CN116239945A - 一种高耐候性高附着力建筑立面涂层及其生产工艺 - Google Patents

一种高耐候性高附着力建筑立面涂层及其生产工艺 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种高耐候性高附着力建筑立面涂层,包括以下重量份原料:羟基丙烯酸树脂20~25份、溶剂35~40份、壳聚糖调和片状滑石粉改性玻璃微珠体10~15份、偏硼酸钡改性剂5~9份、润湿剂3~6份、成膜助剂2~5份、聚异氰酸酯固化剂1~3份。本发明建筑立面涂层采用羟基丙烯酸树脂为基体,通过润湿剂、成膜助剂进行调配处理,配合壳聚糖调和片状滑石粉改性玻璃微珠体、偏硼酸钡改性剂二者协调,协同增效,产品的建筑立面涂层具有优异的附着力、反射性能,产品性能协调改进,同时耐盐雾性稳定性优异。

Description

一种高耐候性高附着力建筑立面涂层及其生产工艺
技术领域
本发明涉及建筑立面涂层材料技术领域,具体涉及一种高耐候性高附着力建筑立面涂层及其生产工艺。
背景技术
建筑立面是指建筑和建筑的外部空间直接接触的界面,以及其展现出来的形象和构成的方式,或称建筑内外空间界面处的构件及其组合方式的统称。建筑主立面,是指建筑物从主要观赏角可见的立面。点式建筑的主体墙面均为主立面,建筑立面分为建筑外立面和建筑内立面。建筑内立面则是除建筑外立面之外的所有建筑实体与外部空间接触的部分的总称。
现有的建筑立面涂层为了优化附着力,便于涂层的粘附,但容易导致涂料的反射性能差,产品的附着力、反射性能很难协调改进,以及产品耐盐雾、耐候性差,限制了产品的使用效率,基于此,本发明对其进一步的改进处理。
发明内容
针对现有技术的缺陷,本发明的目的是提供一种高耐候性高附着力建筑立面涂层及其生产工艺,以解决上述背景技术中提出的问题。
本发明解决技术问题采用如下技术方案:
本发明提供了一种高耐候性高附着力建筑立面涂层,包括以下重量份原料:
羟基丙烯酸树脂20~25份、溶剂35~40份、壳聚糖调和片状滑石粉改性玻璃微珠体10~15份、偏硼酸钡改性剂5~9份、润湿剂3~6份、成膜助剂2~5份、聚异氰酸酯固化剂1~3份。
优选地,所述建筑立面涂层包括以下重量份原料:
羟基丙烯酸树脂22.5份、溶剂37.5份、壳聚糖调和片状滑石粉改性玻璃微珠体12.5份、偏硼酸钡改性剂7份、润湿剂4.5份、成膜助剂3.5份、聚异氰酸酯固化剂2份。
优选地,所述羟基丙烯酸树脂中,羟基的质量百分含量为2~5%,树脂固含质量百分含量为65~70%,羟基丙烯酸树脂玻璃化温度15~20℃;聚异氰酸酯固化剂的-NCO含量为聚异氰酸酯的20~22wt%。
优选地,所述壳聚糖调和片状滑石粉改性玻璃微珠体的制备方法为:
S01:将片状滑石粉置于脉冲离子束中处理,处理结束,送入到110~130℃热活化5~10min,然后以1~3℃/min的速率冷却至40℃;
S02:随后将处理的片状滑石粉置于处理的片状滑石粉总量5~7倍的质量分数3%的高锰酸钾溶液中搅拌10~20min,搅拌转速为750~850r/min,搅拌结束、水洗、干燥,即可;
S03:将玻璃微珠置于3~5倍的浓盐酸中超声分散处理,超声功率为450~500W,超声时间为1~2h,超声结束,水洗、干燥;
S04:S03产物再送入到S03产物总量1.5~2倍的壳聚糖调和片状滑石粉剂中搅拌处理,搅拌转速为800~1200r/min,搅拌时间为20~30min,搅拌温度为40~42℃,搅拌结束、水洗、干燥,即可得到壳聚糖调和片状滑石粉改性玻璃微珠体。
优选地,所述脉冲离子束中处理的离子能量为100~150keV、束流密度为110~120A/cm²、脉冲宽度为40ns的H离子束对片状滑石粉处理,处理时间为3~5s,连续处理2次,间隔为10~12s。
优选地,所述壳聚糖调和片状滑石粉剂的制备方法为:
将5~10份质量分数5%的壳聚糖水溶液加入到15~20份质量分数2%的盐酸溶液中,随后再加入1~3份浓度为0.05mol/L硝酸镧溶液,搅拌均匀,随后再加入6~9份S01的片状滑石粉产物、0.45~0.55份木质素磺酸钠,继续搅拌充分,得到壳聚糖调和片状滑石粉剂。
优选地,所述偏硼酸钡改性剂的制备方法为:
S101:将纳米偏硼酸钡置于纳米偏硼酸钡总量3~5倍的质量分数5%的柠檬酸水溶液中搅拌均匀分散,搅拌结束、水洗、干燥;
S102:将3~5份硅烷偶联剂KH560加入到10~15份乙醇溶剂中,然后加入1~3份单乙醇胺、0.45~0.65份十二烷基酚,搅拌均匀,最后加入0.45~0.55份pH值为4.5的磷酸缓冲溶液,搅拌充分,得到球磨调节液;
S103:将S101产物中加入S101产物总量10~15%的球磨调节液,球磨处理,球磨转速为1000~1500r/min,球磨时间为1~2h,球磨结束水洗、干燥,得到偏硼酸钡改性剂。
优选地,所述溶剂为甲苯、丙酮、乙醇中的一种;所述成膜助剂为N-甲基吡咯烷酮;润湿剂为烷基聚氧乙烯醚。
本发明还提供了一种高耐候性高附着力建筑立面涂层的制备方法,包括以下步骤:
步骤一:按照重量份称取原料;
步骤二:然后将羟基丙烯酸树脂加入到溶剂中,随后加入润湿剂搅拌均匀,备用;
步骤三:将壳聚糖调和片状滑石粉改性玻璃微珠体、偏硼酸钡改性剂混合搅拌充分,得到添加剂;
步骤四:将添加剂加入到步骤二产物中,然后加入成膜助剂,搅拌均匀,最后加入聚异氰酸酯固化剂,继续搅拌充分,再喷涂到基面上形成涂层,得到高耐候性高附着力建筑立面涂层。
优选地,所述涂层厚度为0.1~0.3mm。
与现有技术相比,本发明具有如下的有益效果:
本发明建筑立面涂层采用羟基丙烯酸树脂为基体,通过润湿剂、成膜助剂进行调配处理,配合壳聚糖调和片状滑石粉改性玻璃微珠体、偏硼酸钡改性剂二者协调,协同增效,产品的建筑立面涂层具有优异的附着力、反射性能,产品性能协调改进,同时耐盐雾性、耐老化稳定性优异;壳聚糖调和片状滑石粉改性玻璃微珠体通过片状滑石粉进行脉冲离子束处理,提高片状滑石粉的活性度,通过110~130℃热活化配合40℃下的片状滑石粉在高锰酸钾溶液中处理,优化改进的片状滑石粉更有利于在壳聚糖调和片状滑石粉剂中与壳聚糖水溶液、硝酸镧溶液等原料调和改进,制备的壳聚糖调和片状滑石粉剂中的原料分散度高、活性度强,而玻璃微珠经过浓盐酸超声分散后,通过壳聚糖调和片状滑石粉剂复配改进,能够将玻璃微珠更好的与片状滑石粉协调,从而优化产品的附着力、反射性能,偏硼酸钡改性剂采用偏硼酸钡通过柠檬酸水溶液分散改性,改性的偏硼酸钡分散度高,再经过烷偶联剂KH560、单乙醇胺、十二烷基酚和磷酸缓冲溶液协配制备的球磨调节液球磨改进后,球磨调节液中的原料协调互助,共同将改性的偏硼酸钡改性剂更好的与壳聚糖调和片状滑石粉改性玻璃微珠体协同增效,产品的附着力、反射性能得到协调改进,以及产品的耐盐雾性、耐老化稳定性优异。
具体实施方式
下面结合具体实施例,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
本实施例的一种高耐候性高附着力建筑立面涂层,包括以下重量份原料:
羟基丙烯酸树脂20~25份、溶剂35~40份、壳聚糖调和片状滑石粉改性玻璃微珠体10~15份、偏硼酸钡改性剂5~9份、润湿剂3~6份、成膜助剂2~5份、聚异氰酸酯固化剂1~3份。
本实施例的建筑立面涂层包括以下重量份原料:
羟基丙烯酸树脂22.5份、溶剂37.5份、壳聚糖调和片状滑石粉改性玻璃微珠体12.5份、偏硼酸钡改性剂7份、润湿剂4.5份、成膜助剂3.5份、聚异氰酸酯固化剂2份。
本实施例的羟基丙烯酸树脂中,羟基的质量百分含量为2~5%,树脂固含质量百分含量为65~70%,羟基丙烯酸树脂玻璃化温度15~20℃;聚异氰酸酯固化剂的-NCO含量为聚异氰酸酯的20~22wt%。
本实施例的壳聚糖调和片状滑石粉改性玻璃微珠体的制备方法为:
S01:将片状滑石粉置于脉冲离子束中处理,处理结束,送入到110~130℃热活化5~10min,然后以1~3℃/min的速率冷却至40℃;
S02:随后将处理的片状滑石粉置于处理的片状滑石粉总量5~7倍的质量分数3%的高锰酸钾溶液中搅拌10~20min,搅拌转速为750~850r/min,搅拌结束、水洗、干燥,即可;
S03:将玻璃微珠置于3~5倍的浓盐酸中超声分散处理,超声功率为450~500W,超声时间为1~2h,超声结束,水洗、干燥;
S04:S03产物再送入到S03产物总量1.5~2倍的壳聚糖调和片状滑石粉剂中搅拌处理,搅拌转速为800~1200r/min,搅拌时间为20~30min,搅拌温度为40~42℃,搅拌结束、水洗、干燥,即可得到壳聚糖调和片状滑石粉改性玻璃微珠体。
本实施例的脉冲离子束中处理的离子能量为100~150keV、束流密度为110~120A/cm²、脉冲宽度为40ns的H离子束对片状滑石粉处理,处理时间为3~5s,连续处理2次,间隔为10~12s。
本实施例的壳聚糖调和片状滑石粉剂的制备方法为:
将5~10份质量分数5%的壳聚糖水溶液加入到15~20份质量分数2%的盐酸溶液中,随后再加入1~3份浓度为0.05mol/L硝酸镧溶液,搅拌均匀,随后再加入6~9份S01的片状滑石粉产物、0.45~0.55份木质素磺酸钠,继续搅拌充分,得到壳聚糖调和片状滑石粉剂。
本实施例的偏硼酸钡改性剂的制备方法为:
S101:将纳米偏硼酸钡置于纳米偏硼酸钡总量3~5倍的质量分数5%的柠檬酸水溶液中搅拌均匀分散,搅拌结束、水洗、干燥;
S102:将3~5份硅烷偶联剂KH560加入到10~15份乙醇溶剂中,然后加入1~3份单乙醇胺、0.45~0.65份十二烷基酚,搅拌均匀,最后加入0.45~0.55份pH值为4.5的磷酸缓冲溶液,搅拌充分,得到球磨调节液;
S103:将S101产物中加入S101产物总量10~15%的球磨调节液,球磨处理,球磨转速为1000~1500r/min,球磨时间为1~2h,球磨结束水洗、干燥,得到偏硼酸钡改性剂。
本实施例的溶剂为甲苯、丙酮、乙醇中的一种;所述成膜助剂为N-甲基吡咯烷酮;润湿剂为烷基聚氧乙烯醚。
本实施例的一种高耐候性高附着力建筑立面涂层的制备方法,包括以下步骤:
步骤一:按照重量份称取原料;
步骤二:然后将羟基丙烯酸树脂加入到溶剂中,随后加入润湿剂搅拌均匀,备用;
步骤三:将壳聚糖调和片状滑石粉改性玻璃微珠体、偏硼酸钡改性剂混合搅拌充分,得到添加剂;
步骤四:将添加剂加入到步骤二产物中,然后加入成膜助剂,搅拌均匀,最后加入聚异氰酸酯固化剂,继续搅拌充分,再喷涂到基面上形成涂层,得到高耐候性高附着力建筑立面涂层。
本实施例的涂层厚度为0.1~0.3mm。
实施例1
本实施例的一种高耐候性高附着力建筑立面涂层,包括以下重量份原料:
羟基丙烯酸树脂20份、溶剂35份、壳聚糖调和片状滑石粉改性玻璃微珠体10份、偏硼酸钡改性剂5份、润湿剂3份、成膜助剂2份、聚异氰酸酯固化剂1份。
本实施例的羟基丙烯酸树脂中,羟基的质量百分含量为2%,树脂固含质量百分含量为65%,羟基丙烯酸树脂玻璃化温度15℃;聚异氰酸酯固化剂的-NCO含量为聚异氰酸酯的20wt%。
本实施例的壳聚糖调和片状滑石粉改性玻璃微珠体的制备方法为:
S01:将片状滑石粉置于脉冲离子束中处理,处理结束,送入到110℃热活化5min,然后以1℃/min的速率冷却至40℃;
S02:随后将处理的片状滑石粉置于处理的片状滑石粉总量5倍的质量分数3%的高锰酸钾溶液中搅拌10min,搅拌转速为750r/min,搅拌结束、水洗、干燥,即可;
S03:将玻璃微珠置于3倍的浓盐酸中超声分散处理,超声功率为450W,超声时间为1h,超声结束,水洗、干燥;
S04:S03产物再送入到S03产物总量1.5倍的壳聚糖调和片状滑石粉剂中搅拌处理,搅拌转速为800r/min,搅拌时间为20min,搅拌温度为40℃,搅拌结束、水洗、干燥,即可得到壳聚糖调和片状滑石粉改性玻璃微珠体。
本实施例的脉冲离子束中处理的离子能量为100keV、束流密度为110A/cm²、脉冲宽度为40ns的H离子束对片状滑石粉处理,处理时间为3s,连续处理2次,间隔为12s。
本实施例的壳聚糖调和片状滑石粉剂的制备方法为:
将5份质量分数5%的壳聚糖水溶液加入到15份质量分数2%的盐酸溶液中,随后再加入1份浓度为0.05mol/L硝酸镧溶液,搅拌均匀,随后再加入6份S01的片状滑石粉产物、0.45份木质素磺酸钠,继续搅拌充分,得到壳聚糖调和片状滑石粉剂。
本实施例的偏硼酸钡改性剂的制备方法为:
S101:将纳米偏硼酸钡置于纳米偏硼酸钡总量3倍的质量分数5%的柠檬酸水溶液中搅拌均匀分散,搅拌结束、水洗、干燥;
S102:将3份硅烷偶联剂KH560加入到10份乙醇溶剂中,然后加入1份单乙醇胺、0.45份十二烷基酚,搅拌均匀,最后加入0.45份pH值为4.5的磷酸缓冲溶液,搅拌充分,得到球磨调节液;
S103:将S101产物中加入S101产物总量10%的球磨调节液,球磨处理,球磨转速为1000r/min,球磨时间为1h,球磨结束水洗、干燥,得到偏硼酸钡改性剂。
本实施例的溶剂为甲苯;所述成膜助剂为N-甲基吡咯烷酮;润湿剂为烷基聚氧乙烯醚。
本实施例的一种高耐候性高附着力建筑立面涂层的制备方法,包括以下步骤:
步骤一:按照重量份称取原料;
步骤二:然后将羟基丙烯酸树脂加入到溶剂中,随后加入润湿剂搅拌均匀,备用;
步骤三:将壳聚糖调和片状滑石粉改性玻璃微珠体、偏硼酸钡改性剂混合搅拌充分,得到添加剂;
步骤四:将添加剂加入到步骤二产物中,然后加入成膜助剂,搅拌均匀,最后加入聚异氰酸酯固化剂,继续搅拌充分,再喷涂到基面上形成涂层,得到高耐候性高附着力建筑立面涂层。
本实施例的涂层厚度为0.1mm。
实施例2
本实施例的一种高耐候性高附着力建筑立面涂层,包括以下重量份原料:
羟基丙烯酸树脂25份、溶剂40份、壳聚糖调和片状滑石粉改性玻璃微珠体15份、偏硼酸钡改性剂9份、润湿剂6份、成膜助剂5份、聚异氰酸酯固化剂3份。
本实施例的羟基丙烯酸树脂中,羟基的质量百分含量为5%,树脂固含质量百分含量为70%,羟基丙烯酸树脂玻璃化温度20℃;聚异氰酸酯固化剂的-NCO含量为聚异氰酸酯的22wt%。
本实施例的壳聚糖调和片状滑石粉改性玻璃微珠体的制备方法为:
S01:将片状滑石粉置于脉冲离子束中处理,处理结束,送入到130℃热活化10min,然后以3℃/min的速率冷却至40℃;
S02:随后将处理的片状滑石粉置于处理的片状滑石粉总量7倍的质量分数3%的高锰酸钾溶液中搅拌20min,搅拌转速为850r/min,搅拌结束、水洗、干燥,即可;
S03:将玻璃微珠置于5倍的浓盐酸中超声分散处理,超声功率为500W,超声时间为2h,超声结束,水洗、干燥;
S04:S03产物再送入到S03产物总量2倍的壳聚糖调和片状滑石粉剂中搅拌处理,搅拌转速为1200r/min,搅拌时间为30min,搅拌温度为42℃,搅拌结束、水洗、干燥,即可得到壳聚糖调和片状滑石粉改性玻璃微珠体。
本实施例的脉冲离子束中处理的离子能量为150keV、束流密度为120A/cm²、脉冲宽度为40ns的H离子束对片状滑石粉处理,处理时间为5s,连续处理2次,间隔为12s。
本实施例的壳聚糖调和片状滑石粉剂的制备方法为:
将10份质量分数5%的壳聚糖水溶液加入到20份质量分数2%的盐酸溶液中,随后再加入3份浓度为0.05mol/L硝酸镧溶液,搅拌均匀,随后再加入9份S01的片状滑石粉产物、0.55份木质素磺酸钠,继续搅拌充分,得到壳聚糖调和片状滑石粉剂。
本实施例的偏硼酸钡改性剂的制备方法为:
S101:将纳米偏硼酸钡置于纳米偏硼酸钡总量5倍的质量分数5%的柠檬酸水溶液中搅拌均匀分散,搅拌结束、水洗、干燥;
S102:将5份硅烷偶联剂KH560加入到15份乙醇溶剂中,然后加入3份单乙醇胺、0.65份十二烷基酚,搅拌均匀,最后加入0.55份pH值为4.5的磷酸缓冲溶液,搅拌充分,得到球磨调节液;
S103:将S101产物中加入S101产物总量15%的球磨调节液,球磨处理,球磨转速为1500r/min,球磨时间为2h,球磨结束水洗、干燥,得到偏硼酸钡改性剂。
本实施例的溶剂为甲苯;所述成膜助剂为N-甲基吡咯烷酮;润湿剂为烷基聚氧乙烯醚。
本实施例的一种高耐候性高附着力建筑立面涂层的制备方法,包括以下步骤:
步骤一:按照重量份称取原料;
步骤二:然后将羟基丙烯酸树脂加入到溶剂中,随后加入润湿剂搅拌均匀,备用;
步骤三:将壳聚糖调和片状滑石粉改性玻璃微珠体、偏硼酸钡改性剂混合搅拌充分,得到添加剂;
步骤四:将添加剂加入到步骤二产物中,然后加入成膜助剂,搅拌均匀,最后加入聚异氰酸酯固化剂,继续搅拌充分,再喷涂到基面上形成涂层,得到高耐候性高附着力建筑立面涂层。
本实施例的涂层厚度为0.3mm。
实施例3
本实施例的一种高耐候性高附着力建筑立面涂层,包括以下重量份原料:
羟基丙烯酸树脂22.5份、溶剂37.5份、壳聚糖调和片状滑石粉改性玻璃微珠体12.5份、偏硼酸钡改性剂7份、润湿剂4.5份、成膜助剂3.5份、聚异氰酸酯固化剂2份。
本实施例的羟基丙烯酸树脂中,羟基的质量百分含量为3.5%,树脂固含质量百分含量为67%,羟基丙烯酸树脂玻璃化温度20℃;聚异氰酸酯固化剂的-NCO含量为聚异氰酸酯的21wt%。
本实施例的壳聚糖调和片状滑石粉改性玻璃微珠体的制备方法为:
S01:将片状滑石粉置于脉冲离子束中处理,处理结束,送入到120℃热活化7.5min,然后以2℃/min的速率冷却至40℃;
S02:随后将处理的片状滑石粉置于处理的片状滑石粉总量6倍的质量分数3%的高锰酸钾溶液中搅拌15min,搅拌转速为800r/min,搅拌结束、水洗、干燥,即可;
S03:将玻璃微珠置于4倍的浓盐酸中超声分散处理,超声功率为475W,超声时间为1.5h,超声结束,水洗、干燥;
S04:S03产物再送入到S03产物总量1.8倍的壳聚糖调和片状滑石粉剂中搅拌处理,搅拌转速为1000r/min,搅拌时间为25min,搅拌温度为41℃,搅拌结束、水洗、干燥,即可得到壳聚糖调和片状滑石粉改性玻璃微珠体。
本实施例的脉冲离子束中处理的离子能量为120keV、束流密度为115A/cm²、脉冲宽度为40ns的H离子束对片状滑石粉处理,处理时间为4s,连续处理2次,间隔为11s。
本实施例的壳聚糖调和片状滑石粉剂的制备方法为:
将7.5份质量分数5%的壳聚糖水溶液加入到17.5份质量分数2%的盐酸溶液中,随后再加入2份浓度为0.05mol/L硝酸镧溶液,搅拌均匀,随后再加入7.5份S01的片状滑石粉产物、0.50份木质素磺酸钠,继续搅拌充分,得到壳聚糖调和片状滑石粉剂。
本实施例的偏硼酸钡改性剂的制备方法为:
S101:将纳米偏硼酸钡置于纳米偏硼酸钡总量4倍的质量分数5%的柠檬酸水溶液中搅拌均匀分散,搅拌结束、水洗、干燥;
S102:将4份硅烷偶联剂KH560加入到12.5份乙醇溶剂中,然后加入2份单乙醇胺、0.50份十二烷基酚,搅拌均匀,最后加入0.50份pH值为4.5的磷酸缓冲溶液,搅拌充分,得到球磨调节液;
S103:将S101产物中加入S101产物总量12.5%的球磨调节液,球磨处理,球磨转速为1250r/min,球磨时间为1.5h,球磨结束水洗、干燥,得到偏硼酸钡改性剂。
本实施例的溶剂为甲苯;所述成膜助剂为N-甲基吡咯烷酮;润湿剂为烷基聚氧乙烯醚。
本实施例的一种高耐候性高附着力建筑立面涂层的制备方法,包括以下步骤:
步骤一:按照重量份称取原料;
步骤二:然后将羟基丙烯酸树脂加入到溶剂中,随后加入润湿剂搅拌均匀,备用;
步骤三:将壳聚糖调和片状滑石粉改性玻璃微珠体、偏硼酸钡改性剂混合搅拌充分,得到添加剂;
步骤四:将添加剂加入到步骤二产物中,然后加入成膜助剂,搅拌均匀,最后加入聚异氰酸酯固化剂,继续搅拌充分,再喷涂到基面上形成涂层,得到高耐候性高附着力建筑立面涂层。
本实施例的涂层厚度为0.2mm。
将实施例1-3的产品进行耐老化性能测试:
将产品涂层采用紫外灯照射处理,紫外灯距离涂层1m,照射波长为300nm,照射时间为450h,经过测试后发现,实施例1-3的涂层产品未发生变化,没有老化现象产生。
基于此,本发明对产品的性能作出进一步的测试:
对比例1.
与实施例3不同是未添加壳聚糖调和片状滑石粉改性玻璃微珠体。
对比例2.
与实施例3不同是壳聚糖调和片状滑石粉改性玻璃微珠体制备中玻璃微珠未经过S03步骤处理。
对比例3.
与实施例3不同是壳聚糖调和片状滑石粉改性玻璃微珠体制备中,壳聚糖调和片状滑石粉剂采用壳聚糖水溶液、片状滑石粉按照重量比2:1配制直接代替。
对比例4.
与实施例3不同是未添加偏硼酸钡改性剂。
对比例5.
与实施例3不同是偏硼酸钡改性剂制备中偏硼酸钡未采用S101步骤处理。
对比例6.
与实施例3不同是偏硼酸钡的制备方法不同;
S101:将纳米偏硼酸钡置于纳米偏硼酸钡总量4倍的质量分数5%的柠檬酸水溶液中搅拌均匀分散,搅拌结束、水洗、干燥;
S102:将S101产物中球磨处理,球磨转速为1250r/min,球磨时间为1.5h,球磨结束水洗、干燥,得到偏硼酸钡改性剂。
对比例7.
与实施例3不同是球磨调节液的制备方法不同;
将2份单乙醇胺加入到12.5份乙醇溶剂中,加入0.50份pH值为4.5的磷酸缓冲溶液,搅拌充分,得到球磨调节液。
将实施例1~3及对比例1~7产品进行太阳光反射比、附着力性能常规条件下测试,以及产品涂层置于质量分数2%的氯化钠盐雾条件下放置12h测试结果如下;
实施例1~3及对比例1~7产品性能测试如下:
Figure SMS_1
从对比例1-7及实施例1-3可看出;
本发明的涂层产品太阳光反射比、与基体的粘接强度性能具有明显协调改进,同时产品具有优异的耐盐雾稳定性,实施例3的产品,太阳光反射比在常规条件下可达到0.66%,与基体的粘接强度性能在常规条件下可达到13.8MPa,性能具有明显的协调改进提升;
从对比例1、从对比例4和实施例3中看出,
未添加壳聚糖调和片状滑石粉改性玻璃微珠体、未添加偏硼酸钡改性剂中的一种,产品的性能变差明显,只有采用二者协配,协同增效,产品的性能优化效果最为显著,同时未添加偏硼酸钡改性剂,产品在盐碱条件下性能变差更明显,偏硼酸钡改性剂对产品耐盐碱稳定性改进效果更为显著。
从对比例1-3及实施例3中看出,
壳聚糖调和片状滑石粉改性玻璃微珠体制备中玻璃微珠未经过S03步骤处理,壳聚糖调和片状滑石粉剂采用壳聚糖水溶液、片状滑石粉按照重量比2:1配制直接代替,产品的性能均有变差趋势,同时壳聚糖调和片状滑石粉剂的制备采用壳聚糖水溶液、片状滑石粉直接配比代替,产品的性能变差更为明显;
从对比例4-7中看出,
偏硼酸钡改性剂制备中偏硼酸钡未采用S101步骤处理、偏硼酸钡的制备方法不同以及球磨调节液的制备方法不同,产品的性能均有变差趋势,只有采用本发明的方法制备的偏硼酸钡改性剂,产品的性能效果最为显著,采用其他方法代替,均不如本发明的效果显著。
本发明通过壳聚糖调和片状滑石粉剂对产品性能进一步的探究;
实验例1.
与实施例3相同,唯有不同是未加入硝酸镧溶液。
实验例2.
与实施例3相同,唯有不同是未加入木质素磺酸钠。
实验例3.
与实施例3相同,唯有不同是S01的片状滑石粉产物采用片状滑石粉直接代替。
实验例4.
与实施例3相同,唯有不同是S01的片状滑石粉产物制备方法不同:
将片状滑石粉送入到120℃热活化7.5min,然后以2℃/min的速率冷却至40℃;随后将处理的片状滑石粉置于处理的片状滑石粉总量6倍的去离子水中搅拌15min,搅拌转速为800r/min,搅拌结束、水洗、干燥,即可。
实验例5.
与实施例3相同,唯有不同是未加入壳聚糖水溶液。
Figure SMS_2
从实验例1-5可看出,未加入壳聚糖水溶液,产品在常规条件下、盐雾条件下,产品的太阳光反射比、与基体的粘接强度性能变化在壳聚糖调和片状滑石粉剂的制备中,影响性能效果最明显;其次是S01的片状滑石粉产物采用片状滑石粉直接代替,壳聚糖调和片状滑石粉剂的制备中未加入硝酸镧溶液、木质素磺酸钠以及S01的片状滑石粉产物制备方法不同,产品的性能均有变差趋势,只有采用本发明的方法制备的壳聚糖调和片状滑石粉剂,对产品的性能影响最为显著,采用其他方法代替均不如本发明的方法效果。
对于本领域技术人员而言,显然本发明不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本发明。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。
此外,应当理解,虽然本说明书按照实施方式加以描述,但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案,说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见,本领域技术人员应当将说明书作为一个整体,各实施例中的技术方案也可以经适当组合,形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

Claims (10)

1.一种高耐候性高附着力建筑立面涂层,其特征在于,包括以下重量份原料:
羟基丙烯酸树脂20~25份、溶剂35~40份、壳聚糖调和片状滑石粉改性玻璃微珠体10~15份、偏硼酸钡改性剂5~9份、润湿剂3~6份、成膜助剂2~5份、聚异氰酸酯固化剂1~3份。
2.根据权利要求1所述的一种高耐候性高附着力建筑立面涂层,其特征在于,所述建筑立面涂层包括以下重量份原料:
羟基丙烯酸树脂22.5份、溶剂37.5份、壳聚糖调和片状滑石粉改性玻璃微珠体12.5份、偏硼酸钡改性剂7份、润湿剂4.5份、成膜助剂3.5份、聚异氰酸酯固化剂2份。
3.根据权利要求1所述的一种高耐候性高附着力建筑立面涂层,其特征在于,所述羟基丙烯酸树脂中,羟基的质量百分含量为2~5%,树脂固含质量百分含量为65~70%,羟基丙烯酸树脂玻璃化温度15~20℃;聚异氰酸酯固化剂的-NCO含量为聚异氰酸酯的20~22wt%。
4.根据权利要求1所述的一种高耐候性高附着力建筑立面涂层,其特征在于,所述壳聚糖调和片状滑石粉改性玻璃微珠体的制备方法为:
S01:将片状滑石粉置于脉冲离子束中处理,处理结束,送入到110~130℃热活化5~10min,然后以1~3℃/min的速率冷却至40℃;
S02:随后将处理的片状滑石粉置于处理的片状滑石粉总量5~7倍的质量分数3%的高锰酸钾溶液中搅拌10~20min,搅拌转速为750~850r/min,搅拌结束、水洗、干燥,即可;
S03:将玻璃微珠置于3~5倍的浓盐酸中超声分散处理,超声功率为450~500W,超声时间为1~2h,超声结束,水洗、干燥;
S04:S03产物再送入到S03产物总量1.5~2倍的壳聚糖调和片状滑石粉剂中搅拌处理,搅拌转速为800~1200r/min,搅拌时间为20~30min,搅拌温度为40~42℃,搅拌结束、水洗、干燥,即可得到壳聚糖调和片状滑石粉改性玻璃微珠体。
5.根据权利要求4所述的一种高耐候性高附着力建筑立面涂层,其特征在于,所述脉冲离子束中处理的离子能量为100~150keV、束流密度为110~120A/cm²、脉冲宽度为40ns的H离子束对片状滑石粉处理,处理时间为3~5s,连续处理2次,间隔为10~12s。
6.根据权利要求4所述的一种高耐候性高附着力建筑立面涂层,其特征在于,所述壳聚糖调和片状滑石粉剂的制备方法为:
将5~10份质量分数5%的壳聚糖水溶液加入到15~20份质量分数2%的盐酸溶液中,随后再加入1~3份浓度为0.05mol/L硝酸镧溶液,搅拌均匀,随后再加入6~9份S01的片状滑石粉产物、0.45~0.55份木质素磺酸钠,继续搅拌充分,得到壳聚糖调和片状滑石粉剂。
7.根据权利要求1所述的一种高耐候性高附着力建筑立面涂层,其特征在于,所述偏硼酸钡改性剂的制备方法为:
S101:将纳米偏硼酸钡置于纳米偏硼酸钡总量3~5倍的质量分数5%的柠檬酸水溶液中搅拌均匀分散,搅拌结束、水洗、干燥;
S102:将3~5份硅烷偶联剂KH560加入到10~15份乙醇溶剂中,然后加入1~3份单乙醇胺、0.45~0.65份十二烷基酚,搅拌均匀,最后加入0.45~0.55份pH值为4.5的磷酸缓冲溶液,搅拌充分,得到球磨调节液;
S103:将S101产物中加入S101产物总量10~15%的球磨调节液,球磨处理,球磨转速为1000~1500r/min,球磨时间为1~2h,球磨结束水洗、干燥,得到偏硼酸钡改性剂。
8.根据权利要求1所述的一种高耐候性高附着力建筑立面涂层,其特征在于,所述溶剂为甲苯、丙酮、乙醇中的一种;所述成膜助剂为N-甲基吡咯烷酮;润湿剂为烷基聚氧乙烯醚。
9.一种如权利要求1~8任一项所述高耐候性高附着力建筑立面涂层的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤一:按照重量份称取原料;
步骤二:然后将羟基丙烯酸树脂加入到溶剂中,随后加入润湿剂搅拌均匀,备用;
步骤三:将壳聚糖调和片状滑石粉改性玻璃微珠体、偏硼酸钡改性剂混合搅拌充分,得到添加剂;
步骤四:将添加剂加入到步骤二产物中,然后加入成膜助剂,搅拌均匀,最后加入聚异氰酸酯固化剂,继续搅拌充分,再喷涂到基面上形成涂层,得到高耐候性高附着力建筑立面涂层。
10.根据权利要求9所述的一种高耐候性高附着力建筑立面涂层的制备方法,其特征在于,所述涂层厚度为0.1~0.3mm。
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