传送组件和处理槽，所述带传送组件的左部上方设置有所述定量上料机构，所述机架的右下部设置有处理液循流机构，且处理液循流机构内注有镀铜处理液，镀铜处理液在处理液循流机构和处理槽中循环流动，所述处理槽内安装有治具传输机构；
所述硅片治具在定量上料机构、带传送组件、处理槽和治具传输机构间传动；
定量上料机构，包括支架、主动轴、大带轮、垂直传送带、基准轴、摆杆、限位槽、偏心限位销、小带轮、水平传送带、从动轴以及联动齿轮，前部所述密封板和后部所述密封板的上壁均固定有两个支架，四个所述支架的中部均转动设置有主动轴，所述主动轴的外壁固定有大带轮，四个所述支架的顶部均转动设置有从动轴，且四个所述支架的顶部均通过从动轴转动安装有大带轮，四对所述大带轮的外壁均传动套接有垂直传送带，四个所述支架的上部均转动设置有基准轴，所述基准轴的内端外壁均固定套设有摆杆，所述摆杆的上部和下部对称开设有限位槽，所述大带轮的内侧偏心处均固定有偏心限位销，且上部偏心限位销与下部偏心限位销分别滑动安装在上部限位槽和下部限位槽内，上部四个所述大带轮的外侧从动轴上均安装有一个小带轮，所述治具存储筒通过卡箍插接与装置安装现场的建筑物固定，所述治具存储筒的左壁与右壁外侧均还设置有两根从动轴，所述从动轴的外壁均套设有小带轮和联动齿轮，四对所述小带轮的外壁均传动套接有水平传送带，且两个相邻的所述联动齿轮啮合连接；
定量上料机构还包括定位销、限位板、治具存储筒、滑块以及滑槽，前部两根和后部两根所述摆杆的上端和下端均设置有两根定位销，上端四根和下端四根所述定位销间均安装有限位板，所述治具存储筒的下部设置有四个滑槽，所述治具存储筒中装载有若干硅片治具，四块所述限位板分别滑动对应设置在四个滑槽中，所述滑槽的左下部和右下部中滑动安装有滑块，左部四个和右部四个所述滑块分别与四块限位板的下壁左部和右部固定连接。
可选的，带传送组件，包括密封板、承载工作台、带传动轴、传送带轮以及左右向传送带，所述机架的左部前后对应固定有两块密封板，两块所述密封板的上部间设置有承载工作台，两块所述密封板的左端和右端均转动安装有带传动轴，两根所述带传动轴的外壁固定套接有传送带轮，两个所述传送带轮外壁传动套接有左右向传送带，前部两根所述主动轴和右部带传动轴均通过电机安装座接有动力电机，三个动力电机均通过PLC与计算机控制连接。
可选的，处理槽，包括槽体、卡槽以及盖板，所述机架的右上部固定有槽体，所述槽体的左壁、右壁和隔板上均设置有卡槽，且三个卡槽设置在同一水平面上，所述卡槽与硅片治具滑动配合，所述槽体顶部盖设有两块盖板。
可选的，处理液循流机构，包括泵浦、输出管、粗胖过滤器、输入管、处理副槽、分流管、连通管以及喷管座，所述机架的右前部安装有四个泵浦，四个所述泵浦的上端均固定连通有输出管，四根所述输出管的上部输出端均安装有粗胖过滤器，所述粗胖过滤器的输出端固定连通有分流管，所述分流管的上方设置有连通管，且连通管固定在槽体的后壁，所述分流管的上端与连通管的后端间和连通管的前端均安装有喷管座，所述槽体的后下方设置有处理副槽，且槽体与处理副槽与通过PP直管相连通，处理副槽固定在机架上，所述处理副槽的前壁设置有输入管，所述输入管的前端与泵浦的输入端相连通。
可选的，治具传输机构，包括导轨、安装座、传动马达、六角传动轴、主动锥齿轮、卡座、卡轴、从动锥齿轮、从动齿轮以及从动摩擦传动轮，所述槽体的前部和后部内相对于槽体水平中心线呈轴对称设置有导轨，且前部导轨和后部导轨的导轨槽分别与三个卡槽中的前端槽口和后端槽口在同一水平面上，所述槽体前壁内的上部与下部和后壁内的上部与下部均等距固定有八个安装座，所述槽体的左壁前部和后部通过马达安装座固定有传动马达，四个所述传动马达的输出端均安装有六角传动轴，三十二个所述安装座以每八个分布在同一水平线上的为一组，分为四组，四组安装座分别设置在卡槽的四角，四根所述六角传动轴分别转动设置在四组安装座的外侧，所述六角传动轴的外壁等距套设有八个主动锥齿轮，前部导轨和后部导轨上壁和下壁均等距固定有与安装座位置一一对应的八个卡座，所述安装座的内侧和卡座间转动安装有卡轴，所述卡轴内端均固定有从动锥齿轮，且三十二个主动锥齿轮分别与三十二个从动锥齿轮一一对应啮合，上部十六根所述卡轴的外端均固定有从动齿轮，下部十六根所述卡轴的外端均固定有从动摩擦传动轮。
可选的，处理液循流机构还包括支座以及喷流管，前部所述导轨上壁等距固定有十六个支座，前部两个所述喷管座与十六个支座内等距螺纹连接有十六根喷流管。
可选的，硅片治具，包括治具载体、限位滑条、齿条以及摩擦挤压槽，所述治具载体的前壁和后壁均固定有限位滑条，且前部和后部的限位滑条分别与前部和后部导轨滑动配合，所述治具载体上壁的前部和后部均设置有齿条，所述从动齿轮均与齿条间断性啮合，所述治具载体下壁的前部内和后部内均开设有摩擦挤压槽，所述从动摩擦传动轮均间断性摩擦转动在摩擦挤压槽内。
如上所述，本发明的硅片治具的上料传送装置，至少具有以下有益效果：
1.定量上料机构与带传送组件配合进行硅片治具的垂直上料，自动化程度高，结构简单，为装载硅片也留了足够的空间和时间间隙，有利于提高硅片镀铜效率，便于推广；
2.处理液循流机构适用于硅片的单面镀铜处理需求，实现了镀铜处理液的液流循环，保证了处理液的化学性质，有利于保证硅片的镀铜效果；
3.治具传输机构传送稳定性强，大大减少了由于传送造成的硅片破裂，降低了硅片废率，有利于降低硅片栅线制作成本，促进光伏行业发展，在传送过程中不影响硅片进行镀铜处理，保证了硅片的镀铜效果。
附图说明
图1显示为本发明整体结构西南视角立体示意图。
图2显示为本发明的处理槽与处理液循流机构东北视角配合示意图。
图3显示为本发明的处理槽与处理液循流机构左视视角配合示意图。
图4显示为本发明的处理液循流机构、治具传输机构和硅片治具与处理槽配合位置西南视角立体示意图。
图5显示为本发明的定量上料机构西南视角立体示意图。
图6显示为本发明无治具存储筒右壁状态下的定量上料机构东南视角立体示意图。
图7显示为本发明的定量上料机构与带传送组件配合结构右视透视图。
图8显示为本发明的硅片治具与从动齿轮和从动摩擦传动轮配合结构西南视角立体示意图。
图9显示为本发明的硅片治具与导轨配合结构西南视角立体示意图。
图10显示为本发明的槽体内传动结构西南视角立体示意图。
图11显示为本发明的槽体内传动结构东北视角立体示意图。
图12显示为本发明的喷流管结构东北偏仰视视角立体示意图。
图13显示为本发明无前部传动结构状态下的治具传输机构与硅片治具配合结构俯视示意图。
图14显示为本发明的治具传输机构与硅片治具配合结构俯视示意图。
图15显示为本发明的治具传输机构与硅片治具配合结构仰视示意图。
图16显示为本发明的图13中A区域结构放大示意图。
图17显示为本发明的图13中C区域结构放大示意图。
图18显示为本发明的图15中B区域结构放大示意图。
元件标号说明
1、机架；
2、带传送组件；201、密封板；202、承载工作台；203、带传动轴；204、传送带轮；205、左右向传送带；
3、定量上料机构；301、支架；302、主动轴；303、大带轮；304、垂直传送带；305、基准轴；306、摆杆；307、限位槽；308、偏心限位销；309、小带轮；310、水平传送带；311、从动轴；312、联动齿轮；313、定位销；314、限位板；315、治具存储筒；316、滑块；317、滑槽；
4、处理槽；401、槽体；402、卡槽；403、盖板；
5、处理液循流机构；501、泵浦；502、输出管；503、粗胖过滤器；504、输入管；505、处理副槽；506、分流管；507、连通管；508、喷管座；509、支座；510、喷流管；
6、治具传输机构；601、导轨；602、安装座；603、传动马达；604、六角传动轴；605、主动锥齿轮；606、卡座；607、卡轴；608、从动锥齿轮；609、从动齿轮；610、从动摩擦传动轮；
7、硅片治具；701、治具载体；702、限位滑条；703、齿条；704、摩擦挤压槽。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步说明，以使本领域的技术人员可以更好地理解本发明并能予以实施，但所举实施例不作为对本发明的限定。
如背景技术，由于现有电镀设备的传送机构，不适用于传送硅片治具，硅片的脆性大，一般的上料和传送机构稳定性差，不仅在传送过程中严重影响硅片的镀铜效果，还会造成硅片破裂，增加硅片废率，不利于降低硅片栅线制作成本，促进光伏行业发展。
如图1-图18所示，为解决上述问题，发明人潜心研究，发现从动齿轮609和齿条703的啮合传动，可为硅片治具7的水平传动提供动力，导轨601和从动摩擦传动轮610可在硅片治具7水平传动过程中，对其前部、后部以及下壁进行限位，保证硅片镀铜过程中位置的稳定性，有利于保证硅片的镀铜效果，降低硅片镀铜废率，因此发明了一种硅片治具的上料传送装置，包括：
机架1和若干硅片治具7；
机架1的左部上壁和右部上壁分别设置有带传送组件2和处理槽4，带传送组件2的左部上方设置有定量上料机构3，机架1的右下部设置有处理液循流机构5，且处理液循流机构5内注有镀铜处理液，镀铜处理液在处理液循流机构5和处理槽4中循环流动，处理槽4内安装有治具传输机构6；
硅片治具7在定量上料机构3、带传送组件2、处理槽4和治具传输机构6间传动。
本发明在使用过程中，首先若干硅片治具7被存放于定量上料机构3的存储筒内，后定量上料机构3利用重力和自身结构，控制存储筒每次向带传送组件2垂直下放一个硅片治具7，带传送组件2在接收到空硅片治具7后，带动其右移，在右移到一个硅片治具7空位后，带传送组件2停顿，停顿时，定量上料机构3再次向带传送组件2下方空硅片治具7，同时，设置于带传送组件2中部的硅片装载工具或装载机械可向中部空硅片治具7中装载硅片，以此，进行硅片治具7的垂直上料；后带传送组件2将装载有硅片的硅片治具7向右送进治具传输机构6中，治具传输机构6控制硅片治具7在处理槽4中由左至右水平传动，在传动过程中，处理液循流机构5将镀铜处理液喷射到硅片上，进行硅片镀铜，流经硅片的处理液又经由处理槽4流回处理液循流机构5，进行过滤，使镀铜处理液喷流时的化学稳定性得以保证；前一处理槽4的镀铜处理工序完成后，治具传输机构6将硅片治具7水平移送到后一处理槽4，以此依次进行硅片的镀铜处理，保证硅片镀铜过程中位置的稳定性。
实施例1
请参阅图1和图5-图7，为实现上述目的及其他相关目的，本发明提供一种硅片治具的上料传送装置，硅片治具的上料传送装置包括：带传送组件2和定量上料机构3，带传送组件2包括密封板201、承载工作台202、带传动轴203、传送带轮204以及左右向传送带205，机架1的左部前后对应固定有两块密封板201，两块密封板201在为承载工作台202、带传动轴203以及左右向传送带205提供了安装点的同时，又一定程度上保证了两块密封板201与左右向传送带205组成的传动空间的密闭性，有利于延长传送带轮204的使用寿命，两块密封板201的上部间设置有承载工作台202，在定量上料机构3向左右向传送带205上垂直下放硅片治具7时，以及硅片装载工具向空硅片治具7中装载硅片时，承载工作台202可为硅片治具7提供着力点，防止左右向传送带205受压过大，张力分布不均匀，加剧磨损，两块密封板201的左端和右端均转动安装有带传动轴203，右部带传动轴203通过电机安装座接有动力电机，动力电机通过PLC与计算机控制连接，计算机可控制动力电机输出端顺时针转动，使带传动轴203联动，两根带传动轴203的外壁固定套接有传送带轮204，两个传送带轮204外壁传动套接有左右向传送带205，使得两个传送带轮204和左右向传送带205组成了一组带传动机构，可传送左右向传送带205上的硅片治具7；
进一步地，如图1和图5-图7所示，定量上料机构3包括支架301、主动轴302、大带轮303、垂直传送带304、基准轴305、摆杆306、限位槽307、偏心限位销308、小带轮309、水平传送带310、从动轴311以及联动齿轮312，前部密封板201和后部密封板201的上壁均固定有两个支架301，四个支架301的中部均转动设置有主动轴302，前部两根主动轴302均通过电机安装座接有动力电机，两个动力电机均通过PLC与计算机控制连接，计算机可控制两个动力电机输出端同步顺时针转动，每转动一周，前部两根主动轴302联动，主动轴302的外壁固定有大带轮303，四个支架301的顶部均转动设置有从动轴311，且四个支架301的顶部均通过从动轴311转动安装有大带轮303，四对大带轮303的外壁均传动套接有垂直传送带304，上部四个大带轮303的外侧从动轴311上均安装有一个小带轮309，在前部两个垂直传送带304的套接作用下，前部两根从动轴311随主动轴302顺时针转动，治具存储筒315通过卡箍插接与装置安装现场的建筑物固定，治具存储筒315的左壁与右壁外侧均还设置有两根从动轴311，从动轴311的外壁均套设有小带轮309和联动齿轮312，四对小带轮309的外壁均传动套接有水平传送带310，且两个相邻的联动齿轮312啮合连接，同时，前部两根从动轴311在前部两个水平传送带310的联动作用下，带动中部两对从动轴311在联动齿轮312的啮合作用下相对转动，后部两根从动轴311在后部两个水平传送带310的套接作用下，逆时针转动，使得后部四个大带轮303同步逆时针转动，四个支架301的上部均转动设置有基准轴305，基准轴305的内端外壁均固定套设有摆杆306，摆杆306的上部和下部对称开设有限位槽307，大带轮303的内侧偏心处均固定有偏心限位销308，上部偏心限位销308与下部偏心限位销308的位置关于基准轴305呈中心对称，且上部偏心限位销308与下部偏心限位销308分别滑动安装在上部限位槽307和下部限位槽307内，前部两对大带轮303同步顺时针转动，后部两对大带轮303同步逆时针转动，大带轮303上的偏心限位销308随之发生位置变化，偏心限位销308在限位槽307中滑动，带动摆杆306发生摆动，前部两根摆杆306分别以前部两根基准轴305为摆动基点，同步摆动，先顺时针摆动九十度，后逆时针摆动九十度；后部两根摆杆306反之，先逆时针摆动九十度，后顺时针摆动九十度。
更为完善地，如图5-图7所示，定量上料机构3还包括定位销313、限位板314、治具存储筒315、滑块316以及滑槽317，前部两根和后部两根摆杆306的上端和下端均设置有两根定位销313，上端四根和下端四根定位销313间均安装有限位板314，治具存储筒315的下部设置有四个滑槽317，四块限位板314分别滑动对应设置在四个滑槽317中，滑槽317的左下部和右下部中滑动安装有滑块316，左部四个和右部四个滑块316分别与四块限位板314的下壁左部和右部固定连接，计算机每控制两根主动轴302输入端的动力电机顺时针转动一周，可带动两对摆杆306的上端先同步向内，推动上部两块限位板314分别沿上部两个滑槽317同步滑动向内，隔离治具存储筒315上部的硅片治具7，对其进行限位，防止其下落，同时，两对摆杆306的下端同步向外，拉动下部两块限位板314分别沿上部两个滑槽317同步滑动向外，打开治具存储筒315底部，使位于上部限位板314和下部限位板314间的一个硅片治具7，沿治具存储筒315的筒内壁垂直滑动下落到左右向传送带205上，后两对摆杆306的上端同步向外，下端同步向内，在上部限位板314和下部限位板314间放入一个新的硅片治具7，以此，为一个循环，进行硅片治具7的垂直上料。
更为完善地，如图6所示，治具存储筒315中装载有若干硅片治具7，且治具存储筒315的筒内径俯视面积大于硅片治具7的俯视面面积，使得硅片治具7能在治具存储筒315内垂直下落，上部两个滑槽317与下部两个滑槽317的垂直间距为一个硅片治具7的高度，使得上部限位板314与下部限位板314间仅能容纳一个硅片治具7，每个硅片治具7的下壁前部和后部均设置有斜坡，便于上部限位板314隔离在两个滑槽317间相邻的两个硅片治具7。
具体的，计算机可控制前部两根主动轴302输入端的两个动力电机同步顺时针转动，每转动一周，前部两根主动轴302联动，在前部两个垂直传送带304的套接作用下，前部两根从动轴311随主动轴302顺时针转动，同时，前部两根从动轴311在前部两个水平传送带310的联动作用下，带动中部两对从动轴311在联动齿轮312的啮合作用下相对转动，后部两根从动轴311在后部两个水平传送带310的套接作用下，逆时针转动，使得后部四个大带轮303同步逆时针转动，前部两对大带轮303同步顺时针转动，后部两对大带轮303同步逆时针转动，大带轮303上的偏心限位销308随之发生位置变化，偏心限位销308在限位槽307中滑动，带动摆杆306发生摆动，前部两根摆杆306分别以前部两根基准轴305为摆动基点，同步摆动，先顺时针摆动九十度，后逆时针摆动九十度；后部两根摆杆306反之，先逆时针摆动九十度，后顺时针摆动九十度；则两对摆杆306的上端先同步向内，推动上部两块限位板314分别沿上部两个滑槽317同步滑动向内，隔离治具存储筒315上部的硅片治具7，对其进行限位，防止其下落，同时，两对摆杆306的下端同步向外，拉动下部两块限位板314分别沿上部两个滑槽317同步滑动向外，打开治具存储筒315底部，使位于上部限位板314和下部限位板314间的一个硅片治具7，沿治具存储筒315的筒内壁垂直滑动下落到左右向传送带205上，后两对摆杆306的上端同步向外，下端同步向内，在上部限位板314和下部限位板314间放入一个新的硅片治具7，以此，为一个循环，将硅片治具7的垂直下放到左右向传送带205上；在空硅片治具7垂直下落到左右向传送带205上后，计算机可控制传动轴203输入端的动力电机顺时针转动，使带传动轴203联动，利用两个传送带轮204和左右向传送带205的带传动运动，带动空硅片治具7右移，在右移到一个硅片治具7空位后，计算机控制传动轴203输入端的动力电机停顿，停顿间隙与前部两根主动轴302输入端动力电机的转动周期相重合，定量上料机构3再次向带传送组件2下方空硅片治具7，同时，设置于带传送组件2中部的硅片装载工具或装载机械可向中部空硅片治具7中装载硅片，以此，进行硅片治具7的垂直上料，自动化程度高，结构简单，为装载硅片也留了足够的空间和时间间隙，有利于提高硅片镀铜效率，便于推广。
实施例2
请参阅图1-图4和图10-图11，本发明提供一种硅片治具的上料传送装置，硅片治具的上料传送装置还包括：处理槽4和处理液循流机构5，处理槽4包括槽体401、卡槽402以及盖板403，机架1的右上部固定有槽体401，槽体401的左壁、右壁和隔板上均设置有卡槽402，且三个卡槽402设置在同一水平面上，卡槽402与硅片治具7滑动配合，卡槽402使得硅片治具7可在带传送组件2和治具传输机构6的传送作用下，进入槽体401，槽体401顶部盖设有两块盖板403，盖板403与槽体401组成了相对密封的区域，使得处理液循流机构5向硅片治具7内的硅片喷射处理液时，液体不会胡乱飞溅；
进一步地，如图1-图4和图10-图12所示，处理液循流机构5包括泵浦501、输出管502、粗胖过滤器503、输入管504、处理副槽505、分流管506、连通管507、喷管座508、支座509以及喷流管510，机架1的右前部安装有四个泵浦501，四个泵浦501的上端均固定连通有输出管502，四根输出管502的上部输出端均安装有粗胖过滤器503，粗胖过滤器503的输出端固定连通有分流管506，分流管506的上方设置有连通管507，且连通管507固定在槽体401的后壁，分流管506的上端与连通管507的后端间和连通管507的前端均安装有喷管座508，槽体401的前部和后部内相对于槽体401水平中心线呈轴对称设置有导轨601，且前部和后部导轨601的导轨槽分别与三个卡槽402中的前端槽口和后端槽口在同一水平面上，前部导轨601上壁等距固定有十六个支座509，前部两个喷管座508与十六个支座509内等距螺纹连接有十六根喷流管510，槽体401的后下方设置有处理副槽505，处理副槽505固定在机架1上，处理副槽505的前壁设置有输入管504，输入管504的前端与泵浦501的输入端相连通，工人可首先向处理副槽505中加入与该处理槽4工序相对应的镀铜处理液，后通过计算机控制端发动泵浦501，泵浦501通过输入管504将处理液抽送至输出管502，使处理液经过粗胖过滤器503过滤，进入分流管506进行一次分流，后输入连通管507以及喷管座508进行二次和三次分流，流入喷流管510中，使得喷流管510对硅片表面进行镀铜工序处理，且槽体401与处理副槽505与通过PP直管相连通，处理液流过硅片表面后，进入槽体401，又经过PP直管流回到处理副槽505中，以此形成镀铜处理液的液流循环。
具体的，工人可首先向处理副槽505中加入与该处理槽4工序相对应的镀铜处理液，后通过计算机控制端发动泵浦501，泵浦501通过输入管504将处理液抽送至输出管502，使处理液经过粗胖过滤器503过滤，进入分流管506进行一次分流，后输入连通管507以及喷管座508进行二次和三次分流，流入喷流管510中，使得喷流管510对硅片表面进行镀铜工序处理，处理液流过硅片表面后，进入槽体401，又经过PP直管流回到处理副槽505中，以此形成镀铜处理液的液流循环，处理液循流机构5适用于硅片的单面镀铜处理需求，实现了镀铜处理液的液流循环，保证了处理液的化学性质，有利于保证硅片的镀铜效果。
实施例3
请参阅图1-图4、图8-图11和图13-18，本发明提供一种硅片治具的上料传送装置，硅片治具的上料传送装置还包括：治具传输机构6，治具传输机构6包括安装座602、传动马达603、六角传动轴604、主动锥齿轮605、卡座606、卡轴607、从动锥齿轮608、从动齿轮609以及从动摩擦传动轮610，槽体401前壁内的上部与下部和后壁内的上部与下部均等距固定有八个安装座602，槽体401的左壁前部和后部通过马达安装座固定有传动马达603，四个传动马达603的输出端均安装有六角传动轴604，在治具传输机构6接收到从带传送组件2上输送来的硅片治具7时，计算机控制端可发动四个传动马达603同步启动，上部两个传动马达603输出端同步顺时针转动，下部两个传动马达603输出端同步逆时针转动，三十二个安装座602以每八个分布在同一水平线上的为一组，分为四组，四组安装座602分别设置在卡槽402的四角，四根六角传动轴604分别转动设置在四组安装座602的外侧，六角传动轴604的外壁等距套设有八个主动锥齿轮605，上部六角传动轴604带动上部主动锥齿轮605顺时针转动，下部六角传动轴604带动下部主动锥齿轮605逆时针转动，前部和后部导轨601上壁和下壁均等距固定有与安装座602位置一一对应的八个卡座606，安装座602的内侧和卡座606间转动安装有卡轴607，卡轴607内端均固定有从动锥齿轮608，且三十二个主动锥齿轮605分别与三十二个从动锥齿轮608一一对应啮合，上部主动锥齿轮605与上部从动锥齿轮608啮合传动，带动上部从动锥齿轮608逆时针转动，下部主动锥齿轮605与下部从动锥齿轮608啮合传动，带动下部从动锥齿轮608顺时针转动，上部十六根卡轴607的外端均固定有从动齿轮609，下部十六根卡轴607的外端均固定有从动摩擦传动轮610，上部从动锥齿轮608与上部卡轴607联动，带动从动齿轮609逆时针转动，下部从动锥齿轮608与下部卡轴607联动，带动从动摩擦传动轮610顺时针转动。
进一步地，如图13-图18所示，硅片治具7包括治具载体701、限位滑条702、齿条703以及摩擦挤压槽704，治具载体701的前壁和后壁均固定有限位滑条702，且前部和后部的限位滑条702分别与前部和后部导轨601滑动配合，治具载体701上壁的前部和后部均设置有齿条703，从动齿轮609均与齿条703间断性啮合，治具载体701下壁的前部内和后部内均开设有摩擦挤压槽704，从动摩擦传动轮610均间断性摩擦转动在摩擦挤压槽704内，从动齿轮609与从动摩擦传动轮610同步转动，从动齿轮609逆时针与齿条703啮合传动的同时，从动摩擦传动轮610顺时针与摩擦挤压槽704摩擦传动，带动硅片治具7向右运动，运动过程中，限位滑条702在导轨601中滑动，对硅片治具7进行了限位，硅片治具7得以水平右移进入处理槽4，使硅片进行镀铜工序处理。
具体的，计算机控制端可发动四个传动马达603同步启动，上部两个传动马达603输出端同步顺时针转动，下部两个传动马达603输出端同步逆时针转动，上部主动锥齿轮605与上部从动锥齿轮608啮合传动，带动上部从动锥齿轮608逆时针转动，下部主动锥齿轮605与下部从动锥齿轮608啮合传动，带动下部从动锥齿轮608顺时针转动，上部从动锥齿轮608与上部卡轴607联动，带动从动齿轮609逆时针转动，下部从动锥齿轮608与下部卡轴607联动，带动从动摩擦传动轮610顺时针转动，从动齿轮609逆时针与齿条703啮合传动的同时，从动摩擦传动轮610顺时针与摩擦挤压槽704摩擦传动，带动硅片治具7向右运动，运动过程中，限位滑条702在导轨601中滑动，对硅片治具7进行了限位，硅片治具7得以水平右移进入处理槽4，使硅片进行镀铜工序处理，传送稳定性强，大大减少了由于传送造成的硅片破裂，降低了硅片废率，有利于降低硅片栅线制作成本，促进光伏行业发展，在传送过程中不影响硅片进行镀铜处理，保证了硅片的镀铜效果。
所以，本发明有效克服了现有技术中的种种缺点而具高度产业利用价值。
虽然，上文中已经用一般性说明及具体实施例对本发明作了详尽的描述，但在本发明基础上，可以对之作一些修改或改进，这对本领域技术人员而言是显而易见的。因此，在不偏离本发明精神的基础上所做的这些修改或改进，均属于本发明要求保护的范围。
Claims (7)
1.一种硅片治具的上料传送装置，其特征在于，包括：
机架(1)和若干硅片治具(7)；
所述机架(1)的左部上壁和右部上壁分别设置有带传送组件(2)和处理槽(4)，所述带传送组件(2)的左部上方设置有定量上料机构(3)，所述机架(1)的右下部设置有处理液循流机构(5)，且处理液循流机构(5)内注有镀铜处理液，镀铜处理液在处理液循流机构(5)和处理槽(4)中循环流动，所述处理槽(4)内安装有治具传输机构(6)；
所述硅片治具(7)在定量上料机构(3)、带传送组件(2)、处理槽(4)和治具传输机构(6)间传动；
定量上料机构(3)，包括支架(301)、主动轴(302)、大带轮(303)、垂直传送带(304)、基准轴(305)、摆杆(306)、限位槽(307)、偏心限位销(308)、小带轮(309)、水平传送带(310)、从动轴(311)以及联动齿轮(312)，前部密封板(201)和后部所述密封板(201)的上壁均固定有两个支架(301)，四个所述支架(301)的中部均转动设置有主动轴(302)，所述主动轴(302)的外壁固定有大带轮(303)，四个所述支架(301)的顶部均转动设置有从动轴(311)，且四个所述支架(301)的顶部均通过从动轴(311)转动安装有大带轮(303)，四对所述大带轮(303)的外壁均传动套接有垂直传送带(304)，四个所述支架(301)的上部均转动设置有基准轴(305)，所述基准轴(305)的内端外壁均固定套设有摆杆(306)，所述摆杆(306)的上部和下部对称开设有限位槽(307)，所述大带轮(303)的内侧偏心处均固定有偏心限位销(308)，且上部偏心限位销(308)与下部偏心限位销(308)分别滑动安装在上部限位槽(307)和下部限位槽(307)内，上部四个所述大带轮(303)的外侧从动轴(311)上均安装有一个小带轮(309)，治具存储筒(315)通过卡箍插接与装置安装现场的建筑物固定，所述治具存储筒(315)的左壁与右壁外侧均还设置有两根从动轴(311)，所述从动轴(311)的外壁均套设有小带轮(309)和联动齿轮(312)，四对所述小带轮(309)的外壁均传动套接有水平传送带(310)，且两个相邻的所述联动齿轮(312)啮合连接；
定量上料机构(3)还包括定位销(313)、限位板(314)、治具存储筒(315)、滑块(316)以及滑槽(317)，前部两根和后部两根所述摆杆(306)的上端和下端均设置有两根定位销(313)，上端四根和下端四根所述定位销(313)间均安装有限位板(314)，所述治具存储筒(315)的下部设置有四个滑槽(317)，所述治具存储筒(315)中装载有若干硅片治具(7)，四块所述限位板(314)分别滑动对应设置在四个滑槽(317)中，所述滑槽(317)的左下部和右下部中滑动安装有滑块(316)，左部四个和右部四个所述滑块(316)分别与四块限位板(314)的下壁左部和右部固定连接。
2.根据权利要求1所述的硅片治具的上料传送装置，其特征在于：带传送组件(2)，包括密封板(201)、承载工作台(202)、带传动轴(203)、传送带轮(204)以及左右向传送带(205)，所述机架(1)的左部前后对应固定有两块密封板(201)，两块所述密封板(201)的上部间设置有承载工作台(202)，两块所述密封板(201)的左端和右端均转动安装有带传动轴(203)，两根所述带传动轴(203)的外壁固定套接有传送带轮(204)，两个所述传送带轮(204)外壁传动套接有左右向传送带(205)，前部两根所述主动轴(302)和右部带传动轴(203)均通过电机安装座接有动力电机，三个动力电机均通过PLC与计算机控制连接。
3.根据权利要求1所述的硅片治具的上料传送装置，其特征在于：处理槽(4)，包括槽体(401)、卡槽(402)以及盖板(403)，所述机架(1)的右上部固定有槽体(401)，所述槽体(401)的左壁、右壁和隔板上均设置有卡槽(402)，且三个卡槽(402)设置在同一水平面上，所述卡槽(402)与硅片治具(7)滑动配合，所述槽体(401)顶部盖设有两块盖板(403)。
4.根据权利要求3所述的硅片治具的上料传送装置，其特征在于：处理液循流机构(5)，包括泵浦(501)、输出管(502)、粗胖过滤器(503)、输入管(504)、处理副槽(505)、分流管(506)、连通管(507)以及喷管座(508)，所述机架(1)的右前部安装有四个泵浦(501)，四个所述泵浦(501)的上端均固定连通有输出管(502)，四根所述输出管(502)的上部输出端均安装有粗胖过滤器(503)，所述粗胖过滤器(503)的输出端固定连通有分流管(506)，所述分流管(506)的上方设置有连通管(507)，且连通管(507)固定在槽体(401)的后壁，所述分流管(506)的上端与连通管(507)的后端间和连通管(507)的前端均安装有喷管座(508)，所述槽体(401)的后下方设置有处理副槽(505)，且槽体(401)与处理副槽(505)与通过PP直管相连通，处理副槽(505)固定在机架(1)上，所述处理副槽(505)的前壁设置有输入管(504)，所述输入管(504)的前端与泵浦(501)的输入端相连通。
5.根据权利要求3所述的硅片治具的上料传送装置，其特征在于：治具传输机构(6)，包括导轨(601)、安装座(602)、传动马达(603)、六角传动轴(604)、主动锥齿轮(605)、卡座(606)、卡轴(607)、从动锥齿轮(608)、从动齿轮(609)以及从动摩擦传动轮(610)，所述槽体(401)的前部和后部内相对于槽体(401)水平中心线呈轴对称设置有导轨(601)，且前部导轨(601)和后部导轨(601)的导轨槽分别与三个卡槽(402)中的前端槽口和后端槽口在同一水平面上，所述槽体(401)前壁内的上部与下部和后壁内的上部与下部均等距固定有八个安装座(602)，所述槽体(401)的左壁前部和后部通过马达安装座固定有传动马达(603)，四个所述传动马达(603)的输出端均安装有六角传动轴(604)，三十二个所述安装座(602)以每八个分布在同一水平线上的为一组，分为四组，四组安装座(602)分别设置在卡槽(402)的四角，四根所述六角传动轴(604)分别转动设置在四组安装座(602)的外侧，所述六角传动轴(604)的外壁等距套设有八个主动锥齿轮(605)，前部导轨(601)和后部导轨(601)的上壁和下壁均等距固定有与安装座(602)位置一一对应的八个卡座(606)，所述安装座(602)的内侧和卡座(606)间转动安装有卡轴(607)，所述卡轴(607)内端均固定有从动锥齿轮(608)，且三十二个主动锥齿轮(605)分别与三十二个从动锥齿轮(608)一一对应啮合，上部十六根所述卡轴(607)的外端均固定有从动齿轮(609)，下部十六根所述卡轴(607)的外端均固定有从动摩擦传动轮(610)。
6.根据权利要求5所述的硅片治具的上料传送装置，其特征在于：处理液循流机构(5)还包括支座(509)以及喷流管(510)，前部所述导轨(601)上壁等距固定有十六个支座(509)，前部两个喷管座(508)与十六个支座(509)内等距螺纹连接有十六根喷流管(510)。
7.根据权利要求5所述的硅片治具的上料传送装置，其特征在于：硅片治具(7)，包括治具载体(701)、限位滑条(702)、齿条(703)以及摩擦挤压槽(704)，所述治具载体(701)的前壁和后壁均固定有限位滑条(702)，且前部和后部的限位滑条(702)分别与前部和后部导轨(601)滑动配合，所述治具载体(701)上壁的前部和后部均设置有齿条(703)，所述从动齿轮(609)均与齿条(703)间断性啮合，所述治具载体(701)下壁的前部内和后部内均开设有摩擦挤压槽(704)，所述从动摩擦传动轮(610)均间断性摩擦转动在摩擦挤压槽(704)内。
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