CN116805343A - 描绘数据生成装置、描绘系统以及描绘数据生成方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 14
- 238000013461 design Methods 0.000 claims abstract description 102
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 77
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims abstract description 23
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 11
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 22
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 4
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 34
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 14
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 14
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 11
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000009877 rendering Methods 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T11/00—2D [Two Dimensional] image generation
- G06T11/60—Editing figures and text; Combining figures or text
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70491—Information management, e.g. software; Active and passive control, e.g. details of controlling exposure processes or exposure tool monitoring processes
- G03F7/70508—Data handling in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. handling pattern data for addressable masks or data transfer to or from different components within the exposure apparatus
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70283—Mask effects on the imaging process
- G03F7/70291—Addressable masks, e.g. spatial light modulators [SLMs], digital micro-mirror devices [DMDs] or liquid crystal display [LCD] patterning devices
-
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70383—Direct write, i.e. pattern is written directly without the use of a mask by one or multiple beams
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70491—Information management, e.g. software; Active and passive control, e.g. details of controlling exposure processes or exposure tool monitoring processes
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F16/00—Information retrieval; Database structures therefor; File system structures therefor
- G06F16/10—File systems; File servers
- G06F16/11—File system administration, e.g. details of archiving or snapshots
- G06F16/116—Details of conversion of file system types or formats
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- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F40/00—Handling natural language data
- G06F40/10—Text processing
- G06F40/103—Formatting, i.e. changing of presentation of documents
- G06F40/109—Font handling; Temporal or kinetic typography
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- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T1/00—General purpose image data processing
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- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
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- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Data Mining & Analysis (AREA)
- Databases & Information Systems (AREA)
- Controls And Circuits For Display Device (AREA)
- Image Generation (AREA)
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Abstract
描绘数据生成装置(6)生成对基板进行描绘的描绘装置(1)用的描绘数据。描绘数据生成装置(6)的图案数据变换部(62)从包含与所描绘的图案及字符相关的信息的矢量格式的设计数据中获取与图案相关的图案设计数据,并将该图案设计数据变换为栅格格式的图案描绘数据。字体准备部(64)基于上述的设计数据所包含的字符设计数据,准备具有所希望的字体种类及所希望的字体尺寸的栅格格式的字符描绘数据。描绘数据生成部(66)使用上述的图案描绘数据和字符描绘数据生成栅格格式的描绘数据。由此,能够在基板上描绘具有所希望的字体种类及所希望的字体尺寸的字符。
Description
技术领域
本发明涉及生成向基板进行描绘的描绘装置用的描绘数据的技术。
相关申请的参考
本申请要求2022年3月24日提交的日本专利申请JP2022-047870的优先权的权益,该申请的全部公开内容引入本申请。
背景技术
以往,通过对形成在半导体基板、印刷基板、或者有机EL显示装置或液晶显示装置用的玻璃基板等(以下称为“基板”)上的感光材料照射光,来进行图案的描绘。有时在该基板上将用于描绘的描绘装置的识别编号等字符组与图案一起进行描绘。
在日本特开2020-13042号公报(文献1)的描绘装置中,将以矢量格式记述的图案的设计数据变换为栅格格式后,在变换后的图案的数据上合成位图形式的字符数据,生成最终描绘数据。在该描绘装置中,对于有可能使用的候选字符(例如,26个拉丁字母、以及0~9的10个数字),预先存储有多种尺寸的位图数据。然后,将预定描绘字符的区域以有可能描绘的最大字符数进行分割而求出分割区域,从该分割区域以下尺寸的候选字符的位图数据中提取要描绘的字符的数据并嵌入到最终描绘数据中。
但是,在向基板的描绘中,有可能要求描绘与预先存储在描绘装置中的尺寸不同的尺寸的字符。另外,也有可能要求描绘字体种类与预先存储在描绘装置中的字符不同的字符。
发明内容
本发明涉及描绘数据生成装置,其生成向基板进行描绘的描绘装置用的描绘数据,其目的在于在基板上描绘具有所希望的字体种类和所希望的字体尺寸的字符。
本发明优选的一实施方式所涉及的描绘数据生成装置,具备:图案数据变换部,从包含与要描绘的图案及字符相关的信息的矢量格式的设计数据中,获取与所述图案相关的图案设计数据,并将所述图案设计数据变换为栅格格式的图案描绘数据;字体准备部,基于包含在所述设计数据中的字符设计数据,准备具有所希望的字体种类和所希望的字体尺寸的栅格格式的字符描绘数据;以及描绘数据生成部,使用所述图案描绘数据和所述字符描绘数据生成栅格格式的描绘数据。
根据上述描绘数据生成装置,能够在基板上描绘具有所希望的字体种类和所希望的字体尺寸的字符。
优选地,所述字体准备部具备:字体提取部,在基于所述字符设计数据而准备的预定的所述字符描绘数据包含在预先存储的已有字符集数据组中的情况下,从所述已有字符集数据组中读出所述字符描绘数据;以及字体生成部,在所述已有字符集数据组中不包含所述字符描绘数据的情况下,基于所述字符设计数据生成所述字符描绘数据。
优选地,描绘数据生成装置还具备图案校正部,基于基板的形变对所述图案描绘数据进行形变校正处理。所述描绘数据生成部将由所述图案校正部校正后的所述图案描绘数据和所述字符描绘数据进行合成从而生成所述描绘数据。
优选地,所述描绘数据生成装置基于所述设计数据,设定包围在基板上描绘的描绘字符组的字符配置区域。在所述描绘字符组由通过描绘装置描绘的描绘元素构成的情况下,所述描绘数据生成部以所述字符配置区域中的所述描绘字符组以外的区域由未通过所述描绘装置描绘的非描绘元素构成的方式设定所述描绘数据;在所述描绘字符组由所述非描绘元素构成的情况下,所述描绘数据生成部以所述字符配置区域中的所述描绘字符组以外的区域由所述描绘元素构成的方式设定所述描绘数据。
优选地,所述上述字符配置区域设定为与所述字符设计数据所示的字符组在基板上的占有区域相同的大小以及相同的位置。由所述字体准备部准备的所述字符描绘数据的字体尺寸比由所述设计数据指定的字体尺寸小规定量。
本发明还涉及描绘系统,对基板进行描绘。本发明优选的一实施方式所涉及的描绘系统具备:上述的描绘数据生成装置;以及描绘装置,基于由所述描绘数据生成装置生成的描绘数据对基板进行描绘。
本发明还涉及生成对基板进行描绘的描绘装置用的描绘数据的描绘数据生成方法。本发明优选的一实施方式所涉及的描绘数据生成方法,包括:a)工序,从包含与要描绘的图案及字符相关的信息的矢量格式的设计数据中,获取与所述图案相关的图案设计数据,并将所述图案设计数据变换为栅格格式的图案描绘数据;b)工序,基于包含在所述设计数据中的字符设计数据,准备具有所希望的字体种类及所希望的字体尺寸的栅格格式的字符描绘数据;c)工序,使用所述图案描绘数据和所述字符描绘数据生成栅格格式的描绘数据。
上述的目的及其它目的、特征、方面及优点通过以下参照附图进行的本发明的详细说明而变得显而易见。
附图说明
图1是表示一实施方式所涉及的描绘装置的立体图。
图2是表示描绘数据生成装置的结构的图。
图3是表示描绘数据生成装置的功能的框图。
图4A是表示候选字符的例子的图。
图4B是表示候选字符的例子的图。
图4C是表示候选字符的例子的图。
图4D是表示候选字符的例子的图。
图5是表示描绘数据生成装置中的处理流程的流程图。
图6A是表示描绘数据生成装置中的处理流程的其他流程图。
图6B是表示描绘数据生成装置中的处理流程的其他流程图。
图7是表示描绘数据生成装置的功能的其他框图。
图8是表示描绘字符组和字符配置区域的图。
图9A是表示描绘字符组和字符配置区域的图。
图9B是表示描绘字符组和字符配置区域的图。
图10A是表示描绘字符组和字符配置区域的图。
图10B是表示描绘字符组和字符配置区域的图。
附图标记说明
1 描绘装置
6 描绘数据生成装置
7 描绘系统
9 基板
62 图案数据变换部
63 图案校正部
64 字体准备部
66 描绘数据生成部
81、81a描绘字符组
82 字符配置区域
641 字体提取部
642 字体生成部
S11~S18、S21、S31~S33步骤
具体实施方式
图1是表示本发明的一实施方式所涉及的描绘系统7的立体图。描绘系统7具备描绘装置1和描绘数据生成装置6。描绘装置1是将空间调制后的大致束状的光照射到基板9上的感光材料上,并通过在基板9上扫描该光的照射区域来进行图案的描绘的直接描绘装置。描绘数据生成装置6是生成用于描绘装置1中的描绘的描绘数据的装置。在图1中,将相互正交的3个方向作为X方向、Y方向以及Z方向由箭头表示。在图1所示的例子中,X方向和Y方向是相互垂直的水平方向,Z方向是铅垂方向。其他图中也同样。
描绘数据生成装置6例如是通常的计算机。在以下的说明中,以描绘数据生成装置6是1台计算机的情况进行说明,但不限于此。描绘数据生成装置6例如也可以是多台计算机通过有线或无线连接而成的计算机系统。另外,在图1中,用大致长方体示意性地描绘了描绘数据生成装置6。
描绘装置1具备载物台121、载物台移动机构122、摄像部13、描绘部14和控制部15。载物台121是在摄像部13和描绘部14的下方(即,(-Z)侧)从下侧保持水平状态的基板9的大致平板状的基板保持部。基板9例如是俯视时呈大致矩形状的板状构件。基板9例如是印刷布线基板。载物台121例如是吸附并保持基板9的下表面的真空吸盘。载物台121也可以具有真空吸盘以外的结构。载置于载物台121上的基板9的上表面91与Z方向大致垂直,并与X方向及Y方向大致平行。
载物台移动机构122是使载物台121相对于摄像部13及描绘部14在水平方向(即,与基板9的上表面91大致平行的方向)上相对移动的移动机构。载物台移动机构122具备第一移动机构123和第二移动机构124。第二移动机构124使载物台121沿着导轨在X方向上直线移动。第一移动机构123使载物台121与第二移动机构124一起沿着导轨在Y方向上直线移动。第一移动机构123及第二移动机构124的驱动源例如是线性伺服电动机、或者是在滚珠丝杠上安装有电动机的驱动源。第一移动机构123及第二移动机构124的结构可以进行各种变更。
在描绘装置1中,也可以设置以在Z方向上延伸的旋转轴为中心使载物台121旋转的载物台旋转机构。另外,也可以在描绘装置1中设置使载物台121在Z方向上移动的载物台升降机构。作为载物台旋转机构,例如,能够利用伺服电动机。作为载物台升降机构,例如,能够利用线性伺服电动机。载物台旋转机构及载物台升降机构的结构可以进行各种变更。
摄像部13具备在X方向上排列的多个(在图1所示的例子中为2个)摄像头131。各摄像头131通过跨过载物台121和载物台移动机构122而设置的摄像头支撑部130支撑在载物台121和载物台移动机构122的上方。各摄像头131是具备省略图示的摄像传感器和光学系统的照相机。各摄像头131取得基板9的上表面91上的大致矩形状的摄像区域的图像。另外,摄像部13的摄像头131的数量可以是一个,也可以是三个以上。
描绘部14具备在X方向及Y方向上排列的多个(在图1所示的例子中为5个)描绘头141。各描绘头141具备省略图示的光源、光学系统及空间光调制元件。各描绘头141通过跨过载物台121和载物台移动机构122而设置的描绘头支撑部140支撑在载物台121和载物台移动机构122的上方。另外,描绘部14的描绘头141的数量可以是一个,也可以是多个。
在描绘装置1中,一边从描绘部14的多个描绘头141向基板9的上表面91上照射调制后的(即,空间光调制后的)光,一边通过载物台移动机构122在Y方向上移动基板9。由此,来自多个描绘头141的光的照射区域在基板9上沿Y方向扫描,进行对基板9的图案的描绘。在以下的说明中,将Y方向也称为“扫描方向”。载物台移动机构122是使来自各描绘头141的光的照射区域在基板9上沿扫描方向移动的扫描机构。
在描绘装置1中,对基板9的描绘以所谓的单次行程(一次行程)方式进行。具体而言,通过载物台移动机构122,载物台121相对于多个描绘头141在Y方向上相对移动,来自多个描绘头141的光的照射区域在基板9的上表面91上在Y方向(即,扫描方向)上仅扫描一次。由此,完成对基板9的描绘。另外,在描绘装置1中,也可以通过反复进行载物台121向Y方向的移动和向X方向的步进移动的多次行程方式,进行对基板9的描绘。另外,在描绘装置1中进行多次行程方式的描绘的情况下,Y方向是主扫描方向,X方向是副扫描方向。另外,载物台移动机构122的第一移动机构123是使载物台121在主扫描方向上移动的主扫描机构,第二移动机构124是使载物台121在副扫描方向上移动的副扫描机构。
控制部15基于由描绘数据生成装置6生成的描绘数据,控制载物台移动机构122、摄像部13及描绘部14等,执行对基板9的图案描绘。在描绘系统7中,作为控制部15,例如利用通常的计算机。
图2是表示描绘数据生成装置6的结构的图。描绘数据生成装置6是具备处理器601、存储器602、输入输出部603以及总线604的通常的计算机。总线604是连接处理器601、存储器602以及输入输出部603的信号电路。存储器602存储各种信息。存储器602例如读取并存储预先存储在存储介质608中的程序609。存储介质608例如是USB存储器或CD-ROM。
处理器601根据存储在存储器602中的程序609等,利用存储器602等同时执行各种处理(例如,数值计算和图像处理)。输入输出部603具备接受来自操作者的输入的键盘605及鼠标606、以及显示来自处理器601的输出等的显示器607。
图3是表示通过由描绘数据生成装置6执行上述程序609而实现的功能的框图。在图3中,也一并示出了描绘数据生成装置6以外的结构。描绘数据生成装置6具备存储部61、图案数据变换部62、图案校正部63、字体准备部64以及描绘数据生成部66。字体准备部64具备字体提取部641和字体生成部642。
存储部61主要由存储器602(参照图2)实现,预先存储与描绘数据的生成有关的各种信息。在存储部61中存储有包括与在基板9上描绘的预定图案和字符有关的信息的设计数据。该设计数据是CAD数据等矢量格式的数据。设计数据例如由与描绘数据生成装置6不同的设计用终端生成,并发送给描绘数据生成装置6。
存储部61中还预先存储有已有字符集数据组。已有字符集数据组例如包括多个字符集数据。各字符集数据是对于有可能在描绘装置1的描绘中使用的多个候选字符(例如,26个拉丁字母、以及0~9的10个数字),以一种字体种类且一种字体尺寸来表现的栅格格式(例如,位图形式)的数据。在多个字符集数据中,字体种类和/或字体尺寸互不相同。字体种类是指例如“黑体字”或“Times New Roman”等字符的字体种类。字体尺寸是指例如“8pt”或“10pt”等字符的尺寸。
优选地,各字符集数据,例如,对于上述36个候选字符中的每一个,包括方向各相差90°的四个数据。例如,与候选字符“A”相关的该四个数据是如图4A所示的方向为0°的字符、如图4B所示的方向为向右旋转了90°的字符、如图4C所示的方向为旋转了180°的字符、以及如图4D所示的方向为向右旋转了270°的字符的数据。另外,候选字符不限于上述例子,例如也可以是平假名、片假名或汉字等,也可以是在日本以外的官方语言中使用的字符等。
图3所示的图案数据变换部62、图案校正部63、字体准备部64以及描绘数据生成部66主要由处理器101(参照图2)实现。图案数据变换部62从存储部61中存储的矢量格式的上述设计数据中获取与图案相关的数据(以下也称为“图案设计数据”),并将该图案设计数据变换为栅格格式的图案描绘数据。在图案数据变换部62中从图案设计数据向图案描绘数据的变换中,能够利用公知的栅格化技术。图案描绘数据例如是游程长度数据(run-lengthdata)。
图案校正部63基于进行描绘的预定的基板9的形变,对上述的图案描绘数据进行形变校正处理。该形变校正处理能够使用已知的形变校正方法来进行。基板9的形变能够通过描绘装置1的摄像部13(参照图1)对设置在该基板9的上表面91上的对准标记进行摄像,并基于该对准标记相对于设计位置的偏离等来求出。
字体准备部64基于表示包含在上述的设计数据中的字符的数据(以下也称为“字符设计数据”),来准备具有由设计数据指定的期望的字体种类和期望的字体尺寸的栅格格式的字符描绘数据。期望的字体种类和期望的字体尺寸是操作描绘系统7的操作者希望用于描绘字符的字体种类和字体尺寸,并不限于预先存储在描绘数据生成装置6中的字体种类和字体尺寸。字符描绘数据例如是固定长度RUN形式或位图形式的数据。另外,字符描绘数据也可以是固定长度RUN形式和位图形式以外的栅格格式的数据。
包含在设计数据中的字符设计数据,例如,如公司名或描绘装置1的机种名那样,表示固定有各字符的具体字符组。另外,该字符设计数据也可以如对由描绘装置1进行描绘的多个基板9依次赋予的连续编号那样,表示一部分字符或全部字符按照预先设定的规则按每个基板9变化的字符组。或者,在设计数据的生成时刻,与该字符设计数据对应的字符组的内容未被确定,该字符设计数据也可以是在描绘数据生成装置6中代入由操作者输入的字符组这样的指示。
在字体准备部64中,判定基于包含在设计数据中的字符设计数据而准备的预定的字符描绘数据(以下也称为“准备预定的字符描绘数据”)是否包括在存储部61内的已有字符集数据组中。上述准备预定的字符描绘数据具有与设计数据所指定的字体种类相同的字体种类。另外,该准备预定的字符描绘数据具有与设计数据所指定的字体尺寸相同的字体尺寸。
在字体准备部64中,在字体种类以及字体尺寸与准备预定的字符描绘数据相同的字符集数据组包含在已有字符集数据组中的情况下,判断为准备预定的字符描绘数据包含在已有字符集数据组中。在这种情况下,由字体提取部641从已有字符集数据组中提取与准备预定的字符描绘数据对应的字符集数据。然后,通过从提取出的字符集数据中选择构成字符设计数据所表示的字符组的各字符的数据并进行排列,从而生成字符描绘数据。换言之,字体提取部641在准备预定的字符描绘数据包含在已有字符集数据组中的情况下,从已有字符集数据组中读出该字符描绘数据。
具体而言,例如,在字符设计数据表示字体种类以及字体尺寸为“黑体字”以及“10pt”的“ABC”这样的字符组的情况下,由字体提取部641从已有字符集数据组中提取字体种类以及字体尺寸为“黑体字”以及“10pt”的字符集数据。然后,从所提取的字符集数据中选择字符“A”、字符“B”以及字符“C”的数据,并按照“ABC”的顺序排列,从而生成字符描绘数据。对于字符“A”、字符“B”以及字符“C”的数据的选择,考虑描绘装置1中的这些字符的描绘方向,选择上述4个方向中的适当方向的数据。
另一方面,在字体准备部64中,在字体种类以及字体尺寸与准备预定的字符描绘数据相同的字符集数据没有包含在已有字符集数据组中的情况下,判断为准备预定的字符描绘数据没有包含在已有字符集数据组中。在这种情况下,字体生成部642基于字符设计数据生成与准备预定的字符描绘数据的字体种类以及字体尺寸相同的新的字符集数据。然后,通过从该新的字符集数据中选择构成字符设计数据所表示的字符组的各字符的数据并进行排列,从而生成字符描绘数据。换言之,字体生成部642基于字符设计数据生成字符描绘数据。上述新的字符集数据被发送到存储部61,包含在已有字符集数据组中。另外,该新的字符集数据具有与已有字符集数据组中包含的其他字符集数据相同的数据结构。
描绘数据生成部66使用上述的图案描绘数据和字符描绘数据生成描绘数据。具体而言,描绘数据生成部66通过将由图案校正部63校正后的栅格格式的图案描绘数据和由字体准备部64准备的栅格格式的字符描绘数据合成,生成栅格格式的描绘数据。此时,与图案描绘数据合成的字符描绘数据的位置(即,字符描绘数据所表示的字符组相对于图案描绘数据所表示的图案的相对位置)也可以根据图案校正部63的上述校正进行调节。
由描绘数据生成部66生成的上述描绘数据经由输入输出部603(参照图2)等从描绘数据生成装置6发送到描绘装置1。在图1所示的描绘装置1中,由控制部15基于该描绘数据等控制载物台移动机构122、摄像部13及描绘部14等,对基板9进行图案的描绘。
图5是表示描绘数据生成装置6中的处理流程的流程图。在描绘数据生成装置6中,首先,通过图案数据变换部62从存储部61(参照图3)中存储的矢量格式的设计数据中获取图案设计数据,并变换为栅格格式的图案描绘数据(步骤S11)。接着,通过图案校正部63对该图案描绘数据进行形变校正处理(步骤S12)。
当步骤S12结束时,通过字体准备部64(参照图3)从上述设计数据中获取字符设计数据,基于该字符设计数据来判断准备预定的字符描绘数据是否包含在已有字符集数据组中(步骤S13)。然后,当判断为准备预定的字符描绘数据包含在已有字符集数据组中时,通过字体提取部641从已有字符集数据组中读出该字符描绘数据(步骤S14)。由此,缩短了准备该字符描绘数据所需的时间。
另一方面,当判断为准备预定的字符描绘数据没有包含在已有字符集数据组中时,通过字体生成部642,基于字符设计数据生成新的字符集数据组,生成字符描绘数据(步骤S15)。另外,该新的字符集数据包含在已有字符集数据组中(步骤S16)。由此,能够缩短以后的准备字符描绘数据所需的时间。另外,步骤S13~S16可以与步骤S11~S12并行地进行,也可以在步骤S11~S12之前进行。
当步骤S11~S16结束时,描绘数据生成部66(参照图3)将上述字符描绘数据与校正后的图案描绘数据进行合成,生成栅格格式的描绘数据(步骤S17)。然后,从描绘数据生成装置6向描绘装置1发送该描绘数据(步骤S18)。在描绘装置1中,如上所述,基于该描绘数据进行图案的描绘。
另外,在描绘数据生成装置6中,不一定必须进行步骤S12中的图案描绘数据的形变校正处理。在这种情况下,在步骤S17中,将通过步骤S11中的变换(即,栅格化)而获得的图案描绘数据与上述的字符描绘数据进行合成,从而生成描绘数据。即,在步骤S17中,使用在步骤S11中获取的图案描绘数据和上述的字符描绘数据来生成描绘数据。
如以上说明的那样,描绘数据生成装置6生成对基板9进行描绘的描绘装置1用的描绘数据。描绘数据生成装置6具备图案数据变换部62、字体准备部64和描绘数据生成部66。图案数据变换部62从包含与被描绘的图案及字符有关的信息的矢量格式的设计数据中获取与该图案有关的图案设计数据,并将该图案设计数据变换为栅格格式的图案描绘数据。字体准备部64基于包含在上述的设计数据中的字符设计数据来准备具有所希望的字体种类以及所希望的字体尺寸的栅格格式的字符描绘数据。描绘数据生成部66使用上述的图案描绘数据和字符描绘数据来生成栅格格式的描绘数据。由此,在描绘装置1中,能够在基板9上描绘具有所希望的字体种类以及所希望的字体尺寸的字符。
描绘系统7具备上述描绘数据生成装置6和基于由描绘数据生成装置6生成的描绘数据对基板9进行描绘的描绘装置1。在该描绘系统7中,如上所述,能够在基板9上描绘具有所希望的字体种类以及所希望的字体尺寸的字符。
如上所述,字体准备部64优选地具备字体提取部641和字体生成部642。字体提取部641在基于字符设计数据准备的预定的字符描绘数据包含在预先存储的已有字符集数据组中的情况下,从该已有字符集数据组中读出字符描绘数据。字体生成部642在该已有字符集数据组中不包含字符描绘数据的情况下,基于字符设计数据生成字符描绘数据。由此,由此,在准备预定的字符描绘数据包含在已有字符集数据组中的情况下,能够缩短生成描绘数据所需的时间。另外,即使在准备预定的字符描绘数据没有包含在已有字符集数据组中的情况下,也能够在描绘装置1中在基板9上适当地描绘具有所希望的字体种类以及所希望的字体尺寸的字符。
如上所述,描绘数据生成装置6优选地还具备基于基板9的形变对上述的图案描绘数据进行形变校正处理的图案校正部63。然后,描绘数据生成部66优选将由图案校正部63校正后的图案描绘数据与上述的字符描绘数据合成而生成描绘数据。这样,通过将在基板9上描绘预定的字符与形变校正处理后的图案进行合成,能够防止该字符因形变校正处理而形变。其结果是,在描绘装置1中,能够将该字符适当地描绘在基板9上。
上述的描绘数据生成方法包括:从包含与所描绘的图案及字符相关的信息的矢量格式的设计数据中获取与该图案相关的图案设计数据,并将该图案设计数据变换为栅格格式的图案描绘数据的工序(步骤S11);基于包含在该设计数据中的字符设计数据,准备具有所希望的字体种类及所希望的字体尺寸的栅格格式的字符描绘数据的工序(步骤S13~S15);使用上述图案描绘数据和字符描绘数据生成栅格格式的描绘数据的工序(步骤S17)。由此,与上述同样地,能够在基板9上描绘具有所希望的字体种类以及所希望的字体尺寸的字符。
在描绘数据生成装置6中,除了上述的步骤S11~S18之外,还可以进行其他的数据处理。例如,在图6A和图6B的流程图所示的例子中,在步骤S12和步骤S13之间进行步骤S21,在步骤S13~S16和步骤S17之间进行步骤S31~S33。在这种情况下,如图7所示,描绘数据生成装置6除了图3所示的各结构以外还具备配置区域设定部65。
在图6A和图6B所示的示例中,当步骤S11~S12结束时,通过配置区域设定部65从设计数据获取字符设计数据,并基于字符设计数据设定字符配置区域(步骤S21)。如图8所示,字符配置区域82是当基于字符设计数据在基板9上描绘字符组81(即,一个或多个字符,以下也称为“描绘字符组81”)时,围绕描绘字符组81的区域。在图8所示的例子中,描绘字符组81是“ABC”这样的字符组,字符配置区域82是与描绘字符组81外接并且在内部包含整个描绘字符组81的最小矩形区域。由配置区域设定部65设定的字符配置区域82的大小和位置被发送到描绘数据生成部66。
在描绘数据生成部66中,如上所述,由字体准备部64准备具有与设计数据所指定的字体种类以及字体尺寸相同的字体种类以及字体尺寸的字符描绘数据(步骤S13~S16)。
当步骤S13~S16结束时,确认字符描绘数据所示的字符组是由描绘元素构成的还是由非描绘元素构成的(步骤S31)。描绘元素是指,在描绘装置1中光被照射至基板9上而描绘的微小区域(即,被曝光的像素)。非描绘元素是指,构成基板9上的描绘元素以外的区域的微小区域,是不进行描绘装置1的描绘(即,不被曝光)的像素。
然后,在字符描绘数据所示的字符组由描绘元素构成的情况下,描绘数据生成部66如图9A所示,在形变校正处理后的图案描绘数据中,以字符配置区域82中的描绘字符组81以外的区域由非描绘元素构成的方式设定描绘数据(步骤S32)。在图9A中,将描绘元素着色为黑色或标注平行斜线来表示,非描绘元素不着色,也不标注平行斜线(在图9B、图10A及图10B中也同样)。由此,即使在描绘字符组81的周围区域由描绘元素构成的情况下,也能够容易地读取由描绘元素构成的描绘字符组81。另外,在实际的对基板9的描绘中,由于不描绘字符配置区域82的轮廓,所以在图9A中,用双点划线表示字符配置区域82的轮廓(在图9B、图10A及图10B中也同样)。
另外,在字符描绘数据所示的字符组由非描绘元素构成的情况下,描绘数据生成部66如图9B所示,在形变校正处理后的图案描绘数据中,以字符配置区域82中的描绘字符组81以外的区域由描绘元素构成的方式设定描绘数据(步骤S33)。由此,即使在描绘字符组81的周围区域由非描绘元素构成的情况下,也能够容易地读取由非描绘元素构成的描绘字符组81。
在描绘数据生成装置6中,在步骤S21中设定了字符配置区域82之后,当在步骤S13~S16中准备字符描绘数据时,字符描绘数据所示的字符组的字体尺寸不一定必须与设计数据所指定的字体尺寸相同。例如,在步骤S21中,字符配置区域82被设定为与字符设计数据所示的字符组在基板9上的占有区域(即,与具有与设计数据所指定的字体尺寸相同的字体尺寸的该字符组外接并且内部包含整个该字符组的最小矩形区域)相同的大小及相同的位置。然后,在步骤S13~S16中,也可以由字体准备部64准备比设计数据所指定的字体尺寸小规定量(例如1pt)的字体尺寸的字符描绘数据。
由此,如图10A以及图10B所示,该字符描绘数据所示的描绘字符组81a能够在字符配置区域82内从字符配置区域82的外缘向内侧离开而进行描绘。因此,能够更容易地读取描绘字符组81a。另外,由于防止了字符配置区域82从字符设计数据的上述占有区域溢出,因此能够防止在字符配置区域82中设定在描绘字符组81a周围的描绘元素或非描绘元素对图案带来不好的影响。其结果是,在描绘装置1中,能够适当地进行对基板9的图案的描绘。
如以上说明的那样,在描绘数据生成装置6中,优选基于上述的设计数据来设定包围在基板9上描绘的描绘字符组81、81a的字符配置区域82。而且,描绘数据生成部66在描绘字符组81、81a由通过描绘装置1描绘的描绘元素构成的情况下,优选以字符配置区域82中的描绘字符组81、81a以外的区域由不进行通过描绘装置1的描绘的非描绘元素构成的方式设定描绘数据。另外,描绘数据生成部66在描绘字符组81、81a由非描绘元素构成的情况下,优选以字符配置区域82中的描绘字符组81、81a以外的区域由描绘元素构成的方式设定描绘数据。由此,如上所述,能够容易地读取描绘字符组81、81a。
另外,字符配置区域82优选被设定为与上述的字符设计数据所示的字符组在基板9上的占有区域相同的大小及相同的位置。而且,优选地,由字体准备部64准备的字符描绘数据的字体尺寸比由设计数据指定的字体尺寸小预定量。由此,如上所述,能够使描绘字符组81a的读取更加容易。另外,能够防止字符配置区域82对图案带来不好的影响,能够适当地进行对基板9的图案的描绘。
在上述的描绘数据生成装置6、描绘系统7以及描绘数据生成方法中,能够进行各种变更。
例如,已有字符集数据组中包含的字符集数据不一定要包含图4A~图4D所示的四个方向的字符的数据,也可以包含其他个数(例如,一个或两个)方向的字符的数据。
设计数据也可以不一定包含指定字体种类的信息。例如,可以通过经由输入输出部603的输入来另行指定所希望的字体种类。
在描绘数据生成装置6中,不一定必须将已有字符集数据组存储在存储部61中,也不需要从已有字符集数据组中读出字符描绘数据。例如,在字体准备部64中,也可以在每次从设计数据中获取字符设计数据时,基于该字符设计数据生成字符描绘数据。在这种情况下,可以进行或不进行基于字符设计数据的字符集数据的生成。另外,也可以从描绘数据生成装置6中省略字体提取部641和字体生成部642。
在描绘系统7中,控制部15不一定必须设置在描绘装置1中,描绘数据生成装置6也可以作为控制描绘装置1的各结构的控制部发挥功能。
如上所述,描绘数据生成装置6也可以是多个计算机通过有线或无线连接而成的计算机系统。例如,字体准备部64也可以设置在与设置有图案数据变换部62和描绘数据生成部66的计算机不同的计算机(例如,进行设计数据的生成的设计用终端)中。
基板9并不限定于印刷布线基板。在描绘装置1中,例如,也可以对半导体基板、液晶显示装置或有机EL显示装置等平板显示装置用的玻璃基板、光掩模用的玻璃基板、太阳能电池面板用的基板等进行描绘。
上述实施方式及各变形例中的结构只要不相互矛盾就可以适当组合。
虽然已经详细地描述并说明了本发明,但是前述的说明是示例性的而非限制性的。因此,能够在不脱离本发明的范围的情况下,进行多种变形和实施方式。
Claims (7)
1.一种描绘数据生成装置,生成对基板进行描绘的描绘装置用的描绘数据,其中,具备:
图案数据变换部,从包含与要描绘的图案及字符相关的信息的矢量格式的设计数据中,获取与所述图案相关的图案设计数据,并将所述图案设计数据变换为栅格格式的图案描绘数据;
字体准备部,基于包含在所述设计数据中的字符设计数据,准备具有所希望的字体种类及所希望的字体尺寸的栅格格式的字符描绘数据;以及
描绘数据生成部,使用所述图案描绘数据和所述字符描绘数据生成栅格格式的描绘数据。
2.根据权利要求1所述的描绘数据生成装置,其中,
所述字体准备部具备:
字体提取部,在基于所述字符设计数据而准备的预定的所述字符描绘数据包含在预先存储的已有字符集数据组中的情况下,从所述已有字符集数据组中读出所述字符描绘数据;以及
字体生成部,在所述已有字符集数据组中不包含所述字符描绘数据的情况下,基于所述字符设计数据生成所述字符描绘数据。
3.根据权利要求1所述的描绘数据生成装置,其中,
还具备:图案校正部,基于基板的形变对所述图案描绘数据进行形变校正处理,
所述描绘数据生成部将由所述图案校正部校正后的所述图案描绘数据和所述字符描绘数据进行合成,从而生成所述描绘数据。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的描绘数据生成装置,其中,
所述描绘数据生成装置基于所述设计数据,设定包围在基板上描绘的描绘字符组的字符配置区域,
在所述描绘字符组由通过描绘装置描绘的描绘元素构成的情况下,所述描绘数据生成部以所述字符配置区域中的所述描绘字符组以外的区域由未通过所述描绘装置描绘的非描绘元素构成的方式设定所述描绘数据;
在所述描绘字符组由所述非描绘元素构成的情况下,所述描绘数据生成部以所述字符配置区域中的所述描绘字符组以外的区域由所述描绘元素构成的方式设定所述描绘数据。
5.根据权利要求4所述的描绘数据生成装置,其中,
所述字符配置区域设定为与所述字符设计数据所示的字符组在基板上的占有区域相同的大小以及相同的位置,
由所述字体准备部准备的所述字符描绘数据的字体尺寸比由所述设计数据指定的字体尺寸小规定量。
6.一种描绘系统,对基板进行描绘,其中,具备:
权利要求1所述的描绘数据生成装置;以及
描绘装置,基于由所述描绘数据生成装置生成的描绘数据对基板进行描绘。
7.一种描绘数据生成方法,生成对基板进行描绘的描绘装置用的描绘数据,其中,包括:
a)工序,从包含与要描绘的图案及字符相关的信息的矢量格式的设计数据中,获取与所述图案相关的图案设计数据,并将所述图案设计数据变换为栅格格式的图案描绘数据;
b)工序,基于包含在所述设计数据中的字符设计数据,准备具有所希望的字体种类及所希望的字体尺寸的栅格格式的字符描绘数据;以及
c)工序,使用所述图案描绘数据和所述字符描绘数据生成栅格格式的描绘数据。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022-047870 | 2022-03-24 | ||
JP2022047870A JP2023141514A (ja) | 2022-03-24 | 2022-03-24 | 描画データ生成装置、描画システムおよび描画データ生成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN116805343A true CN116805343A (zh) | 2023-09-26 |
Family
ID=88078708
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202310180822.1A Pending CN116805343A (zh) | 2022-03-24 | 2023-02-16 | 描绘数据生成装置、描绘系统以及描绘数据生成方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2023141514A (zh) |
KR (1) | KR20230138868A (zh) |
CN (1) | CN116805343A (zh) |
-
2022
- 2022-03-24 JP JP2022047870A patent/JP2023141514A/ja active Pending
- 2022-11-24 KR KR1020220159305A patent/KR20230138868A/ko unknown
-
2023
- 2023-02-16 CN CN202310180822.1A patent/CN116805343A/zh active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW202338653A (zh) | 2023-10-01 |
KR20230138868A (ko) | 2023-10-05 |
JP2023141514A (ja) | 2023-10-05 |
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---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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