CN1162718C - 用于偏振镜生产的工艺装置 - Google Patents

Abstract

本发明适用于制作基于有机化合物、特别是染料的易溶液晶(LLC)获得的偏振镜的工艺装置。用于形成偏振镜的生产线，包括至少一个从至少一种有机化合物的易溶液晶形成偏振镜膜的系统、至少一个定位清除从至少一种有机化合物的易溶液晶得到的偏振镜膜材料的系统、至少一个基片夹持器和至少一个相对移动装置。还引入了，用来从至少一种有机化合物的易溶液晶形成偏振镜膜的装置，以及定位清除从至少一种有机化合物的易溶液晶得到的偏振镜膜的系统。

Description

用于偏振镜生产的工艺装置

技术领域

本发明适用于基于有机化合物，特别是染料的易溶液晶生产偏振镜的工艺装置。

背景技术

已知一种以有机染料的液晶溶液为基础得到的偏振镜[1]。用这种技术，用另一种已知方法将液晶染料溶液薄膜涂敷到玻璃或聚合物基片上获得偏振镜。这种技术的特征在于染料分子的取向在涂敷膜的过程中发生，因此干燥后立即在基片上形成耐热偏振薄涂层。这种膜可在各种光学装置中用作偏振镜。可应用于液晶显示器的新设计，其中偏振镜可直接在液晶盒(liquid crystal cell)的表面、外部和内部形成。

与显示器制造的现代技术一样，在显示器中偏振镜的涂敷有着一定的与其小厚度和吸水性有关的特征。因此，例如，在偏振镜位于外部的情况下，它必须采用某些保护装置以防机械性破坏。进一步说，防护层覆盖的区域，应该比偏振镜区域更大，以便完全防止偏振镜与环境的任何接触，并防止水分的穿透。在其位于液晶盒内部的情况下，在粘结区域偏振镜不应环绕液晶盒周界，这是由于它将危及粘结质量，并且其次，将与周围接触。因此，偏振镜应该只覆盖显示器的工作区域并不覆盖其周围。考虑到少数显示器由单一基片形成，提出了在其表面形成图案的必要性。这可通过将偏振镜定位涂敷于基片上，或通过定位清除预先涂敷于基片整个表面的偏振层进行，在基片的适当区域对它进行保护。

对于这种膜已有多种涂敷方法及装置[2]。LC溶液的涂敷可利用狭槽(slot)、棒或辊实现。但是，由于难于形成均匀的15-10μm厚的没有线、并且在整个基片的工作范围内分子均匀取向的湿涂层膜，已知装置不允许得到具有可重复的特性的偏振镜。除此之外，这些装置不允许得到偏振层涂敷于基片的分开区域上的偏振镜。

已知形成基于易溶液晶(LLC)化合物的偏振膜图案的方法[3]。根据[3]，膜通过圆柱形雕刻辊形成，其中雕刻采用在图案的边界之内的辊表面的凹槽。凹槽充满LLC溶液，它接着通过辊滚过基片表面被转移到基片表面上。由于LLC的高粘度，使这一方法有缺点，可用于具有不长于3cm直径的辊以保证涂敷的质量，因此难于形成具有沿着涂敷方向长度尺寸大于10cm图案。除此之外，这一方法的使用，很大程度依赖于LLC的粘度和形成的膜的厚度。尤其是，在厚膜中分子取向度明显比在薄膜中差。因此，为了在偏振镜上形成图案，合适的方法是在基片的整个表面涂敷一层偏振镜，并随后从部分表面定位清除，留下适当的偏振镜图形。

已知多种从基片表面清除薄的各向同性膜的方法，不是通过在分离区域的机械清除，就是在蚀刻中使用掩膜(protective mask)。但是，它们都有许多明显的缺点，这限制了它们的清除偏振层的适用范围。尤其是，机械方法需要频繁地从工作部件清掉被清除的材料，并且要不断消理在加工过程中形成的粉尘。通过使用掩膜的蚀刻或漂洗以定位清除偏振层的方法，由于它们包括几个与形成掩膜有关的工艺步骤，造成生产能力较低并且成本较高。除此之外，在偏振层上掩膜的使用及后续的清除，不可避免地会导致偏振镜结构一定程度的破坏。

发明内容

本发明的目的是开发用来生产在基片的整个表面以及只在其所需的区域、用LC溶液制成厚度和分子取向均匀的偏振镜层的装置。

本发明的技术结果是用来生产在基片表面、基于有机化合物的LLC制成的偏振膜的装置的创新。所提出的装置可改善偏振材料中分子取向、光学各向异性，以及，作为结果，可使具有相同厚度的膜的偏振效率提高，整个表面厚度均匀性提高，在不造成偏振镜上形成缺陷纹的限制条件下的涂敷速率范围扩展。

本发明的技术结果也在于用于对定位的、偏振层的分离区域的无掩膜清除的创新。工艺过程和装置提供：在保持被保留的偏振层及其周围以及在基片上预先引入的部件的所有功能特性不变的同时，在基片的所需要的区域形成偏振镜的可能性；除去被清除材料对偏振镜的工作区域和基片的污染；保持膜的结构，形成偏振层的直边而不干扰临近边缘区域的分子的取向；并且保持沿着清除区域边缘以及在偏振镜的整个工作区域上的偏振膜的结构和完整性。

本发明的技术结果还在于这样一种装置的创造，它允许涂敷偏振膜到基片上，并在适当区域定位清除，同时，在所希望的区域保持膜的完整性和结构。此外，膜材料的定位清除可在膜中水分含量的任何阶段进行，这允许将干燥和材料的清除过程结合起来，在整个偏振镜形成的周期中保持干燥的最佳状态。这不仅由于生产操作的减少提高生产率，而且因为在干燥过程中的结晶过程导致包含沿着边缘区域的附加的分子取向，提高生成的偏振镜，特别是在边缘的质量。因此，膜材料的定位清除，不仅没有形成破坏的边缘，而且由于附加的结晶过程，提供了“修复”保留涂层边缘的机会。

本发明的技术结果，实际上在用于从基于至少一种有机化合物的易溶液晶形成偏振镜的装置中获得，这种装置包括一个涂敷系统，该涂敷系统将LLC涂敷到至少一个放置在一基片夹持器上的基片上，一个在LLC上施加取向力的系统，以及一个装置用来支持该系统使之可以与至少一个基片夹持器具有相对位移的可能，该施加取向力的系统包括至少一个薄片，其一端固定，在薄片和基片夹持器相对移动时，至少该薄片的表面的一部分在涂敷的膜的表面上不受限地移动，以提供在LLC的附加的取向力。

在上述装置中，至少一个涂敷系统可包括至少一种供给LLC的方法。至少一种供给LLC的方法可包括至少一个用来供给LLC的喷嘴，和/或至少一个传送辊系统，和/或至少一个带有进给剂量器的通道。至少一个涂敷系统可包括至少一个采用至少一个旋转辊和/或至少一个固定辊和/或至少一个狭槽和/或至少一个棒的用来将LLC涂敷到基片上的部件。在至少一个辊的表面可以引入浮雕花纹(图案)。在至少一部分薄片(plate)表面上可具有亲水和/或亲油性质。在至少一部分薄片表面上可以引入浮雕花纹(图案)。薄片可用聚合物材料或橡胶，或至少两种不同的材料，制成薄片的独立部分和/或制成薄片的层。至少一个涂敷系统可安装成具有相对于基片夹持器可垂直移动。至少一个涂敷系统的安装可相对于基片夹持器水平移动。薄片的一端可以固定在一个或不同的具有涂敷系统的夹持器上，或直接在至少一个涂敷系统上。至少一个涂敷系统可采用至少一个安装成具有提供夹紧形成的膜的薄片的移动的能力的固定辊。至少一个取向力系统可附加装有至少一种夹紧薄片和形成的膜的装置。薄片可采用矩形形状。装置可附加装有至少一个抗振系统和/或自动控制和/或形成过程的控制系统。

技术结果实际上也是借助定位清除从至少一种有机化合物的LLC得到的偏振膜材料的装置获得的，至少一个溶剂进给系统采用至少一个导管、至少一个溶剂和/或反应产物和/或溶液清除系统采用至少一个导管，可连接到输送和/或真空系统。技术结果实际上还通过可安装进给系统和清除系统使其纵轴处于垂直于至少一个基片夹持器的平面的位置的装置中达到。进给系统和清除系统可具有垂直和/或水平移动的能力。在一侧的进给系统和清除系统和在另一侧的基片夹持器可具有相对位移的可能性。进给系统和清除系统可安装成彼此相对固定或具有相对移动的可能性。进给系统和清除系统可采用其清除管线内径大于溶液供给管线内径的同轴管线。进给系统和清除系统可处于彼此距离固定的位置。装置可附加装有自动控制和/或控制整个定位清除过程的系统。装置可附加装备有至少一个抗振系统。

本发明的技术结果，由形成的偏振镜的生产线包括至少一个用来从至少一种有机化合物的LLC形成偏振膜的装置、至少一个定位清除从至少一种有机化合物的LLC得到的偏振膜材料的装置、至少一个基片夹持器和至少一种它们相对移动的装置而获得。本发明的技术结果也由于事实上至少一个在生产线中用来形成膜的装置和至少一个定位清除装置可采用根据权利要求的装置达到。至少一个用来形成膜的装置、至少一个用来定位清除的装置以及至少一个基片夹持器可处于一个或分开的基座上。生产线可放置在仓内，或采用保护性外壳。生产线可附加装备至少一个操作装置，用于传送或运输产品。生产线可附加包括至少一个工作台，用于操作之间的传送和/或储存。生产线可附加装备至少一种干燥装置，安装在生产线的至少一个装置中，和/或在生产线的装置之间，和/或在至少一个用来形成的装置之前，和/或至少一个用来定位清除的装置之后，和/或在至少一个基片夹持器之上和/或之下。至少一种干燥装置可采用加热器或鼓风机系统或通过散热器系统。生产线可附加包括至少一种抗振装置。生产线可附加装备过程的自动控制装置和/或控制整个过程的系统。

引入的工艺装置可作成用来制造LC显示器的生产线。这一系统安装到生产线中的位置由应用偏振镜的位置确定，并与其后续操作有关，而且取决于偏振镜是在液晶盒外部还是内部。这里，对于外置和内置偏振镜，采用相似的涂敷偏振涂层的装置。

在从有机物质的液晶溶液形成偏振涂层的技术中的关键因素，实际上是作为这种溶液中的结构和运动单元的分子复合物的主轴的取向，在液膜的容积中与在形成膜的区域中液体流动速度的矢量方向重合。因此，全部液体容积中的任何速度矢量分布的不均匀性，在其干燥后都将导致在偏振层中的不均匀性。所以，对于用来形成偏振镜装置的主要要求，就是该系统必须提供在涂敷过程中的液晶溶液膜的全部容积中分子的均匀取向及其均匀厚度。进一步，湿涂层的厚度应该在5-10μm的范围之内。

为了引入分子的取向，涂敷的方法应该提供在液体层中的剪切或拉伸，这直接将涂敷膜的方法限定为辊、棒、和开槽(slot)的方法。

在LC溶液涂层中产生均匀分子取向的主要条件是形成层流，在基片表面和涂敷系统的工作部件之间的均匀取向液体流动，还有，在从膜形成区域离开时，液体从涂敷系统的工作部件脱离的线路的直线性。液晶溶液的非牛顿流变性质、高有效粘度，取决于剪切速率和温度从1.5到0.5Pa*s变化，以及约70达因/厘米(达因是力的单位，10^-5牛顿)的高表面张力，事实上阻止产生这种条件。当在薄膜中涂敷具有这种性质的溶液时，容易出现不同厚度和分子取向的线。

考虑到湿膜的厚度在10μm之内，在装置的振动特性上提出了特殊的要求。涂敷系统沿着任何方向的振动都将调节膜的厚度以及在液体中的速度矢量的瞬时分布。因此，例如，垂直于薄片平面的棒的振荡会调节膜的厚度。进一步说，也会调节液体速度矢量的瞬时分布，并且，作为结果，这将是偏振轴的局部方向。在水平平面上涂敷系统或工作台的振荡，垂直于膜的涂敷方向，会调节附加速度矢量的方向，以及，必然地，影响在薄膜的平面中的分子取向方向。这种振荡可显著地影响得到的膜的偏振效率。所有这些表明，对于涂敷系统或工作台的移动均匀性，以及避免振动的要求很高。

因此，可简单地确定，形成基于液晶溶液的偏振镜的主要特点如下：

1.形成的LLC湿涂层的小厚度(＜10μm)

2.LLC的高有效粘度(～0.3Pa*s)

3.低水平振动(垂直于基片平面＜1μm)

4.涂敷系统和工作台的高均匀性移动。

附图说明

本发明的要点通过图1到6得到说明。

图1用来从液晶溶液形成偏振镜的生产线的总示意图。

图2用来形成偏振膜的装置图。

图3取向系统安装方法示意图。

图4形成与基片边缘成一定角度的偏振膜的装置示意图。

图5a和图5b用来定位清除偏振膜材料的装置的示意图。

图6由一组用来定位清除偏振材料的系统构成的装置。

具体实施方式

用来涂敷偏振层的装置(图1)的主要部分是：支架1(基座)，所有工作系统装于其上，工作台2(基片夹持器)用来放置基片，形成偏振膜的系统3，定位清除偏振膜材料的系统4，带状干燥系统5，工作台在支架上相对机械移动的装置(未显示)，控制装置6，抗振系统7，用来对工作区域防尘保护的装置8。此外，装置可包括自动进给到工作台上并从工作台上移开工作基片的系统，LLC和工作区域恒温器，以及任何其它提供基片自动处理，提高偏振镜质量或装置生产率的系统和机械。在图1中，带状干燥系统位于形成系统和定位清除系统之间，并在清除时提供最佳偏振层水分。但是，定位清除偏振层的系统可直接位于涂敷系统之后或之上，在所需部位从基片上除去LLC的湿膜。

根据显示器的结构，一般地说，偏振膜的偏振轴相对于其它部件的光轴的一定的取向是必要的。这就有必要在与矩形基片的边的夹角不是0°和90°的角度上涂敷偏振镜。因此，用于放置基片的工作台，可具有相对于移动方向水平旋转其平面的装置。

装置所进行的主要操作：预先将LLC溶液涂敷到基片上、其在表面上分布成为薄取向层、附加的取向、改变基片的取向到所需的角度、偏振膜材料的定位清除、旋转基片90°，然后是第二次偏振膜材料的定位清除。取决于于基片的边的取向相对于移动方向的角度，还根据偏振镜的涂敷方法，某些操作可省去或同时进行。在更普通的情况下，当基片随机取向时，偏振膜的涂敷分两步进行：在整个工作基片(它可进一步在显示器中用作一个片)的表面形成连续的涂层，然后清除偏振镜，只在需要的位置保留它的部分表面。装置的操作顺序如图1中所示。基片位于工作台2上，而LLC涂敷到其上。当基片移动时，就形成偏振涂层，并且，如果必要，进行附加的取向。在基片离开涂敷系统后，它从其边的取向相对于移动方向有角度的状态，旋转到那些边的取向平行于移动方向的状态。当进一步移动时，基片进入定位清除偏振膜的材料的系统4的操作区域，并且在希望的位置从基片上清除膜。到达装置的末端后，工作台转动90°并向回移动。这里，偏振镜的清除在垂直于第一次清除方向的方向上发生。工作台移动到最初位置后处理过的基片被一个新基片代替。在清除系统直接位于膜涂敷系统中的情况下，装置更加紧凑(具有更小的尺寸)，因为基片的最大移动距离仅受基片的对角线尺寸限制，而在前面的情况下，这一距离是两倍之多。但是，在这一结构中，基片必须移动两个移动循环以完全完成偏振镜形成的过程：当从左向右移动时形成连续膜，当反向移动时第一次定位清除偏振镜，当第二循环的从左向右移动时完成第二次清除，以及一次空移以使基片返回初始位置。

为提高生产率，装置可具有这样的工作台尺寸，数个基片可置于其上。这里，装置可相应地具有多个涂敷和清除系统，以便在每个基片上同时并独立地形成偏振镜。

图2表示用来涂敷偏振镜的系统，其中产生偏振镜的取向膜的工作部件是棒。系统的主要部件是载物台9，装备有工作基片的真空固定器的工作台10和传输系统的滑架12位于其上。工作台应该装备有用来准确放置基片的支持物。滑架12起的作用是将棒13用夹持器14固定在其上。棒夹持器必须达到其易于安装，刚性固定并且可调节地沿其整个长度均匀地夹紧基片的表面。除此之外，夹持器可具有固定在其上的部件15，它提供LLC膜上的附加取向力。

载物台9也具有位于其上的系统16，它用来以沿着棒的整个长度的线的形式涂敷LLC到基片上。用于LLC涂敷的系统16代表装有LLC的储存器，LLC在需要的压力下经过管线通过已校准的针状喷嘴从其中涂敷到基片的表面上。喷嘴可沿其整个宽度以需要的速度跨越基片移动。对装置的控制由控制台18进行。

装置的载物台放置在具有抗振保护装置的工作台上。

装置的操作按下面的顺序进行。最初滑架位于最左边的位置，因而棒13在基片11的边界之外，并被支撑到高于它。此时用于涂敷LLC的系统16的喷嘴17，通过它LLC被涂敷到基片上，位于基片的边缘上方的位置。在操作开始时，喷嘴降低到希望的高度，在压力下的溶液送进喷嘴的通道，并且，当溶液开始喷射到基片的表面上时，喷嘴开始以希望的速度跨越基片移动。涂敷材料的量将由压力和喷嘴的移动速度决定。当到达边缘位置后，喷嘴提起并回到起始位置。滑架开始移动，并且当它到达基片的边缘时，棒降下来并开始在基片的表面以希望的速度展开溶液。在这一过程中，部件15在湿膜上产生附加的取向影响，除去在分子取向中在偏振膜的涂敷相中由棒诱发的干扰。到达最左位置后，滑架停止。在这一过程中，棒提起随后滑架返回到起始位置。

棒可使用通常所说的迈耶棒(Mayer rod)，带有紧紧地绕在其上的圆截面的标准的金属线的金属棒。这种棒允许得到必要厚度和高均匀程度的膜。在同时的分子取向具有某些由棒表面的周期性结构诱发的分布函数。这种分子取向分布函数使偏振特性变差，这在厚膜中尤其明显。附加取向部件15的引入可消除这一缺点，使分子的取向分布更加均匀。

用来附加取向的部件15是具有光滑或平滑表面的有机材料柔性薄片(或膜)。在偏振涂层的涂敷过程中，该片接触LLC的表面并在其上滑动，由于表面张力，在LLC的分子上产生附加的、在基片的整个宽度上均匀的取向力。选择片与LLC膜接触的长度，以便达到最好的分子取向，并且介于1-500mm的范围。

在装置中部件15相对于棒的连接可采用各种各样的方法。图3示意了部件15在棒13和基片11之间的放置。在这种情况下，使用带有弹性涂层的辊作为棒特别方便，因为它允许消除由在基片11的表面的干扰引起的偏振膜厚度的不均匀性。这在涂敷大尺寸基片的过程中尤其重要，这里由于基片本身以及棒的轴的不可避免的弯曲，很难提供棒对基片表面的均匀夹紧。偏振镜涂层的厚度因而将由棒的弹性涂层的弹性、棒的移动速度、LLC粘度和将棒向基片的压力决定。

图4表示了在偏振作用的光轴应该与显示器的边缘做成一定的角度(从0°到90°)的情况下用来涂敷偏振涂层的装置。偏振涂层的形成在两步中发生。第一步，涂敷辊19涂敷一层染料到基片11上，然后染料被部件(聚合物片)15，通过弹性辊20压向基片，按所需厚度形成涂层并取向。染料21由辊22提取并传送到中间辊23上，其表面进行了加深以便突出的部分在基片上留孔。染料，在突出的部分上会被传送到涂敷辊19上，并进一步到基片11上。基片用真空固定在旋转工作台24上。膜的涂敷和取向在工作台的移动过程中发生。当基片移动到涂敷系统的边界之外后，工作台旋转一定角度，以便基片的两个边平行于工作台的移动。然后工作台接着移动，并且基片进入用来在必要区域清除偏振镜的装置。

图5图示了两例用来定位清除偏振膜材料的装置的执行过程，基于一个原理：在需要的区域用水稀释膜及用真空泵清除。差别仅在于在其进给到基片的所需区域的过程中用来产生附加水压的方法。在图5a所示的系统中，水可在多种方法产生的压力下进给；在图5b所示的第二种系统中，水的压力是由真空吸力产生的。

在图5a所示的装置中，水从蓄水器25经泵26进给到管路27中，然后它稀释染料膜，并通过管路28被真空泵除去。

在图5b所示的装置中有一个管路，在基片11一侧开口。在装置接近基片的过程中，在管30中产生负压，水从蓄水器31吸入到管路29中，然后它稀释染料膜并通过管路30除去。阀33控制进水量。

不考虑使水产生附加压力的方法，这种工作部件可组合成复合部件(图6)。在这种情况下，它们将同时工作并呈带状地清除偏振镜膜或一组膜。在涂敷装置中安装两组这种部件将是合适的，其一在工作台向前移动的过程中起作用，而另一组在向后移动的过程中起作用。因此在一组中部件之间的距离与显示器的宽度对应，同时在另一组中与显示器的长度对应。

在两种情况下，所提议的装置都允许清除偏振膜而与其水分含量无关。膜的最佳水分含量是选择高速清除、保持锐边和在边缘区域中的高度取向的条件。

实现这种偏振镜清除方法的可行性的条件，决定于偏振镜材料的稀释速率和生成、溶液的清除速率与偏振层的涂敷速率的对比。涂敷的速率依赖于LLC溶液的粘度，可从5到200mm/秒。对于这一速率范围以及在水进给和真空泵通道之间的1cm的距离，在水和偏振镜之间的接触时间在2到0.05秒之间。根据经验表明，控制给水速率和施与溶液的真空，有可能达到大约1μm厚的干燥偏振膜的完全清除，由此证明这种方法对于定位清除偏振涂层的技术可行性。

进行的研究已经确认了得到的偏振涂层的高质量，高度的各向异性和高偏振效率。在定位清除偏振材料的过程中，所保留区域的边缘和表面具有理想的结构，并且区域自身在其范围内具有均匀的厚度。调查表明，确实达到了上面列出的每个装置的技术结果。

所引述参考文献

[1]WO 94/28073，12/08/94

[2]RU 21148884，10/07/98

[3]RU 2110818，10/05/98

[4]“半导体表面处理的物理化学方法”(″Physico-chemical methods of surfaceprocessing of semiconductors″)，Luft B.D.，M.：，无线电广播设备和线路(Radio and connection)，1982，P107

Claims (25)

1.用于从基于至少一种有机化合物的易溶液晶形成偏振镜的装置，包括一个涂敷系统，所述涂敷系统将易溶液晶涂敷到至少一个放置在一基片夹持器上的基片上，一个在易溶液晶上施加取向力的系统，以及一个装置用来支持所述系统使之可以与所述基片夹持器具有相对移动的可能；其特征在于，所述施加取向力的系统包括至少一个薄片，其一端固定，在所述薄片相对所述基片夹持器移动时，至少所述薄片的表面的一部分不受限制地在涂敷的膜的表面上移动，提供在易溶液晶上的附加的取向力。

2.根据权利要求1所述的装置，其中所述涂敷系统包括供给易溶液晶的装置，用于将所述易溶液晶供给至所述基片上。

3.根据权利要求2所述的装置，其中所述供给易溶液晶的装置包括至少一个喷嘴。

4.根据权利要求2所述的装置，其中所述供给易溶液晶的装置包括至少一个辊。

5.根据权利要求4所述的装置，其中所述供给易溶液晶的装置包括至少一个带有进给剂量器的通道。

6.根据权利要求1-3中任何一项所述的权利要求，其中所述涂敷系统包括至少一个用来涂敷所述易溶液晶到所述基片上的部件和至少一个辊。

7.根据权利要求2所述的装置，其中所述涂敷系统包括至少一个棒。

8.根据权利要求6所述的装置，其中在所述至少一个辊的表面具有浮雕。

9.根据权利要求1或2所述的装置，其中所述至少一部分薄片的表面具有亲水或亲油性质。

10.根据权利要求1或2所述的装置，其中所述至少一部分薄片的表面上具有浮雕。

11.根据权利要求1或2所述的装置，其中所述薄片是由聚合物材料或橡胶构成。

12.根据权利要求2所述的装置，其中所述涂敷系统安装成相对于所述基片夹持器具有垂直位移的能力。

13.根据权利要求2所述的装置，其中所述涂敷系统安装成相对于所述基片夹持器具有水平位移的能力。

14.根据权利要求1所述的装置，其中所述涂敷系统采用至少一个固定的辊，并且安装成具有移动能力，使薄片对膜加力成型。

15.根据权利要求1所述的装置，其中所述的薄片采用矩形形状。

16.根据权利要求1所述的装置，还包括一个抗振动装置。

17.根据权利要求1所述的装置，还包括一个自动控制成型处理系统。

18.根据权利要求1所述的装置，还包括用于将从至少一种有机化合物的易溶液晶得到的偏振膜材料定位清除的装置，所述定位清除的装置包括：一个供给系统，用于供给膜材料溶剂，该供给系统采用至少一个导向管路；和至少一个清除系统，用于通过真空清除溶剂和溶解的膜材料。

19.根据权利要求18所述的装置，其中所述的供给系统和清除系统安装成其纵向轴位于与基片夹持器的平面垂直的方向。

20.根据权利要求18或19所述的装置，其中所述的供给系统和清除系统安装成相对于所述基片夹持器进行垂直和/或水平移动。

21.根据权利要求18所述的装置，其中所述的供给系统和所述的清除系统安装成相对彼此可以移动。

22.根据权利要求18所述的装置，其中所述的供给系统和所述的清除系统由同轴管构成，并且所述清除系统管的内径大于所述溶剂进给管的内径。

23.根据权利要求18所述的装置，其中所述供给系统和所述清除系统安装成彼此相对固定的距离。

24.根据权利要求1所述的装置，其中所述薄片包括由不同材料制成的至少两个层。

25.根据权利要求1所述的装置，其中所述薄片包括由不同材料制成的至少两个独立的部分。

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