CN117015834A - 透明导电性膜 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种透明导电性膜，其具备包含金属纤维的导电层、且不易产生由接触引起的导电性不良。本发明的透明导电性膜具备：基材；和透明导电层，其配置于基材的至少一侧，该透明导电层包含聚合物基质和存在于该聚合物基质中的金属纤维，该透明导电层的相对于该透明导电层的动摩擦系数为2.0以下。

Description

透明导电性膜
技术领域
本发明涉及一种透明导电性膜。
背景技术
以往，作为触控传感器的电极等中使用的透明导电性膜，经常使用在树脂膜上形成有铟-锡复合氧化物层(ITO层)等金属氧化物层的透明导电性膜。但是，就形成有金属氧化物层的透明导电性膜而言，存在屈挠性不充分、容易因弯曲等物理应力而产生开裂的问题。
另外，作为透明导电性膜，提出了具备含有由银或铜等制成的金属纤维的导电层的透明导电性膜。上述透明导电性膜具有屈挠性优异的优点。另一方面，包含金属纤维的导电层的耐接触性低，具备该导电层的导电性膜存在如下问题：在运输时、保管时等过程中容易出现导电性不良的缺陷。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特表2009-505358号公报
发明内容
发明所要解决的课题
本发明是为解决上述课题而完成的，其目的在于提供一种具备包含金属纤维的导电层、且不易产生由接触引起的导电性不良的透明导电性膜。
解决问题的技术手段
本发明的透明导电性膜具备：基材；和透明导电层，其配置于基材的至少一侧，该透明导电层包含聚合物基质和存在于该聚合物基质中的金属纤维，该透明导电层的相对于该透明导电层的动摩擦系数为2.0以下。
在一个实施方式中，上述金属纤维为金属纳米线。
在一个实施方式中，上述金属纳米线为银纳米线。
在一个实施方式中，上述透明导电性膜进一步具备金属层。
在一个实施方式中，上述金属层由铜制成。
在一个实施方式中，上述透明导电层的厚度为50nm～300nm。
发明效果
根据本发明，可提供一种具备包含金属纤维的导电层、且不易产生由接触引起的导电性不良的透明导电性膜。
附图说明
图1是本发明的一个实施方式的透明导电性膜的概略剖视图。
图2是本发明的另一实施方式的透明导电性膜的概略剖视图。
具体实施方式
A.透明导电性膜的整体构成
图1是本发明的一个实施方式的透明导电性膜的概略剖视图。透明导电性膜100具备：基材10；和透明导电层20，其配置于基材10的至少一侧(图示例中为两侧)。透明导电层20包含聚合物基质和存在于聚合物基质中的金属纤维。虽未图示出，但透明导电性膜也可进一步包含任意适当的其他层。在一个实施方式中，上述透明导电性膜的至少一个最外层为透明导电层。
图2(a)及(b)是本发明的另一实施方式的透明导电性膜的概略剖视图。透明导电性膜200仅在基材10的一侧配置有透明导电层20。透明导电性膜300进一步具备金属层30。在图2(b)的示例中，透明导电性膜300依次配置有透明导电层20、基材10及金属层30。
上述透明导电层的相对于该透明导电层的动摩擦系数为2.0以下。在本发明中，通过使透明导电层的动摩擦系数处于上述范围内，可获得即便与透明导电层接触时也不易产生导电不良的透明导电性膜。以往的透明导电性膜在以卷筒的形态提供时，由于相互接触而在表面施加有摩擦力，在具备包含金属纤维的透明导电层的情况下，该金属纤维彼此的接合发生脱离而易于产生导电不良。另一方面，本申请发明的透明导电性膜即便在以卷筒的形态提供的情况下，也会维持金属纤维彼此的接合，从而维持所需的导电性。另外，即便上述透明导电性膜为单片，也能够防止由层叠该透明导电性膜时的接触、摩擦等引起的金属纤维彼此的接合脱离。另外，上述透明导电性膜不仅可对透明导电性膜彼此的接触显示出优异的耐接触性，对与其他物品的接触也显示出优异的耐接触性。上述透明导电层的相对于该透明导电层的动摩擦系数优选为1.8以下，更优选为1.5以下，进一步优选为1.2以下，特别优选为1.0以下，最优选为0.8以下。透明导电层的相对于该透明导电层的动摩擦系数越小越优选，但其下限值例如为0.05。所谓“透明导电层的相对于该透明导电层的动摩擦系数”是指透明导电性膜所具备的透明导电层/与透明导电性膜所具备的透明导电层为同一组成的透明导电层之间的动摩擦系数。在本说明书中，动摩擦系数是依据JIS K7125：1999，在测定载荷：100g、测定速度：1mm/s、测定距离：30mm下进行测定。
在一个实施方式中，使透明导电层和与该透明导电层相反的一侧的面接触时的动摩擦系数优选为2.0以下，更优选为1.8以下，进一步优选为1.5以下，更进一步优选为1.2以下，特别优选为1.0以下，最优选为0.8以下。使透明导电层和与该透明导电层相反的一侧的面接触时的动摩擦系数越小越优选，但其下限值例如为0.05。“与该透明导电层相反的一侧的面”是指以基材为基准、与成为测定对象的透明导电层的表面相反的一侧的最外表面。因此，在透明导电性膜为透明导电层A/基材/透明导电层A的构成的情况下，“使透明导电层和与该透明导电层相反的一侧的面接触时的动摩擦系数”为使透明导电层彼此(透明导电层A与透明导电层A)接触时的动摩擦系数，与“透明导电层的相对于该透明导电层的动摩擦系数”含义相同。另外，在透明导电性膜为透明导电层/基材的构成的情况下，“使透明导电层和与该透明导电层相反的一侧的面接触时的动摩擦系数”为使透明导电层与基材接触时的动摩擦系数。若使透明导电层和与该透明导电层相反的一侧的面接触时的动摩擦系数处于上述范围内，则在层叠透明导电性膜时，或者将透明导电性膜制成卷筒的形态时，能够明显地防止产生导电不良。
本发明的透明导电性膜的表面电阻值优选为0.01Ω/□～1000Ω/□，更优选为0.1Ω/□～500Ω/□，特别优选为0.1Ω/□～300Ω/□，最优选为0.1Ω/□～100Ω/□。在一个实施方式中，透明导电性膜的表面电阻值为100Ω/□以下。
本发明的透明导电性膜的雾度值优选为1％以下，更优选为0.7％以下，进一步优选为0.5％以下。该雾度值越小越优选，但其下限值例如为0.05％。
本发明的透明导电性膜的全光线透过率优选为80％以上，更优选为85％以上，特别优选为90％以上。
本发明的透明导电性膜的厚度优选为10μm～500μm，更优选为15μm～300μm，进一步优选为20μm～200μm。
B.透明导电层
如上所述，透明导电层包含金属纤维和聚合物基质。
上述透明导电层的厚度优选为50nm～300nm，更优选为80nm～200nm。通过将透明导电层的厚度设定为50nm以上，能够形成动摩擦系数小的透明导电层。
上述透明导电层的全光线透过率优选为85％以上，更优选为90％以上，进一步优选为95％以上。
上述透明导电层的算术平均表面粗糙度Ra优选为1.5μm以上，更优选为2.0μm～4.0μm。若为上述这样的范围，则能够形成动摩擦系数小的透明导电层。
在一个实施方式中，上述透明导电层被图案化(布图)。作为图案化的方法，可根据透明导电层的形态采用任意适当的方法。透明导电层的图案形状根据用途可为任意适当的形状。例如可列举出日本特表2011-511357号公报、日本特开2010-164938号公报、日本特开2008-310550号公报、日本特表2003-511799号公报、日本特表2010-541109号公报中记载的图案。在基材上形成透明导电层之后，可根据透明导电层的形态，使用任意适当的方法进行图案化。
作为上述金属纤维，可优选使用金属纳米线。上述金属纳米线是指材质为金属，形状为针状或丝状，直径为纳米尺寸的导电性物质。金属纳米线可为直线状，也可为曲线状。若使用由金属纳米线制成的透明导电层，则金属纳米线成为网状，通过分别接合，可形成良好的导电路径，可获得电阻小的透明导电性膜。
上述金属纳米线的粗细d与长度L之比(长径比：L/d)优选为10～100000，更优选为50～100000，特别优选为100～10000。若这样地使用长径比大的金属纳米线，则金属纳米线会良好地交叉，通过少量金属纳米线便可表现出高的导电性。其结果是，可获得透光率高的透明导电性膜。再者，在本说明书中，所谓“金属纳米线的粗细”，在金属纳米线的截面为圆状的情况下，是指其直径，在金属纳米线的截面为椭圆状的情况下，是指其短径，在金属纳米线的截面为多边形的情况下，是指最长的对角线。金属纳米线的粗细及长度可通过扫描式电子显微镜或透射型电子显微镜进行确认。
上述金属纳米线的粗细优选为低于500nm，更优选为低于200nm，特别优选为10nm～100nm，最优选为10nm～60nm。若为上述这样的范围，则可形成透光率高的透明导电层。
上述金属纳米线的长度优选为1μm～1000μm，更优选为1μm～500μm，特别优选为1μm～100μm。若为上述这样的范围，则可获得导电性高的透明导电性膜。
作为构成上述金属纳米线的金属，只要为导电性高的金属就行，可使用任意适当的金属。作为构成上述金属纳米线的金属，例如可列举出：银、金、铜、镍等。另外，也可使用对这些金属进行镀覆处理(例如镀金处理)而得到的材料。金属纳米线优选为由选自由金、铂、银及铜所组成的组中的1种以上金属制成。在一个实施方式中，上述金属纳米线为银纳米线。
作为上述金属纳米线的制造方法，可采用任意适当的方法。例如可列举出：在溶液中还原硝酸银的方法；从探针的前端部使外加电压或电流作用于前体表面，在探针前端部将金属纳米线拉出，连续地形成该金属纳米线的方法等。于在溶液中还原硝酸银的方法中，通过在存在乙二醇等多元醇及聚乙烯吡咯烷酮的条件下进行硝酸银等银盐的液相还原，从而可合成银纳米线。均一尺寸的银纳米线例如可依据Xia，Y.etal.，Chem.Mater.(2002)，14，4736-4745、Xia，Y.etal.，Nano letters(2003)3(7)，955-960中所记载的方法实现大量生产。
上述透明导电层中的金属纳米线的含有比率相对于透明导电层的总重量优选为80重量％以下。若为上述这样的范围，则可形成动摩擦系数小的透明导电层。上述透明导电层中的金属纳米线的含有比率相对于透明导电层的总重量更优选为30重量％～75重量％，进一步优选为30重量％～65重量％，更进一步优选为45重量％～65重量％。若为上述这样的范围，则可获得导电性及透光性优异的透明导电性膜。
作为构成上述聚合物基质的聚合物，可使用任意适当的聚合物。作为该聚合物，例如可列举出：丙烯酸系聚合物；聚对苯二甲酸乙二酯等聚酯系聚合物；聚苯乙烯、聚乙烯基甲苯、聚乙烯基二甲苯、聚酰亚胺、聚酰胺、聚酰胺酰亚胺等芳香族系聚合物；聚氨基甲酸酯系聚合物；环氧系聚合物；聚烯烃系聚合物；丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物(ABS)；纤维素；硅系聚合物；聚氯乙烯；聚乙酸酯；聚降冰片烯；合成橡胶；氟系聚合物等。优选使用由季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)、新戊二醇二丙烯酸酯(NPGDA)、二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)、二季戊四醇五丙烯酸酯(DPPA)、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)等多官能丙烯酸酯制成的固化型树脂(优选为紫外线固化型树脂)。
透明导电层的密度优选为1.3g/cm3～10.5g/cm3，更优选为1.5g/cm3～3.0g/cm3。若为上述这样的范围，则可获得导电性及透光性优异的透明导电性膜。
透明导电层可通过如下方式来形成，即，在基材(或基材与其他层的层叠体)上涂布包含金属纤维(例如金属纳米线)的导电层形成用组合物，其后使涂布层干燥。导电层形成用组合物中可包含形成聚合物基质的树脂材料。或者也可将形成聚合物基质的树脂材料与导电层形成用组合物分开准备，在涂布导电层形成用组合物并使其干燥后，在由金属纤维制成的层上涂布树脂材料(聚合物组合物、单体组合物)，其后使树脂材料的涂布层干燥或硬化而形成透明导电层。
上述导电层形成用组合物除了金属纤维(例如金属纳米线)以外，也可包含任意适当的溶剂。导电层形成用组合物可以金属纤维(例如金属纳米线)的分散液的形式准备。作为上述溶剂，可列举出：水、醇系溶剂、酮系溶剂、醚系溶剂、烃系溶剂、芳香族系溶剂等。就降低环境负荷的观点而言，优选使用水。上述导电层形成用组合物可根据目的进一步含有任意适当的添加剂。作为上述添加剂，例如可列举出：防止金属纤维(例如金属纳米线)的腐蚀的防腐蚀材、防止金属纤维(例如金属纳米线)的凝集的表面活性剂等。所使用的添加剂的种类、数及量可根据目的来适当设定。
上述导电层形成用组合物中的金属纤维(例如金属纳米线)的分散浓度优选为0.1重量％～1重量％。若为上述这样的范围，则可形成导电性及透光性优异的透明导电层。
作为上述导电层形成用组合物的涂布方法，可采用任意适当的方法。作为涂布方法，例如可列举出：喷雾涂布、棒式涂布、辊式涂布、模嘴涂布、喷墨涂布、丝网涂布、浸渍涂布、凸版印刷法、凹版印刷法、照相凹版印刷法等。作为涂布层的干燥方法，可采用任意适当的干燥方法(例如自然干燥、送风干燥、加热干燥)。例如在采用加热干燥的情况下，干燥温度代表性而言为50℃～200℃，优选为80℃～150℃。干燥时间代表性而言为1～10分钟。
上述聚合物溶液包含构成上述聚合物基质的聚合物或者该聚合物的前体(构成该聚合物的单体)。
上述聚合物溶液可包含溶剂。作为上述聚合物溶液中包含的溶剂，例如可列举出：醇系溶剂、酮系溶剂、四氢呋喃、烃系溶剂或芳香族系溶剂等。优选该溶剂具有挥发性。该溶剂的沸点优选为200℃以下，更优选为150℃以下，进一步优选为100℃以下。
C.基材
上述基材代表性而言由任意适当的树脂制成。作为构成上述基材的树脂，例如可列举出：环烯烃系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚偏二氯乙烯系树脂、聚氯乙烯系树脂、聚对苯二甲酸乙二酯系树脂、聚萘二甲酸乙二酯系树脂等。优选使用环烯烃系树脂。若使用由环烯烃系树脂制成的基材，则可获得屈挠性优异的透明导电性膜。
作为上述环烯烃系树脂，例如可优选地使用聚降冰片烯。聚降冰片烯是指起始原料(单体)的一部分或全部使用具有降冰片烯环的降冰片烯系单体而获得的(共)聚合物。作为上述聚降冰片烯，市售有各种制品。作为具体例子，可列举出：日本瑞翁公司制造的商品名“ZEONEX”、“ZEONOR”、JSR公司制造的商品名“Arton”、TICONA公司制造的商品名“TOPAS”、三井化学公司制造的商品名“APEL”。
构成上述基材的树脂的玻璃化转变温度优选为50℃～200℃，更优选为60℃～180℃，进一步优选为70℃～160℃。若为具有上述这样的范围的玻璃化转变温度的基材，则可防止形成透明导电层叠体时的劣化。
上述基材的厚度优选为8μm～500μm，更优选为10μm～250μm，进一步优选为10μm～150μm，特别优选为15μm～100μm。
上述基材的全光线透过率优选为80％以上，更优选为85％以上，特别优选为90％以上。若为上述这样的范围，则可获得作为触控面板等所具备的透明导电性膜优选的透明导电性膜。
上述基材可视需要进一步包含任意适当的添加剂。作为添加剂的具体例子，可列举出：增塑剂、热稳定剂、光稳定剂、润滑剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂、阻燃剂、着色剂、抗静电剂、相容剂、交联剂及增粘剂等。所使用的添加剂的种类及量可根据目的来适当设定。
也可视需要对上述基材进行各种表面处理。表面处理是根据目的而采用任意适当的方法。例如可列举出：低压等离子体处理、紫外线照射处理、电晕处理、火焰处理、酸或碱处理。在一个实施方式中，对透明基材进行表面处理而使透明基材表面亲水化。若使基材亲水化，则涂布利用水系溶剂所制备的透明导电层形成用组合物时的加工性优异。另外，可获得基材与透明导电层的密接性优异的透明导电性膜。
D.金属层
上述金属层由任意适当的金属制成。优选由银、金、铜、镍等导电性金属制成。在一个实施方式中，上述金属层由铜制成。
上述金属层可通过任意适当的方法形成。上述金属层可通过蒸镀法、溅射法、CVD(Chemical Vapor Deposition；化学气相沈积)等干式工艺(干法)、镀覆等湿式工艺等形成。
[实施例]
以下，通过实施例对本发明具体地进行说明，但本发明不受这些实施例任何限定。
[制造例1]
(金属纳米线的制造)
于160℃下向具备搅拌装置的反应容器中添加无水乙二醇5ml、PtCl2的无水乙二醇溶液(浓度：1.5×10-4mol/L)0.5ml。经过4分钟后，历时6分钟向所获得的溶液中同时滴加AgNO3的无水乙二醇溶液(浓度：0.12mol/l)2.5ml及聚乙烯吡咯烷酮(MW：55000)的无水乙二醇溶液(浓度：0.36mol/l)5ml。在该滴加后，加热至160℃，历时1小时以上进行反应直至AgNO3完全被还原，生成银纳米线。接着，向以如上的方式获得的包含银纳米线的反应混合物中添加丙酮直至该反应混合物的体积达到5倍后，对该反应混合物进行离心分离(2000rpm，20分钟)，从而获得银纳米线。使该银纳米线(浓度：0.2重量％)及五乙二醇十二烷基醚(浓度：0.1重量％)分散于纯水中，制备出银纳米线油墨。
[实施例1]
使用线棒涂布器，将制造例1中所获得的银纳米线油墨以制膜后的比电阻值成为50Ω/□的方式涂布于基材(环烯烃膜)上，于120℃下加热制膜2分钟。
进而准备涂布液a，该涂布液a是利用异丙醇(IPA)与二丙酮醇(DAA)的混合溶剂(混合比(重量基准)IPA：DAA＝8：2)将以氨基甲酸酯丙烯酸酯作为主成分的光固化性树脂稀释至固形物成分浓度成为1.5％而得到的；使用旋转涂布机，将涂布液a以干燥膜厚成为70nm的方式涂布于上述银纳米线油墨涂布面，于80℃下加热1分钟后，利用高压水银灯照射累计曝光量为450mJ/cm2的紫外线，形成透明导电层A，获得包含基材/透明导电层A的透明导电性膜A。
将透明导电性膜A供于以下的评价。
(1)相对于透明导电层A的动摩擦系数
使用协和界面化学公司制造的商品名“TSf-503”，并依据JIS K7125：1999，在接触点侧的样品(透明导电层A)尺寸：1cm□、测定载荷：100g、测定速度：1mm/s、测定距离：30mm、测定温度：23℃的条件下，使透明导电层A和透明导电层A滑动而测定动摩擦系数。
(2)静摩擦系数
使用协和界面化学公司制造的商品名“TSf-503”，并依据JIS K7125：1999，在接触点侧的样品(透明导电层A)尺寸：1cm□、测定载荷：100g、测定速度：1mm/s、测定距离：30mm、测定温度：23℃的条件下，使透明导电层A和透明导电层A滑动而测定开始滑动的摩擦系数(静摩擦系数)。
(3)电阻值上升率
除了将载荷设定为300g以外，在上述动摩擦系数测定时的条件下，将透明导电层A彼此以3cm的距离滑动1次。
对于上述被滑动位置及除此以外的位置，使用非接触表面电阻测定器(NAPSON公司制造，商品名“EC-80”，薄片电阻测定模式，室温：26℃)，测定透明导电层的表面电阻值。
通过(被滑动位置的表面电阻值/被滑动部以外的表面电阻值)的式子求出由滑动引起的电阻值上升率。
(4)透明导电层A的算术平均粗糙度Ra
使用Veeco Instruments公司制造的扫描式探针显微镜“Nanoscope IV”AFM轻敲模式，测定透明导电层A的表面的5μm×5μm的区域中的算术平均粗糙度Ra。
[参考例1-1]
与实施例1同样地操作而获得透明导电性膜A。
(1a)相对于透明导电层A上的铜膜的动摩擦系数
另外，与实施例1同样地操作而获得透明导电性膜A。在所获得的透明导电性膜A的透明导电层A上，以厚度成为100nm的方式溅射形成铜膜而获得带有铜膜的透明导电性膜。将接触点侧的样品设定为该带有铜膜的透明导电性膜，通过与上述(1)相同的方法使透明导电层A和透明导电层A上的铜膜滑动而测定动摩擦系数。
(2a)静摩擦系数
另外，与实施例1同样地操作而获得透明导电性膜A。在所获得的透明导电性膜A的透明导电层A上，以厚度成为100nm的方式溅射形成铜膜而获得带有铜膜的透明导电性膜。将接触点侧的样品设定为该带有铜膜的透明导电性膜，通过与上述(2)相同的方法使透明导电层A和透明导电层A上的铜膜滑动而测定开始滑动的摩擦系数(静摩擦系数)。
(3a)电阻值上升率
通过与上述(3)相同的方法使透明导电层A和透明导电层A上的铜膜滑动而测定由滑动引起的电阻值上升率。
(4a)透明导电层A上的铜膜的算术平均粗糙度Ra
通过与上述(4)相同的方法来测定透明导电层A上的铜膜的算术平均粗糙度Ra。
[参考例1-2]
与实施例1同样地操作而获得透明导电性膜A。
(1b)相对于透明导电层d的动摩擦系数
使用线棒涂布器，将制造例1中所获得的银纳米线油墨以制膜后的比电阻值成为50Ω/□的方式涂布于基材(环烯烃膜)上，于120℃下加热制膜2分钟。
进而准备涂布液a，该涂布液a是利用甲基异丁基酮将以氨基甲酸酯丙烯酸酯作为主成分的光固化性树脂稀释至固形物成分浓度成为1.5％而得到的；使用旋转涂布机，将涂布液a以干燥膜厚成为70nm的方式涂布于上述银纳米线油墨涂布面，于80℃下加热1分钟后，利用高压水银灯照射累计曝光量为450mJ/cm2的紫外线，形成透明导电层d，获得包含基材/透明导电层d的透明导电性膜d。
将接触点侧的样品设定为透明导电性膜d，通过与上述(1)相同的方法使透明导电层A和透明导电层d滑动而测定动摩擦系数。
(2b)静摩擦系数
将接触点侧的样品设定为透明导电性膜d，通过与上述(2)相同的方法使透明导电层A和透明导电层d滑动而测定开始滑动的摩擦系数(静摩擦系数)。
(3b)电阻值上升率
通过与上述(3)相同的方法使透明导电层A与透明导电层d滑动而测定由滑动引起的电阻值上升率。
(4b)透明导电层d的算术平均粗糙度Ra
通过与上述(4)相同的方法来测定透明导电层d的算术平均粗糙度Ra。
[参考例1-3]
与实施例1同样地操作而获得透明导电性膜A。
(1c)相对于环烯烃膜的动摩擦系数
将接触点侧的样品设定为环烯烃膜(日本瑞翁公司制造，商品名“ZF16”)，通过上述(1)相同的方法使透明导电层A与环烯烃膜滑动而测定动摩擦系数。
(2c)静摩擦系数
将接触点侧的样品设定为环烯烃膜(日本瑞翁公司制造，商品名“ZF16”)，通过与上述(2)相同的方法使透明导电层A与环烯烃膜滑动而测定开始滑动的摩擦系数(静摩擦系数)。
(3c)电阻值上升率
通过与上述(3)相同的方法使透明导电层A与上述环烯烃膜滑动而测定由滑动引起的电阻值上升率。
(4c)环烯烃膜的算术平均粗糙度Ra
通过与上述(4)相同的方法来测定上述环烯烃膜的算术平均粗糙度Ra。
[参考例1-4]
与实施例1同样地操作而获得透明导电性膜A。
(1d)相对于PET膜的动摩擦系数
将接触点侧的样品设定为PET膜(KOLON industry制造，商品名“CE900”)，通过与上述(1)相同的方法使透明导电层A与PET膜滑动而测定动摩擦系数。
(2d)静摩擦系数
将接触点侧的样品设定为PET膜(KOLON industry制造，商品名“CE900”)，通过与上述(2)相同的方法使透明导电层A与PET膜滑动而测定开始滑动的摩擦系数(静摩擦系数)。
(3d)电阻值上升率
通过与上述(3)相同的方法使透明导电层A与上述PET膜滑动而测定由滑动引起的电阻值上升率。
(4d)PET膜的算术平均粗糙度Ra
通过与上述(4)相同的方法来测定上述PET膜的算术平均粗糙度Ra。
[参考例1-5]
与实施例1同样地操作而获得透明导电性膜A。
(1e)相对于丙烯酸酯膜的动摩擦系数
将接触点侧的样品设定为丙烯酸酯膜(东洋钢钣公司制造，商品名“HX-40-UF”)，通过与上述(1)相同的方法使透明导电层A与丙烯酸酯膜滑动而测定动摩擦系数。
(2e)静摩擦系数
将接触点侧的样品设定为丙烯酸酯膜(东洋钢钣公司制造，商品名“HX-40-UF”)，通过与上述(2)相同的方法使透明导电层A与丙烯酸酯膜滑动而测定开始滑动的摩擦系数(静摩擦系数)。
(3e)电阻值上升率
通过与上述(3)相同的方法使透明导电层A与上述丙烯酸酯膜滑动而测定由滑动引起的电阻值上升率。
(4e)丙烯酸酯膜的算术平均粗糙度Ra
通过与上述(4)相同的方法来测定上述丙烯酸酯膜的算术平均粗糙度Ra。
[实施例2]
除将涂布液a的干燥膜厚设定为100nm以外，与实施例1同样地操作而获得包含基材/透明导电层B的透明导电性膜B。
将透明导电性膜B供于以下的评价。
(1B)相对于透明导电层B的动摩擦系数
使用协和界面化学公司制造的商品名“TSf-503”，并依据JIS K7125：1999，在接触点侧的样品(透明导电层B)尺寸：1cm□、测定载荷：100g、测定速度：1mm/s、测定距离：30mm、测定温度：23℃的条件下，使透明导电层B与透明导电层B滑动而测定动摩擦系数。
(2B)静摩擦系数
使用协和界面化学公司制造的商品名“TSf-503”，并依据JIS K7125：1999，在接触点侧的样品(透明导电层B)尺寸：1cm□、测定载荷：100g、测定速度：1mm/s、测定距离：30mm、测定温度：23℃的条件下，使透明导电层B与透明导电层B滑动而测定开始滑动的摩擦系数(静摩擦系数)。
(3B)电阻值上升率
除将载荷设定为300g以外，在测定上述动摩擦系数时的条件下，将透明导电层B彼此以3cm的距离滑动1次。
对于上述被滑动位置及除此以外的位置，使用非接触表面电阻测定器(NAPSON公司制造，商品名“EC-80”，薄片电阻测定模式，室温：26℃)，测定透明导电层的表面电阻值。
通过(被滑动位置的表面电阻值/被滑动部以外的表面电阻值)的式求出由滑动引起的电阻值上升率。
(4B)透明导电层B的算术平均粗糙度Ra
使用Veeco Instruments公司制造的扫描式探针显微镜“Nanoscope IV”AFM轻敲模式，测定透明导电层B的表面的5μm×5μm的区域中的算术平均粗糙度Ra。
[比较例1]
与实施例1同样地操作而将银纳米线层进行制膜。进而准备涂布液c，该涂布液c是通过向以氨基甲酸酯丙烯酸酯作为主成分的光固化性树脂中添加硅烷偶联剂，利用甲基异丁基酮稀释至固形物成分浓度成为1.5％而得到的；使用旋转涂布机，将涂布液c以干燥膜厚成为70nm的方式涂布于上述银纳米线油墨涂布面，于80℃下加热1分钟后，利用高压水银灯照射累计曝光量为450mJ/cm2的紫外线，形成透明导电层C，获得包含基材/透明导电C的透明导电性膜C。
(1f)相对于透明导电层C的动摩擦系数
将接触点侧的样品设定为透明导电层C，通过与上述(1)相同的方法使透明导电层C和透明导电层C滑动而测定动摩擦系数。
(2f)静摩擦系数
将接触点侧的样品设定为透明导电层C，通过与上述(2)相同的方法使透明导电层C和透明导电层C滑动而测定开始滑动的摩擦系数(静摩擦系数)。
(3f)电阻值上升率
通过与上述(3)相同的方法使透明导电层C与上述环烯烃膜滑动而测定由滑动引起的电阻值上升率。
(4f)透明导电层C的算术平均粗糙度Ra
通过与上述(4)相同的方法来测定透明导电层C的算术平均粗糙度Ra。
[比较例2]
使用与参考例1-2中所记载的方法相同的方法获得包含基材/透明导电层d的透明导电性膜d。
(1g)相对于透明导电层d的动摩擦系数
将接触点侧的样品设定为透明导电层d，通过与上述(1)相同的方法使透明导电层d与透明导电层d滑动而测定动摩擦系数。
(2g)静摩擦系数
将接触点侧的样品设定为透明导电层d，通过与上述(2)相同的方法使透明导电层d与透明导电层d滑动而测定开始滑动的摩擦系数(静摩擦系数)。
(3g)电阻值上升率
通过与上述(3)相同的方法使透明导电层d与上述环烯烃膜滑动而测定由滑动引起的电阻值上升率。
(4g)透明导电层d的算术平均粗糙度Ra
通过与上述(4)相同的方法来测定透明导电层d的算术平均粗糙度Ra。
[比较参考例2-1]
与比较例2同样地操作而获得透明导电性膜d。
(1h)相对于透明导电层d上的铜膜的动摩擦系数
另外，与比较例2同样地操作而获得透明导电性膜d。在所获得的透明导电性膜d的透明导电层d上，以厚度成为100nm的方式溅射形成铜膜而获得带有铜膜的透明导电性膜。将接触点侧的样品设定为该带有铜膜的透明导电性膜，通过与上述(1)相同的方法使透明导电层d和透明导电层d上的铜膜滑动而测定动摩擦系数。
(2h)静摩擦系数
将接触点侧的样品设定为上述带有铜膜的透明导电性膜，通过与上述(2)相同的方法使透明导电层d与透明导电层d上的铜膜滑动而测定开始滑动的摩擦系数(静摩擦系数)。
(3h)电阻值上升率
通过与上述(3)相同的方法使透明导电层d与透明导电层d上的铜膜滑动而测定由滑动引起的电阻值上升率。
(4h)透明导电层d上的铜膜的算术平均粗糙度Ra
使用与上述(4)相同的方法来测定透明导电层d上的铜膜的算术平均粗糙度Ra。
将上述实施例、参考例、比较例、比较参考例中的评价结果示于表1。再者，表中，将动摩擦系数、电阻值上升率中的接触点侧的样品记为“与透明导电层接触的层”。
[表1]
由表1可知，根据本发明，通过将透明导电层的相对于该透明导电层的动摩擦系数设定为2.0以下，可提供具备包含金属纤维的导电层、且不易产生由接触引起的导电性不良的透明导电性膜。如参考例所示，即便使上述这样的透明导电性膜与各种膜等接触、滑动时，电阻值的上升也会得到抑制。
符号说明
10：基材
20：透明导电层
30：金属层
100、200、300：透明导电性膜。

Claims (6)

1.一种透明导电性膜，其具备：基材；和透明导电层，其配置于该基材的至少一侧，
该透明导电层包含聚合物基质和存在于该聚合物基质中的金属纤维，
该透明导电层的相对于该透明导电层的动摩擦系数为2.0以下。
2.根据权利要求1所述的透明导电性膜，其中，所述金属纤维为金属纳米线。
3.根据权利要求2所述的透明导电性膜，其中，所述金属纳米线为银纳米线。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的透明导电性膜，其进一步具备金属层。
5.根据权利要求4所述的透明导电性膜，其中，所述金属层由铜制成。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的透明导电性膜，其中，所述透明导电层的厚度为50nm～300nm。
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