CN117024457A - 有机化合物、组合物及有机电子器件 - Google Patents
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- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 103
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 74
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 91
- -1 cyano, carbamoyl Chemical group 0.000 claims description 119
- 125000006413 ring segment Chemical group 0.000 claims description 94
- SPKSOWKQTVDRTK-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-4-(4-methyl-1,3-dioxoisoindol-2-yl)benzoic acid Chemical group O=C1C=2C(C)=CC=CC=2C(=O)N1C1=CC=C(C(O)=O)C(O)=C1 SPKSOWKQTVDRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 78
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 64
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 62
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 60
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 60
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 claims description 45
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 22
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 15
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 claims description 15
- 125000005067 haloformyl group Chemical group 0.000 claims description 15
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 claims description 14
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 claims description 14
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 14
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 claims description 14
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 14
- 229930194542 Keto Natural products 0.000 claims description 13
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 13
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 150000002540 isothiocyanates Chemical class 0.000 claims description 13
- 125000000468 ketone group Chemical group 0.000 claims description 13
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 13
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M Thiocyanate anion Chemical compound [S-]C#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 12
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000005553 heteroaryloxy group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 claims description 12
- 125000005309 thioalkoxy group Chemical group 0.000 claims description 12
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N hydrogen thiocyanate Natural products SC#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- VINBVOMNIBDIPH-UHFFFAOYSA-N isocyanoimino(oxo)methane Chemical compound O=C=N[N+]#[C-] VINBVOMNIBDIPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- LBBIZPKEHXAXHI-UHFFFAOYSA-N isocyano thiocyanate Chemical compound [C-]#[N+]SC#N LBBIZPKEHXAXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 155
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 114
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 105
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 105
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 102
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 82
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 56
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 52
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 50
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 50
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 47
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 43
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 40
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 40
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 38
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 32
- BWHDROKFUHTORW-UHFFFAOYSA-N tritert-butylphosphane Chemical compound CC(C)(C)P(C(C)(C)C)C(C)(C)C BWHDROKFUHTORW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 23
- 238000003818 flash chromatography Methods 0.000 description 23
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 23
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 23
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 22
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 21
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 21
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 20
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 20
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 19
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L palladium(ii) acetate Chemical compound [Pd+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 16
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 16
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 14
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 13
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 12
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 11
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 10
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 9
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 9
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 9
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 9
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 9
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical class [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 8
- DLEDOFVPSDKWEF-UHFFFAOYSA-N lithium butane Chemical compound [Li+].CCC[CH2-] DLEDOFVPSDKWEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 8
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N n-Butyllithium Substances [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 8
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 8
- YMEKEHSRPZAOGO-UHFFFAOYSA-N boron triiodide Chemical compound IB(I)I YMEKEHSRPZAOGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 5
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 5
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 5
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 4
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 230000009849 deactivation Effects 0.000 description 4
- HFTNNOZFRQLFQB-UHFFFAOYSA-N ethenoxy(trimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)OC=C HFTNNOZFRQLFQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 4
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 4
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 4
- HFPZCAJZSCWRBC-UHFFFAOYSA-N p-cymene Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C)C=C1 HFPZCAJZSCWRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YTZKOQUCBOVLHL-UHFFFAOYSA-N p-methylisopropylbenzene Natural products CC(C)(C)C1=CC=CC=C1 YTZKOQUCBOVLHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 4
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PBKONEOXTCPAFI-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-trichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C(Cl)=C1 PBKONEOXTCPAFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical compound C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010405 anode material Substances 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 3
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 3
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 3
- 239000010406 cathode material Substances 0.000 description 3
- 229940125773 compound 10 Drugs 0.000 description 3
- 229940125797 compound 12 Drugs 0.000 description 3
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 3
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 description 3
- 229940125898 compound 5 Drugs 0.000 description 3
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 3
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 3
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 3
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 3
- 238000004770 highest occupied molecular orbital Methods 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002462 isocyano group Chemical group *[N+]#[C-] 0.000 description 3
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 3
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 3
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- VNFWTIYUKDMAOP-UHFFFAOYSA-N sphos Chemical compound COC1=CC=CC(OC)=C1C1=CC=CC=C1P(C1CCCCC1)C1CCCCC1 VNFWTIYUKDMAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 3
- NNWHUJCUHAELCL-SNAWJCMRSA-N trans-isomethyleugenol Chemical compound COC1=CC=C(\C=C\C)C=C1OC NNWHUJCUHAELCL-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 3
- BFIMMTCNYPIMRN-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,5-tetramethylbenzene Chemical compound CC1=CC(C)=C(C)C(C)=C1 BFIMMTCNYPIMRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AGIQIOSHSMJYJP-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-Trimethoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(OC)C(OC)=C1 AGIQIOSHSMJYJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KVNYFPKFSJIPBJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1CC KVNYFPKFSJIPBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QNLZIZAQLLYXTC-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethylnaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=C(C)C(C)=CC=C21 QNLZIZAQLLYXTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DPZNOMCNRMUKPS-UHFFFAOYSA-N 1,3-Dimethoxybenzene Chemical compound COC1=CC=CC(OC)=C1 DPZNOMCNRMUKPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFZZYIJIWUTJFO-UHFFFAOYSA-N 1,3-diethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC(CC)=C1 AFZZYIJIWUTJFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DSNHSQKRULAAEI-UHFFFAOYSA-N 1,4-Diethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=C(CC)C=C1 DSNHSQKRULAAEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SPPWGCYEYAMHDT-UHFFFAOYSA-N 1,4-di(propan-2-yl)benzene Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C(C)C)C=C1 SPPWGCYEYAMHDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- APQSQLNWAIULLK-UHFFFAOYSA-N 1,4-dimethylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C)=CC=C(C)C2=C1 APQSQLNWAIULLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQMUGNMMFTYOHK-UHFFFAOYSA-N 1-methoxynaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(OC)=CC=CC2=C1 NQMUGNMMFTYOHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UDONPJKEOAWFGI-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-3-phenoxybenzene Chemical compound CC1=CC=CC(OC=2C=CC=CC=2)=C1 UDONPJKEOAWFGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPUYECUOLPXSFR-UHFFFAOYSA-N 1-methylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C)=CC=CC2=C1 QPUYECUOLPXSFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LIWRTHVZRZXVFX-UHFFFAOYSA-N 1-phenyl-3-propan-2-ylbenzene Chemical group CC(C)C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 LIWRTHVZRZXVFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 1H-indene Chemical compound C1=CC=C2CC=CC2=C1 YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OJVAMHKKJGICOG-UHFFFAOYSA-N 2,5-hexanedione Chemical compound CC(=O)CCC(C)=O OJVAMHKKJGICOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VQGHOUODWALEFC-UHFFFAOYSA-N 2-phenylpyridine Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 VQGHOUODWALEFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HJKGBRPNSJADMB-UHFFFAOYSA-N 3-phenylpyridine Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CN=C1 HJKGBRPNSJADMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GNKZMNRKLCTJAY-UHFFFAOYSA-N 4'-Methylacetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=C(C)C=C1 GNKZMNRKLCTJAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N N,N-Diisopropylethylamine (DIPEA) Chemical compound CCN(C(C)C)C(C)C JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical group CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PWATWSYOIIXYMA-UHFFFAOYSA-N Pentylbenzene Chemical compound CCCCCC1=CC=CC=C1 PWATWSYOIIXYMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N adamantane Chemical compound C1C(C2)CC3CC1CC2C3 ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 2
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 description 2
- 150000008378 aryl ethers Chemical class 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 2
- 125000000499 benzofuranyl group Chemical group O1C(=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 2
- ILAHWRKJUDSMFH-UHFFFAOYSA-N boron tribromide Chemical compound BrB(Br)Br ILAHWRKJUDSMFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OCKPCBLVNKHBMX-UHFFFAOYSA-N butylbenzene Chemical compound CCCCC1=CC=CC=C1 OCKPCBLVNKHBMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- HHNHBFLGXIUXCM-GFCCVEGCSA-N cyclohexylbenzene Chemical compound [CH]1CCCC[C@@H]1C1=CC=CC=C1 HHNHBFLGXIUXCM-GFCCVEGCSA-N 0.000 description 2
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N decalin Chemical compound C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAJNGDIORYACQU-UHFFFAOYSA-N decan-2-one Chemical compound CCCCCCCCC(C)=O ZAJNGDIORYACQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 2
- 125000004431 deuterium atom Chemical group 0.000 description 2
- MHDVGSVTJDSBDK-UHFFFAOYSA-N dibenzyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1COCC1=CC=CC=C1 MHDVGSVTJDSBDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SQNZJJAZBFDUTD-UHFFFAOYSA-N durene Chemical compound CC1=CC(C)=C(C)C=C1C SQNZJJAZBFDUTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 2
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 2
- HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N isophorone Chemical compound CC1=CC(=O)CC(C)(C)C1 HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002183 isoquinolinyl group Chemical group C1(=NC=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N lithium;2-methylpropane Chemical compound [Li+].C[C-](C)C UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SKEDXQSRJSUMRP-UHFFFAOYSA-N lithium;quinolin-8-ol Chemical compound [Li].C1=CN=C2C(O)=CC=CC2=C1 SKEDXQSRJSUMRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000008204 material by function Substances 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N methyl benzoate Chemical group COC(=O)C1=CC=CC=C1 QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N o-biphenylenemethane Natural products C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004592 phthalazinyl group Chemical group C1(=NN=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- UOHMMEJUHBCKEE-UHFFFAOYSA-N prehnitene Chemical compound CC1=CC=C(C)C(C)=C1C UOHMMEJUHBCKEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002294 quinazolinyl group Chemical group N1=C(N=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 238000002390 rotary evaporation Methods 0.000 description 2
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- ZUHZGEOKBKGPSW-UHFFFAOYSA-N tetraglyme Chemical compound COCCOCCOCCOCCOC ZUHZGEOKBKGPSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N tetralin Chemical compound C1=CC=C2CCCCC2=C1 CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 2
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 125000001425 triazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 2
- ABDKAPXRBAPSQN-UHFFFAOYSA-N veratrole Chemical compound COC1=CC=CC=C1OC ABDKAPXRBAPSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006545 (C1-C9) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- IICQZTQZQSBHBY-HWKANZROSA-N (e)-non-2-ene Chemical compound CCCCCC\C=C\C IICQZTQZQSBHBY-HWKANZROSA-N 0.000 description 1
- NKJOXAZJBOMXID-UHFFFAOYSA-N 1,1'-Oxybisoctane Chemical compound CCCCCCCCOCCCCCCCC NKJOXAZJBOMXID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VWCLTWGYSRBKAI-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-tripentylbenzene Chemical compound CCCCCC1=CC=CC(CCCCC)=C1CCCCC VWCLTWGYSRBKAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMUWSGQKPAEPBA-UHFFFAOYSA-N 1,2-dibutylbenzene Chemical compound CCCCC1=CC=CC=C1CCCC NMUWSGQKPAEPBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVSYDCGFYSVNAX-UHFFFAOYSA-N 1,2-dihexylbenzene Chemical compound CCCCCCC1=CC=CC=C1CCCCCC GVSYDCGFYSVNAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQYVVSNFPLKMNU-UHFFFAOYSA-N 1,2-dipentylbenzene Chemical compound CCCCCC1=CC=CC=C1CCCCC FQYVVSNFPLKMNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IPKODZVPHAGSTN-UHFFFAOYSA-N 1,3-dimethyl-2h-quinoline Chemical compound C1=CC=C2N(C)CC(C)=CC2=C1 IPKODZVPHAGSTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTFRNSPYRPYKDV-UHFFFAOYSA-N 1,3-dipropoxybenzene Chemical compound CCCOC1=CC=CC(OCCC)=C1 UTFRNSPYRPYKDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWTBXGSNWKXTPX-UHFFFAOYSA-N 1,3-dipropylbenzene Chemical compound CCCC1=CC=CC(CCC)=C1 GWTBXGSNWKXTPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005967 1,4-Dimethylnaphthalene Substances 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQISOVKPFBLQIQ-UHFFFAOYSA-N 1,4-dimethoxy-2-methylbenzene Chemical compound COC1=CC=C(OC)C(C)=C1 IQISOVKPFBLQIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDXHBFHOEYVPED-UHFFFAOYSA-N 1-(2-butoxyethoxy)butane Chemical compound CCCCOCCOCCCC GDXHBFHOEYVPED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNHYAHOTXLASEA-UHFFFAOYSA-N 1-(dimethoxymethyl)-4-methoxybenzene Chemical compound COC(OC)C1=CC=C(OC)C=C1 NNHYAHOTXLASEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRRDISHSXWGFRF-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-ethoxyethoxy)ethoxy]-2-methoxyethane Chemical compound CCOCCOCCOCCOC JRRDISHSXWGFRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYLLZXPMJRMUHH-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]butane Chemical compound CCCCOCCOCCOC HYLLZXPMJRMUHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNAQINZKMQFYFV-UHFFFAOYSA-N 1-[2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy]butane Chemical compound CCCCOCCOCCOCCOC SNAQINZKMQFYFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTPNRXUCIXHOKM-UHFFFAOYSA-N 1-chloronaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(Cl)=CC=CC2=C1 JTPNRXUCIXHOKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 1-hexoxyhexane Chemical compound CCCCCCOCCCCCC BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RERATEUBWLKDFE-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-2-[2-(2-methoxypropoxy)propoxy]propane Chemical compound COCC(C)OCC(C)OCC(C)OC RERATEUBWLKDFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOPDRZXCEAKHHW-UHFFFAOYSA-N 1-pentoxypentane Chemical compound CCCCCOCCCCC AOPDRZXCEAKHHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWSHGRJUSUJPQD-UHFFFAOYSA-N 1-phenyl-4-propan-2-ylbenzene Chemical group C1=CC(C(C)C)=CC=C1C1=CC=CC=C1 KWSHGRJUSUJPQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCUPBIBNSTXCPQ-UHFFFAOYSA-N 1-tert-butyl-4-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1 MCUPBIBNSTXCPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHLHPRDBBAGVEG-UHFFFAOYSA-N 1-tetralone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)CCCC2=C1 XHLHPRDBBAGVEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXWWHNCQZBVZPV-UHFFFAOYSA-N 2'-methylacetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1C YXWWHNCQZBVZPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJJPNTQYUJPWGQ-UHFFFAOYSA-N 2-(3-Phenylpropyl)pyridine Chemical compound C=1C=CC=NC=1CCCC1=CC=CC=C1 JJJPNTQYUJPWGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUMOJENFFHZAFP-UHFFFAOYSA-N 2-Ethoxynaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC(OCC)=CC=C21 GUMOJENFFHZAFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006176 2-ethylbutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(C([H])([H])*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4-phenylpyridine Chemical compound C1=NC(C)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SHRDVLUJLDYXSO-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyoxane Chemical compound O1CCCCC1OC1=CC=CC=C1 SHRDVLUJLDYXSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBCTYXBHPFCNBB-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyoxolane Chemical compound C1CCOC1OC1=CC=CC=C1 PBCTYXBHPFCNBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IICQZTQZQSBHBY-UHFFFAOYSA-N 2t-nonene Natural products CCCCCCC=CC IICQZTQZQSBHBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMEVMYSQZPJFOK-UHFFFAOYSA-N 3,4,5,6,9,10-hexazatetracyclo[12.4.0.02,7.08,13]octadeca-1(18),2(7),3,5,8(13),9,11,14,16-nonaene Chemical compound N1=NN=C2C3=CC=CC=C3C3=CC=NN=C3C2=N1 DMEVMYSQZPJFOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIVPNOBLHXUKDX-UHFFFAOYSA-N 3,5,5-trimethylhexyl 3,5,5-trimethylhexanoate Chemical compound CC(C)(C)CC(C)CCOC(=O)CC(C)CC(C)(C)C UIVPNOBLHXUKDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005917 3-methylpentyl group Chemical group 0.000 description 1
- DDTHMESPCBONDT-UHFFFAOYSA-N 4-(4-oxocyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)cyclohexa-2,5-dien-1-one Chemical compound C1=CC(=O)C=CC1=C1C=CC(=O)C=C1 DDTHMESPCBONDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGYYLUNYOCBBME-UHFFFAOYSA-M 4-fluoro-2-phenyl-4-(4-propylcyclohexyl)cyclohexa-1,5-diene-1-carboxylate Chemical compound C1CC(CCC)CCC1C1(F)C=CC(C([O-])=O)=C(C=2C=CC=CC=2)C1 KGYYLUNYOCBBME-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000004920 4-methyl-2-pentyl group Chemical group CC(CC(C)*)C 0.000 description 1
- AZZHCIXSZZXEAS-UHFFFAOYSA-N 5-phenylpentylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1CCCCCC1=CC=CC=C1 AZZHCIXSZZXEAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPQAKYPOZRXKFA-UHFFFAOYSA-N 6-Undecanone Chemical compound CCCCCC(=O)CCCCC ZPQAKYPOZRXKFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNALUTYMBUBKNX-UHFFFAOYSA-N 6-methoxy-3,4-dihydro-2h-naphthalen-1-one Chemical compound O=C1CCCC2=CC(OC)=CC=C21 MNALUTYMBUBKNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005725 8-Hydroxyquinoline Substances 0.000 description 1
- ZYASLTYCYTYKFC-UHFFFAOYSA-N 9-methylidenefluorene Chemical compound C1=CC=C2C(=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 ZYASLTYCYTYKFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910016036 BaF 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N Bipyridyl Chemical group N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N Deuterium Chemical compound [2H] YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- LTEQMZWBSYACLV-UHFFFAOYSA-N Hexylbenzene Chemical class CCCCCCC1=CC=CC=C1 LTEQMZWBSYACLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DJNTZVRUYMHBTD-UHFFFAOYSA-N Octyl octanoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)CCCCCCC DJNTZVRUYMHBTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWRYPZZKDGJXCA-UHFFFAOYSA-N acenaphthene Chemical compound C1=CC(CC2)=C3C2=CC=CC3=C1 CWRYPZZKDGJXCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004054 acenaphthylenyl group Chemical group C1(=CC2=CC=CC3=CC=CC1=C23)* 0.000 description 1
- 125000000641 acridinyl group Chemical group C1(=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 1
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001334 alicyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- HAQFCILFQVZOJC-UHFFFAOYSA-N anthracene-9,10-dione;methane Chemical compound C.C.C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=C1 HAQFCILFQVZOJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- RJGDLRCDCYRQOQ-UHFFFAOYSA-N anthrone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3CC2=C1 RJGDLRCDCYRQOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical group N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000004604 benzisothiazolyl group Chemical group S1N=C(C2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000004603 benzisoxazolyl group Chemical group O1N=C(C2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- BNBQRQQYDMDJAH-UHFFFAOYSA-N benzodioxan Chemical compound C1=CC=C2OCCOC2=C1 BNBQRQQYDMDJAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 125000004196 benzothienyl group Chemical group S1C(=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 1
- YFNONBGXNFCTMM-UHFFFAOYSA-N butoxybenzene Chemical compound CCCCOC1=CC=CC=C1 YFNONBGXNFCTMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001717 carbocyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000021615 conjugation Effects 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 229910052805 deuterium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 150000001987 diarylethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000004988 dibenzothienyl group Chemical group C1(=CC=CC=2SC3=C(C21)C=CC=C3)* 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- RXKJFZQQPQGTFL-UHFFFAOYSA-N dihydroxyacetone Chemical compound OCC(=O)CO RXKJFZQQPQGTFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N diphenylmethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC1=CC=CC=C1 CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000007606 doctor blade method Methods 0.000 description 1
- KWKXNDCHNDYVRT-UHFFFAOYSA-N dodecylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1 KWKXNDCHNDYVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000004494 ethyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 238000007647 flexography Methods 0.000 description 1
- YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N fluoren-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2C3=C[CH]C=CC3=CC2=C1 RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 125000001261 isocyanato group Chemical group *N=C=O 0.000 description 1
- 229940100554 isononyl isononanoate Drugs 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ZBKFYXZXZJPWNQ-UHFFFAOYSA-N isothiocyanate group Chemical group [N-]=C=S ZBKFYXZXZJPWNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001810 isothiocyanato group Chemical group *N=C=S 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000007644 letterpress printing Methods 0.000 description 1
- 238000004768 lowest unoccupied molecular orbital Methods 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 1
- FSPSELPMWGWDRY-UHFFFAOYSA-N m-Methylacetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC(C)=C1 FSPSELPMWGWDRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940095102 methyl benzoate Drugs 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- DYFFAVRFJWYYQO-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-phenylaniline Chemical compound C=1C=CC=CC=1N(C)C1=CC=CC=C1 DYFFAVRFJWYYQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCBSHDKATAPNIA-UHFFFAOYSA-N non-3-ene Chemical compound CCCCCC=CCC YCBSHDKATAPNIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPADFPAILITQBG-UHFFFAOYSA-N non-4-ene Chemical compound CCCCC=CCCC KPADFPAILITQBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940078552 o-xylene Drugs 0.000 description 1
- KSCKTBJJRVPGKM-UHFFFAOYSA-N octan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCCCCCC[O-].CCCCCCCC[O-].CCCCCCCC[O-].CCCCCCCC[O-] KSCKTBJJRVPGKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 1
- 238000013086 organic photovoltaic Methods 0.000 description 1
- 229960003540 oxyquinoline Drugs 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 238000007649 pad printing Methods 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- FVDOBFPYBSDRKH-UHFFFAOYSA-N perylene-3,4,9,10-tetracarboxylic acid Chemical compound C=12C3=CC=C(C(O)=O)C2=C(C(O)=O)C=CC=1C1=CC=C(C(O)=O)C2=C1C3=CC=C2C(=O)O FVDOBFPYBSDRKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004934 phenanthridinyl group Chemical group C1(=CC=CC2=NC=C3C=CC=CC3=C12)* 0.000 description 1
- 150000005041 phenanthrolines Chemical class 0.000 description 1
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 1
- MTZWHHIREPJPTG-UHFFFAOYSA-N phorone Chemical compound CC(C)=CC(=O)C=C(C)C MTZWHHIREPJPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930193351 phorone Natural products 0.000 description 1
- HWLDNSXPUQTBOD-UHFFFAOYSA-N platinum-iridium alloy Chemical compound [Ir].[Pt] HWLDNSXPUQTBOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 1
- 239000007774 positive electrode material Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- KRIOVPPHQSLHCZ-UHFFFAOYSA-N propiophenone Chemical compound CCC(=O)C1=CC=CC=C1 KRIOVPPHQSLHCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001725 pyrenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002098 pyridazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 1
- MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N quinolin-8-ol Chemical compound C1=CN=C2C(O)=CC=CC2=C1 MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001567 quinoxalinyl group Chemical group N1=C(C=NC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000010020 roller printing Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007764 slot die coating Methods 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010129 solution processing Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- 229940042055 systemic antimycotics triazole derivative Drugs 0.000 description 1
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001935 tetracenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC3=CC4=CC=CC=C4C=C3C=C12)* 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- IBBLKSWSCDAPIF-UHFFFAOYSA-N thiopyran Chemical compound S1C=CC=C=C1 IBBLKSWSCDAPIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUVINXPYWBROJD-ONEGZZNKSA-N trans-anethole Chemical compound COC1=CC=C(\C=C\C)C=C1 RUVINXPYWBROJD-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 1
- TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K tri(quinolin-8-yloxy)alumane Chemical compound [Al+3].C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1 TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 125000004665 trialkylsilyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005259 triarylamine group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005106 triarylsilyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004306 triazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 1
- YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N triglyme Chemical compound COCCOCCOCCOC YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003960 triphenylenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C3C12)* 0.000 description 1
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N vertaline Natural products C1C2C=3C=C(OC)C(OC)=CC=3OC(C=C3)=CC=C3CCC(=O)OC1CC1N2CCCC1 PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Classifications
-
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Abstract
本发明涉及一种发光材料技术领域，特别涉及有机化合物、组合物及有机电子器件。所述有机化合物，具有如通式(I)～(III)任一所式的结构。本发明的有机化合物作为一类新型的发光材料，将其用于有机电子器件中，能够改善有机电子器件的发光效率低及寿命短的问题。
Description
技术领域
本发明涉及发光材料技术领域，特别涉及有机化合物、组合物及有机电子器件。
背景技术
有机半导体材料在合成上具有多样性，制造成本相对较低，且具有优良的光学与电学性能。有机发光二极管(OLED)在光电器件(例如平板显示器和照明)的应用方面具有广视角、反应时间快、工作电压低、面板厚度薄等优势，因而具有广阔的发展潜力。
为了提高有机发光二极管的发光效率，各种基于荧光和磷光的发光材料体系被开发出来。其中，使用荧光材料的有机发光二极管具有可靠性高的特点，但其在电气激发下，内部电致发光量子效率会被限制为25％，这是因为激子的单重激发态和三重激发态的分支比为1:3。使用磷光材料的有机发光二极管已经取得了几乎100％的内部电致发光量子效率，但是磷光OLED还会产生Roll-off效应，即发光效率随电流或亮度的增加而迅速降低，这对高亮度的应用尤为不利。
迄今为止，传统的具有实际使用价值的磷光材料为含铱、铂的金属配合物，然而这种原材料稀有且昂贵，金属配合物的合成很复杂，导致成本较高。为了克服上述问题，Adachi提出反向内部转换的概念，即利用有机化合物而不利用金属配合物作为发光材料，可以实现与磷光OLED相媲美的高效率。此概念已经通过各种材料组合得以实现，例如复合受激态材料、热激发延迟荧光(TADF)材料等。
然而，传统的蓝光TADF材料无论从效率还是寿命上，其性能与磷光发光材料相比仍有一定的差距。
发明内容
基于此，本发明的目的在于提供一种有机化合物，能够解决传统的蓝光TADF材料效率和寿命不高的问题。
本发明的技术方案如下：
一种有机化合物，具有如通式(I)～(III)任一所式的结构：
其中：
Y1、Y2分别独立地选自B或不存在，且Y1和Y2不同时不存在；
X1、X2、X3、X4分别独立地选自NR01、CR01R02、SiR01R02、O、S、S(＝O)2、S(＝O)或不存在，且X1、X2、X3、X4不同时不存在；
R01、R02每次出现，分别独立地选自-H、-D、具有1至20个C原子的直链烷基、具有1至20个C原子的直链烷氧基、具有1至20个C原子的直链硫代烷氧基、具有3至20个C原子的支链或环状烷基、具有3至20个C原子的支链或环状烷氧基、具有3至20个C原子的支链或环状硫代烷氧基、甲硅烷基、具有1至20个C原子的酮基、具有2至20个C原子的烷氧基羰基、具有7至20个C原子的芳氧基羰基、氰基、氨基甲酰基、卤甲酰基、甲酰基、异氰基、异氰酸酯基、硫氰酸酯基、异硫氰酸酯基、羟基、硝基、胺基、-CF3、-Cl、-Br、-F、-I、取代或未取代的具有2-20个碳原子的烯基、取代或未取代的具有6至30个环原子的芳香基、取代或未取代的具有5至30个环原子的杂芳香基、取代或未取代的具有6至30个环原子的芳氧基、取代或未取代的具有5至30个环原子的杂芳氧基，或这些基团的组合；或R01不存在；
M1、M2、M3、M4分别独立地选自取代或未取代的具有10至40个C原子的芳香基团、或取代或未取代的具有9至40个环原子的杂芳香基团；
A1、A2、A3、A4、A5、A6、N1、N2、N3、N4分别独立地选自取代或未取代的具有6至30个C原子的芳香基团、或取代或未取代的具有5至30个环原子的杂芳香基团；
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8每次出现，分别独立地选自-H、-D、具有1至20个C原子的直链烷基、具有1至20个C原子的直链烷氧基、具有1至20个C原子的直链硫代烷氧基、具有3至20个C原子的支链或环状烷基、具有3至20个C原子的支链或环状烷氧基、具有3至20个C原子的支链或环状硫代烷氧基、甲硅烷基、具有1至20个C原子的酮基、具有2至20个C原子的烷氧基羰基、具有7至20个C原子的芳氧基羰基、氰基、氨基甲酰基、卤甲酰基、甲酰基、异氰基、异氰酸酯基、硫氰酸酯基、异硫氰酸酯基、羟基、硝基、胺基、-CF3、-Cl、-Br、-F、-I、取代或未取代的具有2-20个碳原子的烯基、取代或未取代的具有6至30个环原子的芳香基、取代或未取代的具有5至30个环原子的杂芳香基、取代或未取代的具有6至30个环原子的芳氧基、取代或未取代的具有5至30个环原子的杂芳氧基，或这些基团的组合。
本发明进一步涉及一种混合物，所述混合物包含上述有机化合物，及至少一种有机功能材料，所述的有机功能材料选自空穴注入材料，空穴传输材料，电子传输材料，电子注入材料，电子阻挡材料，空穴阻挡材料，发光体，主体材料和有机染料。
本发明进一步涉及一种组合物，所述组合物包含上述有机化合物或上述混合物，及至少一种有机溶剂。
本发明进一步涉及一种有机电子器件，包含至少一有机功能层，所述有机功能层中包括上述有机化合物，或上述混合物，或所述有机功能层由上述组合物制备而成。
有益效果：
本申请的有机化合物通过至少一个硼杂化合物和螺环戊相连，使整体的分子结构有了更好的共轭性和平面性，从而提高有机化合物分子的刚性和稳定性；且螺环戊的引入可以进一步提高有机化合物分子的溶解性，使得有机化合物更易纯化，从而提高有机化合物的纯度，有机化合物纯度的提高，意味着杂质的减少，避免杂质的存在下空穴和电子不易复合或复合后形成的激子淬灭，进而达到延长器件发光效率和使用寿命的目的。此外，本申请所述的含硼和杂原子的有机化合物可作为蓝光客体材料，通过与主体材料配合，有效地能提高电致发光器件的发光效率及寿命。
附图说明
图1为有机电子器件的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，都属于本申请保护的范围。此外，应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本申请，并不用于限制本申请。在本申请中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上”和“下”通常是指器件实际使用或工作状态下的上和下，具体为附图中的图面方向。另外，在本申请的描述中，术语“包括”是指“包括但不限于”，术语“多个”是指“两个或两个以上。术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。本申请的各种实施例可以以一个范围的形式存在；应当理解，以一范围形式的描述仅仅是因为方便及简洁，不应理解为对本申请范围的硬性限制；因此，应当认为所述的范围描述已经具体公开所有可能的子范围以及该范围内的单一数值。例如，应当认为从1到6的范围描述已经具体公开子范围，例如从1到3，从1到4，从1到5，从2到4，从2到6，从3到6等，以及所述范围内的单一数字，例如1、2、3、4、5及6，此不管范围为何皆适用。另外，每当在本文中指出数值范围，是指包括所指范围内的任何引用的数字(分数或整数)。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本发明。
在本申请中，组合物和印刷油墨，或油墨具有相同的含义，可以互换。
在本申请中，芳香基团，芳香族，芳香环系具有相同的含义，可以互换。
在本申请中，杂芳香基团，杂芳香族，杂芳香环系具有相同的含义，可以互换。
在本发明中，“取代”表示被取代基中的氢原子被取代基所取代。
在本发明中，同一取代基多次出现时，可独立选自不同基团。如通式含有多个R03，则R03可独立选自不同取代基。
在本发明中，“取代或未取代”表示所定义的基团可以被取代，也可以不被取代。当所定义的基团为被取代时，应理解为所定义的基团可以被一个或多个取代基R取代，所述R选自但不限于：氘原子、氰基、异氰基、硝基或卤素，含有1-20个C原子的烷基、含有3-20个环原子的杂环基、含有6-20个环原子的芳香基团、含有5-20个环原子的杂芳香基团、-NR’R”、硅烷基、羰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、卤甲酰基、甲酰基、异氰酸酯基、硫氰酸酯基、异硫氰酸酯基、羟基、三氟甲基，且上述基团也可以进一步被本领域可接受取代基取代；可理解的，-NR’R”中R’和R”分别独立选自但不限于：H、氘原子、氰基、异氰基、硝基或卤素、含有1-10个C原子的烷基、含有3-20个环原子的杂环基、含有6-20个环原子的芳香基团、含有5-20个环原子的杂芳香基团。优选地，R选自但不限于：氘原子、氰基、异氰基、硝基或卤素、含有1-10个C原子烷基、含有3-10个环原子的杂环基、含有6-20个环原子的芳香基团、含有5-20个环原子的杂芳香基团、硅烷基、羰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、卤甲酰基、甲酰基、异氰酸酯基、硫氰酸酯基、异硫氰酸酯基、羟基、三氟甲基，且上述基团也可以进一步被本领域可接受取代基取代。
在本发明中，“环原子数”表示原子键合成环状而得到的结构化合物(例如，单环化合物、稠环化合物、交联化合物、碳环化合物、杂环化合物)的构成该环自身的原子之中的原子数。该环被取代基所取代时，取代基所包含的原子不包括在成环原子内。关于以下所述的“环原子数”，在没有特别说明的条件下也是同样的。例如，苯环的环原子数为6，萘环的环原子数为10，噻吩基的环原子数为5。
“芳基或芳香基团”是指在芳香环化合物的基础上除去一个氢原子衍生的芳族烃基，可以为单环芳基、或稠环芳基、或多环芳基，对于多环的环种，至少一个是芳族环系。例如，“取代或未取代的具有6至40个环原子的芳基”是指包含6至40个环原子的芳基，优选取代或未取代的具有6至30个环原子的芳基，更优选取代或未取代的具有6至18个环原子的芳基，特别优选取代或未取代的具有6至14个环原子的芳基，且芳基上任选进一步被取代；合适的实例包括但不限于：苯基、联苯基、三联苯基、萘基、蒽基、菲基、荧蒽基、三亚苯基、芘基、苝基、并四苯基、芴基、二萘嵌苯基、苊基及其衍生物。可以理解地，多个芳基也可以被短的非芳族单元间断(例如<10％的非H原子，比如C、N或O原子)，具体如苊、芴，或者9,9-二芳基芴、三芳胺、二芳基醚体系也应该包含在芳基的定义中。
“杂芳基或杂芳香基团”是指在芳基的基础上至少一个碳原子被非碳原子所替代，非碳原子可以为N原子、O原子、S原子等。例如，“取代或未取代的具有5至40个环原子的杂芳基”是指具有5至40个环原子的杂芳基，优选取代或未取代的具有6至30个环原子的杂芳基，更优选取代或未取代的具有6至18个环原子的杂芳基，特别优选取代或未取代的具有6至14个环原子的杂芳基，且杂芳基任选进一步被取代，合适的实例包括但不限于：噻吩基、呋喃基、吡咯基、咪唑基、三唑基、咪唑基、二唑基、三唑基、吡啶基、联吡啶基、嘧啶基、三嗪基、三唑基、吖啶基、哒嗪基、吡嗪基、喹啉基、喹唑啉基、喹喔啉基、酞嗪基、吡啶并嘧啶基、吡啶并吡嗪基、吡嗪并吡嗪基、异喹啉基、吲哚基、咔唑基、苯并噻吩基、苯并呋喃基、吲哚基、咔唑基、吡咯并咪唑基、吡咯并吡咯基、噻吩并吡咯基、噻吩并噻吩基、呋喃并吡咯基、呋喃并呋喃基、噻吩并呋喃基、苯并异噁唑基、苯并异噻唑基、苯并咪唑基、喹啉基、异喹啉基、邻二氮萘基、喹喔啉基、菲啶基、伯啶基、喹唑啉基、喹唑啉酮基、二苯并噻吩基、二苯并呋喃基、咔唑基及其衍生物。
在本发明中，“烷基”可以表示直链、支链和/或环状烷基。烷基的碳数可以为1至50、1至30、1至20、1至10或1至6。包含该术语的短语，例如，“C1-9烷基”是指包含1～9个碳原子的烷基，每次出现时，可以互相独立地为C1烷基、C2烷基、C3烷基、C4烷基、C5烷基、C6烷基、C7烷基、C8烷基或C9烷基。烷基的非限制性实例包括甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、异丁基、2-乙基丁基、3，3-二甲基丁基、正戊基、异戊基、新戊基、叔戊基、环戊基、1-甲基戊基、3-甲基戊基、2-乙基戊基、4-甲基-2-戊基、正己基、1-甲基己基、2-乙基己基、2-丁基己基、环己基、4-甲基环己基、4-叔丁基环己基、正庚基、1-甲基庚基、2，2-二甲基庚基、2-乙基庚基、2-丁基庚基、正辛基、叔辛基、2-乙基辛基、2-丁基辛基、2-己基辛基、3，7-二甲基辛基、环辛基、正壬基、正癸基、金刚烷基、2-乙基癸基、2-丁基癸基、2-己基癸基、2-辛基癸基、正十一烷基、正十二烷基、2-乙基十二烷基、2-丁基十二烷基、2-己基十二烷基、2-辛基十二烷基、正十三烷基、正十四烷基、正十五烷基、正十六烷基、2-乙基十六烷基、2-丁基十六烷基、2-己基十六烷基、2-辛基十六烷基、正十七烷基、正十八烷基、正十九烷基、正二十烷基、2-乙基二十烷基、2-丁基二十烷基、2-己基二十烷基、2-辛基二十烷基、正二十一烷基、正二十二烷基、正二十三烷基、正二十四烷基、正二十五烷基、正二十六烷基、正二十七烷基、正二十八烷基、正二十九烷基、正三十烷基、金刚烷等。
在本发明中，取代基缩写对应为：n-正，sec-仲，i-异，t-叔，o-邻，m-间，p-对，Me甲基，Et乙基，Pr丙基，Bu丁基，Am戊基，Hx己基，Cy环己基。
在本发明中，甲硅烷基可以由化学式-Si(Y101)(Y102)(Y103)表示，并且Y101、Y102和Y103各自可以为氢，经取代或未经取代的烷基，取代或未经取代的烯基，或者经取代或未经取代的芳基、或者经取代或未经取代的杂芳基。甲硅烷基的实例包括三烷基甲硅烷基和三芳基甲硅烷基，并且其具体实例包括三甲基甲硅烷基、三乙基甲硅烷基、叔丁基二甲基甲硅烷基、乙烯基二甲基甲硅烷基、丙基二甲基甲硅烷基、三苯基甲硅烷基、二苯基甲硅烷基、苯基甲硅烷基等，但实例不限于此。
本发明中，“胺基”是指胺的衍生物，具有式-N(X)2的结构特征，其中每个“X”独立地是H、取代的或未被取代的烷基、取代的或未被取代的环烷基、取代的或未被取代的杂环基等。胺基的非限制性类型包括-NH2、-N(烷基)2、-NH(烷基)、-N(环烷基)2、-NH(环烷基)、-N(杂环基)2、-NH(杂环基)、-N(芳基)2、-NH(芳基)、-N(烷基)(芳基)、-N(烷基)(杂环基)、-N(环烷基)(杂环基)、-N(芳基)(杂芳基)、-N(烷基)(杂芳基)等。
本发明中，如无特别定义，羟基指-OH，羧基指-COOH，羰基指-C(＝O)-，氨基指-NH2，甲酰基指-C(＝O)H，卤甲酰基指-C(＝O)Z(其中，Z表示卤素)，氨基甲酰基指-C(＝O)NH2，异氰酸酯基指-NCO，异硫氰酸酯基指-NCS。
术语“烷氧基”是指结构为“-O-烷基”的基团，即如上所定义的烷基经由氧原子连接至其它基团。包含该术语的短语，合适的实例包括但不限于：甲氧基(-O-CH3或-OMe)、乙氧基(-O-CH2CH3或-OEt)和叔丁氧基(-O-C(CH3)3或-OtBu)。
本发明中，与单键相连的“*”、表示连接或稠合位点。
本发明中，基团中未指明连接位点时，表示基团中任选可连接位点作为连接位点。
本发明中，基团中未指明稠合位点时，表示基团中任选可稠合位点作为稠合位点，优选基团中处于邻位的两个或多个位点为稠合位点。
本发明中，当同一基团上含有多个相同符号的取代基时，各取代基可以彼此相同或不同，例如苯环上6个R可以彼此相同或不同。
本发明中，取代基相连的单键贯穿相应的环，表述该取代基可与环的任选位置连接，例如中R与苯环的任一可取代位点相连，如表示可与上任选可取代位置形成并环。
在本发明中，“相邻基团”是指两个取代基之间没有可取代的位点。
本发明中，“相邻的两个R相互成环”表示通过两个相邻的R相互连接而形成的一个环系，所述环系可选自脂族烃环，脂族杂环、芳族烃环或芳族杂环。优选地，可形成取代或未取代的环原子数为5-10的芳香基团或杂芳香基团；更优选地，形成取代或未取代的环原子数为6的芳香基团或杂芳香基团。优选地，可形成
本发明中所使用的“其组合”、“其任意组合”、“其任意组合方式”、“组合”等中包括所列基团中任两个或任两个以上项目的所有合适的组合方式。
本发明中，“进一步”、“更进一步”、“特别”等用于描述目的，表示内容上的差异，但并不应理解为对本发明保护范围的限制。
本发明中，“可选地”、“可选的”、“可选”，指可有可无，也即指选自“有”或“无”两种并列方案中的任一种。如果一个技术方案中出现多处“可选”，如无特别说明，且无矛盾之处或相互制约关系，则每项“可选”各自独立。
本发明中，以开放式描述的技术特征中，包括所列举特征组成的封闭式技术方案，也包括包含所列举特征的开放式技术方案。
一种有机化合物，具有如通式(I)～(III)任一所式的结构：
其中：
Y1、Y2分别独立地选自B或不存在，且Y1和Y2不同时不存在；
X1、X2、X3、X4分别独立地选自NR01、CR01R02、SiR01R02、O、S、S(＝O)2、S(＝O)或不存在，且X1、X2、X3、X4不同时不存在；
R01、R02每次出现，分别独立地选自-H、-D、具有1至20个C原子的直链烷基、具有1至20个C原子的直链烷氧基、具有1至20个C原子的直链硫代烷氧基、具有3至20个C原子的支链或环状烷基、具有3至20个C原子的支链或环状烷氧基、具有3至20个C原子的支链或环状硫代烷氧基、甲硅烷基、具有1至20个C原子的酮基、具有2至20个C原子的烷氧基羰基、具有7至20个C原子的芳氧基羰基、氰基、氨基甲酰基、卤甲酰基、甲酰基、异氰基、异氰酸酯基、硫氰酸酯基、异硫氰酸酯基、羟基、硝基、胺基、-CF3、-Cl、-Br、-F、-I、取代或未取代的具有2-20个碳原子的烯基、取代或未取代的具有6至30个环原子的芳香基、取代或未取代的具有5至30个环原子的杂芳香基、取代或未取代的具有6至30个环原子的芳氧基、取代或未取代的具有5至30个环原子的杂芳氧基，或这些基团的组合；或R01不存在；
M1、M2、M3、M4分别独立地选自取代或未取代的具有10至40个C原子的芳香基团、或取代或未取代的具有9至40个环原子的杂芳香基团；
A1、A2、A3、A4、A5、A6、N1、N2、N3、N4分别独立地选自取代或未取代的具有6至30个C原子的芳香基团、或取代或未取代的具有5至30个环原子的杂芳香基团；
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8每次出现，分别独立地选自-H、-D、具有1至20个C原子的直链烷基、具有1至20个C原子的直链烷氧基、具有1至20个C原子的直链硫代烷氧基、具有3至20个C原子的支链或环状烷基、具有3至20个C原子的支链或环状烷氧基、具有3至20个C原子的支链或环状硫代烷氧基、甲硅烷基、具有1至20个C原子的酮基、具有2至20个C原子的烷氧基羰基、具有7至20个C原子的芳氧基羰基、氰基、氨基甲酰基、卤甲酰基、甲酰基、异氰基、异氰酸酯基、硫氰酸酯基、异硫氰酸酯基、羟基、硝基、胺基、-CF3、-Cl、-Br、-F、-I、取代或未取代的具有2-20个碳原子的烯基、取代或未取代的具有6至30个环原子的芳香基、取代或未取代的具有5至30个环原子的杂芳香基、取代或未取代的具有6至30个环原子的芳氧基、取代或未取代的具有5至30个环原子的杂芳氧基，或这些基团的组合。
在一些实施例中，所述式(I)选自式(I-1)～(I-2)中的任一种结构的结构如下：
在一些实施例中，A1、A2、A5、A6分别独立地选自取代或未取代的具有6至20个C原子的芳香基团、或取代或未取代的具有5至20个环原子的杂芳香基团。进一步，A1、A2、A5、A6分别独立地选自取代或未取代的具有6至13个C原子的芳香基团、或取代或未取代的具有5至13个环原子的杂芳香基团。
可选地，所述A1、A2、A5、A6分别独立地选自式(B-1)～(B-6)所示的结构一种或几种的组合：
其中：
X每次出现，分别独立地选自N或CR03；
Y每次出现，独立地选自CR04R05、SiR04R05、NR06、PR06、C＝O、S或O；
R03、R04、R05、R06每次出现，分别独立地选自-H、-D、具有1至20个C原子的直链烷基、具有1至20个C原子的直链烷氧基、具有1至20个C原子的直链硫代烷氧基、具有3至20个C原子的支链或环状烷基、具有3至20个C原子的支链或环状烷氧基、具有3至20个C原子的支链或环状硫代烷氧基、甲硅烷基、具有1至20个C原子的酮基、具有2至20个C原子的烷氧基羰基、具有7至20个C原子的芳氧基羰基、氰基、氨基甲酰基、卤甲酰基、甲酰基、异氰基、异氰酸酯基、硫氰酸酯基、异硫氰酸酯基、羟基、硝基、胺基、-CF3、-Cl、-Br、-F、-I、取代或未取代的具有2-20个碳原子的烯基、取代或未取代的具有6至30个环原子的芳香基、取代或未取代的具有5至30个环原子的杂芳香基、取代或未取代的具有6至30个环原子的芳氧基、取代或未取代的具有5至30个环原子的杂芳氧基，或这些基团的组合。
可选地，所述A1、A2、A5、A6分别独立地选自以下基团中的一种：
在一些实施例中，式(I-1)中，A1、A2分别独立地选自以下基团中的一种：
A5、A6分别独立地选自以下基团中的一种：
在一些实施例中，式(I-2)中，A1、A2、A5、A6分别独立地选自以下基团中的一种：
进一步可选地，所述R03选自-H、-D、具有1至6个C原子的直链烷基、具有3至6个C原子的支链或环状烷基、具有6至10个环原子的芳香基或以下取代基中的一种：
在一些实施例中，A1、A2、A5、A6选自相同的基团。
优选地，X1、X2、X3、X4分别独立地选自NR01、O、或S。
可选地，所述R01、R02每次出现，分别独立地选自-H、-D、具有1至6个C原子的直链烷基、具有3至6个C原子的支链或环状烷基、或被-D、具有1至6个C原子的直链烷基、具有3至6个C原子的支链或环状烷基、具有6至10个环原子的芳香基取代或未被取代的具有6至10个环原子的芳香基，或这些基团的组合。
进一步可选地，所述R01、R02每次出现，分别独立地选自-H、-D、具有1至6个C原子的直链烷基、具有3至6个C原子的支链或环状烷基或以下取代基中的一种：
在一些实施例中，X1、X2、X3、X4选自相同的基团。
优选地，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8每次出现，分别独立地选自-H、-D或具有1至10个C原子的直链烷基。进一步优选地，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8每次出现，分别独立地选自-H、-D或具有1至5个C原子的直链烷基。更进一步优选地，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8每次出现，分别独立地选自-H、-D或具有1至3个C原子的直链烷基。
在一些实施例中，所述式(II)选自式(II-1)～(II-2)中的任一种结构：
其中：
M11、M12、M21、M22、M31、M32、M41、M42分别独立地选自取代或未取代的具有6至13个C原子的芳香基团、或取代或未取代的具有5至13个环原子的杂芳香基团；
Z选自CR01R02、SiR01R02、O、S、S(＝O)2或S(＝O)。
进一步地，所述式(II)选自式(II-a)～(II-d)中的任一种结构：
可选地，所述M11、M12、M21、M22、M31、M32、M41、M42分别独立地选自式(B-1)～(B-6)所示的结构一种或几种的组合：
其中：
X每次出现，分别独立地选自N或CR03；
Y每次出现，独立地选自CR04R05、SiR04R05、NR06、PR06、C＝O、S或O；
R03、R04、R05、R06每次出现，分别独立地选自-H、-D、具有1至20个C原子的直链烷基、具有1至20个C原子的直链烷氧基、具有1至20个C原子的直链硫代烷氧基、具有3至20个C原子的支链或环状烷基、具有3至20个C原子的支链或环状烷氧基、具有3至20个C原子的支链或环状硫代烷氧基、甲硅烷基、具有1至20个C原子的酮基、具有2至20个C原子的烷氧基羰基、具有7至20个C原子的芳氧基羰基、氰基、氨基甲酰基、卤甲酰基、甲酰基、异氰基、异氰酸酯基、硫氰酸酯基、异硫氰酸酯基、羟基、硝基、胺基、-CF3、-Cl、-Br、-F、-I、取代或未取代的具有2-20个碳原子的烯基、取代或未取代的具有6至30个环原子的芳香基、取代或未取代的具有5至30个环原子的杂芳香基、取代或未取代的具有6至30个环原子的芳氧基、取代或未取代的具有5至30个环原子的杂芳氧基，或这些基团的组合。
可选地，所述M11、M12、M21、M22、M31、M32、M41、M42分别独立地选自
在一些实施例中，式(II-a)中，M11、M21、M31、M41分别独立地选自M12、M22、M32、M42分别独立地选自
在一些实施例中，式(II-b)中，M11、M21、M31、M32、M41、M42分别独立地选自M12、M22分别独立地选自
在一些实施例中，式(II-c)中，M11、M21、M31、M41分别独立地选自M12、M22、M32、M42分别独立地选自
在一些实施例中，式(II-d)中，M11、M21、M31、M32、M41、M42分别独立地选自M12、M22分别独立地选自
优选地，式(II)选自以下任一种结构：
进一步可选地，所述R03选自-H、-D、具有1至6个C原子的直链烷基、具有3至6个C原子的支链或环状烷基、具有6至10个环原子的芳香基或以下取代基中的一种：
在一些实施例中，M11、M12、M21、M22、M31、M32、M41、M42选自相同的基团。
优选地，X1、X2、X3、X4分别独立地选自NR01。
可选地，所述R01、R02每次出现，分别独立地选自-H、-D、具有1至6个C原子的直链烷基、具有3至6个C原子的支链或环状烷基、或被-D、具有1至6个C原子的直链烷基、具有3至6个C原子的支链或环状烷基、具有6至10个环原子的芳香基取代或未被取代的具有6至10个环原子的芳香基，或这些基团的组合。
进一步可选地，所述R01、R02每次出现，分别独立地选自-H、-D、具有1至6个C原子的直链烷基、具有3至6个C原子的支链或环状烷基或以下取代基中的一种：
在一些实施例中，X1、X2、X3、X4选自相同的基团。
优选地，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8每次出现，分别独立地选自-H、-D或具有1至10个C原子的直链烷基。进一步优选地，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8每次出现，分别独立地选自-H、-D或具有1至5个C原子的直链烷基。更进一步优选地，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8每次出现，分别独立地选自-H、-D或具有1至3个C原子的直链烷基。
在一些实施例中，所述式(III)选自式(III-1)～(III-2)中的任一种：
在一些实施例中，N1、N2、N3、N4分别独立地选自取代或未取代的具有6至20个C原子的芳香基团、或取代或未取代的具有5至20个环原子的杂芳香基团。进一步，A1、A2、A5、A6分别独立地选自取代或未取代的具有6至13个C原子的芳香基团、或取代或未取代的具有5至13个环原子的杂芳香基团。
可选地，所述N1、N2、N3、N4分别独立地选自式(B-1)～(B-6)所示的结构一种或几种的组合：
其中：
X每次出现，分别独立地选自N或CR03；
Y每次出现，独立地选自CR04R05、SiR04R05、NR06、PR06、C＝O、S或O；
R03、R04、R05、R06每次出现，分别独立地选自-H、-D、具有1至20个C原子的直链烷基、具有1至20个C原子的直链烷氧基、具有1至20个C原子的直链硫代烷氧基、具有3至20个C原子的支链或环状烷基、具有3至20个C原子的支链或环状烷氧基、具有3至20个C原子的支链或环状硫代烷氧基、甲硅烷基、具有1至20个C原子的酮基、具有2至20个C原子的烷氧基羰基、具有7至20个C原子的芳氧基羰基、氰基、氨基甲酰基、卤甲酰基、甲酰基、异氰基、异氰酸酯基、硫氰酸酯基、异硫氰酸酯基、羟基、硝基、胺基、-CF3、-Cl、-Br、-F、-I、取代或未取代的具有2-20个碳原子的烯基、取代或未取代的具有6至30个环原子的芳香基、取代或未取代的具有5至30个环原子的杂芳香基、取代或未取代的具有6至30个环原子的芳氧基、取代或未取代的具有5至30个环原子的杂芳氧基，或这些基团的组合。
可选地，所述N1、N2、N3、N4分别独立地选自以下基团中的一种：
在一些实施例中，式(III-1)、式(III-2)和式(III-3)中，N1、N3分别独立地选自以下基团中的一种：
N2、N4分别独立地选自以下基团中的一种：
在一些实施例中，N1、N2、N3、N4选自相同的基团。
在一些实施例中，N1、N2、N3、N4选自不同的基团。
优选地，式(III)选自以下任一种结构：
R03每次出现，分别独立地选自-H、具有1至6个C原子的直链烷基或具有3至6个C原子的支链烷基。
进一步可选地，R03每次出现，分别独立地选自-H或tBu。
优选地，X1、X2、X3、X4分别独立地选自NR01。
可选地，所述R01、R02每次出现，分别独立地选自-H、-D、具有1至6个C原子的直链烷基、具有3至6个C原子的支链或环状烷基、或被-D、具有1至6个C原子的直链烷基、具有3至6个C原子的支链或环状烷基、具有6至10个环原子的芳香基取代或未被取代的具有6至10个环原子的芳香基，或这些基团的组合。
进一步可选地，所述R01、R02每次出现，分别独立地选自-H、-D、具有1至6个C原子的直链烷基、具有3至6个C原子的支链或环状烷基或以下取代基中的一种：
在一些实施例中，X1、X2、X3、X4选自相同的基团。
优选地，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8每次出现，分别独立地选自-H、-D或具有1至10个C原子的直链烷基。进一步优选地，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8每次出现，分别独立地选自-H、-D或具有1至5个C原子的直链烷基。更进一步优选地，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8每次出现，分别独立地选自-H、-D或具有1至3个C原子的直链烷基。
作为示例，在一些实施例中，本发明所述的有机化合物可以选自但不限于下述结构中的任一种：
可以理解，上述有机化合物的结构式中的H可以进一步被取代。
在一些实施例中，本申请的有机化合物可以作为有机功能材料应用于有机电子器件的功能层中，特别是OLED器件的功能层中。所述有机功能材料可以为但不限于空穴注入材料(HIM)、空穴传输材料(HTM)、电子传输材料(ETM)、电子注入材料(EIM)、电子阻挡材料(EBM)、空穴阻挡材料(HBM)、发光客体材料(Emitter)、发光主体材料(Host Emitter)和有机染料。
在一些实施例中，本申请的所述有机化合物用于发光层中。在至少一实施例中，本申请的所述有机化合物作为发光层客体材料用于发光层中。
在一些实施例中，本申请的所述有机化合物作为蓝光发光材料用于发光层中。
本申请进一步涉及一种组合物，包含有至少一种如上所述的有机化合物和至少另一种有机功能材料。所述另一种有机功能材料选自空穴注入材料、空穴传输材料、电子传输材料、电子注入材料、电子阻挡材料、空穴阻挡材料、发光客体材料(Emitter)、发光主体材料和有机染料。其中，所述发光体选自单重态发光体(荧光发光体)、三重态发光体(磷光发光体)及有机热激发延迟荧光材料(TADF材料)。各种有机功能材料的详细描述详见WO2010135519A1、US20090134784A1和WO 2011110277A1，特此将此3件专利文件中的全部内容并入本文作为参考。
在一实施例中，所述的另一种有机功能材料选自主体材料；进一步地，所述另一种有机功能材料选自蓝光主体材料。
进一步地，所述组合物还包括至少一种有机溶剂。
可以理解，所述组合物也可称为油墨。
用于印刷工艺时，油墨的粘度及表面张力是重要的参数。合适的油墨的表面张力参数适合于特定的基板和特定的印刷方法。在一些实施例中，按照本申请的油墨在工作温度或在25℃下的表面张力的范围为19dyne/cm到50dyne/cm；更好为22dyne/cm到35dyne/cm；最好为25dyne/cm到33dyne/cm。在一些实施例中，按照本申请的油墨在工作温度或25℃下的粘度范围为1cps到100cps；较好为1cps到50cps；更好为1.5cps到20cps；最好为在4.0cps到20cps。如此配制的油墨将有利于喷墨印刷。
所述有机溶剂选自基于芳族或杂芳族的溶剂、基于酯的溶剂、基于芳族酮的溶剂、基于芳族醚的溶剂、脂肪族酮、脂肪族醚、脂环族化合物、烯烃类化合物、硼酸酯类化合物及磷酸酯类化合物中的至少一种。
在至少一实施例中，所述组合物中，所述有机溶剂选自基于芳族或杂芳族的溶剂。
所述基于芳族或杂芳族的溶剂可以选自但不限于对二异丙基苯、戊苯、四氢萘、环己基苯、氯萘、1,4-二甲基萘、3-异丙基联苯、对甲基异丙苯、二戊苯、三戊苯、戊基甲苯、邻二乙苯、间二乙苯、对二乙苯、1,2,3,4-四甲苯、1,2,3,5-四甲苯、1,2,4,5-四甲苯、丁苯、十二烷基苯、二己基苯、二丁基苯、对二异丙基苯、环己基苯、苄基丁基苯、二甲基萘、3-异丙基联苯、对甲基异丙苯、1-甲基萘、1,2,4-三氯苯、4,4-二氟二苯甲烷、1,2-二甲氧基-4-(1-丙烯基)苯、二苯甲烷、2-苯基吡啶、3-苯基吡啶、N-甲基二苯胺、4-异丙基联苯、α,α-二氯二苯甲烷、4-(3-苯基丙基)吡啶、苯甲酸苄酯、1,1-双(3,4-二甲基苯基)乙烷、2-异丙基萘、喹啉、异喹啉、2-呋喃甲酸甲酯及2-呋喃甲酸乙酯中的至少一种。
所述基于酯的溶剂可以选自但不限于辛酸烷酯、癸二酸烷酯、硬脂酸烷酯、苯甲酸烷酯、苯乙酸烷酯、肉桂酸烷酯、草酸烷酯、马来酸烷酯、烷内酯、油酸烷酯等。特别优选辛酸辛酯、癸二酸二乙酯、邻苯二甲酸二烯丙酯及异壬酸异壬酯中的至少一种。
所述基于芳族酮的溶剂可以选自但不限于1-四氢萘酮、2-四氢萘酮、2-(苯基环氧)四氢萘酮、6-(甲氧基)四氢萘酮、苯乙酮、苯丙酮、二苯甲酮、及它们的衍生物。其中，作为示例，所述衍生物可以选自但不限于4-甲基苯乙酮、3-甲基苯乙酮、2-甲基苯乙酮、4-甲基苯丙酮、3-甲基苯丙酮及2-甲基苯丙酮中的至少一种。
所述基于芳族醚的溶剂可以选自但不限于3-苯氧基甲苯、丁氧基苯、对茴香醛二甲基乙缩醛、四氢-2-苯氧基-2H-吡喃、1,2-二甲氧基-4-(1-丙烯基)苯、1,4-苯并二噁烷、1,3-二丙基苯、2,5-二甲氧基甲苯、4-乙基本乙醚、1,3-二丙氧基苯、1,2,4-三甲氧基苯、4-(1-丙烯基)-1,2-二甲氧基苯、1,3-二甲氧基苯、缩水甘油基苯基醚、二苄基醚、4-叔丁基茴香醚、反式-对丙烯基茴香醚、1,2-二甲氧基苯、1-甲氧基萘、二苯醚、2-苯氧基甲醚、2-苯氧基四氢呋喃及乙基-2-萘基醚中的至少一种。
所述基于脂肪族酮的溶剂可以选自但不限于2-壬酮、3-壬酮、5-壬酮、2-癸酮、2,5-己二酮、2,6,8-三甲基-4-壬酮、葑酮、佛尔酮、异佛尔酮、二正戊基酮等；或脂肪族醚，例如，戊醚、己醚、二辛醚、乙二醇二丁醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇丁基甲醚、二乙二醇二丁醚、三乙二醇二甲醚、三乙二醇乙基甲醚、三乙二醇丁基甲醚、三丙二醇二甲醚及四乙二醇二甲醚中的至少一种。
可以理解，所述有机溶剂可以单独使用，也可以作为两种或多种有机溶剂的混合溶剂使用。
在一些实施例中，本申请的组合物包括至少一种如上所述的有机化合物或混合物、及至少一种有机溶剂，还可进一步包括另一种有机溶剂。
所述另一种有机溶剂可以选自但不限于甲醇、乙醇、2-甲氧基乙醇、二氯甲烷、三氯甲烷、氯苯、邻二氯苯、四氢呋喃、苯甲醚、吗啉、甲苯、邻二甲苯、间二甲苯、对二甲苯、1,4二氧杂环己烷、丙酮、甲基乙基酮、1,2二氯乙烷、3-苯氧基甲苯、1,1,1-三氯乙烷、1,1,2,2-四氯乙烷、醋酸乙酯、醋酸丁酯、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、二甲基亚砜(DMSO)、四氢萘、萘烷及茚中的至少一种。
在一些实施例中，适合本申请的有机溶剂是汉森(Hansen)溶解度参数在以下范围内的溶剂：
δd(色散力)在17.0～23.2MPa1/2范围内，尤其是在18.5～21.0MPa1/2范围内；
δp(极性力)在0.2～12.5MPa1/2范围内，尤其是在2.0～6.0MPa1/2范围内；
δh(氢键力)在0.9～14.2MPa1/2范围内，尤其是在2.0～6.0MPa1/2范围内。
在一些实施例中，按照本申请的组合物，所述有机溶剂在选取时需考虑沸点。在至少一些实施例中，所述有机溶剂的沸点≥150℃；优选为≥180℃；较优为≥200℃；更优为≥250℃；最优为≥300℃。这些范围内的沸点对防止喷墨印刷头的喷嘴堵塞是有益的。
可以理解，所述有机溶剂可从溶剂体系中蒸发，以形成包括所述有机化合物的薄膜。
在一些实施例中，所述组合物为溶液。在又一些实施例中，所述组合物为悬浮液。所述溶液或悬浮液可以另外包括添加剂，用于调节粘度、调节成膜性能、提高附着性等。所述添加剂可以选自但不限于表面活性化合物、润滑剂、润湿剂、分散剂、疏水剂及粘接剂中的至少一种。
所述组合物中，所述有机化合物或混合物的含量为0.01～10wt％，较佳为0.1～5wt％，更佳为0.2～5wt％，最佳为0.25～3wt％。
本申请还涉及所述组合物作为涂料或印刷油墨在制备有机电子器件时的用途。在一些实施例中，所述组合物通过打印或涂布的制备方法用于制备有机电子器件。所述打印或涂布的制备方法可以为但不限于喷墨打印、凹版印刷、喷印、活版印刷、丝网印刷、浸涂、旋转涂布、刮刀涂布、辊筒印花、扭转辊印刷、平版印刷、柔版印刷、轮转印刷、喷涂、刷涂、移印、狭缝型挤压式涂布等。首选的是凹版印刷、喷印及喷墨印刷。
本申请还涉及一种如上所述的有机化合物或组合物在有机电子器件中的应用。具体方案如下：
一种有机电子器件，包括至少一有机功能层。所述有机功能层包含至少一种如上所述的有机化合物或混合物，或所述有机功能层由上述的组合物制备而成。
进一步地，所述有机电子器件包括阴极、阳极和至少一有机功能层。所述有机功能层包含至少一种如上所述的有机化合物或所述有机功能层由上述的组合物制备而成。
所述有机功能层可以为但不限于空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、发光层(EML)、电子阻挡层、电子注入层(EIL)、电子传输层(ETL)或空穴阻挡层(HBL)。在至少一实施例中，所述有机功能层为发光层。
所述的有机电子器件可以为但不限于有机发光二极管(OLED)、有机光伏电池(OPV)、有机发光电池(OLEEC)、有机场效应管(OFET)、有机发光场效应管、有机激光器、有机自旋电子器件、有机传感器及有机等离激元发射二极管(Organic Plasmon EmittingDiode)等。特别优选的是OLED、有机发光场效应管等有机电致发光器件。进一步特别优选为OLED。
在一实施例中，所述有机电子器件包括基板及依次层叠在所述基板上的阳极、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和阴极。所述发光层中包含至少一种如上所述的有机化合物或混合物，或所述发光层由如上所述的组合物制备而成。可以理解，所述有机电子器件的结构不限于此。
所述基板可以是透明或不透明。所述基板可以是刚性的或弹性的。所述基板可以是塑料、金属、半导体晶片或玻璃。所述基板最好是具有一个平滑的表面，无表面缺陷的基板是特别理想的选择。在一实施例中，所述基板是柔性的，其材料可以选自但不限于聚合物薄膜或塑料，其玻璃化温度Tg为150℃以上，较好是200℃以上，更好是250℃以上，最好是300℃以上。合适的柔性基板的例子有聚(对苯二甲酸乙二醇酯)(PET)和聚乙二醇(2,6-萘)(PEN)。
所述阳极是注入空穴的电极，且所述阳极可以容易地注入空穴到空穴注入层、或空穴传输层、或发光层中。所述阳极可包含一导电金属、导电金属氧化物、或导电聚合物。在一个的实施例中，阳极的功函数和发光层中的发光体或作为HIL或HTL或电子阻挡层(EBL)的p型半导体材料的HOMO能级或价带能级的差的绝对值小于0.5eV，较好是小于0.3eV，最好是小于0.2eV。阳极材料的例子包含但不限于：Al、Cu、Au、Ag、Mg、Fe、Co、Ni、Mn、Pd、Pt、ITO、铝掺杂氧化锌(AZO)等。其它合适的阳极材料是已知的，本领域普通技术人员可容易地选择使用。阳极材料可以使用任何合适的技术沉积，如一合适的物理气相沉积法，包含射频磁控溅射，真空热蒸发，电子束(e-beam)等。在某些实施例中，阳极是图案结构化的。图案化的ITO导电基板可在市场上买到，并且可以用来制备根据本发明申请的器件。所述阴极是注入电子的电极，且所述阴极可以容易地注入电子到电子注入层、或电子传输层、或发光层中。所述阴极可包含一导电金属或导电金属氧化物。在一个实施例中，阴极的功函数和发光层中发光体或作为电子注入层(EIL)或电子传输层(ETL)或空穴阻挡层(HBL)的n型半导体材料的LUMO能级或导带能级的差的绝对值小于0.5eV，较好是小于0.3eV，最好是小于0.2eV。原则上，所有可用作有机电子器件的阴极的材料都可能作为本发明申请器件的阴极材料。阴极材料的例子包含但不限于：Al、Au、Ag、Ca、Ba、Mg、LiF/Al、MgAg合金、BaF2/Al、Cu、Fe、Co、Ni、Mn、Pd、Pt、ITO等。阴极材料可以使用任何合适的技术沉积，如一合适的物理气相沉积法，包含射频磁控溅射，真空热蒸发，电子束(e-beam)等。
所述空穴注入层是用于促进将空穴从阳极注入至发光层的层，并且空穴注入材料是可以在低电压下接收从正电极注入的空穴的材料，并且优选的是，空穴注入材料的最高占据分子轨道(HOMO)在正电极材料的功函数与周围有机材料层的HOMO之间。空穴注入材料的具体实例包括金属卟啉、低聚噻吩、基于芳基胺的有机材料、基于六腈六氮杂苯并菲的有机材料、基于喹吖啶酮的有机材料、基于苝的有机材料、蒽醌、基于聚苯胺和基于聚噻吩的导电聚合物等，但不限于此。
所述空穴传输层可以用于传输空穴。所述本领域已知用于空穴传输层的空穴传输材料适当地为空穴迁移率＞10-4cm2·v-1·s-1的材料，其可以接收从阳极或空穴注入层传输的空穴并将空穴转移至发光层。其具体实例包括基于芳基胺的有机材料、基于咔唑的有机材料、导电聚合物、具有共轭部分和非共轭部分二者的嵌段共聚物等，但不限于此。
所述电子阻挡层可以设置在空穴传输层与发光层之间。作为电子阻挡层，可以使用基于螺吲哚并吖啶的化合物或本领域已知的材料。
所述电子传输层可以用于传输电子。电子传输材料合适为电子迁移率＞10-5cm2·v-1·s-1的材料，其可以接收从负电极注入的电子并将电子转移至发光层。其具体实例可以包括但不限于：8-羟基喹啉的Al配合物、包含Alq3的配合物、有机自由基化合物、羟基黄酮-金属配合物、8-羟基喹啉锂(LiQ)、和基于苯并咪唑的化合物中的至少一种。
所述电子注入层可以用于注入电子。电子注入材料优选为：具有传输电子的能力，具有注入来自负电极的电子的效应，并具有将电子注入到发光层或发光材料中的优异效应，防止由发光层产生的激子移动至空穴注入层，并且还具有优异的形成薄膜的能力。其具体实例包括芴酮、蒽醌二甲烷、联苯醌、噻喃二氧化物、唑、二唑、三唑、咪唑、苝四羧酸、亚芴基甲烷、蒽酮等及其衍生物，金属配合物化合物，含氮5元环衍生物等，但不限于此。
可以理解，所述有机电子器件还可以包括位于发光层与电子传输层之间的空穴阻挡层，所述空穴阻挡层是阻挡空穴到达负电极的层，通常可以在与空穴注入层的那些相同的条件下形成。其具体实例包括二唑衍生物或三唑衍生物、菲咯啉衍生物、BCP、铝配合物等，但不限于此。
所述有机电子器件的发光波长在300到1000nm之间，较好的是在350到900nm之间，更好的是在400到800nm之间。
在一实施例中，本申请所述的有机电子器件为溶液型有机电子器件，其一个或多个功能层通过印刷方式制备而成；进一步，所述溶液型有机电子器件为溶液型OLED。
本发明还涉及按照本发明的有机电子器件在各种电子设备中的应用，所述电子设备可以为但不限于显示设备、照明设备、光源、传感器等。
本申请还涉及包括所述有机电子器件的电子设备。所述电子设备可以为但不限于显示设备、照明设备、光源及传感器等。
下面通过具体实施例来对本申请进行具体说明，以下实施例仅是本申请的部分实施例，不是对本申请的限定。
具体实施例
1、化合物的合成
实施例1
本实施例的有机化合物1的合成路线如下：
中间体1-2的合成：
将20mmol中间体1-1滴加到10mmol氢氧化钾，10ml丙酮，50ml水和50ml乙醇的混合液中，在室温下搅拌过夜。过滤沉淀得到固体，之后将此固体在100ml冰醋酸/乙酸乙酯(1：4)中的溶液中，加入1gPd/C(5％)，搅拌混合物在4bar的H2压力下的200ml高压釜中。当氢气吸收完成时(约30分钟)，将混合物在氢气压力下再搅拌2小时。过滤催化剂，滤液用200ml饱和NaHCO3溶液和200ml水洗涤。除去溶剂，干燥残余物。将残余物溶解在400毫升乙醚中。2g重铬酸钠二水合物和浓硫酸水溶液(3ml/20ml)。并将混合物在室温搅拌过夜。分离各相，水相每次用100毫升乙醚洗涤，合并的有机相每次用100毫升饱和碳酸氢钠溶液和100毫升水洗涤，并用硫酸钠干燥。然后减压下除去该溶剂并在真空中干燥该产物得到中间体1-2产率为83.1％，MS(ASAP)＝549.3。
中间体1-3的合成：
在一只烧瓶中加入中间体1-2 10rnmol,硅钼酸1.5g(0.5rnmol)和60ml苯。装上分水器，回流冷凝管，加热回流脱水。反应結束后，过滤除去不溶的固体井用氯仿洗涤，合井有机相，蒸发除去溶剤，通快速柱层析色谱法纯化，得中间体1-3，产率为45.7％，MS(ASAP)＝531.4。
中间体1-5的合成：
氮气保护氛围下，在一干燥的三口烧瓶中，分别加入10mmol中间体1-3与40mmol中间体1-4、0.2mmol醋酸钯、0.2mmol三叔丁基膦，1.38克碳酸钾，加入150ml的甲苯使其溶解，加热至110℃至反应液回流，反应12小时，待反应完全，加水萃灭反应，同时用二氯甲烷萃取有机相，合并多次洗涤有机相，用无水硫酸镁干燥，过滤，旋蒸干溶剂得粗口，用快速柱层析色谱法纯化得到中间体1-5产率为86.3％。MS(ASAP)＝888.1。
有机化合物1的合成：
准备一个干燥的100mL的schlenk瓶，搭建好反应装置抽真空，通氮气；反应瓶中保持氮气流通，加入10mmol中间体1-5，20ml甲苯，抽真空通氮气循环三次，升温至120度；向反应瓶中缓慢滴加正三碘化硼20mmol，拧紧瓶盖，反应12h后，用DCM萃取，旋干溶剂之后，利用柱层析(洗脱剂为PE)得黄绿色固体，即有机化合物1，收率57.1％，MS(ASAP)＝896.7。
实施例2
本实施例的有机化合物2的合成路线如下：
中间体2-2的合成：
氮气保护氛围下，在一干燥的三口烧瓶中，分别加入10mmol中间体1-3与40mmol中间体2-1、0.2mmol醋酸钯、0.2mmol三叔丁基膦，1.38克碳酸钾，加入150ml的甲苯使其溶解，加热至110℃至反应液回流，反应12小时，待反应完全，加水萃灭反应，同时用二氯甲烷萃取有机相，合并多次洗涤有机相，用无水硫酸镁干燥，过滤，旋蒸干溶剂得粗口，用快速柱层析色谱法纯化得到中间体2-2产率为80.8％。MS(ASAP)＝1288.7。
有机化合物2的合成：
准备一个干燥的100mL的schlenk瓶，搭建好反应装置抽真空，通氮气；反应瓶中保持氮气流通，加入10mmol中间体2-2，20ml甲苯，抽真空通氮气循环三次，升温至120度；向反应瓶中缓慢滴加正三碘化硼20mmol，拧紧瓶盖，反应12h后，用DCM萃取，旋干溶剂之后，利用柱层析(洗脱剂为PE)得黄绿色固体，即有机化合物2，收率68.4％，MS(ASAP)＝1296.8。
实施例3
本实施例的有机化合物3的合成路线如下：
中间体3-2的合成：
氮气保护氛围下，在一干燥的三口烧瓶中，分别加入10mmol中间体1-3与40mmol中间体3-1、0.2mmol醋酸钯、0.2mmol三叔丁基膦，1.38克碳酸钾，加入150ml的甲苯使其溶解，加热至110℃至反应液回流，反应12小时，待反应完全，加水萃灭反应，同时用二氯甲烷萃取有机相，合并多次洗涤有机相，用无水硫酸镁干燥，过滤，旋蒸干溶剂得粗口，用快速柱层析色谱法纯化得到中间体3-2产率为78.9％。MS(ASAP)＝1320.4。
有机化合物3的合成：
准备一个干燥的100mL的schlenk瓶，搭建好反应装置抽真空，通氮气；反应瓶中保持氮气流通，加入10mmol中间体3-2，20ml甲苯，抽真空通氮气循环三次，升温至120度；向反应瓶中缓慢滴加正三碘化硼20mmol，拧紧瓶盖，反应12h后，用DCM萃取，旋干溶剂之后，利用柱层析(洗脱剂为PE)得黄绿色固体，即有机化合物3，收率63.7％，MS(ASAP)＝1328.5。
实施例4
本实施例的有机化合物4的合成路线如下：
中间体4-2的合成：
氮气保护氛围下，在一干燥的三口烧瓶中，分别加入10mmol中间体1-3与40mmol中间体4-1、0.2mmol Pd-132、0.2mmol SPhos，1.38克碳酸钾，加入150ml的甲苯使其溶解，加热至110℃至反应液回流，反应12小时，待反应完全，加水萃灭反应，同时用二氯甲烷萃取有机相，合并多次洗涤有机相，用无水硫酸镁干燥，过滤，旋蒸干溶剂得粗口，用快速柱层析色谱法纯化得到中间体4-2产率为74.9％。MS(ASAP)＝892.7。
中间体4-4的合成：
无水无氧条件下，在250mL三口烧瓶中加入100mL新处理的THF，10mmol中间体4-2，搅拌成悬浮液后冰浴条件下缓慢加入浓度为2.8M n-BuLi的正己烷溶液15.0mL(42mmol)，保持此温度反应30min后在室温下再反应30min。接着用冰盐浴降温，然后用注射器缓慢加入40mmol中间体4-3，室温下搅拌反应4小时后，把反应液倒入水中用二氯甲烷萃取后用无水硫酸钠干燥。除掉溶剂，拌入硅胶，以石油醚为淋洗液进行柱色谱分离，得到中间体4-4产率为55.7％。MS(ASAP)＝948.6。
有机化合物4的合成：
准备一个干燥的100mL的schlenk瓶，搭建好反应装置抽真空，通氮气；反应瓶中保持氮气流通，加入10mmol中间体4-4，20ml甲苯，抽真空通氮气循环三次，升温至120度；向反应瓶中缓慢滴加正三碘化硼20mmol，拧紧瓶盖，反应12h后，用DCM萃取，旋干溶剂之后，利用柱层析(洗脱剂为PE)得黄绿色固体，即有机化合物4，收率45.8％，MS(ASAP)＝956.7。
实施例5
本实施例的有机化合物5的合成路线如下：
中间体5-2的合成：
氮气保护氛围下，在一干燥的三口烧瓶中，分别加入10mmol中间体1-3与40mmol中间体5-1、0.2mmol Pd-132、0.2mmol SPhos，1.38克碳酸钾，加入150ml的甲苯使其溶解，加热至110℃至反应液回流，反应12小时，待反应完全，加水萃灭反应，同时用二氯甲烷萃取有机相，合并多次洗涤有机相，用无水硫酸镁干燥，过滤，旋蒸干溶剂得粗口，用快速柱层析色谱法纯化得到中间体5-2产率为71.8％。MS(ASAP)＝892.9。
中间体5-3的合成：
无水无氧条件下，在250mL三口烧瓶中加入100mL新处理的THF，10mmol中间体5-2，搅拌成悬浮液后冰浴条件下缓慢加入浓度为2.8M n-BuLi的正己烷溶液15.0mL(42mmol)，保持此温度反应30min后在室温下再反应30min。接着用冰盐浴降温，然后用注射器缓慢加入40mmol中间体4-3，室温下搅拌反应4小时后，把反应液倒入水中用二氯甲烷萃取后用无水硫酸钠干燥。除掉溶剂，拌入硅胶，以石油醚为淋洗液进行柱色谱分离，得到中间体5-3产率为49.7％。MS(ASAP)＝948.7。
有机化合物5的合成：
准备一个干燥的100mL的schlenk瓶，搭建好反应装置抽真空，通氮气；反应瓶中保持氮气流通，加入10mmol中间体5-3，20ml甲苯，抽真空通氮气循环三次，升温至120度；向反应瓶中缓慢滴加正三碘化硼20mmol，拧紧瓶盖，反应12h后，用DCM萃取，旋干溶剂之后，利用柱层析(洗脱剂为PE)得黄绿色固体，即有机化合物5，收率50.7％，MS(ASAP)＝956.1。
实施例6
本实施例的有机化合物6的合成路线如下：
中间体6-2的合成：
氮气保护氛围下，在一干燥的三口烧瓶中，分别加入10mmol中间体1-3与40mmol中间体6-1、0.2mmol醋酸钯、0.2mmol三叔丁基膦，1.38克碳酸钾，加入150ml的甲苯使其溶解，加热至110℃至反应液回流，反应12小时，待反应完全，加水萃灭反应，同时用二氯甲烷萃取有机相，合并多次洗涤有机相，用无水硫酸镁干燥，过滤，旋蒸干溶剂得粗口，用快速柱层析色谱法纯化得到中间体6-2产率为83.7％。MS(ASAP)＝840.6。
中间体6-3的合成：
无水无氧条件下，在250mL三口烧瓶中加入100mL新处理的THF，10mmol中间体6-2，搅拌成悬浮液后冰浴条件下缓慢加入浓度为2.8M n-BuLi的正己烷溶液15.0mL(42mmol)，保持此温度反应30min后在室温下再反应30min。接着用冰盐浴降温，然后用注射器缓慢加入40mmol中间体4-3，室温下搅拌反应4小时后，把反应液倒入水中用二氯甲烷萃取后用无水硫酸钠干燥。除掉溶剂，拌入硅胶，以石油醚为淋洗液进行柱色谱分离，得到中间体6-3产率为60.7％。MS(ASAP)＝896.7。
有机化合物6的合成：
准备一个干燥的500mL的schlenk瓶，搭建好反应装置抽真空，通氮气；反应瓶中保持氮气流通，加入10mmol中间体6-3，20ml甲苯，抽真空通氮气循环三次，升温至150度；向反应瓶中缓慢滴加正三碘化硼40mmol，拧紧瓶盖，反应48h后，用DCM萃取，旋干溶剂之后，利用柱层析(洗脱剂为PE)得黄绿色固体，即有机化合物6，收率57.8％，MS(ASAP)＝912.7。
实施例7
本实施例的有机化合物7的合成路线如下：
中间体7-2的合成：
氮气保护氛围下，在一干燥的三口烧瓶中，分别加入10mmol中间体1-3与40mmol中间体7-1、0.2mmol醋酸钯、0.2mmol三叔丁基膦，1.38克碳酸钾，加入150ml的甲苯使其溶解，加热至110℃至反应液回流，反应12小时，待反应完全，加水萃灭反应，同时用二氯甲烷萃取有机相，合并多次洗涤有机相，用无水硫酸镁干燥，过滤，旋蒸干溶剂得粗口，用快速柱层析色谱法纯化得到中间体7-2产率为82.9％。MS(ASAP)＝840.8。
中间体7-3的合成：
无水无氧条件下，在250mL三口烧瓶中加入100mL新处理的THF，10mmol中间体7-2，搅拌成悬浮液后冰浴条件下缓慢加入浓度为2.8M n-BuLi的正己烷溶液15.0mL(42mmol)，保持此温度反应30min后在室温下再反应30min。接着用冰盐浴降温，然后用注射器缓慢加入40mmol中间体4-3，室温下搅拌反应4小时后，把反应液倒入水中用二氯甲烷萃取后用无水硫酸钠干燥。除掉溶剂，拌入硅胶，以石油醚为淋洗液进行柱色谱分离，得到中间体7-3产率为63.8％。MS(ASAP)＝896.9。
有机化合物7的合成：
准备一个干燥的500mL的schlenk瓶，搭建好反应装置抽真空，通氮气；反应瓶中保持氮气流通，加入10mmol中间体7-3，20ml甲苯，抽真空通氮气循环三次，升温至150度；向反应瓶中缓慢滴加正三碘化硼40mmol，拧紧瓶盖，反应48h后，用DCM萃取，旋干溶剂之后，利用柱层析(洗脱剂为PE)得黄绿色固体，即有机化合物7，收率50.2％，MS(ASAP)＝912.8。
实施例8
本实施例的有机化合物8的合成路线如下：
中间体8-2的合成：
氮气保护氛围下，在一干燥的三口烧瓶中，分别加入10mmol中间体1-3与40mmol中间体8-1、0.2mmol醋酸钯、0.2mmol三叔丁基膦，1.38克碳酸钾，加入150ml的甲苯使其溶解，加热至110℃至反应液回流，反应12小时，待反应完全，加水萃灭反应，同时用二氯甲烷萃取有机相，合并多次洗涤有机相，用无水硫酸镁干燥，过滤，旋蒸干溶剂得粗口，用快速柱层析色谱法纯化得到中间体8-2产率为84.6％。MS(ASAP)＝880.6。
中间体8-3的合成：
无水无氧条件下，在250mL三口烧瓶中加入100mL新处理的THF，10mmol中间体8-2，搅拌成悬浮液后冰浴条件下缓慢加入浓度为2.8M n-BuLi的正己烷溶液15.0mL(42mmol)，保持此温度反应30min后在室温下再反应30min。接着用冰盐浴降温，然后用注射器缓慢加入40mmol中间体4-3，室温下搅拌反应4小时后，把反应液倒入水中用二氯甲烷萃取后用无水硫酸钠干燥。除掉溶剂，拌入硅胶，以石油醚为淋洗液进行柱色谱分离，得到中间体8-3产率为74.8％。MS(ASAP)＝936.7。
有机化合物8的合成：
准备一个干燥的500mL的schlenk瓶，搭建好反应装置抽真空，通氮气；反应瓶中保持氮气流通，加入10mmol中间体8-3，20ml甲苯，抽真空通氮气循环三次，升温至150度；向反应瓶中缓慢滴加正三碘化硼40mmol，拧紧瓶盖，反应48h后，用DCM萃取，旋干溶剂之后，利用柱层析(洗脱剂为PE)得黄绿色固体，即有机化合物8，收率48.4％，MS(ASAP)＝952.8。
实施例9
本实施例的有机化合物9的合成路线如下：
中间体9-2的合成：
氮气保护氛围下，在一干燥的三口烧瓶中，分别加入10mmol中间体1-3与40mmol中间体9-1、0.2mmol醋酸钯、0.2mmol三叔丁基膦，1.38克碳酸钾，加入150ml的甲苯使其溶解，加热至110℃至反应液回流，反应12小时，待反应完全，加水萃灭反应，同时用二氯甲烷萃取有机相，合并多次洗涤有机相，用无水硫酸镁干燥，过滤，旋蒸干溶剂得粗口，用快速柱层析色谱法纯化得到中间体9-2产率为87.5％。MS(ASAP)＝992.7。
中间体9-3的合成：
无水无氧条件下，在250mL三口烧瓶中加入100mL新处理的THF，10mmol中间体9-2，搅拌成悬浮液后冰浴条件下缓慢加入浓度为2.8M n-BuLi的正己烷溶液15.0mL(42mmol)，保持此温度反应30min后在室温下再反应30min。接着用冰盐浴降温，然后用注射器缓慢加入40mmol中间体4-3，室温下搅拌反应4小时后，把反应液倒入水中用二氯甲烷萃取后用无水硫酸钠干燥。除掉溶剂，拌入硅胶，以石油醚为淋洗液进行柱色谱分离，得到中间体9-3产率为80.6％。MS(ASAP)＝1048.8。
有机化合物9的合成：
准备一个干燥的500mL的schlenk瓶，搭建好反应装置抽真空，通氮气；反应瓶中保持氮气流通，加入10mmol中间体9-3，20ml甲苯，抽真空通氮气循环三次，升温至150度；向反应瓶中缓慢滴加正三碘化硼40mmol，拧紧瓶盖，反应48h后，用DCM萃取，旋干溶剂之后，利用柱层析(洗脱剂为PE)得黄绿色固体，即有机化合物9，收率43.4％，MS(ASAP)＝1064.6。
实施例10
本实施例的有机化合物10的合成路线如下：
中间体10-2的合成：
氮气保护氛围下，在一干燥的三口烧瓶中，分别加入10mmol中间体1-3与40mmol中间体10-1、0.2mmol Pd-132、0.2mmol SPhos，1.38克碳酸钾，加入150ml的甲苯使其溶解，加热至110℃至反应液回流，反应12小时，待反应完全，加水萃灭反应，同时用二氯甲烷萃取有机相，合并多次洗涤有机相，用无水硫酸镁干燥，过滤，旋蒸干溶剂得粗口，用快速柱层析色谱法纯化得到中间体10-2产率为70.4％。MS(ASAP)＝956.4。
中间体10-3的合成：
无水无氧条件下，在250mL三口烧瓶中加入100mL新处理的THF，10mmol中间体10-2，搅拌成悬浮液后冰浴条件下缓慢加入浓度为2.8M n-BuLi的正己烷溶液15.0mL(42mmol)，保持此温度反应30min后在室温下再反应30min。接着用冰盐浴降温，然后用注射器缓慢加入40mmol中间体4-3，室温下搅拌反应4小时后，把反应液倒入水中用二氯甲烷萃取后用无水硫酸钠干燥。除掉溶剂，拌入硅胶，以石油醚为淋洗液进行柱色谱分离，得到中间体10-3产率为51.3％。MS(ASAP)＝1012.5。
有机化合物10的合成：
准备一个干燥的500mL的schlenk瓶，搭建好反应装置抽真空，通氮气；反应瓶中保持氮气流通，加入10mmol中间体10-3，20ml甲苯，抽真空通氮气循环三次，升温至150度；向反应瓶中缓慢滴加正三碘化硼40mmol，拧紧瓶盖，反应48h后，用DCM萃取，旋干溶剂之后，利用柱层析(洗脱剂为PE)得黄绿色固体，即有机化合物10，收率47.8％，MS(ASAP)＝1028.6。
实施例11
本实施例的有机化合物11的合成路线如下：
中间体11-3的合成：
将10mmol中间体11-1和10mmol中间体11-2滴加到10mmol氢氧化钾，10ml丙酮，50ml水和50ml乙醇的混合液中，在室温下搅拌过夜。过滤沉淀得到固体，之后将此固体在100ml冰醋酸/乙酸乙酯(1：4)中的溶液中，加入1g Pd/C(5％)，搅拌混合物在4bar的H2压力下的200ml高压釜中。当氢气吸收完成时(约30分钟)，将混合物在氢气压力下再搅拌2小时。过滤催化剂，滤液用200ml饱和NaHCO3溶液和200ml水洗涤。除去溶剂，干燥残余物。将残余物溶解在400毫升乙醚中。2g重铬酸钠二水合物和浓硫酸水溶液(3ml/20ml)。并将混合物在室温搅拌过夜。分离各相，水相每次用100毫升乙醚洗涤，合并的有机相每次用100毫升饱和碳酸氢钠溶液和100毫升水洗涤，并用硫酸钠干燥。然后减压下除去该溶剂并在真空中干燥该产物得到中间体11-3产率为64.1％，MS(ASAP)＝393.6。
中间体11-4的合成：
在一只烧瓶中加入中间体11-3 10rnmol,硅钼酸1.5g(0.5rnmol)和60ml苯。装上分水器，回流冷凝管，加热回流脱水。反应結束后，过滤除去不溶的固体井用氯仿洗涤，合井有机相，蒸发除去溶剤，通快速柱层析色谱法纯化，得中间体11-4，产率为35.6％，MS(ASAP)＝375.3。
中间体11-6的合成：
氮气保护氛围下，在一干燥的三口烧瓶中，分别加入10mmol中间体11-4与20mmol中间体11-5、0.2mmol醋酸钯、0.2mmol三叔丁基膦，1.38克碳酸钾，加入150ml的甲苯使其溶解，加热至110℃至反应液回流，反应12小时，待反应完全，加水萃灭反应，同时用二氯甲烷萃取有机相，合并多次洗涤有机相，用无水硫酸镁干燥，过滤，旋蒸干溶剂得粗口，用快速柱层析色谱法纯化得到中间体11-6产率为74.1％。MS(ASAP)＝402.7。
中间体11-8的合成：
氮气保护氛围下，在一干燥的三口烧瓶中，分别加入10mmol中间体11-6与20mmol中间体11-7、0.2mmol醋酸钯、0.2mmol三叔丁基膦，1.38克碳酸钾，加入150ml的甲苯使其溶解，加热至60℃反应12小时，待反应完全，加水萃灭反应，同时用二氯甲烷萃取有机相，合并多次洗涤有机相，用无水硫酸镁干燥，过滤，旋蒸干溶剂得粗口，用快速柱层析色谱法纯化得到中间体11-8产率为60.8％。MS(ASAP)＝710.5。
中间体11-9的合成：
氮气保护氛围下，在一干燥的三口烧瓶中，分别加入10mmol中间体11-8与20mmol中间体1-4、0.2mmol醋酸钯、0.2mmol三叔丁基膦，1.38克碳酸钾，加入150ml的甲苯使其溶解，加热至110℃至反应液回流，反应12小时，待反应完全，加水萃灭反应，同时用二氯甲烷萃取有机相，合并多次洗涤有机相，用无水硫酸镁干燥，过滤，旋蒸干溶剂得粗口，用快速柱层析色谱法纯化得到中间体11-9产率为73.3％。MS(ASAP)＝888.6.
有机化合物11的合成：
准备一个干燥的100mL的schlenk瓶，搭建好反应装置抽真空，通氮气；反应瓶中保持氮气流通，加入10mmol中间体11-9，20ml甲苯，抽真空通氮气循环三次，升温至120度；向反应瓶中缓慢滴加正三碘化硼20mmol，拧紧瓶盖，反应12h后，用DCM萃取，旋干溶剂之后，利用柱层析(洗脱剂为PE)得黄绿色固体，即有机化合物11，收率29.4％，MS(ASAP)＝904.6。
实施例12
本实施例的有机化合物12的合成路线如下：
中间体12-1的合成：
将20mmol中间体11-2滴加到10mmol氢氧化钾，10ml丙酮，50ml水和50ml乙醇的混合液中，在室温下搅拌过夜。过滤沉淀得到固体，之后将此固体在100ml冰醋酸/乙酸乙酯(1：4)中的溶液中，加入1gPd/C(5％)，搅拌混合物在4bar的H2压力下的200ml高压釜中。当氢气吸收完成时(约30分钟)，将混合物在氢气压力下再搅拌2小时。过滤催化剂，滤液用200ml饱和NaHCO3溶液和200ml水洗涤。除去溶剂，干燥残余物。将残余物溶解在400毫升乙醚中。2g重铬酸钠二水合物和浓硫酸水溶液(3ml/20ml)。并将混合物在室温搅拌过夜。分离各相，水相每次用100毫升乙醚洗涤，合并的有机相每次用100毫升饱和碳酸氢钠溶液和100毫升水洗涤，并用硫酸钠干燥。然后减压下除去该溶剂并在真空中干燥该产物得到中间体12-1产率为59.5％，MS(ASAP)＝393.2。
中间体12-2的合成：
在一只烧瓶中加入中间体12-1 10rnmol,硅钼酸1.5g(0.5rnmol)和60ml苯。装上分水器，回流冷凝管，加热回流脱水。反应結束后，过滤除去不溶的固体井用氯仿洗涤，合井有机相，蒸发除去溶剤，通快速柱层析色谱法纯化，得中间体12-2，产率为44.2％，MS(ASAP)＝375.4。
中间体12-4的合成：
氮气保护氛围下，在一干燥的三口烧瓶中，分别加入10mmol中间体12-2与20mmol中间体12-3、0.2mmol醋酸钯、0.2mmol三叔丁基膦，1.38克碳酸钾，加入150ml的甲苯使其溶解，加热至110℃至反应液回流，反应12小时，待反应完全，加水萃灭反应，同时用二氯甲烷萃取有机相，合并多次洗涤有机相，用无水硫酸镁干燥，过滤，旋蒸干溶剂得粗口，用快速柱层析色谱法纯化得到中间体12-4产率为81.5％。MS(ASAP)＝430.7。
中间体12-5的合成：
氮气保护氛围下，在一干燥的三口烧瓶中，分别加入10mmol中间体12-4与20mmol中间体11-7、0.2mmol醋酸钯、0.2mmol三叔丁基膦，1.38克碳酸钾，加入150ml的甲苯使其溶解，加热至60℃反应12小时，待反应完全，加水萃灭反应，同时用二氯甲烷萃取有机相，合并多次洗涤有机相，用无水硫酸镁干燥，过滤，旋蒸干溶剂得粗口，用快速柱层析色谱法纯化得到中间体12-5产率为67.9％。MS(ASAP)＝738.6。
中间体12-7的合成：
氮气保护氛围下，在一干燥的三口烧瓶中，分别加入10mmol中间体12-5与20mmol中间体12-6、0.2mmol醋酸钯、0.2mmol三叔丁基膦，1.38克碳酸钾，加入150ml的甲苯使其溶解，加热至110℃至反应液回流，反应12小时，待反应完全，加水萃灭反应，同时用二氯甲烷萃取有机相，合并多次洗涤有机相，用无水硫酸镁干燥，过滤，旋蒸干溶剂得粗口，用快速柱层析色谱法纯化得到中间体12-7产率为75.7％。MS(ASAP)＝944.6.
有机化合物12的合成：
准备一个干燥的100mL的schlenk瓶，搭建好反应装置抽真空，通氮气；反应瓶中保持氮气流通，加入10mmol中间体12-7，20ml甲苯，抽真空通氮气循环三次，升温至120度；向反应瓶中缓慢滴加正三碘化硼20mmol，拧紧瓶盖，反应12h后，用DCM萃取，旋干溶剂之后，利用柱层析(洗脱剂为PE)得黄绿色固体，即有机化合物12，收率33.8％，MS(ASAP)＝960.7。
实施例13
本实施例的有机化合物13的合成路线如下：
中间体13-2的合成：
将10mmol中间体11-2,10mmol中间体13-1,滴加到10mmol氢氧化钾，10ml丙酮，50ml水和50ml乙醇的混合液中，在室温下搅拌过夜。过滤沉淀得到固体，之后将此固体在100ml冰醋酸/乙酸乙酯(1：4)中的溶液中，加入1g Pd/C(5％)，搅拌混合物在4bar的H2压力下的200ml高压釜中。当氢气吸收完成时(约30分钟)，将混合物在氢气压力下再搅拌2小时。过滤催化剂，滤液用200ml饱和NaHCO3溶液和200ml水洗涤。除去溶剂，干燥残余物。将残余物溶解在400毫升乙醚中。2g重铬酸钠二水合物和浓硫酸水溶液(3ml/20ml)。并将混合物在室温搅拌过夜。分离各相，水相每次用100毫升乙醚洗涤，合并的有机相每次用100毫升饱和碳酸氢钠溶液和100毫升水洗涤，并用硫酸钠干燥。然后减压下除去该溶剂并在真空中干燥该产物得到中间体13-2产率为57.3％，MS(ASAP)＝316.3。
中间体13-3的合成：
在一只烧瓶中加入中间体13-2 10rnmol,硅钼酸1.5g(0.5rnmol)和60ml苯。装上分水器，回流冷凝管，加热回流脱水。反应結束后，过滤除去不溶的固体井用氯仿洗涤，合井有机相，蒸发除去溶剤，通快速柱层析色谱法纯化，得中间体13-3，产率为41.5％，MS(ASAP)＝298.4。
中间体13-5的合成：
氮气保护氛围下，在一干燥的三口烧瓶中，分别加入10mmol中间体13-3与10mmol中间体13-4、0.2mmol醋酸钯、0.2mmol三叔丁基膦，1.38克碳酸钾，加入150ml的甲苯使其溶解，加热至110℃至反应液回流，反应12小时，待反应完全，加水萃灭反应，同时用二氯甲烷萃取有机相，合并多次洗涤有机相，用无水硫酸镁干燥，过滤，旋蒸干溶剂得粗口，用快速柱层析色谱法纯化得到中间体13-5产率为82.6％。MS(ASAP)＝367.5。
中间体13-7的合成：
氮气保护氛围下，在一干燥的三口烧瓶中，分别加入10mmol中间体13-5与10mmol中间体13-6、0.2mmol醋酸钯、0.2mmol三叔丁基膦，1.38克碳酸钾，加入150ml的甲苯使其溶解，加热至60℃反应12小时，待反应完全，加水萃灭反应，同时用二氯甲烷萃取有机相，合并多次洗涤有机相，用无水硫酸镁干燥，过滤，旋蒸干溶剂得粗口，用快速柱层析色谱法纯化得到中间体13-7产率为61.3％。MS(ASAP)＝511.0。
中间体13-9的合成：
氮气保护氛围下，在一干燥的三口烧瓶中，分别加入10mmol中间体13-7与10mmol中间体13-8、0.2mmol醋酸钯、0.2mmol三叔丁基膦，1.38克碳酸钾，加入150ml的甲苯使其溶解，加热至110℃至反应液回流，反应12小时，待反应完全，加水萃灭反应，同时用二氯甲烷萃取有机相，合并多次洗涤有机相，用无水硫酸镁干燥，过滤，旋蒸干溶剂得粗口，用快速柱层析色谱法纯化得到中间体13-9产率为66.4％。MS(ASAP)＝756.7.
中间体13-10的合成：
无水无氧条件下，在250mL三口烧瓶中加入100mL新处理的THF，10mmol中间体13-9，搅拌成悬浮液后冰浴条件下缓慢加入浓度为2.8M n-BuLi的正己烷溶液15.0mL(42mmol)，保持此温度反应30min后在室温下再反应30min。接着用冰盐浴降温，然后用注射器缓慢加入40mmol中间体4-3，室温下搅拌反应4小时后，把反应液倒入水中用二氯甲烷萃取后用无水硫酸钠干燥。除掉溶剂，拌入硅胶，以石油醚为淋洗液进行柱色谱分离，得到中间体13-10产率为41.7％。MS(ASAP)＝812.1。
有机化合物13的合成：
250ml的三口烧瓶中加入10mmol中间体13-10以及100ml干燥的叔丁基苯，在N2气氛中，冷却至-30℃，逐滴加入(21mmol)t-BuLi(叔丁基锂)正已烷溶液。升高温度至60℃反应2小时，减压蒸除其中的正已烷溶剂。将反应液再次冷却至-30℃，加入21mmol三溴化硼溶液，升至室温下搅拌0.5小时，然后将反应液冷却至0℃，加入42mmol N,N-二异丙基乙基胺，待滴加完毕，升温至室温搅拌，再继续升温至120℃搅拌3小时，将反应液冷却至室温。加入碳酸钠水溶液与乙酸乙酯淬灭反应。水相用乙酸乙酯萃取并合并有机相，旋蒸掉其中的溶剂，得到粗品，用快速硅胶柱纯化得到纯品。用甲苯与乙酸乙酯重结晶，得产品淡黄色固体粉末，即有机化合物13，收率为33.8％，MS(ASAP)＝786.7。
对比例
本对比例的有机化合物为BD-Ref1，其化学结构式如下：
2、有机发光二极管元器件及其制备
在本实施例的OLED器件中，ITO作为阳极，PEDOT(聚乙撑二氧噻吩，CleviosTMAI4083)作为空穴注入层材料，PVK(Sigma Aldrich,平均Mn 25,000-50,000)作为空穴传输材料，BH作为发光材料的主体材料，实施例1-17有机化合物及对比例中的BD-Ref1作为发光材料的客体材料，ET和Liq(8-羟基喹啉锂)作为电子传输材料，Al作为阴极，构成器件结构为ITO/PEDOT/PVK/BH:有机化合物/ET:Liq/Al。
OLED器件的示意图如图1所示。其中，10是基板，20是阳极，30是空穴注入层，40是空穴传输层，50是发光层，60是电子传输层，70是阴极。
所述BH、ET、Liq的化学结构式如下：
上述BH、ET、Liq、BD-Ref1均是可商业购得，或其合成方法均为现有技术。
下面通过具体实施例来详细说明采用上述材料的OLED器件的制备过程。
器件实施例1
本实施例的制备OLED器件的方法包括如下步骤：
a、ITO(铟锡氧化物)阳极层的清洗：使用氯仿、丙酮和/或异丙醇清洗ITO导电玻璃，然后进行紫外臭氧处理；
b、形成空穴注入层：在ITO阳极层上旋涂空穴注入层材料PEDOT(聚乙撑二氧噻吩，CleviosTM AI4083)，并在180℃的热板上处理10分钟，空穴注入层的厚度为40nm；
c、形成空穴传输层：在空穴注入层上旋涂浓度为5mg/ml的PVK(Sigma Aldrich,平均Mn 25,000-50,000)的甲苯溶液，随后在180℃的热板上处理60分钟，空穴传输层的厚度为20nm；
d、形成发光层：于氮气手套箱中，在空穴传输层上旋涂发光层材料，随后在140℃的热板上处理10分钟，所述发光层材料的主体材料为BH，客体材料为本申请实施例1的有机化合物1，溶剂为苯甲酸甲酯溶液，主体材料与客体材料的质量比为95:5，发光层材料的浓度为15mg/ml，发光层的厚度为40nm。
e、形成电子传输层：与真空腔中，在发光层之上，将ET和Liq置于不同的蒸发单元，在高真空(1×10-6毫巴)中使ET和Liq以重量比50:50进行共沉积，形成厚度为20nm的电子传输层；
f、形成阴极层：在电子传输层之上，沉积Al，得到厚度为100nm的Al阴极；
g、封装：器件在氮气手套箱中用紫外线固化树脂封装。
器件实施例2-13
与器件实施例1基本相同，区别在于，器件实施例2-13的发光层的客体材料分别选自实施例2-13的有机化合物。
器件对比例
与器件实施例1基本相同，区别在于，器件对比例的发光层的客体材料为有机化合物BD-Ref1。
性能检测及结果
采用表征设备测试器件实施例1-13和对比例的OLED器件的电流电压(J-V)特性，同时记录重要的参数如CIE色坐标(x,y)、电压@1knits[V]、发光效率及寿命LT95@1000nits。其中，发光效率是电流密度为10mA/cm2时所得的相对值；寿命LT95@1000nits是指在恒定电流下，器件的亮度由1000nits的初始亮度下降到初始亮度的95％的时间。检测结果参见表1。
表1
由表1可知：
本发明实施例1-13的蓝光OLED器件相对于OLED-Ref1具有更优异的发光效率和寿命。其中，相较于对比例的有机化合物BD-Ref1作为发光层中的客体材料所制备的蓝光器件，采用实施例1-13的有机化合物1～13作为发光层中的客体材料所制备的蓝光器件的效率普遍提升5-32％。
本发明的有机化合物通过螺环戊的引入，可以提高有机化合物分子的溶解性，采用实施例1-13的有机化合物相比于对比例的有机化合物BD-Ref1，溶解性普遍提高6～55％，一方面使得本申请有机化合物更易纯化，从而提高有机化合物的纯度，进而达到提高器件发光效率和延长使用寿命的目的；另一方面更容易制备溶液加工器件，提高薄膜的成膜均匀性。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (18)
1.一种有机化合物，其特征在于，具有如通式(I)～(III)任一所式的结构：
其中：
Y1、Y2分别独立地选自B或不存在，且Y1和Y2不同时不存在；
X1、X2、X3、X4分别独立地选自NR01、CR01R02、SiR01R02、O、S、S(＝O)2、S(＝O)或不存在，且X1、X2、X3、X4不同时不存在；
R01、R02每次出现，分别独立地选自-H、-D、具有1至20个C原子的直链烷基、具有1至20个C原子的直链烷氧基、具有1至20个C原子的直链硫代烷氧基、具有3至20个C原子的支链或环状烷基、具有3至20个C原子的支链或环状烷氧基、具有3至20个C原子的支链或环状硫代烷氧基、甲硅烷基、具有1至20个C原子的酮基、具有2至20个C原子的烷氧基羰基、具有7至20个C原子的芳氧基羰基、氰基、氨基甲酰基、卤甲酰基、甲酰基、异氰基、异氰酸酯基、硫氰酸酯基、异硫氰酸酯基、羟基、硝基、胺基、-CF3、-Cl、-Br、-F、-I、取代或未取代的具有2-20个碳原子的烯基、取代或未取代的具有6至30个环原子的芳香基、取代或未取代的具有5至30个环原子的杂芳香基、取代或未取代的具有6至30个环原子的芳氧基、取代或未取代的具有5至30个环原子的杂芳氧基，或这些基团的组合；或R01不存在；
M1、M2、M3、M4分别独立地选自取代或未取代的具有10至40个C原子的芳香基团、或取代或未取代的具有9至40个环原子的杂芳香基团；
A1、A2、A3、A4、A5、A6、N1、N2、N3、N4分别独立地选自取代或未取代的具有6至30个C原子的芳香基团、或取代或未取代的具有5至30个环原子的杂芳香基团；
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8每次出现，分别独立地选自-H、-D、具有1至20个C原子的直链烷基、具有1至20个C原子的直链烷氧基、具有1至20个C原子的直链硫代烷氧基、具有3至20个C原子的支链或环状烷基、具有3至20个C原子的支链或环状烷氧基、具有3至20个C原子的支链或环状硫代烷氧基、甲硅烷基、具有1至20个C原子的酮基、具有2至20个C原子的烷氧基羰基、具有7至20个C原子的芳氧基羰基、氰基、氨基甲酰基、卤甲酰基、甲酰基、异氰基、异氰酸酯基、硫氰酸酯基、异硫氰酸酯基、羟基、硝基、胺基、-CF3、-Cl、-Br、-F、-I、取代或未取代的具有2-20个碳原子的烯基、取代或未取代的具有6至30个环原子的芳香基、取代或未取代的具有5至30个环原子的杂芳香基、取代或未取代的具有6至30个环原子的芳氧基、取代或未取代的具有5至30个环原子的杂芳氧基，或这些基团的组合。
2.根据权利要求1所述的有机化合物，其特征在于，所述R01、R02每次出现，分别独立地选自-H、-D、具有1至6个C原子的直链烷基、具有3至6个C原子的支链或环状烷基、或被-D、具有1至6个C原子的直链烷基、具有3至6个C原子的支链或环状烷基、具有6至10个环原子的芳香基取代或未被取代的具有6至10个环原子的芳香基，或这些基团的组合。
3.根据权利要求2所述的有机化合物，其特征在于，所述R01、R02每次出现，分别独立地选自-H、-D、具有1至6个C原子的直链烷基、具有3至6个C原子的支链或环状烷基或以下取代基中的一种：
4.根据权利要求1～3所述的有机化合物，其特征在于，所述式(I)选自式(I-1)～(I-2)中的任一种结构的结构如下：
5.根据权利要求4所述的有机化合物，其特征在于，所述A1、A2、A5、A6分别独立地选自式(B-1)～(B-6)所示的结构一种或几种的组合：
其中：
X每次出现，分别独立地选自N或CR03；
Y每次出现，独立地选自CR04R05、SiR04R05、NR06、PR06、C＝O、S或O；
R03、R04、R05、R06每次出现，分别独立地选自-H、-D、具有1至20个C原子的直链烷基、具有1至20个C原子的直链烷氧基、具有1至20个C原子的直链硫代烷氧基、具有3至20个C原子的支链或环状烷基、具有3至20个C原子的支链或环状烷氧基、具有3至20个C原子的支链或环状硫代烷氧基、甲硅烷基、具有1至20个C原子的酮基、具有2至20个C原子的烷氧基羰基、具有7至20个C原子的芳氧基羰基、氰基、氨基甲酰基、卤甲酰基、甲酰基、异氰基、异氰酸酯基、硫氰酸酯基、异硫氰酸酯基、羟基、硝基、胺基、-CF3、-Cl、-Br、-F、-I、取代或未取代的具有2-20个碳原子的烯基、取代或未取代的具有6至30个环原子的芳香基、取代或未取代的具有5至30个环原子的杂芳香基、取代或未取代的具有6至30个环原子的芳氧基、取代或未取代的具有5至30个环原子的杂芳氧基，或这些基团的组合。
6.根据权利要求4所述的有机化合物，其特征在于，所述A1、A2、A5、A6分别独立地选自以下基团中的一种：
7.根据权利要求6所述的有机化合物，其特征在于，所述R03选自-H、-D、具有1至6个C原子的直链烷基、具有3至6个C原子的支链或环状烷基、具有6至10个环原子的芳香基或以下取代基中的一种：
8.根据权利要求1～3任一项所述的有机化合物，其特征在于，所述式(II)选自式(II-1)～(II-2)中的任一种结构：
其中：
M11、M12、M21、M22、M31、M32、M41、M42分别独立地选自取代或未取代的具有6至13个C原子的芳香基团、或取代或未取代的具有5至13个环原子的杂芳香基团；
Z选自CR01R02、SiR01R02、O、S、S(＝O)2或S(＝O)。
9.根据权利要求8所述的有机化合物，其特征在于，所述式(II)选自式(II-a)～(II-d)中的任一种结构：
10.根据权利要求9所述的有机化合物，其特征在于，所述M11、M12、M21、M22、M31、M32、M41、M42分别独立地选自式(B-1)～(B-6)所示的结构一种或几种的组合：
其中：
X每次出现，分别独立地选自N或CR03；
Y每次出现，独立地选自CR04R05、SiR04R05、NR06、PR06、C＝O、S或O；
R03、R04、R05、R06每次出现，分别独立地选自-H、-D、具有1至20个C原子的直链烷基、具有1至20个C原子的直链烷氧基、具有1至20个C原子的直链硫代烷氧基、具有3至20个C原子的支链或环状烷基、具有3至20个C原子的支链或环状烷氧基、具有3至20个C原子的支链或环状硫代烷氧基、甲硅烷基、具有1至20个C原子的酮基、具有2至20个C原子的烷氧基羰基、具有7至20个C原子的芳氧基羰基、氰基、氨基甲酰基、卤甲酰基、甲酰基、异氰基、异氰酸酯基、硫氰酸酯基、异硫氰酸酯基、羟基、硝基、胺基、-CF3、-Cl、-Br、-F、-I、取代或未取代的具有2-20个碳原子的烯基、取代或未取代的具有6至30个环原子的芳香基、取代或未取代的具有5至30个环原子的杂芳香基、取代或未取代的具有6至30个环原子的芳氧基、取代或未取代的具有5至30个环原子的杂芳氧基，或这些基团的组合。
11.根据权利要求9所述的有机化合物，其特征在于，所述M11、M12、M21、M22、M31、M32、M41、M42分别独立地选自
12.根据权利要求11所述的有机化合物，其特征在于，所述R03选自-H、-D、具有1至6个C原子的直链烷基、具有3至6个C原子的支链或环状烷基、具有6至10个环原子的芳香基或以下取代基中的一种：
13.根据权利要求1～3任一项所述的有机化合物，其特征在于，所述式(III)选自式(III-1)～(III-3)中的任一种：
14.根据权利要求13所述的有机化合物，其特征在于，所述N1、N2、N3、N4分别独立地选自式(B-1)～(B-6)所示的结构一种或几种的组合：
其中：
X每次出现，分别独立地选自N或CR03；
Y每次出现，独立地选自CR04R05、SiR04R05、NR06、PR06、C＝O、S或O；
R03、R04、R05、R06每次出现，分别独立地选自-H、-D、具有1至20个C原子的直链烷基、具有1至20个C原子的直链烷氧基、具有1至20个C原子的直链硫代烷氧基、具有3至20个C原子的支链或环状烷基、具有3至20个C原子的支链或环状烷氧基、具有3至20个C原子的支链或环状硫代烷氧基、甲硅烷基、具有1至20个C原子的酮基、具有2至20个C原子的烷氧基羰基、具有7至20个C原子的芳氧基羰基、氰基、氨基甲酰基、卤甲酰基、甲酰基、异氰基、异氰酸酯基、硫氰酸酯基、异硫氰酸酯基、羟基、硝基、胺基、-CF3、-Cl、-Br、-F、-I、取代或未取代的具有2-20个碳原子的烯基、取代或未取代的具有6至30个环原子的芳香基、取代或未取代的具有5至30个环原子的杂芳香基、取代或未取代的具有6至30个环原子的芳氧基、取代或未取代的具有5至30个环原子的杂芳氧基，或这些基团的组合。
15.根据权利要求13所述的有机化合物，其特征在于，所述N1、N2、N3、N4分别独立地选自以下基团中的一种：
16.一种组合物，其特征在于，包括有权利要求1-15任一项所述的有机化合物，及至少一种有机功能材料，所述的有机功能材料选自空穴注入材料，空穴传输材料，电子传输材料，电子注入材料，电子阻挡材料，空穴阻挡材料，发光体，主体材料和有机染料。
17.根据权利要求16所述的组合物，其特征在于，还包含至少一种有机溶剂。
18.一种有机电子器件，其特征在于，包含至少一有机功能层，所述有机功能层中包括权利要求1-15任一项所述的有机化合物，或权利要求16所述的混合物，或所述有机功能层由权利要求17所述的组合物制备而成。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| CN202210926437.2A Pending CN117024457A (zh) | 2022-08-03 | 2022-08-03 | 有机化合物、组合物及有机电子器件 |
Country Status (1)
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| CN (1) | CN117024457A (zh) |
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