CN1162740C - 液晶显示单元的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种在形成定向薄膜时可以持续进行处理的聚合物基底的液晶显示单元的制造方法。即，液晶显示单元的取向薄膜3的垂直定向处理是通过使用聚酰亚胺类的高聚物垂直取向制剂进行的，从而使得液晶显示单元的摩擦方向是固定的，而与其特性规格无关。相应的，当聚合物基底沿纵向方向持续移动时，执行聚酰亚胺类的高聚物垂直取向制剂的形成过程(印刷过程和固化过程)以及执行在平行于纵向方向上的固定方向上的摩擦处理过程而进行的取向处理都是可能的。相应的，提供使用聚合物基底的液晶显示单元的制造方法也是可能的，其中不需要为了改变摩擦方向而进行工具的改变。

Description

液晶显示单元的制造方法

技术领域

本发明涉及一种使用聚合物基底的液晶显示单元的制造方法。尤其是涉及一种简单的使用聚合物基底大量生产优质的液晶显示单元的制造方法。

背景技术

图7所示的是传统的使用聚合物基底的STN(超扭曲向列)液晶显示单元的结构。使用聚合物基底的液晶显示单元STN的制造方法的一个实施例将参照附图7进行描述。由ITO构成的透明基底22位于由聚碳酸酯等构成的聚合物基底21上。接下来，在聚合物基底21的表面印刷上聚酰胺酸或者聚酰亚胺溶液并固化从而形成由聚酰亚胺构成的取向薄膜23。接下来，基底21通过将基底21与由棉或者人造纤维构成的软皮布进行摩擦来进行取向。由ITO构成的透明电极25以及取向薄膜26同样排列在另一相对的聚合物基底24上。基底24通过摩擦进行取向，从而使基底24的摩擦方向形成一个相对于先前基底21的摩擦方向大约从200到260度的角。这两层基底彼此相对并且通过密封剂27彼此集成在一起。一个液晶28密封在这些基底的间隙当中，从而形成一个STN液晶显示单元。在使用这样的聚合物基底的STN液晶显示单元中，用高聚物代替传统的玻璃来形成基底，从而使得显示单元不轻易的爆裂，并且重量较轻。更进一步，因为使用了STN显示模式，显示质量的恶化即使在时间分割中操作电极的数目增加时也会很小。大容量的显示也可以实现。

采用聚合物基底的另一个优点在于，由于聚合物基底是可弯曲的，持续的操作处理除了可以在玻璃基底工作处理过程中使用的片-供给(sheet-fed)的方式以外，还能以被称为是卷-卷(Roll to Roll)的方式进行。在使用卷-卷的持续处理方式中，取向薄膜印刷处理过程，取向薄膜固化处理过程以及取向处理过程可以使用绕为卷形的聚合物基底31进行持续操作，从而使得这种制造方法特别简单并且适于优质大量生产。

但是，在STN显示模式中的取向薄膜的取向是均匀取向的(平行的)，并且上层与下层基底的取向角度都是从200到260度，因此根据产品的特性，该角度不是固定的。

依据这一产品，由于在处理过程中摩擦方向都不是固定的，摩擦软皮布的摩擦方向必须根据基底的流动方向改变到一个的预定角度，这需要使用工具进行改变的时间，这样花费了时间和劳动。在纵向上连续的基底延伸被用于使用卷对卷的连续处理中。从而，在所有一个卷处理以后，一系列的操作结束，并且改变使用工具。在STN液晶显示单元的情况下，重要的特性，例如光电极特性，可见角度等由取向方向决定。因此，无须多说，取向方向对于每一产品都是变化的。当每一产品中持续系列的操作结束时，产量将比片-供给处理的玻璃基底的加工处理的要低。

在为了获得均匀的取向而进行的摩擦处理过程中，摩擦过程中的摩擦力相对来说是较强的，会使比玻璃更柔软的聚合物基底被破坏。因此这就造成了在显示质量上会存在更严重的缺点。

另外，在聚合物基底中需要高的光学各向同性，因为均匀的取向方向有一个不固定的角度。原因将在下文中解释。STN液晶显示单元采用光学原理设计，从而使得在光电元件以外排列一个偏振元件，并且线性的偏振光将入射到液晶分子上。在液晶显示单元中一般使用的玻璃基底传统上是光学各向同性的，并且以任何方向入射的线性偏振光被发射，就像线性偏振光以同一方向入射一样。因此，STN光学设计可以忽略基底进行。

但是，在聚合物基底的情况下，在x和y方向上的折射指数几乎是各向异性的，而不是光学各向同性的。即，除了从x和y方向上，从其他方向上入射的线性偏振光在从聚合物基底上发射的时候成为椭圆偏振光，从而使得STN液晶显示单元的光学设计就很难加以控制。解决这一问题有两种方法值得考虑。一个解决方法是消除使用的聚合物基底的光学各向异性。但是消除聚合物基底的光学各向异性，必须减少材料分子本身的光学各向异性，而考虑到在基底的制造时没有材料分子被排列在一个方向上。因此，基底制造变得非常复杂，材料本身的选择范围变得非常有限。另一个解决方法是校准基底上的液晶显示分子的取向方向，以及聚合物基底的光学各向异性的相位超前轴方向或者相位滞后轴方向。如果采用这种方法，入射到聚合物基底上的线性偏振光不会在发射时变成椭圆偏振光，而是保持原来的线性偏振光，从而使得光学设计是可以控制的。但是，在细长的卷形聚合物基底的情况下，由于聚合物基底制造方法上的限制，光学各向异性的相位超前轴方向或者相位滞后轴方向必须设置成与长度方向平行或者垂直。因此，没有取向角度可被设置成STN中所需的从200到260度的任意角度。与此相对照，当在一个取向方向上形成一个图形时，聚合物基底的图形利用率大为降低，并且在以后的装配过程中上层基底与下层基底的结合变得非常复杂。

如上文所述，传统的使用聚合物基底的显示单元的制造方法存在着上述问题。相应的，简单的通过使用聚合物基底的弹性以卷-卷的方法制造是不可能的。因此，本发明的一个目的就是提供一种简单的制造方法，该方法可以不破坏聚合物基底而具有高的产量。

发明内容

在本发明中，我们已经发现聚合物基底在纵向方向上是连续移动的，而且在制造中，在垂直取向薄膜形成过程与垂直取向薄膜硬代过程中使用了在聚合物基底的取向处理过程中使用的垂直取向(VA)模式。

即，当使用纵向长度大于横向长度的聚合物基底显示单元在制造时，在聚合物基底中形成垂直取向薄膜材料的过程，以及通过固化这一材料获得垂直取向薄膜的过程通过连续移动纵向上的聚合物基底而进行。换句话说，取向薄膜可以通过当聚合物基底连续移动时，以垂直取向模式(VA)取向聚合物基底而形成。

而且，在垂直取向薄膜形成以后，接下来进行指定液晶分子的倾斜方向的过程(取向处理过程)，通过在纵向上连续移动聚合物基底来实现。因为以垂直取向方式在同一方向进行摩擦是足够的，甚至在液晶的属性特征已经改变的时候，当聚合物基底在纵向上移动的时候进行取向处理，因此极大地提高了产量。

作为一个具体的取向方法，有一种在其移动方向上摩擦聚合物基底的方法，或者一种在取向薄膜中进行取向处理的方法，在该方法中，通过光改变在结构中含有的官能团以及当光从一个固定的方向照射时移动聚合物基底来实现。

而且，在聚合物基底中形成透明电极图形的方法以及在聚合物基底中形成垂直取向薄膜的方法都被采用，持续移动的聚合物基底的缓冲器也在处理过程之间采用，从而使得聚合物基底在纵向上持续移动。这样，制作图形的过程无法执行曝光的过程，除非在一旦执行中断的时候，并且垂直取向薄膜形成过程可以执行连续的处理过程而不需要停止聚合物基底的移动。

附图说明

图1是表示本发明的显示单元的结构的截面图。图2是表示本发明的显示单元的制造处理方法的代表性示图。图3，4是本发明的显示单元的另一种结构的截面图。图5，6是本发明的显示单元的另一种制造方法的代表性示图。图7是传统的显示单元的结构的截面图。

具体实施方式

下文将参照附图描述本发明的实施方式。

图1至6是在本发明中采用垂直取向模式(VA)的聚合物基底液晶显示单元的典型结构图以及它的制造方法。垂直取向模式(VA)在显示模式中广为人知，并且具有较好的时间分割特性，而且能够获得较好的显示质量。

图1示出了在本发明中使用聚合物基底的液晶显示单元中利用垂直取向模式(VA)的典型结构图。使负介电各向异性的液晶显示分子8在同一单元内沿相对于聚合物基底的垂直方向稍倾斜的方向上取向。这样，当电压加在透明电极2上时，液晶分子均匀地沿同一方向倾斜，从而产生均匀的光学改变。这样的初始取向通常是通过在基底表面上形成一个垂直取向薄膜3并且在同一方向上摩擦垂直取向薄膜3来获得。在这样的描述中，看起来似乎是与STN显示模式是同样的。但是，因为摩擦仅仅决定了倾斜方向，因此实质上的差别在于它足以设定一个固定方向。即，当如本发明所述在使用聚合物基底的显示单元中使用垂直取向模式的时候，上层基底与下层基底均是只沿着纵向基底移动方向摩擦，实质上改变这个方向是不必要的，即使在显示单元的特征规格发生改变的时候。当上层基底与下层基底装配在一起的时候，如图1所示，仅设定上层基底与下层基底的摩擦方向相反有多种方法。在这时，聚合物基底的流动方向，即，光学各向异性的相位超前轴与相位滞后轴与摩擦方向平行，即，在任何时候聚合物基底上的液晶分子的取向方向。没有其他具有聚合物基底的光学各向异性比在STN时对光学设计有坏的影响。因此，聚合物基底可以在考虑透明度，耐久度以及成本方面上仔细选择，并且制造简单。

根据本发明，摩擦强度也决定了倾斜方向，从而使得不需要强的摩擦力。相应的，也不需要担心柔软的聚合物基底会被损环。如果基底是传统的玻璃基底并以这样的垂直取向方式取向，与STN模式相似，只能执行片供给的处理操作，并且在垂直取向方式中提供的简单的制造方法的特征都根本不需要使用。简单的制造方法中的特征第一次与聚合物基底相结合就能执行本发明中的连续的操作处理。

图2示出了在本发明中使用垂直取向模式的聚合物基底的制造方法示图。聚合物基底连续地沿纵向方向以卷形形状延伸。对聚合物基底31连续处理下列过程：形成取向薄膜的过程，固化取向薄膜的过程33，以及取向过程34。即，从取向薄膜的形成到摩擦的取向处理过程可以连续进行。

除了如图1所示的采用垂直取向模式的液晶显示单元的结构，可以知道通过在一个像素内设置两个相对方向差彼此间为180度的垂直取向模式的液晶分子的倾斜方向提高显示的视角特征。图3示出了这种设置的一个例子。如图3所示，具有倾斜角度的倾斜薄膜12形成在聚合物基底10上，并且，垂直取向薄膜13形成在倾斜薄膜12上。根据这样的结构，如果电压加在没有摩擦的透明电极11上，液晶分子19的倾斜方向在角顶点两侧是彼此相对的，从而形成提高视角特征的初始倾斜。在这种情况下，因为不需要摩擦处理过程本身，在聚合物基底的持续处理工作过程中是没有干扰的。而且，因为在柔软的聚合物基底的表面没有物质，表面不会被破坏。

图4示出的是在一个像素当中沿两个或更多方向以垂直取向模式设定液晶分子的倾斜方向的另一种方法的结构图。如图4所示，还有一种制造方法，在该方法中在聚合物基底100的透明电极101上形成一个裂缝，使得在该裂缝处电场的方向会歪曲，并且液晶分子107的倾斜方向也被指定。在裂缝电极101上形成一个垂直取向薄膜102，液晶分子107的倾斜方向通过无摩擦的裂缝电极两侧的电场的倾斜使得彼此相反。相应的，就会获得提高视角特征的初始倾斜。在这种情况下，摩擦过程本身是不需要的，因此在聚合物基底的连续工作中是没有干扰的。

更进一步，目前通过在一个固定方向上发射光线从而形成取向的取向薄膜已经取代了使用摩擦的聚合物取向膜薄的取向方向的限制。在理论上已经介绍了通过光线引起高聚物的结构上改变的官能团，例如，聚酰亚胺，肉桂酸盐，查而酮(chalcone)，以及偶氮苯类等，而且根据发射光的方向三维的产生了结构的改变，从而使高聚物的完整的排列有序。这种方法也可用于本发明，并且通过如下方式来实现：设计以上的要垂直取向高聚物的初始结构，照射倾斜于垂直方向的光，或者照射在形成薄膜之后对基底具有的偏振光的光。在这种情况下，不需要进行摩擦，从而使得聚合物基底的持续工作过程是没有干扰的，并且在固定方向上发射光，就足以取代图2所示的取向过程34中的摩擦。

一般的，在液晶显示单元的所有生产过程中，形成电极图形的非曝光过程可以在聚合物基底的持续移动下而进行。在曝光过程中，为了形成荫罩以及基底的特定位置，发射紫外线是必须的。相应的，对基底在一个恒定的时间内进行限制也是必需的。与本发明中具有高产量的简单的制造方法相反，在每次曝光过程中基底被限制的时候，其它操作过程也被限制。

相应的，制作图形的过程是与顺序移动聚合物基底分开进行的。制作了图形的聚合物基底是事前形成卷形的形状，如图2所示。接下来，对下述的卷形的聚合物基底31的持续处理过程：形成取向薄膜的过程32，固化定型薄膜过程33，以及取向过程34进行测量是必要的。

在另一种方法中提供的制作图形的过程也是卷-卷的处理方法，并且提供一个缓冲器用于在制作图形的过程中在曝光时间里对基底进行限制，或者在制作图形的过程中与取向薄膜形成过程之间对基底进行限制。

图5示出了在制作图形的过程中提供一个基底缓冲器的例子。将聚合物基底卷提供的聚合物基底移至制作图形的过程41，在这里提供了一个基底缓冲器。缓冲器可以积累制作图形的过程中提供的曝光中停止量的基底，从而不会阻止基底在出口的流动。此后，对聚合物基底连续进行如下过程，形成一个取向薄膜的过程42，固化取向薄膜的过程43，取向过程44。

图6示出了在取向薄膜制作图形的过程与印刷过程之间提供一个缓冲器的例子。卷形缠绕的聚合物基底移至制作图形的过程51，并且在制作图形的过程中通过了限制过程的曝光过程。接下来，基底进入缓冲卷52。缓冲卷首先在与持续路径相偏离的位置上被提供，从而使得基底被转向并且移动。但是，当制作图形的过程中下一个限制与曝光开始的时候，缓冲卷沿基底的路径方向移动，持续将聚合物基底提供给下一个过程53用于形成取向薄膜。因此，在用于固化取向薄膜的过程54与取向过程55中基底是持续处理的，从而可以提供一种具有较高产量的液晶显示单元的简单的制造方法。

在本发明中对所使用的聚合物基底是没有限制的，只要聚合物基底为一个透明高聚物就行。聚合物基底可以由下列物质构成：聚醚砜(PES)，聚碳酸酯(PC)，聚烯丙酯(PAR)，非晶聚烯烃(APO)，聚醚-醚-酮(PEEK)，聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)，耐热聚烯烃树脂，碳酸烯丙基二甘醇酯树脂(ADC resin)，丙烯酸树脂，降冰片烯树脂，顺丁烯二酰亚胺树脂，透明环氧树脂以及透明聚酰亚胺树脂等。聚合物基底的厚度适于从0.1到1.0mm的范围内进行选择。在STN中在相位超前轴与相位滞后轴上设置光学各向异性Δnd等于或者小于5nm是较为理想的，但是在本发明中是没有这样的限制的。

本发明将在下文中根据各个实施例更详尽的描述。

(实施例1)

下面将参照附图1解释本发明的使用聚合物基底的显示单元的一个例子。形成聚合物基底1的高聚物适于从下列物质中选择：聚醚砜(PES)，聚碳酸酯(PC)，聚烯丙酯(PAR)，非晶聚烯烃(APO)，聚醚-醚-酮(PEEK)，聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)，碳酸烯丙基二甘醇酯树脂(ADC resin)，丙烯酸树脂，降冰片烯树脂，顺丁烯二酰亚胺树脂，透明环氧树脂以及透明聚酰亚胺树脂等。本实施例中采用的是PES基底，它0.2mm厚，在相位超前轴与相位滞后轴的光学各向异性为10nm，即，基底的纵向与横向光学各向异性Δnd。由ITO构成的透明电极2紧接着由低温溅射等形成。在这一基底中，在分离的顺序移动中的制作图形的过程中形成了透明电极，该基底是卷形的形状。之后，聚合物基底通过图2所示的持续处理过程进行处理。即，在这一实施例中，聚酰亚胺类高聚物的垂直取向剂印刷在聚合物基底上，然后固化形成垂直取向薄膜。此外，垂直取向薄膜轻轻地沿与纵向方向平行的固定的方向摩擦。

这样，在这一实施例中，聚酰亚胺类高聚物的垂直取向剂用在如图1所示的取向薄膜3上，与通常的STN液晶显示单元相比，摩擦过程相当弱地在与纵向方向平行的固定方向上进行。因此，在摩擦中没有什么破坏，也不需要因为不同产品的摩擦方向不同而进行工具上的改变。相应的，该实施例表明了其具有高的产量。

相似的，如图1所示的形成透明电极5以及取向薄膜6的聚合物基底4也用同样的处理过程进行处理，并通过密封剂7与聚合物基底1相粘接，从而使得其摩擦方向彼此相反。具有负介电各向异性的液晶粘在这些聚合物基底的间隙处，从而形成了液晶显示单元。

这样制造的液晶显示单元其特征在于显示单元的重量较轻，并且因为基底是高聚物而不易破碎。更进一步，这种显示单元的显示特征比STN液晶显示单元的效果要好。根据这一实施例，与传统的显示单元相比，聚合物基底的显示单元较容易以较高产量的制造。

(实施例2)

图3示出了使用聚合物基底的显示单元的另一种实施例的示图。包括在聚合物基底10中的高聚物可以从下列物质中选择：聚醚砜(PES)，聚碳酸酯(PC)，聚烯丙酯(PAR)，非晶聚烯烃(APO)，聚醚-醚-酮(PEEK)，聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)，碳酸烯丙基二甘醇酯树脂(ADC resin)，丙烯酸树脂，降冰片烯树脂，顺丁烯二酰亚胺树脂，透明环氧树脂以及透明聚酰亚胺树脂等。本实施例中使用的PC基底的厚度为0.1mm，在相位超前轴以及相位滞后轴上的光学各向异性为15nm，即基底的纵向方向和横向方向上的光学各向异性Δnd。由ITO构成的透明电极11接下来通过低温溅射等而形成。基底以图5所示的持续的处理过程进行处理。

在这一实施例中，有一个倾斜角度的倾斜薄膜12通过使用光敏特性制造，除了制作图形的过程41中的透明电极的制作图形外，如图3所示。由聚酰亚胺类高聚物族的垂直取向剂构成的取向薄膜13成开在倾斜薄膜12之上，这一处理不需要进行摩擦。在这种情况下，没有摩擦时的任何破坏，也不需要因为每个产品的摩擦方向的不同而要改变使用工具，从而可见其产量是较高的。

相似的，如图3所示的形成透明电极15，倾斜薄膜16，以及取向薄膜17的聚合物基底14也用同样的处理过程进行处理。聚合物基底14与聚合物基底10通过密封剂18彼此相粘接，从而使得倾斜薄膜16的顶部与底部各自相反。具有负介电各向异性的液晶粘在这些聚合物基底的间隙处，从而形成了液晶显示单元。

这样制造的液晶显示单元其特征在于显示单元的重量较轻，并且因为基底是高聚物而不易破碎。更进一步，这种显示单元的显示特征比STN液晶显示单元的效果要好。根据这一实施例，与传统的显示单元相比，聚合物基底的显示单元较容易以较高产量的制造。

(实施例3)

图4所示是使用聚合物基底的显示单元的另一个实施例的结构示意图。包含在聚合物基底100中的高聚物可以从以下物质中进行选择：聚醚砜(PES)，聚碳酸酯(PC)，聚烯丙酯(PAR)，非晶聚烯烃(APO)，聚醚-醚-酮(PEEK)，聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)，碳酸烯丙基二甘醇酯树脂(ADC resin)，丙烯酸树脂，降冰片烯树脂，顺丁烯二酰亚胺树脂，透明环氧树脂以及透明聚酰亚胺树脂等。本实施例中使用的是非晶聚烯烃基底，它有0.15nm厚，在相位超前轴以及相位滞后轴上的光学各向异性为10nm，即基底的纵向方向和横向方向上的光学各向异性Δnd。由ITO构成的透明电极101接下来通过低温溅射等而形成。该基底以图6所示的持续的处理过程进行处理。在这一实施例中，制作透明电极101图形并在制作图形的过程中形成，从而使如图4所示的裂缝插入到透明电极101中去。由聚酰亚胺类高聚物的垂直取向剂构成的取向薄膜102成形在聚合物基底上，不需要执行摩擦的过程。在这种情况下，没有摩擦过程中的损害，不需要因为每个产品的摩擦方向的不同而要改变使用工具，从而可见其产量是较高的。

相似的，如图4所示的形成透明电极104以及取向薄膜105的聚合物基底103也用同样的处理过程进行处理。聚合物基底103与聚合物基底100通过密封剂106彼此相粘接，具有负介电各向异性的液晶粘在这些聚合物基底的间隙处，从而形成了液晶显示单元。

这样制造的液晶显示单元其特征在于显示单元的重量较轻，并且因为基底是高聚物而不易破碎。更进一步，这种显示单元的显示特征比STN液晶显示单元的效果要好。根据这一实施例，与传统的显示单元相比，聚合物基底的显示单元较容易以较高产量制造。

(实施例4)

在图1所示的聚合物基底1被设置为使用聚丙烯酯基底，其为0.15nm厚，在相位超前轴以及相位滞后轴上的光学各向异性为20nm，即基底的纵向方向和横向方向上的光学各向异性Δnd。肉桂酸盐类的聚乙烯基肉桂酸盐的垂直取向薄膜被用于取向薄膜3，进行如图2所示的持续处理过程。在这种情况下，稍稍偏离垂直方向的光线在图2所示的取向处理过程34中被发射。即，不需要摩擦过程。通过这种持续过程形成了取向薄膜3，而且不需要摩擦过程。在这种情况下，没有摩擦过程中的损害，不需要因为每个产品的摩擦方向的不同而要改变使用工具，从而可见其产量是较高的。

这样制造的液晶显示单元其特征在于显示单元的重量较轻，并且因为基底是高聚物而不易破碎。更进一步，这种显示单元的显示特征比STN液晶显示单元的效果要好。根据这一实施例，与传统的显示单元相比，聚合物基底的显示单元较容易以较高产量的制造。

(实施例5)

实施例4中的取向薄膜3被设定为查而酮类高聚物族，与实施例4相似，制造聚合物基底的显示单元。这样，就会获得与实施例4中相似的作用与效果。

(实施例6)

实施例4中的取向薄膜3被设定为偶氮苯类高聚物，与实施例4相似，制造聚合物基底的显示单元。这样，就会获得与实施例4中相似的作用与效果。

在上述各个实施例中已经详细描述，在本发明中的显示单元的制造方法能够以较高的产量制造使用聚合物基底的液晶显示单元，而且显示质量与传统的情况相比有较好的效果。而且，液晶显示单元不会破裂，在质量上较轻较薄，与传统的使用玻璃基底的液晶显示单元相比还能够以低成本提供一种具有较高产量的制造方法。

工业实用性

如上所述，在本发明中的液晶显示单元的制造方法，当使用聚合物基底以卷-卷的方式持续制造时是有用的。这种制造方法具有较高的产量，并且适于以较低的成本制造聚合物基底的液晶显示单元。

Claims (5)

1.一种液晶显示单元的制造方法，该单元具有一对聚合物基底，每一个形成了一个透明电极图形，一个液晶层设置在由所述的一对聚合物基底的彼此相对而形成的间隙中；

这种制造方法其特征在于，制造方法包括：

制作图形的过程，用于在纵向长度比横向宽度长的第一聚合物基底的纵向方向上形成许多透明电极图形；

垂直取向薄膜形成过程，用于在所述的第一聚合物基底上形成垂直取向薄膜；

取向过程，用于当所述的第一聚合物基底沿纵向方向上持续移动时指定所述液晶层的液晶分子的倾斜方向，所述倾斜方向平行于所述第一聚合物基底的纵向方向；

制作图形的过程，用于在纵向长度比横向宽度长的第二聚合物基底的纵向方向上形成许多透明电极图形；

垂直取向薄膜形成过程，用于在所述的第二聚合物基底上形成垂直取向薄膜；

取向过程，用于当所述的第二聚合物基底沿纵向方向上持续移动时指定所述液晶层的液晶分子的倾斜方向，所述倾斜方向平行于所述第二聚合物基底的纵向方向；

用于将所述细长型的第一聚合物基底与所述细长型的第二聚合物基底相对并且相粘接的过程；

以及在由所述的第一与第二聚合物基底相对而形成的间隙中设置负介电的各向异性液晶的过程。

2.根据权利要求1的一种液晶显示单元的制造方法，其中所述第一聚合物基底的所述取向过程，是用于当所述的第一聚合物基底沿纵向方向上持续移动时指定所述液晶层的液晶分子的倾斜方向的过程；

所述第二聚合物基底的所述取向过程，是用于当所述的第二聚合物基底沿纵向方向上持续移动时，指定所述液晶层的液晶分子的倾斜方向的过程；以及在所述的第一与第二聚合物基底相对形成的间隙中设置负介电备向异性的液晶的所述过程中，其中液晶分子的倾斜方向被指定为与聚合物基底的光学各向异性的相位超前轴或者相位滞后轴相平行，通过当所述的第一或第二聚合物基底在纵向方向上持续移动时，向在所述的取向过程中形成的所述垂直取向薄膜沿同一方向发射光线而实现。

3.根据权利要求1的一种液晶显示单元的制造方法，

其中所述的第一聚合物基底的所述取向过程，是用于当所述的第一聚合物基底沿纵向方向上持续移动时指定所述液晶层的液晶分子的倾斜方向的过程；

所述的第二聚合物基底的所述取向过程，是用于当所述的第二聚合物基底沿纵向方向上持续移动时指定所述液晶层的液晶分子的倾斜方向；

以及在所述的第一与第二聚合物基底相对而形成的间隙中设置负介电各向异性的液晶的过程中，其中液晶分子的倾斜方向当所述的第一或第二聚合物基底沿纵向方向上持续移动时，在所述的取向过程中沿与聚合物基底的光学各向异性的相位超前轴与相位滞后轴平行的方向进行摩擦而指定的。

4.根据权利要求1到3的任何一个所述的液晶显示单元的制造方法，其中在制作图形的过程中或者在所述的制作图形的过程与所述的垂直取向薄膜形成过程之间提供一个聚合物基底缓冲器，使得可以相对于第一或第二聚合物基底在所述的垂直取向薄膜形成过程与所述的取向过程中沿纵向方向上持续移动聚合物基底。

5.如权利要求4所述的所述的液晶显示单元的制造方法，其中所述的垂直取向薄膜至少包括一种高聚物：肉桂酸盐，查而酮，以及偶氮苯类。

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