CN116323861A - 量子点材料、量子点膜层的图案化方法及量子点显示器件 - Google Patents
量子点材料、量子点膜层的图案化方法及量子点显示器件 Download PDFInfo
- Publication number
- CN116323861A CN116323861A CN202180003028.9A CN202180003028A CN116323861A CN 116323861 A CN116323861 A CN 116323861A CN 202180003028 A CN202180003028 A CN 202180003028A CN 116323861 A CN116323861 A CN 116323861A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- quantum dot
- group
- dot film
- film
- dot material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 title claims abstract description 360
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 116
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 35
- 238000000059 patterning Methods 0.000 title claims abstract description 27
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims abstract description 39
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 23
- 239000000969 carrier Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 33
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 20
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 17
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 16
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 claims description 13
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 claims description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 7
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 abstract description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 122
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 25
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 13
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 12
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 12
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 11
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 11
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 10
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 9
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 9
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 9
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 9
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 6
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- CCCMONHAUSKTEQ-UHFFFAOYSA-N octadecene Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCC=C CCCMONHAUSKTEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 5
- PFNQVRZLDWYSCW-UHFFFAOYSA-N (fluoren-9-ylideneamino) n-naphthalen-1-ylcarbamate Chemical compound C12=CC=CC=C2C2=CC=CC=C2C1=NOC(=O)NC1=CC=CC2=CC=CC=C12 PFNQVRZLDWYSCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 3-(oxolan-2-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1CCCO1 WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000005283 ground state Effects 0.000 description 4
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 4
- RMZAYIKUYWXQPB-UHFFFAOYSA-N trioctylphosphane Chemical compound CCCCCCCCP(CCCCCCCC)CCCCCCCC RMZAYIKUYWXQPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 3
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GPXJNWSHGFTCBW-UHFFFAOYSA-N Indium phosphide Chemical compound [In]#P GPXJNWSHGFTCBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 3
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- -1 cadmium selenide chloroform Chemical compound 0.000 description 3
- UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);selenium(2-) Chemical compound [Se-2].[Cd+2] UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 3
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- SKJCKYVIQGBWTN-UHFFFAOYSA-N (4-hydroxyphenyl) methanesulfonate Chemical compound CS(=O)(=O)OC1=CC=C(O)C=C1 SKJCKYVIQGBWTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGLWBTPVKHMVHM-KTKRTIGZSA-N (z)-octadec-9-en-1-amine Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCN QGLWBTPVKHMVHM-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 2
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MARUHZGHZWCEQU-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-2h-tetrazole Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=NNN=N1 MARUHZGHZWCEQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910000530 Gallium indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXNLCSXBJCPWGL-UHFFFAOYSA-N [Ga].[As].[In] Chemical compound [Ga].[As].[In] KXNLCSXBJCPWGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N acetic acid;zinc Chemical compound [Zn].CC(O)=O.CC(O)=O ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CXKCTMHTOKXKQT-UHFFFAOYSA-N cadmium oxide Inorganic materials [Cd]=O CXKCTMHTOKXKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AQCDIIAORKRFCD-UHFFFAOYSA-N cadmium selenide Chemical compound [Cd]=[Se] AQCDIIAORKRFCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CFEAAQFZALKQPA-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Cd+2] CFEAAQFZALKQPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 125000001891 dimethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 2
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 2
- 229920006295 polythiol Polymers 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 239000004246 zinc acetate Substances 0.000 description 2
- ONDPHDOFVYQSGI-UHFFFAOYSA-N zinc nitrate Chemical compound [Zn+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O ONDPHDOFVYQSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQMZPFKLYHOJDL-UHFFFAOYSA-N zinc;cadmium(2+);disulfide Chemical compound [S-2].[S-2].[Zn+2].[Cd+2] UQMZPFKLYHOJDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FJLUATLTXUNBOT-UHFFFAOYSA-N 1-Hexadecylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCN FJLUATLTXUNBOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GKWLILHTTGWKLQ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydrothieno[3,4-b][1,4]dioxine Chemical compound O1CCOC2=CSC=C21 GKWLILHTTGWKLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N N-phenyl aniline Natural products C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000144 PEDOT:PSS Polymers 0.000 description 1
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NAJCQJKJQOIHSH-UHFFFAOYSA-L [Pb](Br)Br.[Cs] Chemical compound [Pb](Br)Br.[Cs] NAJCQJKJQOIHSH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LNDFVHXALNWEMX-UHFFFAOYSA-L [Pb](I)I.[Cs] Chemical compound [Pb](I)I.[Cs] LNDFVHXALNWEMX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical group 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGJOCASXPRMNAK-UHFFFAOYSA-L cesium;dichlorolead Chemical compound [Cs].Cl[Pb]Cl OGJOCASXPRMNAK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- LCUOIYYHNRBAFS-UHFFFAOYSA-N copper;sulfanylideneindium Chemical compound [Cu].[In]=S LCUOIYYHNRBAFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N indium arsenide Chemical compound [In]#[As] RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052981 lead sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940056932 lead sulfide Drugs 0.000 description 1
- XCAUINMIESBTBL-UHFFFAOYSA-N lead(ii) sulfide Chemical compound [Pb]=S XCAUINMIESBTBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001748 luminescence spectrum Methods 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N oxophosphane Chemical compound P=O AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005424 photoluminescence Methods 0.000 description 1
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 229960002796 polystyrene sulfonate Drugs 0.000 description 1
- 239000011970 polystyrene sulfonate Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- 125000004953 trihalomethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/02—Use of particular materials as binders, particle coatings or suspension media therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/08—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
- C09K11/88—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing selenium, tellurium or unspecified chalcogen elements
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
本申请提供了一种量子点材料、量子点膜层的图案化方法及量子点显示器件,涉及显示技术领域,该量子点材料包括量子点本体和配体;配体包括:配位基团、可分解基团和能量转移基团;可分解基团被配置为能够分解并生成极性改变基团,能量转移基团被配置为能够转移量子点材料中的载流子并阻止量子点本体发光。在制备图案化的量子点膜层时,通过掩膜版遮挡在量子点薄膜上,并采用光照射在量子点薄膜的部分区域,使得光照区域的量子点材料发生分解并生成极性改变基团,采用量子点材料的良溶剂清洗量子点薄膜以完成图案化,极性改变基团不溶于量子点材料的良溶剂。上述量子点膜层的图案化方法可避免使用碱性溶液对量子点薄膜进行显影造成的膜层破坏。
Description
本申请涉及显示技术领域,尤其涉及一种量子点材料、量子点膜层的图案化方法及量子点显示器件。
随着量子点技术的深入发展,QLED(Quantum Dot Light Emitting Diodes,量子点发光二极管)显示技术的研究日益深入,量子点发光效率也不断提升,进一步采用新的工艺和技术来实现其产业化已成为趋势。其中,对量子点薄膜进行图案化以制备高分辨率的显示产品是其中一项重要的议题。
发明内容
本申请的实施例采用如下技术方案:
一方面,本申请的实施例提供了一种量子点材料,包括量子点本体以及配位在所述量子点本体表面的配体;
所述配体包括:与所述量子点本体表面相结合的配位基团,与所述配位基团连接的可分解基团,以及与所述可分解基团连接的能量转移基团;
其中,所述可分解基团被配置为能够分解并生成极性改变基团,所述能量转移基团被配置为能够转移所述量子点材料中的载流子并阻止所述量子点本体发光。
在本申请的一些实施例中,所述能量转移基团为给电子基团,所述能量转移基团被配置为能够转移所述量子点材料中的空穴并阻止所述量子点本体发光。
在本申请的一些实施例中,所述能量转移基团为吸电子基团,所述能量转移基团被配置为能够转移所述量子点材料中的电子并阻止所述量子点本体发光。
在本申请的一些实施例中,所述能量转移基团包括低聚噻吩类基团或聚噻吩类基团。
在本申请的一些实施例中,所述低聚噻吩类基团或所述聚噻吩类基团的通式均为
在本申请的一些实施例中,n的取值范围为3-10。
在本申请的一些实施例中,X1和X2均为吸电子基团。
在本申请的一些实施例中,所述可分解基团包括可热解基团或可光解基团。
另一方面,本申请的实施例还提供了一种量子点膜层的图案化方法,所述方法包括:
采用如上所述的量子点材料形成量子点溶液;
采用所述量子点溶液在基板上形成量子点薄膜;
用掩膜版遮挡在所述量子点薄膜上,并采用光照射在所述量子点薄膜的部分区域,以使得光照区域的所述量子点材料发生分解并生成所述极性改变基团;
清洗所述量子点薄膜中除所述光照区域之外的区域,得到图案化的所述量子点膜层。
在本申请的一些实施例中,所述用掩膜版遮挡在所述量子点薄膜上,并采用光照射在所述量子点薄膜的部分区域,以使得光照区域的所述量子点材料发生分解并生成所述极性改变基团包括:
用掩膜版遮挡在所述量子点薄膜上,并采用紫外光照射在所述量子点薄膜的部分区域,以使得光照区域的所述量子点材料发生分解并生成所述极性改变基团;其中,所述可分解基团为可光解基团;
或者,
用掩膜版遮挡在所述量子点薄膜上,并采用红外光照射在所述量子点薄膜的部分区域,以使得光照区域的所述量子点材料发生分解并生成所述极性改变基团;其中,所述可分解基团为可热解基团。
在本申请的一些实施例中,所述清洗所述量子点薄膜,得到图案化的所述量子点膜层包括:
采用所述量子点材料的良溶剂清洗所述量子点薄膜中除所述光照区域之外的区域,形成图案化的所述量子点膜层;其中,所述极性改变基团不溶于所述量子点材料的良溶剂。
又一方面,本申请的实施例提供了一种量子点显示器件,包括如上所述的量子点材料制备的量子点膜层。
在本申请的一些实施例中,所述量子点显示器件为量子点发光器件,所述量子点发光器件包括第一极、第二极、以及位于所述第一极和所述第二极之间的所述量子点膜层。
在本申请的一些实施例中,所述量子点显示器件为量子点色转换器件,所述量子点色转换器件包括发光基板以及位于所述发光基板上的所述量子点膜层。
上述说明仅是本申请技术方案的概述,为了能够更清楚了解本申请的技术手段,而可依照说明书的内容予以实施,并且为了让本申请的上述和其它目的、特征和优点能够更明显易懂,以下特举本申请的具体实施方式。
为了更清楚地说明本申请实施例或相关技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图。
图1和图2为本申请实施例提供的两种量子点材料的光解反应示意图;
图3为本申请实施例提供的一种量子点膜层的图案化方法流程图;
图4-图7a为本申请实施例提供的四种电致发光的量子点显示器件的结构示意图;
图7b-图7g为本申请实施例提供的第一种全彩化的量子点显示器件的制备过程示意图;
图8a-图8c为本申请实施例提供的第二种全彩化的量子点显示器件的制备过程示意图;
图9a-图9d为本申请实施例提供的第三种全彩化的量子点显示器件的制备过程示意图;
图10为本申请实施例提供的第四种全彩化的量子点显示器件的结构示意图。
下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
除非上下文另有要求,否则,在整个说明书和权利要求书中,术语“包括”被解释为开放、包含的意思,即为“包含,但不限于”。在说明书的描述中,术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例性实施例”、“示例”、“特定示例”或“一些示例”等旨在表明与该实施例或示例相关的特定特征、结构、材料或特性包括在本申请的至少一个实施例或示例中。上述术语的示意性表示不一定是指同一实施例或示例。此外,所述的特定特征、结构、材料或特点可以以任何适当方式包括在任何一个或多个实施例或示例中。
在本申请的实施例中,采用“第一”、“第二”等字样对功能和作用基本相同的相同项或相似项进行区分,仅为了清楚描述本申请实施例的技术方案,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。
相关技术中常采用光刻的方式制备图案化的量子点膜层,在光刻过程中,需要采用碱性液体作为显影液以将量子点薄膜进行图案化处理,形成图案化的量子点膜层;然而,碱性液体会降低量子点的发光性能。
基于此,本申请的实施例提供了一种量子点材料、量子点膜层图案化的方法以及量子点显示器件。参考图1所示,该量子点材料包括量子点本体1以及配位在量子点本体1表面的配体2;
配体2包括:与量子点本体1表面相结合的配位基团R1,与配位基团R1连接的可分解基团R2,以及与可分解基团R2连接的能量转移基团R3;
其中,可分解基团R2被配置为能够分解并生成极性改变基团R4,能量转移基团R3被配置为能够转移量子点材料中的载流子并阻止量子点本体1发光。
在示例性的实施例中,量子点本体的发光颜色可以为红色、绿色、蓝色或者白色,当然,还可以是其它颜色,这里不进行一一列举。
在实际应用中,在量子点本体上配位的配体不同时,量子点材料的发光频谱存在差异,具体可以根据实际情况确定。
在示例性的实施例中,量子点本体的材料可以为硫化镉(CdS)、硒化镉(CdSe)、碲化镉(CdTe)、硒化锌(ZnSe)、磷化铟(InP)、硫化铅(PbS)、硫铟铜(CuInS
2)、氧化锌(ZnO)、铯铅氯(CsPbCl
3)、铯铅溴(CsPbBr
3)、铯铅碘(CsPbI
3)、硫化镉/硫化锌(CdS/ZnS)、硒化镉/硫化锌(CdSe/ZnS)、硒化锌(ZnSe)、磷化铟/硫化锌(InP/ZnS)、硫化铅/硫化锌(PbS/ZnS)、砷化铟(InAs)、砷化镓铟(InGaAs)、氮化镓铟(InGaN)、GaN(氮化镓)、碲化锌(ZnTe)、硅(Si)、锗点(Ge)、碳点(C)以及具有上述成分的其他纳米尺度材料中的一种或多种的组合。
在示例性的实施例中,通过对量子点本体1进行表面处理,使得量子点本体1与配体2配位,配体2包裹在量子点本体1表面,以对量子点本体1起到保护作用,并促进量子点本体1更好的分散在溶液中。
在示例性的实施例中,配体2中的配位基团R1可以是具有一定反应活性的官能团,或者,还可以是带有正电荷或负电荷的基团;无论是具有一定反应活性的官能团,还是带有正电荷或负电荷的基团,配位基团R1均能够与量子点本体表面进行结合,以辅助配体2配位在量子点本体1表面。
具体的,配位基团R1可以包括氨基、多氨基、羟基、多羟基、巯基、多巯基、硫醚、多硫醚、膦、氧膦等能与量子点表面进行结合的官能团或元素。
示例性的,参考图2所示,配位基团R1可以包括-(CH
2)n-COOH,其中,n为自然数。
在示例性的实施例中,配体2中的可分解基团R2能够在一定条件下分解,并生成极性改变基团R4。具体的,可分解基团R2分解后,使得可分解基团R2中的一部分和能量转移基团R3从配体2中断裂掉,剩余部分的可分解基团R2生成极性改变基团R4。
示例性的,可分解基团R2可以包括可光解基团或可热解基团。
示例性的,可分解基团R2可以包括具有共轭双键体系的基团,例如:具有碳氧双键,碳碳双键,碳氮双键等;或者,可分解基团R2还可以包括具有双推电子基团,例如:二甲氧基,二仲氨基等。
示例性的,可分解基团R2可以与能量转移基团R3直接连接;或者,参考图2所示,可分解基团R2可以通过-(CH2)n-与能量转移基团R3连接,其中,n为自然数。
在示例性的实施例中,通过分解生成极性改变基团R4,使得发生裂解之后的配体2的溶解性与发生裂解之前的配体2的溶解性的极性相反。具体来说,若发生裂解之后的配体2为油溶性,则发生裂解之前的配体2为水溶性;或者,若发生裂解之后的配体2为水溶性,则发生裂解之前的配体2为油溶性。
在示例性的实施例中,配体2中的能量转移基团R3能够转移量子点材料中的载流子并阻止量子点本体1发光。为了说明能量转移基团R3转移量子点材料中的载流子并阻止量子点本体1发光的原理,需要说明量子点材料的发光原理:当量子点材料收到来自外界的光能或者电能时,量子点材料中的电子和空穴均从基态跃迁到激发态,激发态的电子和激发态的空穴结合后生成激子,激子辐射出能量而发光。
在本申请的实施例中,由于能量转移基团R3能够转移量子点材料中的载流子(电子或者空穴),具体来说,能量转移基团R3能够将原本迁移到量子点本体1中的电子或者空穴转移到能量转移基团R3所在的微观空间内,减少甚至避免了量子点本体1中激发态的电子和激发态的空穴结合,避免了在量子点本体1中生成激子,从而阻止量子点本体1发光。
在本申请的实施例提供的量子点材料中,通过设置配体2中包括与 量子点本体1依次连接的配位基团R1、可分解基团R2和能量转移基团R3,在制备图案化的量子点膜层时,通过掩膜版遮挡在量子点薄膜上,并采用光照射在量子点薄膜的部分区域,使得光照区域的量子点材料发生分解并生成极性改变基团R4,采用量子点材料的良溶剂清洗量子点薄膜以完成图案化,其中,极性改变基团R4不溶于量子点材料的良溶剂(光照区域的量子点材料留下,未被光线照射的区域的量子点材料被清洗掉)。这样,提供了一种简单、高效的量子点膜层图案化的方式,且可以避免使用碱性溶液对量子点薄膜进行显影造成的量子点膜层破坏。
另外,未被光线照射的区域的量子点材料中存在能量转移基团R3,在采用溶剂清洗的过程中,即使该部分材料未清洗干净、在基板上存在残留,由于能量转移基团R3能够转移量子点材料中的载流子而阻止量子点材料发光,很大程度上避免了由于量子点材料残留造成的串色问题。
在本申请的一些实施例中,能量转移基团R3为给电子基团,能量转移基团R3被配置为能够转移量子点材料中的空穴并阻止量子点本体1发光。
需要说明的是,能量转移基团R3为给电子基团时,在量子点材料吸收外界能量生成激发态的空穴时,能量转移基团R3能够给出电子以转移向量子点本体1中迁移的激发态的空穴(或者转移还处于基态的空穴),从而减少或避免在量子点本体1中形成激子,达到阻止量子点本体1发光的效果。
在本申请的一些实施例中,能量转移基团R3为吸电子基团,能量转移基团R3被配置为能够转移量子点材料中的电子并阻止量子点本体1发光。
需要说明的是,能量转移基团R3为吸电子基团时,在量子点材料吸收外界能量生成激发态的电子时,能量转移基团R3能够吸引电子以转移向量子点本体1中迁移的激发态的电子(或者转移还处于基态的电子),从而减少或避免在量子点本体1中形成激子,达到阻止量子点本体1发光的效果。
在实际对量子点膜层进行图案化处理时,即使存在部分残留的量子点材料,由于能量转移基团R3阻止了量子点本体1的发光,有效的避免了由于量子点材料残留造成的串色问题。
在本申请的一些实施例中,能量转移基团R3包括低聚噻吩类基团或聚噻吩类基团。
在示例性的实施例中,低聚噻吩类基团或聚噻吩类基团的聚合度可以根据其各自对量子点材料的溶解性的影响确定。具体的,低聚噻吩类基团或聚噻吩类基团的聚合度越低,量子点材料的溶解性越好。
当然,在低聚噻吩类基团或聚噻吩类基团上含有促进溶解的侧链或基团时,可以提高量子点材料在相应溶剂中的溶解度。另外,低聚噻吩类基团或聚噻吩类基团的分子量越低,量子点材料的溶解性越好。具体可以根据实际情况确定,这里不进行限制。
在本申请的一些实施例中,低聚噻吩类基团或聚噻吩类基团的通式均为
在示例性的实施例中,聚合度m的取值范围为3-10。
在示例性的实施例中,X1和X2均为吸电子基团。
具体的,吸电子基团可以包括:氰基(-CN)、磺酸基(-SO
3H)、甲酰基(-CHO)、酰基(-COR)、羧基(-COOH)、硝基(-NO
2)、叔胺正离子(-NR
3)、三卤甲基(-CX
3);其中,R为烷烃,X为卤素。
在示例性的实施例中,X1和X2可以为如上吸电子基团中任意的一个。
在本申请的实施例中,能量转移基团R3为低聚噻吩类基团或聚噻吩类基团,且低聚噻吩类基团或聚噻吩类基团上还连接有吸电子基团X1和X2,使得原本就属于吸电子基团的低聚噻吩类基团或聚噻吩类基团有更强的吸电子能力,在量子点材料吸收外界能量生成激发态的电子时,能量转移基团R3能够吸引电子以转移位于量子点本体1中的激发态的电子(或者转移还处于基态的电子),从而减少或避免在量子点本体1中形成激子,达到阻止量子点本体1发光的效果。
需要说明的是,本申请的实施例中涉及到的吸电子基团和给电子基团是相对的概念,没有明确的划分界限。
在本申请的一些实施例中,可分解基团R2包括可热解基团或可光解基团。
示例性的,可分解基团R2可以包括具有共轭双键体系的基团,例如:具有碳氧双键,碳碳双键,碳氮双键等;或者,可分解基团R2还可以包括具有双推电子基团,例如:二甲氧基,二仲氨基等。
本申请的实施例还提供了一种量子点膜层的图案化方法,参考图3所示,该方法包括:
S901、采用如上所述的量子点材料形成量子点溶液;
下面以硒化镉(CdSe)量子点为例,说明量子点材料的溶液制备方法,具体如下:
S9011、CdSe核的制备;
将0.4mmol的氧化镉(CdO),3.2mmol的油酸(OA),和10mL的十八烯(ODE)加入50mL三颈圆底烧瓶中,在120℃的油浴中加热,抽真空1h,通氮气,升温至240℃,此时,三口瓶内溶液呈澄清透明状态。加入1g的三辛基膦(TOP)和3g十六胺,降温至150℃,抽真空30min,通氮气,升温至280℃。快速注入三辛基膦化镉(TOP-Se)澄清溶液,该溶液包括2mmol的Se,2mL的三辛基膦和2.5mL的十八烯,在手套箱中搅拌至液体变为黄色透明状,保温3min,迅速降至室温,用体积比为3:1的甲醇/氯仿溶液多次萃取后,将量子点本体分散于氯仿中待用。
S9012、硫化锌(ZnS)壳层前驱体的制备;
在三颈圆底烧瓶中加入0.3mmoL的醋酸锌,1mmol的双对氯苯基 三氯乙烷(DDT),6mL的十八烯,4mL的油胺(OLA),在90℃下搅拌加热,并抽真空通氮气三次后,备用。
S9013、壳层包覆过程;
在三颈圆底烧瓶中加入2mL的硒化镉氯仿溶液,2mL的十八烯,200μL的油酸,120℃抽真空-换氮气三次后,升温至240℃,以1.5mL/h的速度ZnS壳层前驱体转移至主反应体系硒化镉氯仿溶液中。
S9013、清洗过程;
为了彻底清除游离配体,清洗过程分为三步:①将100mL体积比为7:3丙酮/甲醇混合溶液加入装有量子点溶液的三颈圆底烧瓶中,60℃下磁力搅拌10min后,离心得到沉淀;②在三颈圆底烧瓶中,将沉淀完全分散于20mL甲苯,再加入100mL体积比为3:7的丙酮/甲醇混合溶液,60℃下磁力搅拌10min后,离心得到沉淀;③将沉淀完全分散于20mL甲苯,加入三颈圆底烧瓶中,再加入20mL冰醋酸和70mL甲醇,70℃下搅拌10min后,离心得到沉淀,将沉淀放入真空干燥箱中60℃烘干,用研钵研磨成粉末备用。
S9014、配体交换过程;
在三颈圆底烧瓶中配制浓度为20mg/ml的5ml正辛烷量子点溶液,在80℃下搅拌加热、抽真空、通氮气三次后,注入5ml的浓度为60mg/ml的配体分子2(包括如图1中所示的R1基团、R2基团和R3基团)的正辛烷溶液,反应4个小时,在重复步骤S9013、的清洗过程后,溶解在正辛烷中备用。
这样,就完成了配体包括如图1中所示的R1基团、R2基团和R3基团的量子点材料的溶液的制备。
S902、采用量子点溶液在基板上形成量子点薄膜;
在实际应用中,可以采用印刷或者涂布发工艺在基板上形成量子点薄膜,量子点薄膜是一层整面性的薄膜。
这里对于上述基板的具体类型和结构不做限定,具体可以根据实际情况确定。
S903、用掩膜版遮挡在量子点薄膜上,并采用光照射在量子点薄膜的部分区域,以使得光照区域的量子点材料发生分解并生成极性改变基团R4;
在实际应用中,被光线照射的区域中的量子点材料发生如图1或如 图2所示的化学反应,使得可分解基团R2分解并生成极性改变基团R4,这样,使得光照区域的量子点材料的配体包括R1基团和R4基团,而未被光线照射的区域的量子点材料的配体仍旧包括R1基团、R2基团和R3基团。
S904、清洗量子点薄膜中除光照区域之外的区域,得到图案化的量子点膜层。
具体的,通过分解生成极性改变基团R4,使得发生裂解之后的配体2的溶解性与发生裂解之前的配体2的溶解性的极性相反。具体来说,若发生裂解之后的配体2为油溶性,则发生裂解之前的配体2为水溶性;或者,若发生裂解之后的配体2为水溶性,则发生裂解之前的配体2为油溶性。
在实际应用中,采用量子点材料的良溶剂清洗量子点薄膜,其中,极性改变基团R4不溶于量子点材料的良溶剂,这样,光照区域的量子点材料留下,未被光线照射的区域的量子点材料被清洗掉,从而得到图案化的量子点膜层。本申请的实施例提供的量子点膜层的图案化方法简单、高效,避免了使用碱性溶液对量子点薄膜进行显影造成的量子点膜层破坏。
在本申请的一些实施例中,S903、用掩膜版遮挡在量子点薄膜上,并采用光照射在量子点薄膜的部分区域,以使得光照区域的量子点材料发生分解并生成极性改变基团包括:
S9031、用掩膜版遮挡在量子点薄膜上,并采用紫外光照射在量子点薄膜的部分区域,以使得光照区域的量子点材料发生分解并生成极性改变基团;其中,可分解基团为可光解基团;
或者,
S9032、用掩膜版遮挡在量子点薄膜上,并采用红外光照射在量子点薄膜的部分区域,以使得光照区域的量子点材料发生分解并生成极性改变基团;其中,可分解基团为可热解基团。
在示例性的实施例中,可光解基团通常为紫外光可分解基团,故采用紫外光线照射;另外,由于红外光线有很强的热效应,可以通过红外光线的照射达到局部区域加热的目的,使得可热分解基团分解。
在本申请的一些实施例中,S904、清洗量子点薄膜,得到图案化的量子点膜层包括:
S9041、采用量子点材料的良溶剂清洗量子点薄膜中除光照区域之外的区域,形成图案化的量子点膜层;其中,极性改变基团不溶于量子点材料的良溶剂。
这样,光照区域的量子点材料留下,未被光线照射的区域的量子点材料被清洗掉,从而得到图案化的量子点膜层。本申请的实施例提供的量子点膜层的图案化方法简单、高效,避免了使用碱性溶液对量子点薄膜进行显影造成的量子点膜层破坏。
本申请的实施例提供了一种量子点显示器件,包括如上所述的量子点材料制备的量子点膜层。
在本申请的实施例提供的量子点显示器件中,通过在量子点膜层的量子点材料中设置配体2,且配体2中包括与量子点本体1依次连接的配位基团R1、可分解基团R2和能量转移基团R3,在制备图案化的量子点膜层时,通过掩膜版遮挡在量子点薄膜上,并采用光照射在量子点薄膜的部分区域,使得光照区域的量子点材料发生分解并生成极性改变基团R4,采用量子点材料的良溶剂清洗量子点薄膜以完成图案化,其中,极性改变基团R4不溶于量子点材料的良溶剂(光照区域的量子点材料留下,未被光线照射的区域的量子点材料被清洗掉)。这样,提供了一种简单、高效的量子点膜层图案化的方式,且可以避免使用碱性溶液对量子点薄膜进行显影造成的量子点膜层破坏。
在本申请的一些实施例中,量子点显示器件为量子点发光器件,参考图4所示,量子点发光器件包括第一极11、第二极13、以及位于第一极11和第二极13之间的量子点膜层12。
在示例性的实施例中,第一极11可以是阴极,第二极13可以是阳极;或者,第一极11可以是阳极,第二极13可以是阴极。
在示例性的实施例中,量子点发光器件中量子点膜层的发光原理为电致发光。
在示例性的实施例中,参考图5或图6所示,量子点发光器件还包括空穴传输层16、空穴注入层17和电子传输层14。
具体的,量子点发光器件包括如图5所示的正置结构和如图6所示的倒置结构。
参考图5所示,正置结构的量子点发光器件包括位于衬底上依次层叠设置的第二极13、空穴注入层(HI)17、空穴传输层(HT)16、量子点 膜层12、电子传输层(ET)14和第一极11,其中,第一极11为阴极,第二极13为阳极。
在实际应用中,图5所示的正置结构的量子点发光器件的制备过程简要如下:
1、形成第二极13并清洗,其中,第二极13为导电玻璃;具体的,将导电玻璃分别采用异丙醇、水、丙酮超声清洗,并使用紫外光处理5-10min。
需要说明的是,导电玻璃可以为在玻璃上形成ITO(铟锡氧化物)薄膜得到,或者,导电玻璃可以为在玻璃(SiO2)中掺杂氟得到,掺杂氟的导电玻璃可以称作FTO。
2、制备空穴注入层17;
在上述导电玻璃上,通过旋涂、蒸镀,或喷墨打印等方式制备空穴注入层17。空穴注入层可以选择PEDOT:PSS(聚3,4-乙烯二氧噻吩/聚苯乙烯磺酸盐);其中,PEDOT的成膜温度为130-150℃。旋涂工艺制备时,匀胶机的转速可以设置为500-2500rpm,以调整膜层的厚度。
3、制备空穴传输层16;
在上述空穴注入层17上,通过旋涂、蒸镀,或喷墨打印等方式制备空穴传输层16,例如将5mg/ml~30mg/ml的TFB(聚9,9-二辛基芴-CO-N-4-丁基苯基二苯胺)溶于氯苯溶液中,旋涂工艺制备时,匀胶机的转速可以设置为2000rpm~4000rpm,再在235℃条件下退火30mins。其中,空穴传输层16的主要成分为TFB,在实际应用中,空穴传输层16的主要成分还可以为聚乙烯基咔唑(PVK)。
4、制备量子点膜层12;
量子点膜层12的制备过程可以参考前文中所述的量子点膜层12的图案化方法,这里不再赘述。
5、制备电子传输层14;
电子传输层14可以是氧化锌基纳米粒子薄膜,具体的,旋涂氧化锌纳米粒子,之后并在80-120℃条件下加热成膜。电子传输层材料还可以选择离子掺杂型氧化锌纳米粒子,如镁(Mg),铟(In),铝(Al),镓(Ga)掺杂氧化镁纳米粒子等。在旋涂成膜时,匀胶机转速可以设置为500-2500rpm,以调整膜层的厚度。
6、制备第一极11;
第一极11的材料可以为金属材料,例如铝(Al)、银(Ag)或者铟锌氧化物(IZO),具体可以采用蒸镀或者磁控溅射的工艺制备。
在实际应用中,在形成如图5所示的第一极11之后,还会进一步进行封装,以保护该量子点发光器件,具体可以参考相关技术,这里不再赘述。
参考图6所示,倒置结构的量子点发光器件包括位于衬底上依次层叠设置的第一极11、电子传输层14、量子点膜层12、空穴传输层16、空穴注入层17和第二极13,其中,第一极11为阴极,第二极13为阳极。
倒置结构的量子点发光器件的制备工艺过程与正置结构的量子点发光器件的制备方法类似、制备工艺过程顺序相反,依次为:制备第一极11并清洗,制备电子传输层14、制备量子点膜层12、制备空穴传输层16、制备空穴注入层17和制备第二极13,具体过程可以参考正置结构的量子点发光器件的制备工艺过程。
需要说明的是,在实际应用中,在倒置结构的量子点发光器件中,电子传输层的材料还可以为氧化锌薄膜,氧化锌薄膜的制备过程如下:将1g醋酸锌(或者硝酸锌等)溶于5mL乙醇胺和正丁醇的混合溶液中。将设置有第一极11的导电玻璃置于匀胶机,将90-120μL锌的前驱体溶液滴加到第一极11上,旋涂,将上述设置有第一极11的导电玻璃置于250-300度的热台上,加热并使得溶剂蒸发,再引入聚醚酰亚胺膜层。
图7a示出了一种全彩化的量子点发光器件,该量子点发光器件包括衬底100,以及位于衬底100上的第一极11、电子传输层14、像素定义层18、红色量子点膜层121、绿色量子点膜层122、蓝色量子点膜层123、空穴传输层16、空穴注入层17和第二极13。当然,该全彩化的量子点发光器件还可以包括其它结构或部件,具体可以参考相关技术,这里不再赘述。
在实际应用中,通过采用如前文所述的量子点膜层的图案化方法,可以制备得到全彩化的量子点发光器件,参考图7b-图7g所示,红色量子点膜层121、绿色量子点膜层122、蓝色量子点膜层123的图案化制备方法具体如下:
S1、提供基板500,并在基板500上设置像素定义层18;
这里对基板500的具体结构不做限定,可以根据量子点显示器件类 型的不同,确定其具体的结构。
S2、形成如图7b所示的红色量子点薄膜1210,并用掩膜版50遮挡在红色量子点薄膜1210上,并采用紫外光照射在量子点薄膜1210的部分区域,以使得光照区域的量子点材料发生分解并生成极性改变基团;其中,可分解基团为可光解基团;
S3、采用量子点材料的良溶剂清洗红色量子点薄膜1210中除光照区域之外的区域,形成如图7c所示的图案化的红色量子点膜层121;其中,极性改变基团不溶于量子点材料的良溶剂;
S4、形成如图7d所示的绿色量子点薄膜1220,并用掩膜版51遮挡在绿色量子点薄膜1220上,并采用紫外光照射在绿色量子点薄膜1220的部分区域,以使得光照区域的量子点材料发生分解并生成极性改变基团;其中,可分解基团为可光解基团;
S5、采用量子点材料的良溶剂清洗绿色量子点薄膜1220中除光照区域之外的区域,形成如图7e所示的图案化的绿色量子点膜层122;其中,极性改变基团不溶于量子点材料的良溶剂;
S6、形成如图7f所示的蓝色量子点薄膜1230,并用掩膜版52遮挡在蓝色量子点薄膜1230上,并采用紫外光照射在蓝色量子点薄膜1230的部分区域,以使得光照区域的量子点材料发生分解并生成极性改变基团;其中,可分解基团为可光解基团;
S7、采用量子点材料的良溶剂清洗蓝色量子点薄膜1230中除光照区域之外的区域,形成如图7g所示的图案化的蓝色量子点膜层123;其中,极性改变基团不溶于量子点材料的良溶剂。
在本申请的一些实施例中,量子点显示器件为量子点色转换器件,量子点色转换器件包括发光基板以及位于发光基板上的量子点膜层。
在示例性的实施例中,量子点色转换器件中量子点膜层的发光原理为光致发光。
在示例性的实施例中,发光基板可以为OLED发光基板,例如:白光OLED发光基板,或者,蓝光OLED发光基板。
示例性的,参考图8a所示,在蓝光OLED发光基板200上设置有像素定义层18,通过依次在如图8a所示的结构中形成如图8b所示的红色量子点膜层121、形成如图8c所示的绿色量子点膜层122,由于蓝光OLED发光基板200本身发出蓝光,蓝光可以激发红色量子点膜层 121发出红光,蓝光也可以激发绿色量子点膜层122发出绿光,从而得到一种全彩化的量子点显示器件。
这里对于上述蓝光OLED发光基板200的具体结构不做限定,具体可以根据实际情况确定。
示例性的,参考图9a所示,在白光OLED发光基板300上设置有像素定义层18,通过依次在如图9a所示的结构中形成如图9b所示的红色量子点膜层121、形成如图9c所示的绿色量子点膜层122、形成如图9d所示的蓝色量子点膜层123,从而得到又一种全彩化的量子点显示器件。
这里对于上述白光OLED发光基板300的具体结构不做限定,具体可以根据实际情况确定。
在示例性的实施例中,参考图10所示,发光基板可以为Micro LED(Micro Light Emitting Diode微发光二极管)发光基板400,Micro LED发光基板400的发光颜色可以为蓝色。通过在蓝色Micro LED发光基板400的发光单元上分别设置红色量子点膜层121和绿色量子点膜层122,也可以得到一种基于Micro LED技术的全彩化量子点显示器件。
这里对于上述蓝色Micro LED发光基板400的具体结构不做限定,具体可以根据实际情况确定。
以上所述,仅为本申请的具体实施方式,但本申请的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本申请揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本申请的保护范围之内。因此,本申请的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
Claims (16)
- 一种量子点材料,其中,包括量子点本体以及配位在所述量子点本体表面的配体;所述配体包括:与所述量子点本体表面相结合的配位基团,与所述配位基团连接的可分解基团,以及与所述可分解基团连接的能量转移基团;其中,所述可分解基团被配置为能够分解并生成极性改变基团,所述能量转移基团被配置为能够转移所述量子点材料中的载流子并阻止所述量子点本体发光。
- 根据权利要求1所述的量子点材料,其中,所述能量转移基团为给电子基团,所述能量转移基团被配置为能够转移所述量子点材料中的空穴并阻止所述量子点本体发光。
- 根据权利要求1所述的量子点材料,其中,所述能量转移基团为吸电子基团,所述能量转移基团被配置为能够转移所述量子点材料中的电子并阻止所述量子点本体发光。
- 根据权利要求1所述的量子点材料,其中,所述能量转移基团包括低聚噻吩类基团或聚噻吩类基团。
- 根据权利要求5所述的量子点材料,其中,m的取值范围为3-10。
- 根据权利要求5所述的量子点材料,其中,X1和X2均为吸电子基团。
- 根据权利要求1-9任一项所述的量子点材料,其中,所述可分解基团包括可热解基团或可光解基团。
- 一种量子点膜层的图案化方法,其中,所述方法包括:采用权利要求1-10任一项所述的量子点材料形成量子点溶液;采用所述量子点溶液在基板上形成量子点薄膜;用掩膜版遮挡在所述量子点薄膜上,并采用光照射在所述量子点薄膜的部分区域,以使得光照区域的所述量子点材料发生分解并生成所述极性改变基团;清洗所述量子点薄膜中除所述光照区域之外的区域,得到图案化的所述量子点膜层。
- 根据权利要求11所述的图案化方法,其中,所述用掩膜版遮挡在所述量子点薄膜上,并采用光照射在所述量子点薄膜的部分区域,以使得光照区域的所述量子点材料发生分解并生成所述极性改变基团包括:用掩膜版遮挡在所述量子点薄膜上,并采用紫外光照射在所述量子点薄膜的部分区域,以使得光照区域的所述量子点材料发生分解并生成所述极性改变基团;其中,所述可分解基团为可光解基团;或者,用掩膜版遮挡在所述量子点薄膜上,并采用红外光照射在所述量子点薄膜的部分区域,以使得光照区域的所述量子点材料发生分解并生成所述极性改变基团;其中,所述可分解基团为可热解基团。
- 根据权利要求11所述的图案化方法,其中,所述清洗所述量子点薄膜,得到图案化的所述量子点膜层包括:采用所述量子点材料的良溶剂清洗所述量子点薄膜中除所述光照 区域之外的区域,形成图案化的所述量子点膜层;其中,所述极性改变基团不溶于所述量子点材料的良溶剂。
- 一种量子点显示器件,其中,包括权利要求1-10任一项所述的量子点材料制备的量子点膜层。
- 根据权利要求14所述的量子点显示器件,其中,所述量子点显示器件为量子点发光器件,所述量子点发光器件包括第一极、第二极、以及位于所述第一极和所述第二极之间的所述量子点膜层。
- 根据权利要求14所述的量子点显示器件,其中,所述量子点显示器件为量子点色转换器件,所述量子点色转换器件包括发光基板以及位于所述发光基板上的所述量子点膜层。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/CN2021/125003 WO2023065153A1 (zh) | 2021-10-20 | 2021-10-20 | 量子点材料、量子点膜层的图案化方法及量子点显示器件 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN116323861A true CN116323861A (zh) | 2023-06-23 |
Family
ID=86057774
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202180003028.9A Pending CN116323861A (zh) | 2021-10-20 | 2021-10-20 | 量子点材料、量子点膜层的图案化方法及量子点显示器件 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN116323861A (zh) |
WO (1) | WO2023065153A1 (zh) |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101831056A (zh) * | 2010-05-17 | 2010-09-15 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 一种高光转化率的含氟聚噻吩光电材料及其制备方法 |
US20110156059A1 (en) * | 2007-04-30 | 2011-06-30 | Novaled Ag | Light-Emitting Component and Method for The Production Thereof |
CN110590549A (zh) * | 2019-09-30 | 2019-12-20 | 京东方科技集团股份有限公司 | 配体、量子点及量子点层的图案化方法 |
CN111769200A (zh) * | 2020-07-09 | 2020-10-13 | 京东方科技集团股份有限公司 | 量子点发光器件、量子点层图案化的方法及显示装置 |
CN111900269A (zh) * | 2020-07-15 | 2020-11-06 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种量子点层图案化的方法及量子点发光器件的制作方法 |
CN112234154A (zh) * | 2020-10-14 | 2021-01-15 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种量子点层图案化的方法及相关应用 |
CN112300784A (zh) * | 2020-10-28 | 2021-02-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | 量子点材料、量子点膜层的图案化方法及量子点发光器件 |
CN112410019A (zh) * | 2020-11-20 | 2021-02-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 纳米粒子、纳米粒子层图案化的方法及相关应用 |
CN113088279A (zh) * | 2021-04-15 | 2021-07-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | 量子点材料、发光二极管基板及制作方法、显示装置 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20080047930A1 (en) * | 2006-08-23 | 2008-02-28 | Graciela Beatriz Blanchet | Method to form a pattern of functional material on a substrate |
CN108447999B (zh) * | 2018-03-26 | 2021-04-30 | 京东方科技集团股份有限公司 | 量子点层图案化方法及显示装置的制作方法 |
CN109037490A (zh) * | 2018-07-11 | 2018-12-18 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种像素限定层结构及其制备方法 |
CN113292463A (zh) * | 2020-02-21 | 2021-08-24 | 京东方科技集团股份有限公司 | 交联配体、纳米粒子层图案化的方法、量子点发光器件及显示装置 |
-
2021
- 2021-10-20 CN CN202180003028.9A patent/CN116323861A/zh active Pending
- 2021-10-20 WO PCT/CN2021/125003 patent/WO2023065153A1/zh unknown
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20110156059A1 (en) * | 2007-04-30 | 2011-06-30 | Novaled Ag | Light-Emitting Component and Method for The Production Thereof |
CN101831056A (zh) * | 2010-05-17 | 2010-09-15 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 一种高光转化率的含氟聚噻吩光电材料及其制备方法 |
CN110590549A (zh) * | 2019-09-30 | 2019-12-20 | 京东方科技集团股份有限公司 | 配体、量子点及量子点层的图案化方法 |
CN111769200A (zh) * | 2020-07-09 | 2020-10-13 | 京东方科技集团股份有限公司 | 量子点发光器件、量子点层图案化的方法及显示装置 |
CN111900269A (zh) * | 2020-07-15 | 2020-11-06 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种量子点层图案化的方法及量子点发光器件的制作方法 |
CN112234154A (zh) * | 2020-10-14 | 2021-01-15 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种量子点层图案化的方法及相关应用 |
CN112300784A (zh) * | 2020-10-28 | 2021-02-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | 量子点材料、量子点膜层的图案化方法及量子点发光器件 |
CN112410019A (zh) * | 2020-11-20 | 2021-02-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 纳米粒子、纳米粒子层图案化的方法及相关应用 |
CN113088279A (zh) * | 2021-04-15 | 2021-07-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | 量子点材料、发光二极管基板及制作方法、显示装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2023065153A1 (zh) | 2023-04-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11866628B2 (en) | Ligand modified quantum dot material and patterning thereof, and quantum dot material for light emitting and display devices | |
US10784457B2 (en) | Fabricating method of QLED device and QLED device | |
CN108550707B (zh) | 量子点发光二极管、液晶显示设备 | |
Forrest | Active optoelectronics using thin-film organic semiconductors | |
US7615800B2 (en) | Quantum dot light emitting layer | |
WO2018000723A1 (en) | Organic ligand and preparation method thereof, quantum dot structure material, quantum-dot-containing layer, and light emitting diode | |
WO2018035948A1 (zh) | 发光二极管装置、其制备方法和基于其的显示装置 | |
US20160240730A1 (en) | Light-emitting device and method for manufacturing light-emitting device | |
Peng et al. | Efficient vacuum-free-processed quantum dot light-emitting diodes with printable liquid metal cathodes | |
US20060063027A1 (en) | Organic electroluminescent element | |
US20210388261A1 (en) | Perovskite lighting systems | |
Zhao et al. | Light-emitting diodes based on colloidal silicon quantum dots | |
KR20180035279A (ko) | 백색광 양자점 발광 소자 및 이의 제조 방법 | |
CN109980100B (zh) | 发光材料及其制备方法和qled器件 | |
Shen et al. | Highly efficient near-infrared light-emitting diodes by using type-II CdTe/CdSe core/shell quantum dots as a phosphor | |
CN108899430A (zh) | 一种量子点发光二极管及其制备方法、显示面板 | |
WO2017031265A1 (en) | Frequency dependent light emitting devices | |
Nguyen et al. | Investigation the effect of different surface ligand treatments on luminescence and performance of quantum dot LEDs | |
CN116323861A (zh) | 量子点材料、量子点膜层的图案化方法及量子点显示器件 | |
CN111384244B (zh) | 量子点发光二极管及其制备方法 | |
Kim et al. | High-performance quantum dot-light-emitting diodes with a polyethylenimine ethoxylated-modified emission layer | |
Shin et al. | Hybrid device based on GaN nanoneedles and MEH-PPV/PEDOT: PSS polymer | |
CN113046077B (zh) | 一种复合材料、量子点发光二极管及其制备方法 | |
CN210607334U (zh) | 一种喷墨打印有机、钙钛矿杂化全彩显示屏 | |
Wei et al. | Hole transport layer-free and full-solution processed all-inorganic quantum dot light emitting diodes with low turn-on voltage |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination |