CN116250031A - 显示装置 - Google Patents

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冈崎庄治
斋田信介
市川伸治
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Abstract

多个引绕布线(L)的至少一个具备：显示侧布线部(18nd)，其设置在无机绝缘膜(11、13、15、17)的显示区域侧的一方的缘部上，通过与布线层相同的材料形成在同一层；端子侧布线部(18nt)，其设置在无机绝缘膜(11、13、15、17)的端子部侧的另一方的缘部上，通过与布线层相同的材料形成在同一层；中间布线部(C)，其经由形成在平坦化膜(19a)的第一接触孔(Ha)及第二接触孔(Hb)与显示侧布线部(18nd)及端子侧布线部(18nt)分别电连接。

Description

显示装置
技术领域
背景技术
本发明涉及一种显示装置。
近年来，作为代替液晶显示装置的显示装置，使用了有机电致发光(ElectroLuminescence，以下，称为“EL”)元件的自发光型的有机EL显示装置备受关注。在该有机EL显示装置中，提出了在具有可弯曲性的树脂基板上形成有机EL元件等的柔性的有机EL显示装置。此处，在有机EL显示装置中，期望设置有进行图像显示的显示区域和在该显示区域周围的边框区域，并减小边框区域，即所谓的窄边框化。并且，在柔性的有机EL显示装置中，若为了使俯视下的边框区域所占据的面积变小，将边框区域折弯，则有可能导致配置在该边框区域的布线断裂。
例如，专利文献1公开了一种柔性显示装置，其通过形成折弯孔以去除与折弯区域对应的缓冲膜、栅极绝缘膜和层间绝缘膜中的每一个的一部分来防止布线的断线。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：
日本专利特开2014--232300号公报
发明内容
发明要解决的问题
然而，在柔性的有机EL显示装置中，在树脂基板层上设置有底涂层膜、栅极绝缘膜和层间绝缘膜等无机绝缘膜。因此，为了抑制配置于边框区域的多条引绕布线的断线，提出了如下结构：除去边框区域的折弯的部分(折弯部)的无机绝缘膜，在该除去的部分填充平坦化膜，在该平坦化膜上形成引绕布线。在此，平坦化膜为用于覆盖将无机绝缘膜部分地除去后的无机绝缘膜的缘部而抑制引绕布线的断线所必需的膜，但为价格比较高的材料，将平坦化膜仅配置在折弯部的制造成本变高，所以有改善的余地。
本发明是鉴于上述点而完成的，其目的在于，抑制在折弯部的附近，无机绝缘膜的缘部所引起的引绕布线的断线。
用于解决问题的方案
为了达成上述目的，本发明涉及的显示装置具备：树脂基板层；薄膜晶体管层，其设置在所述树脂基板层上，依次层叠有无机绝缘膜、布线层以及平坦化膜；以及发光元件层，其设置在所述薄膜晶体管层上，与构成显示区域的多个子像素对应地依次层叠多个第一电极、多个发光功能层以及共用的第二电极；在所述显示区域的周围设置有边框区域，
在所述边框区域的端部设置有端子部，在所述显示区域以及所述端子部之间，以沿一个方向延伸的方式设置有折弯部，在所述无机绝缘膜上，在所述折弯部处，以沿该折弯部延伸的方向延伸且使所述树脂基板层的表面露出的方式设置有狭缝，在所述折弯部，以填充所述狭缝的方式设置有所述平坦化膜，在所述折弯部以及所述折弯部的两侧部，以在与所述折弯部的延伸方向交叉的方向上相互平行地延伸的方式设置有多个引绕布线，所述多个引绕布线中的至少一个具备：显示侧布线部，其设置在所述无机绝缘膜的所述显示区域侧的一个缘部上，由与所述布线层相同的材料形成在同一层；端子侧布线部，其设置在所述无机绝缘膜的所述端子部侧的另一个缘部上，由与所述布线层相同的材料形成在同一层；以及中间布线部，其经由形成在所述平坦化膜上的第一接触孔和第二接触孔分别与所述显示侧布线部和所述端子侧布线部电连接。
发明效果
根据本发明，在折弯部的附近，能够抑制无机绝缘膜的缘部所引起的引绕布线的断线。
附图说明
图1是示出本发明的第一实施方式涉及的有机EL显示装置的概略构成的俯视图。
图2是本发明的第一实施方式涉及的有机EL显示装置的显示区域的俯视图。
图3是沿着图1中的III-III线的有机EL显示装置的显示区域的剖视图。
图4是构成本发明第一实施方式涉及的有机EL显示装置的薄膜TFT层的等效电路图。
图5是示出构成本发明的第一实施方式所涉及的有机EL显示装置的有机EL层的剖视图。
图6是沿着图1中的VI-VI线的有机EL显示装置的剖视图。
图7是沿着图1中的VII-VII线的有机EL显示装置的边框区域的剖视图。
图8是本发明的第二实施方式所涉及的有机EL显示装置的显示区域的剖面图，是相当于图3的图。
图9是本发明的第二实施方式所涉及的有机EL显示装置的边框区域的剖面图，是相当于图7的图。
图10是本发明的第三实施方式所涉及的有机EL显示装置的边框区域的剖面图，是相当于图7的图。
具体实施方式
以下，基于附图详细说明本发明的实施方式。此外，本发明并不限定于下面的各实施方式。
《第一实施方式》
图1至图7示出本发明涉及的显示装置的第一实施方式。此外，作为具备有发光元件层的显示装置，在以下各实施方式中，示例了具备有机EL元件层的有机EL显示装置。在此，图1是示出本实施方式的有机EL显示装置50a的概略构成的俯视图。另外，图2是有机EL显示装置50a的显示区域D的俯视图。另外，图3是沿着图1中的III-III线的有机EL显示装置50a的显示区域D的剖视图。另外，图4是构成有机EL显示装置50a的薄膜TFT层30的等效电路图。此外，图5是构成有机EL显示装置50a的有机EL层33的剖视图。此外，图6是沿着图1中的VI-VI线的有机EL显示装置50a的剖视图。此外，图7是沿着图1中的IX－IX线的有机EL显示装置50a的边框区域F的剖视图。
如图1所示，有机EL显示装置50a包括例如设置为矩形状并进行图像显示的显示区域D、设置在显示区域D周围并设置为框状的边框区域F。此外，在本实施方式中，例示了矩形状的显示区域D，但该矩形状还包括例如边为圆弧状的形状、角部为圆弧状的形状、边的一部分有切口的形状等大致矩形状。
如图2所示，在显示区域D中，多个子像素P呈矩阵状排列。另外，在显示区域D中，如图2所示，例如设置为具有用于进行红色的显示的红色发光区域Er的子像素P、具有用于进行绿色的显示的绿色发光区域Eg的子像素P以及具有用于进行蓝色的显示的蓝色发光区域Eb的子像素P彼此相邻。另外，在显示区域D中，例如由具有红色发光区域Er、绿色发光区域Eg及蓝色发光区域Eb的相邻的三个子像素P构成一个像素。
在边框区域F的图1中下端部，端子部T设置成在一个方向(图中的X方向)上延伸。此外，如图1所示，在边框区域F中，在显示区域D和端子部T之间，以沿一个方向(图中的X方向)延伸的方式设置有例如能够以图中的X方向为折弯的轴折弯180°(U字状)的折弯部B。另外，在边框区域F中，如图1及图6所示，在后述的第一平坦化膜19a和第二平坦化膜21a中，在俯视下呈大致C状的沟槽G以贯穿第一平坦化膜19a和第二平坦化膜21a的方式设置。在此，如图1所示，沟槽G以俯视时端子部T侧开口的方式形成为大致C字状。
如图3所示，有机EL显示装置50a包括：树脂基板层10；设置在树脂基板层10上的薄膜晶体管(thin film transistor，以下也称为“TFT”)层30；设置在TFT层30上作为发光元件层的有机EL元件层35；以覆盖有机EL元件层35的方式设置的密封膜40；以及设置在密封膜40上的触摸面板层45。
如图3、图6及图7所示，树脂基板层10具备设置于TFT层30的相反侧的第一树脂基板层6、设置于TFT层30侧的第二树脂基板层8以及设置于第一树脂基板层6及第二树脂基板层8之间的基板内无机绝缘膜7。在此，第一树脂基板层6和第二树脂基板层8例如由聚酰亚胺树脂等构成。另外，基板内无机绝缘膜7、后述的底涂膜11、栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15、第二层间绝缘膜17及第三层间绝缘膜42，例如由氮化硅、氧化硅、氮氧化硅等的无机绝缘膜的单层膜或层叠膜构成。
如图3所示，TFT层30包括：设置在树脂基板层10上的底涂膜11；设置在底涂膜11上的多个第一TFT9a、多个第二TFT9b(参照图4)、多个第三TFT9c和多个电容器9d；以及依次设置在各第一TFT9a、各第二TFT9b、各第三TFT9c和各电容器9d上的第一平坦化膜19a和第二平坦化膜21a。
在TFT层30中，如图3所示，在树脂基板层10上依次层叠有底涂膜11、后述的半导体层12a等半导体图案层、栅极绝缘膜13、后述的栅极线14g等第一布线层、第一层间绝缘膜15、后述的上层导电层16c等第二布线层、第二层间绝缘膜17、后述的源极线18f等第三布线层、第一平坦化膜19a、电源线20a等第四布线层以及第二平坦化膜21a。
如图2以及图4所示，在TFT层30中，以在附图中的横向上彼此平行地延伸的方式设置有多条栅极线14g作为第一布线层。另外，如图2以及图4所示，在TFT层30中，以在附图中的横向上彼此平行地延伸的方式设置有多条发光控制线14e作为第一布线层。此外，如图2所示，各发光控制线14e设置为与各栅极线14g相邻。另外，如图2以及图4所示，在TFT层30中，以在附图中的纵向上彼此平行地延伸的方式设置有多条源极线18f作为第三布线层。另外，如图1以及图3所示，在TFT层30中，在第一平坦化膜19a与第二平坦化膜21a之间，电源线20a作为第四布线层呈格子状设置。另外，如图4所示，在TFT层30中，在各子像素P中分别设置有第一TFT9a、第二TFT9b、第三TFT9c和电容器9d。
如图4所示，在每个子像素P中，第一TFT9a与对应的栅极线14d、源极线18f、第二TFT9b电连接。另外，如图3所示，第一TFT9a包括依次设置在底涂膜11上的半导体层12a、栅极绝缘膜13、栅极14a、第一层间绝缘膜15、第二层间绝缘膜17以及源极18a和漏极18b。在此，如图3所示，半导体层12a以岛状设置在底涂膜11上，如后述，并具有沟道区域、源极区域和漏极区域。此外，如图3所示，栅极绝缘膜13以覆盖半导体层12a的方式设置。此外，如图3所示，栅极14a以与半导体层12a的沟道区域重叠的方式设置在栅极绝缘膜13上。此外，如图3所示，第一层间绝缘膜15和第二层间绝缘膜17以覆盖栅极14b的方式依次设置。此外，如图3所示，源极18a和漏极18b以彼此分离的方式设置在第二层间绝缘膜17上。此外，如图3所示，源极18a和漏极18b经由形成在栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15和第二层间绝缘膜17的层叠膜中的各接触孔分别连接到半导体层12a的源极区域和漏极区域。
如图4所示，第二TFT9b在各子像素P中与对应的第一TFT9a、电源线20a及第三TFT9c电连接。此外，第二TFT9b具有与第一TFT9a及后述的第三TFT9c实质上相同的构造。
如图4所示，第三TFT9c在各子像素P中与对应的第二TFT9b、后述的有机EL层33(所接触的第一电极31a)以及发光控制线14e电连接。另外，如图3所示，第三TFT9c包括依次设置在底涂膜11上的半导体层12b、栅极绝缘膜13、栅极14b、第一层间绝缘膜15、第二层间绝缘膜17以及源极18c和漏极18d。在此，如图3所示，半导体层12b以岛状设置在底涂膜11上，与半导体层12a同样地，具有沟道区域、源极区域和漏极区域。另外，如图3所示，栅极绝缘膜13以覆盖半导体层12b的方式设置。另外，如图3所示，栅极14b以与半导体层12b的沟道区域重叠的方式设置在栅极绝缘膜13上。另外，如图3所示，第一层间绝缘膜15和第二层间绝缘膜17以覆盖栅极14b的方式依次设置。另外，如图3所示，源极18c和漏极18d以彼此分离的方式设置在第二层间绝缘膜17上。此外，如图3所示，源极18c和漏极18d经由形成在栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15和第二层间绝缘膜17的层叠膜中的各接触孔分别连接到半导体层12b的源极区域以及漏极区域。
此外，在本实施方式中，例示了顶栅型的第一TFT9a、第二TFT9b及第三TFT9c，但第一TFT9a、第二TFT9b及第三TFT9c也可以为底栅型的TFT。
如图4所示，电容器9d在各子像素P中与对应的第一TFT9a及电源线20a电连接。在此，如图3所示，电容器9d具备作为第一布线层设置的下层导电层14c、以覆盖下层导电层14c的方式设置的第一层间绝缘膜15、在第一层间绝缘膜15上以与下层导电层14c重叠的方式作为第二布线层设置的上层导电层16c。此外，上层导电层16c经由形成于第二层间绝缘膜17以及第一平坦化膜19a的接触孔(未图示)与电源线20a电连接。
第一平坦化膜19a和第二平坦化膜21a在显示区域D具有平坦的表面，例如，由聚酰亚胺树脂、丙烯酸树脂等有机树脂材料、或聚硅氧烷系的SOG(spin on glass)材料等构成。
在此，如图3所示，在第一平坦化膜19a和第二平坦化膜21a之间，除了上述的电源线20a，还设置有中继电极20b作为第四布线层。
如图3所示，有机EL元件层35包括依次设置在TFT层30上的多个第一电极31a、边缘罩32a、多个有机EL层33和第二电极34a。
如图3所示，多个第一电极31a以与多个子像素P相对应的方式呈矩阵状设置在第二平坦化膜21a上。在此，如图3所示，在各子像素P中，第一电极31a经由形成在第一平坦化膜19a中的接触孔、中继电极20b及形成在第二平坦化膜21a中的接触孔，与各第三TFT9c的漏极18d电连接。另外，第一电极31a具有向有机EL层33注入孔(空穴)的功能。另外，为了提高对有机EL层33的空穴注入效率，第一电极31a更优选由功函数大的材料形成。在此，作为构成第一电极31a的材料，例如可举出银(Ag)、铝(Al)、钒(V)、钴(Co)、镍(Ni)、钨(W)、金(Au)、钛(Ti)、钌(Ru)、锰(Mn)、铟(In)、镱(Yb)、氟化锂(LiF)、铂(Pt)、钯(Pd)、钼(Mo)、铱(Ir)、锡(Sn)等金属材料。另外，构成第一电极31a的材料也可以是例如砹(At)/氧化砹(AtO2)等的合金。进一步，构成第一电极31a的材料例如也可以为氧化锡(SnO)、氧化锌(ZnO)、铟锡氧化物(ITO)、铟锌氧化物(IZO)那样的导电性氧化物等。另外，第一电极31a也可以层叠多个由上述材料构成的层来形成。此外，作为功函数大的化合物材料可以例举例如铟锡氧化物(ITO)、铟锌氧化物(IZO)等。具体而言，第一电极31a例如由厚度10nm左右的ITO膜、厚度100nm左右的银膜以及厚度10nm左右的ITO膜依次层叠的层叠膜等构成。
如图3所示，边缘罩32a以覆盖各第一电极31a的周缘部的方式设置成格子状。在此，边缘罩32a例如由厚度2.5μm左右的聚酰亚胺树脂、丙烯酸树脂等有机树脂材料、或聚硅氧烷系的SOG材料等构成。
如图3所示，多个有机EL层33配置在各第一电极31a上，并且以与多个子像素P对应的方式作为发光功能层设置成矩阵状。在此，如图5所示，各有机EL层33包括依次设置在第一电极31a上的空穴注入层1、空穴传输层2、发光层3、电子传输层4及电子注入层5。
空穴注入层1也称为阳极缓冲层，其使第一电极31a和有机EL层33的能级接近，具有改善从第一电极31a向有机EL层33的空穴注入效率的功能。在此，作为构成空穴注入层1的材料，例如可举出三唑衍生物、噁二唑衍生物、咪唑衍生物、聚芳基烷衍生物、吡唑啉衍生物、苯二胺衍生物、噁唑衍生物、苯乙烯基蒽衍生物、芴酮衍生物、腙衍生物、二苯乙烯衍生物等。
空穴传输层2具有提高空穴从第一电极31a向有机EL层33的传输效率的功能。在此，作为空穴传输层2的材料，例如可举出卟啉衍生物、芳族叔胺化合物、苯乙胺衍生物、聚乙烯咔唑、聚-p-苯乙炔、聚硅烷、三唑衍生物、噁二唑衍生物、咪唑衍生物、聚芳基烷衍生物、吡唑啉衍生物、吡唑啉酮衍生物、苯二胺衍生物、芳胺衍生物、胺取代的查耳酮衍生物、噁唑衍生物、苯乙烯基蒽衍生物、芴酮衍生物、腙衍生物、二苯乙烯衍生物、氢化非晶硅、氢化非晶碳化硅、硫化锌、硒化锌等。
发光层3是在对第一电极31a及第二电极34施加电压时，从第一电极31a及第二电极34中分别注入空穴及电子并且空穴和电子进行复合的区域。在此，发光层3由发光效率高的材料形成。而且，作为构成发光层3的材料，例如可列举金属羟基喹啉化合物[8-羟基喹啉金属络合物]、萘衍生物、蒽衍生物、二苯乙烯衍生物、乙烯基丙酮衍生物、三苯胺衍生物、丁二烯衍生物、香豆素衍生物、苯并噁唑衍生物、噁二唑衍生物、噁唑衍生物、苯并咪唑衍生物、噻二唑衍生物、苯并噻唑衍生物、苯乙烯基衍生物、苯乙烯胺衍生物、二苯乙烯基苯衍生物、三苯乙烯基苯衍生物、苝衍生物、芘酮衍生物、氨基芘衍生物、吡啶衍生物、罗丹明衍生物、吖啶衍生物、吩噁嗪酮、喹吖啶酮衍生物、红荧烯、聚对苯撑乙烯、聚硅烷等。
电子输送层4具有使电子高效地迁移至发光层3的功能。此处，构成电子传输层4的材料例如可列举作为有机化合物的恶二唑衍生物、三唑衍生物、苯醌衍生物、萘醌衍生物、蒽醌衍生物、四氰基蒽醌二甲烷衍生物、联苯醌衍生物、芴酮衍生物、噻咯衍生物、金属羟基喹啉化合物等。
电子注入层5接近第二电极34和有机EL层33的能级，具有提高从第二电极34向有机EL层33注入电子的效率的功能，通过该功能，能够降低有机EL元件的驱动电压。此外，电子注入层5还被称为阴极缓冲层。在此，作为电子注入层5的材料，例如可举出氟化锂(LiF)、氟化镁(MgF2)、氟化钙(CaF2)、氟化锶(SrF2)、氟化钡(BaF2)那样的无机碱化合物、氧化铝(Al2O3)、氧化锶(SrO)等。
第二电极34被设置成在多个有机EL层33上在多个子像素P中共用，即，如图3所示，覆盖各有机EL层33和边缘罩32a。另外，第二电极34具有向各有机EL层33注入电子的功能。此外，为了提高对有机EL层33的电子注入效率，第二电极34更优选由功函数小的材料构成。在此，作为构成第二电极34的材料，例如可举出银(Ag)、铝(Al)、钒(V)、钙(Ca)、钛(Ti)、钇(Y)、钠(Na)、锰(Mn)、铟(In)、镁(Mg)、锂(Li)、镱(Yb)、氟化锂(LiF)等。此外，第二电极34例如也可以由镁(Mg)/铜(Cu)、镁(Mg)/银(Ag)、钠(Na)/钾(K)、砹(At)/氧化砹(AtO2)、锂(Li)/铝(Al)、锂(Li)/钙(Ca)/铝(Al)、氟化锂(LiF)/钙(Ca)/铝(Al)等合金形成。另外，第二电极34例如也可以由氧化锡(SnO)、氧化锌(ZnO)、铟锡氧化物(ITO)、铟锌氧化物(IZO)等导电性氧化物形成。另外，第二电极34例如也可以层叠多个由上述材料构成的层而形成。此外，作为功函数小的材料，例如可举出镁(Mg)、锂(Li)、氟化锂(LiF)、镁(Mg)/铜(Cu)、镁(Mg)/银(Ag)、钠(Na)/钾(K)、锂(Li)/铝(Al)、锂(Li)/钙(Ca)/铝(Al)、氟化锂(LiF)/钙(Ca)/铝(Al)等。
如图3所示，密封膜40包括以覆盖第二电极34的方式设置且依次设置在第二电极34上的第一无机密封膜36、有机密封膜37以及第二无机密封膜38，并具有保护有机EL元件层35的各有机EL层33免受水分、氧影响的功能。在此，第一无机密封膜36和第二无机密封膜38例如由氮化硅膜、氧化硅膜、氮氧化硅膜等无机绝缘膜构成。另外，有机密封膜37例如由丙烯酸树脂、环氧树脂、硅酮树脂、聚脲树脂、聚对二甲苯树脂、聚酰亚胺树脂、聚酰胺树脂等有机树脂材料构成。
如图3所示，触摸面板层45具备设置在密封膜40上并依次层叠在密封膜40的第二无机密封膜38上的第一触摸布线层41a、第三层间绝缘膜42、第二触摸布线层43a以及外涂膜44a。
第一触摸布线层41a在显示区域D中，例如如图3所示，以在图1的X方向上相互平行地延伸的方式设置多个在第二无机密封膜38上。
如图3所示，第三层间绝缘膜42以覆盖各第一触摸布线层41a的方式设置。
第二触摸布线层43a在显示区域D中，例如如图3所示，以在图1的Y方向上相互平行地延伸的方式设置多个在第三层间绝缘膜42上。
如图3所示，外涂膜44a在第三层间绝缘膜42上以覆盖各第二触摸布线层43a的方式设置。
另外，如图1所示，有机EL显示装置50a在边框区域F具备：第一阻挡壁Wa，其以包围显示区域D的方式在沟槽G的外侧设置成框状；和第二阻挡壁Wb，其在第一阻挡壁Wa的周围设置成框状。
如图6所示，第一阻挡壁Wa具备：下侧树脂层21b，其由与第二平坦化膜21a相同的材料形成于同一层；以及上侧树脂层32c，其在下侧树脂层21b上隔着连接布线31b设置，且由与边缘罩32a相同的材料形成于同一层。在此，连接布线31b由与第一电极31a相同的材料形成于同一层。此外，第一外侧阻挡壁Wa以与密封膜40的有机密封膜37的外周端部重叠的方式设置，且构成为抑制成为有机密封膜37的油墨的扩散。
如图6所示，第二阻挡壁Wb具备：下侧树脂层21c，其由与第二平坦化膜21a相同的材料形成于同一层；以及上侧树脂层32d，其在下侧树脂层21c上隔着连接布线31b设置，且由与边缘罩32a相同的材料形成于同一层。
另外，如图1所示，有机EL显示装置50a在边框区域F中，在沟槽G的内侧作为第三布线层设置成框状，且沟槽G的开口的部分的两端部具备向端子部T延伸的第一边框布线18h。在此，第一边框布线18h构成为经由形成于第一平坦化膜19a的接触孔与显示区域D的电源线20a电连接，并且在端子部T被输入高电压(ELVDD)。
另外，如图1所示，有机EL显示装置50a在边框区域F具备第二边框布线18i，该第二边框布线18i在沟槽G的外侧作为第三布线层设置为大致C状，两端部在端子部T延伸。在此，如图6所示，第二边框布线18i构成为经由设置于沟槽G的连接布线31b与显示区域D的第二电极34电连接，并且在端子部T被输入低电源电压(ELVSS)。
另外，如图6所示，有机EL显示装置50a在边框区域F中，具有以在沟槽G的两缘部向上方突出的方式呈岛状设置的多个周边光电间隔物32b。在此，周边光电间隔物32b由与边缘罩32a相同的材料形成于同一层。
另外，在有机EL显示装置50a，如图7所示，在边框区域F的折弯部B，在底涂膜11、栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15及第二层间绝缘膜17的层叠膜上设置有狭缝S。在此，如图7所示，狭缝S设为沿着折弯部B延伸的方向穿过的沟状，使其贯通底涂膜11、栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15及第二层间绝缘膜17并露出树脂基板层10的上表面。此外，如图7所示，狭缝S也设于第二树脂基板层8的表层(深度0.5μm～3.0μm左右)。另外，如图7所示，形成有狭缝S的底涂膜11、栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15及第二层间绝缘膜17的层叠膜的两缘部以比第二树脂基板层8的表层的侧壁向内侧突出的方式设置为檐状。并且，配置于显示区域D的第一平坦化膜19a填埋狭缝S，且设置成填埋底涂膜11、栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15及第二层间绝缘膜17的层叠膜的两缘部中的檐状部分的第二树脂基板层8侧。
另外，如图7所示，有机EL显示装置50a具备：在折弯部B及其两侧部处，在与折弯部B的延伸方向正交的方向上相互平行地延伸设置的多个引绕布线L；以覆盖各引绕布线L的两端部的方式设置的第一保护层44b和第二保护层44c；以及以覆盖第一保护层44b的第二保护层44c侧和第二保护层44c的第一保护层44b侧的方式设置的加强树脂层46。在此，如图7所示那样，在有机EL显示装置50a的第一树脂基板层6侧的表面，除了折弯部B以外，设置有保护片47。此外，左右的保护片47的间隔例如为宽度2.0mm左右，保护片47的端部与狭缝S的距离例如为200μm左右。
如图7所示，引绕布线L具备：显示侧布线部18nd，其设置在底涂膜11、栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15及第二层间绝缘膜17的层叠膜的显示区域D侧的一方的缘部上；端子侧布线部18nt，其设置在底涂膜11、栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15及第二层间绝缘膜17的层叠膜的端子部T侧的另一方的缘部上；中间布线部C，其经由形成于第一平坦化膜19a的第一接触孔Ha及第二接触孔Hb，与显示侧布线部18nd及端子侧布线部18nt分别电连接。
显示侧布线部18nd与配置于显示区域D的布线(源极线18f、第一触摸布线层41a、第二触摸布线层43a等)、第一边框布线18h、第二边框布线18i等)电连接。此外，端子侧布线部18nt与端子部T的端子电连接。在此，显示侧布线部18nd和端子侧布线部18nt通过与第三布线层相同的材料分别形成于同一层。
如图7所示，中间布线部C具备：第一中间布线部41b，其设置在第一平坦化膜19a上，经由第一接触孔Ha与显示侧布线部18nd电连接；第二中间布线部41c，其设置在第一平坦化膜19a上，经由第二接触孔Hb与端子侧布线部18nt电连接；以及第三中间布线部18nc，其设置在树脂基板层10上，经由形成在第一平坦化膜19a上的第三接触孔Hc和第四接触孔Hd分别与第一中间布线部41b和第二中间布线部41c分别电连接。
第一中间布线部41b和第二中间布线部41c各自通过与第一触摸布线层41a相同的材料形成于同一层。此外，第三中间布线部18nc通过与第三布线层相同的材料形成在同一层。此外，在本实施方式中，例示了由与第一触摸布线层41a相同的材料分别形成于同一层的第一中间布线部41b和第二中间布线部41c，但第一中间布线部41b和第二中间布线部41c也可以由与第二触摸布线层43a相同的材料分别形成于同一层。
第一保护层44b和第二保护层44c通过与外涂膜44a相同的材料形成在同一层，如图7所示，以分别覆盖第一中间布线部41b和第二中间布线部41c的方式设置。在此，第一保护层44b和第二保护层44c的间隔例如为2.5mm左右。
加强树脂层46例如由厚度100μm左右的丙烯酸树脂等构成。
在上述的有机EL显示装置50a中，在各子像素P中，通过经由栅极线14g向第一TFT9a输入栅极信号，第一TFT9a成为导通状态，经由源极线18f向第二TFT9b的栅极及电容器9d写入与源极信号对应的规定的电压，并在经由发光控制线14e向第三TFT9c输入发光控制信号时，第三TFT9c成为导通状态，与第二TFT9b的栅极电压对应的电流从电源线20a供给到有机EL层33，由此，有机EL层33的发光层3发光，并进行图像显示。另外，在有机EL显示装置50a中，即使第一TFT9a成为关闭状态，由于第二TFT9b的栅极电压由电容器9d保持，因此，发光层3的发光也被各子像素P维持，直到输入下一帧的栅极信号。另外，有机EL显示装置50a构成为基于通过触摸显示区域D的外涂膜44a的表面被触摸，而在第一触摸布线层41a和第二触摸布线层43a的交点上产生的静电电容的变化，位置检测电路计算被触摸的位置并进行检测。
接着，对本实施方式的有机EL显示装置50a的制造方法进行说明。另外，本实施方式的有机EL显示装置50a的制造方法具备TFT层形成工序、有机EL元件形成工序、密封膜形成工序以及触摸面板层形成工序。
<TFT层形成工序>
首先，例如，在玻璃基板上涂布了非感光性的聚酰亚胺树脂(厚度6μm左右)后，通过对该涂布膜进行预烘烤及后烘烤，从而形成第一树脂基板层6。
接着，通过利用例如等离子体CVD(chemical vapor deposition)法，在形成有第一树脂基板层6的基板表面上将氧化硅膜等无机绝缘膜(厚度500nm左右)成膜，从而形成基板内无机绝缘膜7。
进而，在形成有基板内无机绝缘膜7的基板表面涂布例如非感光性的聚酰亚胺树脂(厚度6μm左右)后，通过对其涂布膜进行预烘烤和后烘烤，从而形成第二树脂基板层8，并形成树脂基板层10。
之后，通过例如等离子体CVD法在形成有树脂基板层10的基板表面上依次形成氧化硅膜(厚度500nm左右)和氮化硅膜(厚度100nm左右)，从而形成底涂膜11。
接着，通过等离子体CVD法，在形成有底涂膜11的基板表面上将例如非晶硅膜(厚度为50nm左右)成膜，通过激光退火等使非晶硅膜结晶化从而形成多晶硅膜的半导体膜后，对该半导体膜进行图案化形成半导体层12a等。
之后，通过例如等离子体CVD法，在形成有半导体层12a等的基板表面上将氧化硅膜等无机绝缘膜(100nm左右)成膜，以形成覆盖半导体层12a的栅极绝缘膜13。
进而，在形成有栅极绝缘膜13的基板表面上，例如通过溅射法形成钼膜(厚度250nm左右)后，对该钼膜进行图案化，形成栅极线14g等第一布线层。
接着，通过将上述第一布线层作为掩模，掺杂杂质离子，由此在半导体层12a中形成本征区域和导体区域。
然后，通过利用例如等离子体CVD法，在具有本征区域和导体区域的半导体层12a等的基板表面上将氧化硅膜等无机绝缘膜(厚度100nm左右)成膜，从而形成第一层间绝缘膜15。
接着，例如利用溅射法在形成有第一层间绝缘膜15的基板表面将钼膜(厚度250nm左右)成膜后，将该钼膜图案化，形成上层导电层16c等第二布线层。
进而，通过例如等离子体CVD法在形成有上述第二布线层的基板表面上依次成膜氧化硅膜(厚度300nm左右)和氮化硅膜(厚度200nm左右)，从而形成第二层间绝缘膜17。
然后，通过对栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15及第二层间绝缘膜17进行图案化，从而形成接触孔。
进而，在折弯部B中，通过使用了SF6气体、CF4气体、O2气体、Ar气体等的干法蚀刻来除去衬底涂膜11、栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15及第二层间绝缘膜17的层叠膜，从而在底涂膜11、栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15及第二层间绝缘膜17的层叠膜上形成狭缝S。
此时，从狭缝S露出的第二树脂基板层8的表层也通过干法蚀刻被除去。
然后，在形成有狭缝S的基板表面上，例如通过溅射法依次成膜钛膜(厚度50nm左右)、铝膜(厚度600nm左右)及钛膜(厚度50nm左右)后，将这些金属层叠膜图案化，形成源极线18f等的第三布线层。
进一步，利用例如旋涂法或狭缝涂布法，在形成有第三布线层的基板表面上涂布了感光性聚酰亚胺树脂(厚度2.5μm左右)后，通过对该涂布膜进行预烘烤、曝光、显影及后烘烤，从而形成第一平坦化膜19a。
然后，利用例如溅射法，在形成有第一平坦化膜19a的基板表面上依次将钛膜(厚度50nm左右)、铝膜(厚度600nm左右)及钛膜(厚度50nm左右)等成膜后，对这些金属层叠膜进行图案化，以形成电源线20a等的第四布线层。
最后，利用例如旋涂法或狭缝涂布法，在形成有第四布线层的基板表面上涂布了聚酰亚胺类的感光性树脂膜(厚度2.5μm左右)后，通过对该涂布膜进行预烘烤、曝光、显影及后烘烤，从而形成第二平坦化膜21a。
如上所述，能够制造TFT层30。
<有机EL元件层形成工序(发光元件层形成工序)>
使用公知的方法，在上述TFT层形成工序中形成的TFT层30的第二平坦化膜上21a上形成第一电极31a、边缘罩32a、有机EL层33(空穴注入层1、空穴传输层2、发光层3、电子传输层4、电子注入层5)和第二电极34，以形成有机EL元件层35。
<密封膜形成工序>
首先，在上述有机EL元件层形成工序中形成的有机EL元件层35所形成的基板表面上，使用掩模，利用等离子体CVD法使例如氮化硅膜、氧化硅膜、氮氧化硅膜等无机绝缘膜成膜，从而形成第一无机密封膜36。
接着，例如利用喷墨法在形成有第一无机密封膜36的基板表面上成膜丙烯酸树脂等有机树脂材料，以形成有机密封膜37。
之后，使用掩模，例如利用等离子体CVD法在形成有有机密封膜37的基板表面上成膜氮化硅膜、氧化硅膜或氮氧化硅膜等无机绝缘膜，并通过形成第二无机密封膜38来形成密封膜40。
＜触摸面板层形成工序＞
首先，在密封膜形成工序中形成了密封膜40的基板表面上，例如，通过溅射法依次成膜钛膜(厚度50nm左右)、铝膜(厚度300nm左右)及钛膜(厚度50nm左右)后，对这些金属层叠膜进行图案化，形成第一触摸布线层41a等。
接着，例如通过等离子体CVD法在形成有第一触摸布线层41a等的基板表面上成膜氮化硅膜(400nm左右)，形成第三层间绝缘膜42。
进而，在形成有第三层间绝缘膜42的基板表面上，例如通过溅射法依次形成钛膜(厚度50nm左右)、铝膜(厚度300nm左右)及钛膜(厚度50nm左右)后，对这些金属层叠膜进行图案化，形成第二触摸布线层43a等。
之后，通过例如旋涂法或狭缝涂布法，在形成有第二触摸布线层43a等的基板表面上涂布感光性的透明的丙烯酸树脂(厚度2.0μm左右)后，对该涂布膜进行预烘烤、曝光、显影及后烘烤，从而形成外涂膜44a等，并形成触摸面板层45。
接着，在形成有触摸面板层45的基板表面粘贴表面侧的保护片(未图示)后，从树脂基板层10的玻璃基板侧照射激光，由此从树脂基板层10的下表面剥离玻璃基板，进而，在剥离了玻璃基板的树脂基板层10的下表面粘贴背面侧的保护片47。
进而，在除去与表面侧的保护片的折弯部B和端子部T重叠的部分以及与背面侧的保护片47的折弯部B重叠的部分之后，将紫外线固化型的丙烯酸树脂以厚度100μm左右涂布于折弯部B的表面侧，并使该丙烯酸树脂固化，从而形成加强树脂层46。
如上所述，能够制造本实施方式的有机EL显示装置50a。
如上所述，根据本实施方式的有机EL显示装置50a，在构成TFT层30的底涂膜11、栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15和第二层间绝缘膜17的层叠膜中，在折弯部B中以沿着折弯部B延伸的方向延伸且使树脂基板层10的表面露出的方式设置狭缝S。而且，在折弯部B设有以填充狭缝S的方式构成TFT层30的第一平坦化膜19a。在此，第一平坦化膜19a不仅设于折弯部B，也设于显示区域D，因此能够以低成本填埋狭缝S的内部。另外，在折弯部B及其两侧部，以在与折弯部B的延伸方向正交的方向上相互平行地延伸的方式设置有多个引绕布线L。在此，各引绕布线L具备：显示侧布线部18nd，其设置在底涂膜11、栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15及第二层间绝缘膜17的层叠膜的显示区域D侧的一方的缘部上；端子侧布线部18nt，其设置在底涂膜11、栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15及第二层间绝缘膜17的层叠膜的端子部T侧的另一方的缘部上；中间布线部C，其经由形成于第一平坦化膜19a的第一接触孔Ha及第二接触孔Hb，与显示侧布线部18nd及端子侧布线部18nt分别电连接。在此，中间布线部C具备：第一中间布线部41b，其设置在第一平坦化膜19a上，经由第一接触孔Ha与显示侧布线部18nd电连接；第二中间布线部41c，其设置在第一平坦化膜19a上，经由第二接触孔Hb与端子侧布线部18nt电连接；以及第三中间布线部18nc，其设置在树脂基板层10上，经由形成在第一平坦化膜19a上的第三接触孔Hc和第四接触孔Hd分别与第一中间布线部41b和第二中间布线部41c分别电连接。因此，各引绕布线L避开形成有狭缝S的底涂膜11、栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15及第二层间绝缘膜17的层叠膜的两边缘部而设置。由此，在折弯部B的附近，能够抑制由形成有狭缝S的底涂膜11、栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15和第二层间绝缘膜17的层叠膜的两缘部引起的引绕布线L的断线。
另外，根据本实施方式的有机EL显示装置50a，由于形成于底涂膜11、栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15及第二层间绝缘膜17的层叠膜的狭缝S也设置于第二树脂基板层8的表层，因此，能够容易地在折弯部B折弯有机EL显示装置50a。
《第二实施方式》
图8和图9示出本发明涉及的显示装置的第二实施方式。在此，图8是示出本实施方式的有机EL显示装置50b的显示区域D的剖面图，是相当于图3的图。另外，图9是有机EL显示装置50b的边框区域F的剖面图，是相当于图7的图。此外，在以下的各实施方式中，对与图1至图7相同的部分添加相同的附图标记，并省略其详细的说明。
在上述第一实施方式中，例示了具备触摸面板层45的有机EL显示装置50a，但在本实施方式中，例示省略了触摸面板层(45)的有机EL显示装置50b。
与上述第一实施方式的有机EL显示装置50a同样地，有机EL显示装置50b具备显示区域D和设置在显示区域D的周围的边框区域F。
如图8所示，有机EL显示装置50b包括树脂基板层10、设置在树脂基板层10上的TFT层30、设置在TFT层30上的有机EL元件层35以及设置在有机EL元件层35上的密封膜40。
与上述第一实施方式的有机EL显示装置50a同样地，有机EL显示装置50b在边框区域F具备：第一阻挡壁Wa，其以包围显示区域D的方式在沟槽G的外侧设置成框状；和第二阻挡壁Wb，其在第一阻挡壁Wa的周围设置成框状。
与上述第一实施方式的有机EL显示装置50a同样地，有机EL显示装置50b在边框区域F中具备第一边框布线18h，该第一边框布线18h在沟槽G的内侧作为第三布线层设置成框状，且沟槽G开口的部分的两端部向端子部T延伸。
与上述第一实施方式的有机EL显示装置50a同样地，有机EL显示装置50b在边框区域F具备第二边框布线18i，该第二边框布线18i在沟槽G的外侧作为第三布线层设置为大致C状，且两端部向端子部T延伸。
与上述第一实施方式的有机EL显示装置50a同样地，有机EL显示装置50b在边框区域F中，在沟槽G的两缘部处具备以向上方突出的方式呈岛状设置的多个周边光电间隔物32b。
与上述第一实施方式的有机EL显示装置50a同样地，在有机EL显示装置50b，如图9所示，在边框区域F的折弯部B，在底涂膜11、栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15及第二层间绝缘膜17的层叠膜上设置有狭缝S。
如图9所示，有机EL显示装置50b具备：在折弯部B及其两侧部处，在与折弯部B的延伸方向正交的方向上相互平行地延伸设置的多个引绕布线L；以覆盖各引绕布线L的两端部的方式设置的第一保护层32e和第二保护层32f；以及以覆盖第一保护层32e的第二保护层32f侧和第二保护层32f的第一保护层32e侧的方式设置的加强树脂层46。
如图9所示，引绕布线L具备：显示侧布线部18nd，其设置在底涂膜11、栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15及第二层间绝缘膜17的层叠膜的显示区域D侧的一方的缘部上；端子侧布线部18nt，其设置在底涂膜11、栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15及第二层间绝缘膜17的层叠膜的端子部T侧的另一方的缘部上；中间布线部C，其经由形成于第一平坦化膜19a的第一接触孔Ha及第二接触孔Hb，与显示侧布线部18nd及端子侧布线部18nt分别电连接。
如图9所示，中间布线部C具备：第一中间布线部31c，其设置在第一平坦化膜19a上，经由第一接触孔Ha与显示侧布线部18nd电连接；第二中间布线部31d，其设置在第一平坦化膜19a上，经由第二接触孔Hb与端子侧布线部18nt电连接；以及第三中间布线部18nc，其设置在树脂基板层10上，经由形成在第一平坦化膜19a上的第三接触孔Hc和第四接触孔Hd分别与第一中间布线部31c和第二中间布线部31d电连接。
第一中间布线部31c和第二中间布线部31d各自通过与第一电极31a相同的材料形成于同一层。
第一保护层32e以及第二保护层32f通过与边缘罩32a相同的材料形成在同一层，如图9所示，设置成分别覆盖第一中间布线部31c以及第二中间布线部31d。
上述的有机EL显示装置50b与上述第一实施方式的有机EL显示装置50a同样地，具有可挠性，并且构成为在每个子像素P中，通过第一TFT9a、第二TFT9b和第三TFT9c使有机EL层33的发光层3适当地发光来进行图像显示。另外，有机EL显示装置50b构成为基于通过触摸显示区域D的外涂膜44a的表面被触摸，而在第一触摸布线层41a和第二触摸布线层43a的交点上产生的静电电容的变化，位置检测电路计算被触摸的位置并进行检测。
本实施方式的有机EL显示装置50b能够通过如下方式制造：在上述第一实施方式的有机EL显示装置50a的制造方法中，在形成第一电极31a时，形成第一中间布线部31c和第二中间布线部31d，在形成边缘罩32a时，形成第一保护层32e和第二保护层32f，并且省略形成触摸面板层形成工序中的触摸面板层45的工序。
如上所述，根据本实施方式的有机EL显示装置50b，在构成TFT层30的底涂膜11、栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15和第二层间绝缘膜17的层叠膜中，在折弯部B中以沿着折弯部B延伸的方向延伸且使树脂基板层10的表面露出的方式设置狭缝S。而且，在折弯部B设有以填充狭缝S的方式构成TFT层30的第一平坦化膜19a。在此，第一平坦化膜19a不仅设于折弯部B，也设于显示区域D，因此能够以低成本填埋狭缝S的内部。另外，在折弯部B及其两侧部，以在与折弯部B的延伸方向正交的方向上相互平行地延伸的方式设置有多个引绕布线L。在此，各引绕布线L具备：显示侧布线部18nd，其设置在底涂膜11、栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15及第二层间绝缘膜17的层叠膜的显示区域D侧的一方的缘部上；端子侧布线部18nt，其设置在底涂膜11、栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15及第二层间绝缘膜17的层叠膜的端子部T侧的另一方的缘部上；中间布线部C，其经由形成于第一平坦化膜19a的第一接触孔Ha及第二接触孔Hb，与显示侧布线部18nd及端子侧布线部18nt分别电连接。并且，中间布线部C具备：第一中间布线部31c，其设置在第一平坦化膜19a上，经由第一接触孔Ha与显示侧布线部18nd电连接；第二中间布线部31d，其设置在第一平坦化膜19a上，经由第二接触孔Hb与端子侧布线部18nt电连接；以及第三中间布线部18nc，其设置在树脂基板层10上，经由形成在第一平坦化膜19a上的第三接触孔Hc和第四接触孔Hd分别与第一中间布线部31c和第二中间布线部31d分别电连接。因此，各引绕布线L避开形成有狭缝S的底涂膜11、栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15及第二层间绝缘膜17的层叠膜的两边缘部而设置。由此，在折弯部B的附近，能够抑制由形成有狭缝S的底涂膜11、栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15和第二层间绝缘膜17的层叠膜的两缘部引起的引绕布线L的断线。
另外，根据本实施方式的有机EL显示装置50b，在底涂膜11、栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15和第二层间绝缘膜17的层叠膜上形成的狭缝S也设置于第二树脂基板层8的表层，因此，能够容易在折弯部B折弯有机EL显示装置50b。
《第三实施方式》
图10示出本发明涉及的显示装置的第三实施方式。在此，图10是示出本实施方式的有机EL显示装置50c的边框区域F的剖视图，是相当于图7的图。
在上述第一实施方式中，例示了设置有具备第一中间布线部41b、第二中间布线部41c以及第三中间布线部18nc的中间布线部C的有机EL显示装置50a，但在本实施方式中，例示了设置有一体地形成的中间布线部41d的有机EL显示装置50c。
与上述第一实施方式的有机EL显示装置50a同样地，有机EL显示装置50c具备显示区域D和设置在显示区域D的周围的边框区域F。
与上述第一实施方式的有机EL显示装置50a同样，有机EL显示装置50c包括：树脂基板层10、设置在树脂基板层10上的TFT层30、设置在TFT层30上的有机EL元件层35、设置在有机EL元件层35上的密封膜40以及设置在密封膜40上的触摸面板层45。
与上述第一实施方式的有机EL显示装置50a同样地，有机EL显示装置50c在边框区域F具备：第一阻挡壁Wa，其以包围显示区域D的方式在沟槽G的外侧设置成框状；和第二阻挡壁Wb，其在第一阻挡壁Wa的周围设置成框状。
与上述第一实施方式的有机EL显示装置50a同样地，有机EL显示装置50c在边框区域F中具备第一边框布线18h，该第一边框布线18h在沟槽G的内侧作为第三布线层设置成框状，且沟槽G开口的部分的两端部向端子部T延伸。
与上述第一实施方式的有机EL显示装置50a同样地，有机EL显示装置50c在边框区域F具备第二边框布线18i，该第二边框布线18i在沟槽G的外侧作为第三布线层设置为大致C状，且两端部向端子部T延伸。
与上述第一实施方式的有机EL显示装置50a同样地，有机EL显示装置50c在边框区域F中，在沟槽G的两个缘部具备以向上方突出的方式呈岛状设置的多个周边光电间隔物32b。
与上述第一实施方式的有机EL显示装置50a同样地，在有机EL显示装置50c，如图10所示，在边框区域F的折弯部B，在底涂膜11、栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15及第二层间绝缘膜17的层叠膜上设置有狭缝S。
如图10所示，有机EL显示装置50c具备：多个引绕布线L，其在折弯部B及其两侧部沿与折弯部的延伸方向正交的方向相互平行地延伸设置；保护层44d，其以覆盖各引绕布线L的后述的中间布线部41d的方式设置；以及加强树脂层46，其设置在保护层44d上。
如图10所示，引绕布线L具备：显示侧布线部18nd，其设置在底涂膜11、栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15及第二层间绝缘膜17的层叠膜的显示区域D侧的一方的缘部上；端子侧布线部18nt，其设置在底涂膜11、栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15及第二层间绝缘膜17的层叠膜的端子部T侧的另一方的缘部上；中间布线部41d，其经由形成于第一平坦化膜19a的第一接触孔Ha及第二接触孔Hb，与显示侧布线部18nd及端子侧布线部18nt分别电连接。
中间布线部41d通过与第一触摸布线层41a相同的材料形成在同一层。此外，在本实施方式中，例示了由与第一触摸布线层41a相同的材料形成于同一层的中间布线部41d，但中间布线部41d也可以由与第二触摸布线层43a相同的材料分别形成于同一层。
保护层44d与外涂膜44a由相同的材料形成于同一层。
上述的有机EL显示装置50c与上述第一实施方式的有机EL显示装置50a同样地，具有可挠性，并且构成为在每个子像素P中，通过第一TFT9a、第二TFT9b和第三TFT9c使有机EL层33的发光层3适当地发光来进行图像显示。另外，有机EL显示装置50c构成为基于通过触摸显示区域D的外涂膜44a的表面被触摸，而在第一触摸布线层41a和第二触摸布线层43a的交点上产生的静电电容的变化，位置检测电路计算被触摸的位置并进行检测。
本实施方式的有机EL显示装置50c能够通过在上述第一实施方式的有机EL显示装置50a的制造方法中变更第三布线层的图案形状，并且在形成第一触摸布线层41a时，形成中间布线部41d来代替形成第一中间布线部41b和第二中间布线部41c来制造。
如上所述，根据本实施方式的有机EL显示装置50c，在构成TFT层30的底涂膜11、栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15和第二层间绝缘膜17的层叠膜中，在折弯部B中以沿着折弯部B延伸的方向延伸且使树脂基板层10的表面露出的方式设置狭缝S。而且，在折弯部B设有以填充狭缝S的方式构成TFT层30的第一平坦化膜19a。在此，第一平坦化膜19a不仅设于折弯部B，也设于显示区域D，因此能够以低成本填埋狭缝S的内部。另外，在折弯部B及其两侧部，以在与折弯部B的延伸方向正交的方向上相互平行地延伸的方式设置有多个引绕布线L。在此，各引绕布线L具备：显示侧布线部18nd，其设置在底涂膜11、栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15及第二层间绝缘膜17的层叠膜的显示区域D侧的一方的缘部上；端子侧布线部18nt，其设置在底涂膜11、栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15及第二层间绝缘膜17的层叠膜的端子部T侧的另一方的缘部上；中间布线部41d，其经由形成于第一平坦化膜19a的第一接触孔Ha及第二接触孔Hb，与显示侧布线部18nd及端子侧布线部18nt分别电连接。因此，各引绕布线L避开形成有狭缝S的底涂膜11、栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15及第二层间绝缘膜17的层叠膜的两边缘部而设置。由此，在折弯部B的附近，能够抑制由形成有狭缝S的底涂膜11、栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15和第二层间绝缘膜17的层叠膜的两缘部引起的引绕布线L的断线。
另外，根据本实施方式的有机EL显示装置50c，在底涂膜11、栅极绝缘膜13、第一层间绝缘膜15和第二层间绝缘膜17的层叠膜上形成的狭缝S也设置于第二树脂基板层8的表层，因此，能够容易在折弯部B折弯有机EL显示装置50b。
《其他实施方式》
在上述各实施方式中，例示了各引绕布线具备显示侧布线部、端子侧布线部及中间布线部的有机EL显示装置，但本发明中，多个引绕布线的至少一个具备显示侧布线部、端子侧布线部及中间布线部即可。
在上述各实施方式中，例示了各引绕布线的显示侧布线部以及端子侧布线部通过与第三布线层相同的材料形成在同一层的构成，但显示侧布线部以及端子侧布线部也可以通过与第四布线层相同的材料形成在同一层。
在上述各实施方式中，例示了空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层及电子注入层的五层层叠构造的有机EL层，但有机EL层例如也可以为空穴注入层兼空穴传输层、发光层及电子传输层兼电子注入层的三层层叠构造。
另外，在上述各实施方式中，例示了将第一电极设为阳极，将第二电极设为阴极的有机EL显示装置，但本发明还能够应用于使有机EL层的层叠构造反转，将第一电极设为阴极，将第二电极设为阳极的有机EL显示装置。
另外，在上述各实施方式中，例示了将与第一电极连接的TFT的电极设为漏极的有机EL显示装置，但本发明还能够应用于将与第一电极连接的TFT的电极设为源极的有机EL显示装置。
另外，在上述各实施方式中，作为显示装置以有机EL显示装置为例进行了说明，但本发明可以适用于包括多个由电流驱动的发光元件的显示装置。例如，可以适用于包括使用了含量子点层的发光元件的QLED(Quantum-dot light emitting diode，量子点发光二极管)的显示装置。
产业上的实用性
如以上说明，本发明可用于柔性的显示装置。
附图标记说明
B 折弯部
C 中间布线部
D 显示区域
F 边框区域
Ha 第一接触孔
Hb 第二接触孔
Hc 第三接触孔
Hd 第四接触孔
L 引绕布线
P 子像素
S 狭缝
T 端子部
6 第一树脂基板层
7 基板内无机绝缘膜
8 第二树脂基板层
10 树脂基板层
11 底涂膜(无机绝缘膜)
13 栅极绝缘膜(无机绝缘膜)
14g 栅极线(第一布线层)
15 第一层间绝缘膜(无机绝缘膜)
16c上层导电层(第二布线层)
17 第二层间绝缘膜(无机绝缘膜)
18f 源极线(第三布线层)
18nc第三中间布线部
18nd显示侧布线部
18nt端子侧布线部
19a 第一平坦化膜
30 TFT层(薄膜晶体管层)
31a 第一电极
31c第一中间布线部
31d第二中间布线部
32a边缘罩
32e 第一保护层
32f 第二保护层
33 有机EL层(发光功能层、有机电致发光层)
34 第二电极
35 有机EL元件层(发光元件层)
36 第一无机密封膜
37 有机密封膜
38 第二无机密封膜
40 密封层
41a第一触摸布线层
41b第一中间布线部
41c第二中间布线部
41d中间布线部
42第三层间绝缘层
43a第二触摸布线层
44a 外涂膜
44b 第一保护层
44c 第二保护层
45触摸面板层
46加强树脂层
50a、50b、50c有机EL显示装置

Claims (15)

1.一种显示装置，其特征在于，具备：
树脂基板层；
薄膜晶体管层，其设置在所述树脂基板层上，依次层叠有无机绝缘膜、布线层以及平坦化膜；以及
发光元件层，其设置在所述薄膜晶体管层上，与构成显示区域的多个子像素对应地依次层叠多个第一电极、多个发光功能层以及共用的第二电极；
在所述显示区域的周围设置有边框区域，
在所述边框区域的端部设置有端子部，
在所述显示区域以及所述端子部之间，以沿一个方向延伸的方式设置有折弯部，
在所述无机绝缘膜上，在所述折弯部处，以沿该折弯部延伸的方向延伸且使所述树脂基板层的表面露出的方式设置有狭缝，
在所述折弯部，以填充所述狭缝的方式设置有所述平坦化膜，
在所述折弯部以及所述折弯部的两侧部，以在与所述折弯部的延伸方向交叉的方向上相互平行地延伸的方式设置有多个引绕布线，
所述多个引绕布线中的至少一个具备：显示侧布线部，其设置在所述无机绝缘膜的所述显示区域侧的一个缘部上，由与所述布线层相同的材料形成在同一层；端子侧布线部，其设置在所述无机绝缘膜的所述端子部侧的另一个缘部上，由与所述布线层相同的材料形成在同一层；以及中间布线部，其经由形成在所述平坦化膜上的第一接触孔和第二接触孔分别与所述显示侧布线部和所述端子侧布线部电连接。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，具备：
密封膜，其以覆盖所述发光元件层的方式设置，并依次层叠有第一无机密封膜、有机密封膜及第二无机密封膜；
触摸面板层，其设置在所述密封膜上，依次层叠有第一触摸布线层、层间绝缘膜、第二触摸布线层以及外涂膜，
所述中间布线部具备：第一中间布线部，其设置在所述平坦化膜上，由与所述第一触摸布线层或所述第二触摸布线层相同的材料形成在同一层，并经由所述第一接触孔与所述显示侧布线部电连接；第二中间布线部，其设置在所述平坦化膜上，由与所述第一触摸布线层或所述第二触摸布线层相同的材料形成在同一层，并经由所述第二接触孔与所述端子侧布线部电连接；以及第三中间布线部，其设置在所述树脂基板层上，并由与所述布线层相同的材料形成在同一层，并经由形成在所述平坦化膜上的第三接触孔和第四接触孔与所述第一中间布线部和所述第二中间布线部分别电连接。
3.根据权利要求2所述的显示装置，其特征在于，
所述第一中间布线部和所述第二中间布线部分别被由与所述外涂膜相同的材料形成在同一层的第一保护层和第二保护层覆盖。
4.根据权利要求3所述的显示装置，其特征在于，具备：
所述第一保护层的所述第二保护层侧以及所述第二保护层的所述第一保护层侧由设置在所述平坦化膜上的加强树脂层覆盖。
5.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，
所述中间布线部具备：第一中间布线部，其设置在所述平坦化膜上，由与所述第一电极相同的材料形成在同一层，并经由所述第一接触孔与所述显示侧布线部电连接；第二中间布线部，其设置在所述平坦化膜上，由与所述第一电极相同的材料形成在同一层，并经由所述第二接触孔与所述端子侧布线部电连接；以及第三中间布线部，其设置在所述树脂基板层上，并由与所述布线层相同的材料形成在同一层，并经由形成在所述平坦化膜上的第三接触孔和第四接触孔与所述第一中间布线部和所述第二中间布线部分别电连接。
6.根据权利要求5所述的显示装置，其特征在于，
所述发光元件层设置为在多个所述第一电极和所述多个发光功能层之间由所述多个子像素共用，并覆盖各该第一电极的周端部的边缘罩，
所述第一中间布线部和所述第二中间布线部分别被由与所述边缘罩相同的材料形成在同一层的第一保护层和第二保护层覆盖。
7.根据权利要求6所述的显示装置，其特征在于，
所述第一保护层的所述第二保护层侧以及所述第二保护层的所述第一保护层侧由设置在所述平坦化膜上的加强树脂层覆盖。
8.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，还具备：
密封膜，其以覆盖所述发光元件层的方式设置，并依次层叠有第一无机密封膜、有机密封膜及第二无机密封膜；以及
触摸面板层，其设置在所述密封膜上，依次层叠有第一触摸布线层、层间绝缘膜、第二触摸布线层以及外涂膜，
所述中间布线部设置在所述平坦化膜上，由与所述第一触摸布线层或所述第二触摸布线层相同的材料形成在同一层。
9.根据权利要求8所述的显示装置，其特征在于，
所述中间布线部由与所述外涂膜相同的材料形成在同一层的保护层覆盖。
10.根据权利要求9所述的显示装置，其特征在于，
在所述保护层上设置有加强树脂层。
11.根据权利要求1至10中任一项所述的显示装置，其特征在于，
所述树脂基板层包括：设置在所述薄膜晶体管层的相反侧的第一树脂基板层；设置在所述薄膜晶体管层侧的第二树脂基板层；以及设置在该第一树脂基板层与该第二树脂基板层之间的基板内无机绝缘膜。
12.根据权利要求11所述的显示装置，其特征在于，
所述狭缝也设置在所述第二树脂基板层的表层。
13.根据权利要求12所述的显示装置，其特征在于，
形成有所述狭缝的所述无机绝缘膜的两缘部以比所述第二树脂基板层的表层的侧壁向内侧突出的方式设置为檐状。
14.根据权利要求13所述的显示装置，其特征在于，
所述平坦化膜设置为将所述无机绝缘膜的两缘部的檐状部分的所述第二树脂基板层侧填埋。
15.根据权利要求1至14中任一项所述的显示装置，其特征在于，
所述各发光层是有机电致发光层。
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