CN116027633A - 含氟聚合物、含有含氟聚合物的涂料组合物及其应用 - Google Patents

含氟聚合物、含有含氟聚合物的涂料组合物及其应用 Download PDF

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CN116027633A
CN116027633A CN202310112429.9A CN202310112429A CN116027633A CN 116027633 A CN116027633 A CN 116027633A CN 202310112429 A CN202310112429 A CN 202310112429A CN 116027633 A CN116027633 A CN 116027633A
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fluorine
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fluoropolymer
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iii
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李永斌
陈志鹏
黄玉伟
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Gansu Hualong Core Material Technology Co ltd
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Abstract

本发明属于先进光学材料技术领域,公开了含氟聚合物、含有含氟聚合物的涂料组合物及其应用。本发明制备的光刻胶用顶部抗反射膜的涂料组合物,包括含氟聚合物、非离子表面活性剂、水溶性树脂、碱和水性介质;其中,所述含氟聚合物由含氟聚醚基团的含氟聚合物Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ复配而成。以本发明涂料组合物制备的抗反射膜能够有效避免光刻胶时的光散射和驻波效应,同时兼具优异的水溶性,与多种光刻胶的pH匹配性良好。

Description

含氟聚合物、含有含氟聚合物的涂料组合物及其应用
技术领域
本发明属于先进光学材料技术领域,具体涉及含氟聚合物、含有含氟聚合物的涂料组合物及其应用。
背景技术
光刻技术是一种将光掩膜上的半导体电路图案转移至硅片上的方法,通过激光或电子束辐照光掩膜模版,使晶圆上的光敏物质因感光而发生材料性质的改变,从而完成图案转移的过程,现有的光刻技术存在光散射的技术问题,导致光刻胶成像的尺寸精度低。目前的主流解决方法是在光刻胶涂布前后增加低的折射率和高透射率的含氟化合物顶部抗反射膜,可以降低光在光刻胶中的干涉,防止由于光刻胶厚度变化导致光刻线宽的变化。在光刻过程中,顶部抗反射涂层的pH必须与曝光后的光刻胶相匹配,否则会造成光刻胶图案的T顶、圆顶。
专利申请CN114035405A公开了一种抗反射涂层组合物,其主要由含氟组合物、碱、酸、表面活性剂组成。其中含氟组合物由以下结构CF2(CF3)CF2-[O-CF(CF3)CF2]n-O-CF(CF3)COO-R的不同聚合度的聚合物组成,这种聚合物虽然带有羧基,但是水溶性较差,必须和碱成盐后才能在水中有很好的溶解性,配制而成的顶部抗反射涂层pH较高,不能很好的匹配多种光刻胶,虽然后续又添加了一些酸来降低其pH,但通过实验发现,专利所述的酸,添加量太少对降低pH作用不大,添加量太高又会导致成膜性变差,故需要一种新的含氟水溶性聚合物,在水溶的基础上又能提供一定的酸性,从而与多种光刻胶有很好的适配性。
发明内容
针对现有技术中存在的问题和不足,本发明的目的在于提供含氟聚合物、含有含氟聚合物的涂料组合物及其应用。
基于上述目的,本发明采用如下技术方案:
本发明第一方面提供了一种含氟聚合物,用于制备光刻胶用抗反射膜,所述含氟聚合物由含氟聚合物Ⅰ、含氟聚合物Ⅱ、含氟聚合物Ⅲ组成;所述含氟聚合物Ⅰ、含氟聚合物Ⅱ、含氟聚合物Ⅲ的化学结构通式如下所示:
CF2(CF3)CF2-O-[CF(CF3)CF2-O]n-CF(CF3)CH2-O-(CH2)3-SO3H;
其中,含氟聚合物Ⅰ为n=0时的含氟聚合物,含氟聚合物Ⅱ为n=1时的含氟聚合物,含氟聚合物Ⅲ为n=2时的含氟聚合物。
更加优选地,所述含氟聚合物Ⅰ的化学结构式为:
Figure BDA0004077297040000021
更加优选地,所述含氟聚合物Ⅱ的化学结构式为:
Figure BDA0004077297040000022
更加优选地,所述含氟聚合物Ⅲ的化学结构式为:
Figure BDA0004077297040000023
优选地,以质量百分比计,所述含氟聚合物中含氟聚合物Ⅰ占比1wt%-10wt%,含氟聚合物Ⅱ占比45wt%-70wt%,含氟聚合物Ⅲ占比20wt%-50wt%。
本发明第二方面提供了一种涂料组合物,包括:
(A)含氟聚合物,所述含氟聚合物包括含氟聚合物Ⅰ、含氟聚合物Ⅱ、含氟聚合物Ⅲ;所述含氟聚合物Ⅰ、含氟聚合物Ⅱ、含氟聚合物Ⅲ的化学结构通式如下所示:
CF2(CF3)CF2-O-[CF(CF3)CF2-O]n-CF(CF3)CH2-O-(CH2)3-SO3H;
其中,含氟聚合物Ⅰ为n=0时的含氟聚合物,含氟聚合物Ⅱ为n=1时的含氟聚合物,含氟聚合物Ⅲ为n=2时的含氟聚合物;
(B)非离子表面活性剂;(C)水溶性树脂;(D)碱。
更加优选地,所述含氟聚合物Ⅰ的化学结构式为:
Figure BDA0004077297040000024
更加优选地,所述含氟聚合物Ⅱ的化学结构式为:
Figure BDA0004077297040000031
更加优选地,所述含氟聚合物Ⅲ的化学结构式为:
Figure BDA0004077297040000032
优选地,所述含氟聚合物由含氟聚合物Ⅰ、含氟聚合物Ⅱ、含氟聚合物Ⅲ组成。
优选地,当所述含氟聚合物由含氟聚合物Ⅰ、含氟聚合物Ⅱ、含氟聚合物Ⅲ组成时,以质量百分比计,所述含氟聚合物中含氟聚合物Ⅰ占比1wt%-10wt%,含氟聚合物Ⅱ占比45wt%-70wt%,含氟聚合物Ⅲ占比20wt%-50wt%。
优选地,所述非离子表面活性剂为炔二醇衍生物、丙二醇嵌段聚醚、脂肪醇聚氧乙烯醚。
更加优选地,所述炔二醇衍生物为2,5二甲基-3-己炔-2,5二醇、2,4,7,9-四甲基-5-癸炔-4,7-二醇、炔二醇与氧化乙烯的加成产物中的至少一种;所述炔二醇与氧化乙烯的加成产物为2,5二甲基-3-己炔-2,5二醇聚氧乙烯醚;所述丙二醇嵌段聚醚的型号为L35、L45、L64中的至少一种;所述脂肪醇聚氧乙烯醚(AEOn,n值表示乙氧基数量)为AEO6-9中的至少一种。更加优选地,所述炔二醇衍生物为2,5二甲基-3-己炔-2,5二醇;所述丙二醇嵌段聚醚的型号为L64。
优选地,所述水溶性树脂为乙烯基吡咯烷酮均聚物、乙烯基吡咯烷酮与乙酸乙烯酯或丙烯酸酯类的共聚物、聚丙烯酸类树脂中的至少一种。更加优选地,所述乙烯基吡咯烷酮均聚物为聚乙烯吡咯烷酮K17-30;所述乙烯基吡咯烷酮与乙酸乙烯酯共聚物的型号为VA64。
优选地,所述碱为醇胺类有机碱;所述醇胺类有机碱为一乙醇胺、二乙醇胺、二异丙醇胺中的至少一种。
优选地,所述涂料组合物还包括水性介质;所述水性介质为水或/和水溶性有机溶剂。更加优选地,所述水经过特殊处理,杂质含量极低,特别是金属离子为ppb(要求低于5ppb)级别。
优选地,以质量百分比计,所述涂料组合物中含氟聚合物占比1wt%-5wt%,非离子表面活性剂占比0.1wt%-0.5wt%,水溶性树脂占比0.1wt%-1wt%,碱占比0.05wt%-0.2wt%,余量为水性介质。
本发明第三方面提供了上述第一方面所述的含氟聚合物或上述第二方面所述的涂料组合物在制备抗反射涂料或抗反射膜中的应用。
本发明第四方面提供了一种抗反射膜,所述抗反射膜主要由上述第一方面所述的含氟聚合物制备而成或主要由上述第二方面所述的涂料组合物制备而成。
由上述第二方面所述的涂料组合物制备抗反射膜的方法:将所述涂料组合物旋涂于光刻胶膜上,加热至100℃烘烤90s,降温后即得。
本发明第五方面提供了一种光刻胶,所述光刻胶具有上述第三方面所述的抗反射膜。
与现有技术相比,本发明的有益效果如下:
(1)本发明先通过聚合度和含氟聚合物各组分的含量分布控制含氟聚合物分子量大小,制备得到含氟聚合物,然后以该含氟聚合物为基础复配非离子表面活性剂、水溶性树脂、碱和水性介质,最终得到可用于制备光刻胶用顶部抗反射膜的涂料组合物。本发明制备的涂料组合物具有良好的水溶性和成膜性;同时其制备的抗反射膜在248nm光源下的折射率为1.4-1.5,能够避免光散射和驻波效应发生;而且制备顶部抗反射膜的涂料组合物的pH易调节,与光刻胶的pH匹配良好。因此,本发明制备的涂料组合物能够用作光刻胶用顶部抗反射膜,以降低光刻过程中的驻波效应。
(2)本发明制备的含氟聚合物本身自带酸性基团且水溶性良好,通过加碱即可轻松调节pH,解决了外加酸在pH变化时引起的溶解度变化而造成含氟物质在抗反射膜内部分布不均匀导致的曝光显影后图案侧壁不笔直的问题,同时改善了与光刻胶适配性差等原因引起的曝光显影后出现T顶和圆顶的问题,提高了光刻工艺的良品率。
(3)本发明还通过加入优选的非离子表面活性剂,改善了表面孔洞和均匀性。此外,本发明制备的含氟聚合物生产容易,原料成本较低,易降解,低毒性,环境友好,具有更优异的实际应用推广价值。
附图说明
图1为本发明实施例8与对比例8制备的抗反射膜在曝光显影后形成的光刻胶图案电镜图;其中,a为本发明实施例8制备的抗反射膜样品,b为对比例8制备的抗反射膜样品。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下通过实施例结合附图,对本发明作进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。
实施例1
本实施例提供一种含氟聚合物Ⅱ,化学结构式为:
Figure BDA0004077297040000051
所述含氟聚合物Ⅱ的制备方法包括如下步骤:
(1)全氟聚醚酰氟的制备:通过以下合成方案进行合成以获得全氟聚醚酰氟:
Figure BDA0004077297040000052
将50ml乙腈、50ml四乙二醇二甲醚和5g干燥KF加入1L聚合釜中,搅拌混合均匀后,用高纯氮气置换三次,抽负压至-0.1MPa,降温至设定温度0℃,通入50g六氟环氧丙烷。采用定时进料(50g/h),控制反应过程,温度控制在0-10℃之间。添加六氟环氧丙烷至1000g后,恢复至常压后反应完毕,继续搅拌2h后停止搅拌,恢复至室温,得到混合物。将混合物静置分层,收集下层液并过滤得到不同聚合度全氟聚醚酰氟混合物,将混合物进行精馏提纯,得到不同聚合度、纯度为99%以上的全氟聚醚酰氟。
(2)全氟聚醚甲酯的制备:通过以下合成方案进行合成以获得全氟聚醚甲酯:
Figure BDA0004077297040000053
将步骤(1)制备的全氟聚醚酰氟与甲醇在常温条件下进行反应,制备得到全氟聚醚甲酯。
(3)全氟聚醚醇的制备:通过以下合成方案进行合成以获得全氟聚醚醇:
Figure BDA0004077297040000054
将步骤(2)制备的全氟聚醚甲酯与硼氢化钠在低温(冰浴)条件下进行反应,制备得到全氟聚醚醇。
(4)含氟聚合物Ⅱ的制备:通过以下合成方案进行合成以获得含氟聚合物Ⅱ:
Figure BDA0004077297040000055
称取5.58g叔丁醇钾于500mL三口烧瓶中,加入150g叔丁醇进行溶解,溶解完全后滴加20g步骤(3)制备的全氟聚醚醇,室温搅拌反应2h后,滴加6.07g1,3-丙烷磺酸内酯和10g叔丁醇的混合液,在65℃下搅拌反应6h。反应完后蒸馏除去叔丁醇,向剩余固体中加入200mL乙醇并加热回流,待固体部分溶解后,分出上层清液,冷却结晶并抽滤,固体再用乙醇重结晶,得含氟聚合物Ⅱ钾盐(收率95%,纯度为96%)。在含氟聚合物Ⅱ钾盐中加入100mL三氯三氟乙烷,边搅拌边加入浓硫酸(与含氟聚合物Ⅱ钾盐摩尔比1∶1),搅拌一段时间后,进行过滤,清液蒸馏除去三氯三氟乙烷得含氟聚合物Ⅱ(纯度为95.5%)。
实施例2
本实施例提供一种含氟聚合物Ⅰ,化学结构式为:
Figure BDA0004077297040000061
所述含氟聚合物Ⅰ的制备方法内容与实施例1的内容基本相同,其不同之处在于:步骤(2)中选用n=0的全氟聚醚酰氟进行全氟聚醚甲酯的制备;步骤(4)得到的含氟聚合物Ⅰ(纯度>95%)。
实施例3
本实施例提供一种含氟聚合物Ⅲ,化学结构式为:
Figure BDA0004077297040000062
所述含氟聚合物Ⅰ的制备方法内容与实施例1的内容基本相同,其不同之处在于:步骤(2)中选用n=2的全氟聚醚酰氟进行全氟聚醚甲酯的制备;步骤(4)得到的含氟聚合物Ⅰ(纯度>95%)。
实施例4
本实施例提供一种涂料组合物,以质量百分比计,所述涂料组合物的组成为:2.3wt%的含氟聚合物,0.1wt%的2,5二甲基-3-己炔-2,5二醇,0.47wt%的乙烯基吡咯烷酮—乙酸乙烯酯共聚物VA64,0.147wt%的一乙醇胺,96.99wt%的水。以质量百分比计,所述含氟聚合物由5wt%的含氟聚合物Ⅰ,50wt%的含氟聚合物Ⅱ和45wt%的含氟聚合物Ⅲ混匀而成。
上述涂料组合物的制备方法具体为:将23g含氟聚合物(1.15gⅠ、11.5gⅡ、10.35gⅢ)溶于969.7g纯水中,机械搅拌均匀后先后加入1.7g一乙醇胺、4.6g乙烯基吡咯烷酮—乙酸乙烯酯共聚物VA64、1g2,5二甲基-3-己炔-2,5二醇,搅拌充分溶解后,用0.05μm滤芯过滤。
实施例5
一种涂料组合物内容与实施例4的内容基本相同,其不同之处在于:所述含氟聚合物由5wt%的含氟聚合物Ⅰ,55wt%的含氟聚合物Ⅱ和40wt%的含氟聚合物Ⅲ混匀而成。
实施例6
一种涂料组合物内容与实施例4的内容基本相同,其不同之处在于:所述含氟聚合物由5wt%的含氟聚合物Ⅰ,65wt%的含氟聚合物Ⅱ和30wt%的含氟聚合物Ⅲ混匀而成。
实施例7
一种涂料组合物内容与实施例4的内容基本相同,其不同之处在于:所述含氟聚合物由5wt%的含氟聚合物Ⅰ,70wt%的含氟聚合物Ⅱ和25wt%的含氟聚合物Ⅲ混匀而成。
实施例8
一种涂料组合物内容与实施例4的内容基本相同,其不同之处在于:所述含氟聚合物由8wt%的含氟聚合物Ⅰ,62wt%的含氟聚合物Ⅱ和30wt%的含氟聚合物Ⅲ混匀而成。
实施例9
一种涂料组合物内容与实施例4的内容基本相同,其不同之处在于:所述含氟聚合物由10wt%的含氟聚合物Ⅰ,50wt%的含氟聚合物Ⅱ和40wt%的含氟聚合物Ⅲ混匀而成。
实施例10
一种涂料组合物内容与实施例4的内容基本相同,其不同之处在于:所述含氟聚合物由10wt%的含氟聚合物Ⅰ,65wt%的含氟聚合物Ⅱ和25wt%的含氟聚合物Ⅲ混匀而成。
实施例11
一种涂料组合物内容与实施例4的内容基本相同,其不同之处在于:所述含氟聚合物由10wt%的含氟聚合物Ⅰ,70wt%的含氟聚合物Ⅱ和20wt%的含氟聚合物Ⅲ混匀而成。
实施例12
一种涂料组合物内容与实施例4的内容基本相同,其不同之处在于:所述涂料组合物中,用丙二醇嵌段聚醚L64代替2,5二甲基-3-己炔-2,5二醇;所述含氟聚合物由1wt%的含氟聚合物Ⅰ,49wt%的含氟聚合物Ⅱ和50wt%的含氟聚合物Ⅲ混匀而成。
实施例13
一种涂料组合物内容与实施例4的内容基本相同,其不同之处在于:所述涂料组合物中,用聚乙烯吡咯烷酮K17代替VA64;所述含氟聚合物由3wt%的含氟聚合物Ⅰ,60wt%的含氟聚合物Ⅱ和37wt%的含氟聚合物Ⅲ混匀而成。
实施例14
一种涂料组合物内容与实施例4的内容基本相同,其不同之处在于:所述涂料组合物中,用二乙醇胺代替一乙醇胺;所述含氟聚合物由5wt%的含氟聚合物Ⅰ,45wt%的含氟聚合物Ⅱ和50wt%的含氟聚合物Ⅲ混匀而成。
对比例1
一种涂料组合物内容与实施例4的内容基本相同,其不同之处在于:所述含氟聚合物由30wt%的含氟聚合物Ⅰ,50wt%的含氟聚合物Ⅱ和20wt%的含氟聚合物Ⅲ混匀而成。
对比例2
一种涂料组合物内容与实施例4的内容基本相同,其不同之处在于:所述含氟聚合物由5wt%的含氟聚合物Ⅰ,75wt%的含氟聚合物Ⅱ和20wt%的含氟聚合物Ⅲ混匀而成。
对比例3
一种涂料组合物内容与实施例4的内容基本相同,其不同之处在于:所述含氟聚合物由2wt%的含氟聚合物Ⅰ,45wt%的含氟聚合物Ⅱ和53wt%的含氟聚合物Ⅲ混匀而成。
对比例4
一种涂料组合物内容与实施例4的内容基本相同,其不同之处在于:所述涂料组合物中,用十二烷基苯磺酸代替2,5二甲基-3-己炔-2,5二醇;所述含氟聚合物由8wt%的含氟聚合物Ⅰ,62wt%的含氟聚合物Ⅱ和30wt%的含氟聚合物Ⅲ混匀而成。
对比例5
一种涂料组合物内容与实施例4的内容基本相同,其不同之处在于:所述涂料组合物中,用聚乙烯吡咯烷酮K12代替VA64;所述含氟聚合物由8wt%的含氟聚合物Ⅰ,62wt%的含氟聚合物Ⅱ和30wt%的含氟聚合物Ⅲ混匀而成。
对比例6
一种涂料组合物内容与实施例4的内容基本相同,其不同之处在于:所述涂料组合物中,用四甲基氢氧化铵(TMAH)代替一乙醇胺;所述含氟聚合物由8wt%的含氟聚合物Ⅰ,62wt%的含氟聚合物Ⅱ和30wt%的含氟聚合物Ⅲ混匀而成。
对比例7
一种涂料组合物内容与实施例4的内容基本相同,其不同之处在于:所述涂料组合物中,不加一乙醇胺;所述含氟聚合物由8wt%的含氟聚合物Ⅰ,62wt%的含氟聚合物Ⅱ和30wt%的含氟聚合物Ⅲ混匀而成。
分别测定实施例4-14和对比例1-7制备的涂料组合物的成膜性、折射率及PH,结果如表1所示。需要说明的是,测定成膜性和抗反射膜折射率时,发明人利用旋转涂布机先将248nm正性光刻胶旋涂于4寸硅片表面,于电加热板130℃烘烤60s,降温后形成厚度约为500nm膜,再将涂料组合物旋涂于光刻胶膜上,于电加热板100℃烘烤90s,降温后形成厚度约为43nm膜,以如下标准评价涂料组合物的成膜性,并使用椭圆偏振仪测定248nm处的折射率。
成膜性评价等级标准:
A:均匀平整的涂覆在光刻胶表面;
B:中心有较少孔洞;
C:孔洞多且分散在整个膜面;
D:成膜性差,不能均匀平整涂覆在光刻胶表面。
表1各组涂料组合物组成及其性能数据
Figure BDA0004077297040000091
由表1可知,对比非离子表面活性剂、水溶性树脂和碱均相同的实施例4-14和对比例1-3可以看出,以整个含氟聚合物质量计,当含氟聚合物Ⅰ的含量超过10wt%时(如对比例1的30wt%),即便含氟聚合物Ⅲ的含量仍在20wt%-50wt%的范围内,其制备的抗反射膜成膜性很差,无法达到平涂在光刻胶表面的效果。同样地,在保证含氟聚合物Ⅰ的含量在1wt%-10wt%范围内的基础上,调低或调高含氟聚合物Ⅱ和含氟聚合物Ⅲ,均得到了成膜效果差的结论。而在临界范围的实施例11则得到了较好的成膜效果。
但是,单独调整非离子表面活性剂种类时,如对比实施例8、实施例12、和对比例4可以看出,在含氟聚合物Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ的有效范围内,实施例12采用丙二醇嵌段聚醚L64也可得到不错的成膜效果,这是因为L64低泡效果较好,有助于增强抗反射膜涂覆时的铺展。但是同样的配方下,如对比实施例8和对比例4可以看出,十二烷基苯磺酸作为离子型表面活性剂制备的抗反射膜的成膜效果并不理想,这可能是因为十二烷基苯磺酸起泡性很强,容易造成涂料组合物中微小气泡的增多,最终导致涂覆后膜面出现较多的孔洞。
单独调整水溶性树脂的种类时,对比实施例13和对比例5可以看出,在含氟聚合物Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ的有效范围内的相同配方下,乙烯基吡咯烷酮—醋酸乙烯酯共聚物的成膜性优于聚乙烯吡咯烷酮均聚物的成膜效果。这可能是因为乙烯基吡咯烷酮—醋酸乙烯酯共聚物中醋酸乙烯酯的加入,减弱了其吸湿性,在旋涂成膜后,不易吸收空气中的水分,形成的膜在长时间内不会出现雾化现象。
单独调整碱的种类时,对比实施例14、对比例6和对比例7可以看出,在含氟聚合物Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ的有效范围内的相同配方下,不加碱的涂料组合物的PH酸性过强,难以成膜;而添加四甲基氢氧化铵(TMAH)的对比例6虽然达到了一定的成膜效果,但添加TMAH的涂料组合物形成的膜透光性差,曝光所需能量会增大。因此优选醇胺类有机碱作为碱添加入抗反射膜的涂料组合物中。
此外,发明人还参照专利CN114035405A中最优实施例1的配方制备了对比例8的抗反射膜涂料组合物,然后将其旋涂于光刻胶膜上,并将其曝光显影后光刻胶图案电镜图与本发明实施例8制备的抗反射膜效果进行了如图1所示的对比。从图1可以看出,专利CN114035405A中最优实施例1的抗反射膜在曝光显影后图案侧壁笔直性较差(图1b),而本申请将涂料组合物配方改进后(图1a),显影图案侧壁更为笔直,增强了抗反射的效果,这可能是因为本申请制备的抗反射膜涂料组合物只依靠含氟聚合物自身提供酸性,酸性用碱更容易调节,pH与曝光后的光刻胶pH相匹配,不会形成T顶或圆顶,且含氟聚合物在抗反射膜中的分布均匀,降低或消除了驻波效应产生的概率。
综上所述,本发明有效克服了现有技术中的不足,且具高度产业利用价值。上述实施例的作用在于说明本发明的实质性内容,但并不以此限定本发明的保护范围。本领域的普通技术人员应当理解,可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换,而不脱离本发明技术方案的实质和保护范围。

Claims (10)

1.一种含氟聚合物,其特征在于,用于制备光刻胶用抗反射膜,所述含氟聚合物由含氟聚合物Ⅰ、含氟聚合物Ⅱ、含氟聚合物Ⅲ组成;所述含氟聚合物Ⅰ、含氟聚合物Ⅱ、含氟聚合物Ⅲ的化学结构通式如下所示:
CF2(CF3)CF2-O-[CF(CF3)CF2-O]n-CF(CF3)CH2-O-(CH2)3-SO3H;
其中,含氟聚合物Ⅰ为n=0时的含氟聚合物,含氟聚合物Ⅱ为n=1时的含氟聚合物,含氟聚合物Ⅲ为n=2时的含氟聚合物。
2.根据权利要求1所述的含氟聚合物,其特征在于,以质量百分比计,所述含氟聚合物中含氟聚合物Ⅰ占比1wt%-10wt%,含氟聚合物Ⅱ占比45wt%-70wt%,含氟聚合物Ⅲ占比20wt%-50wt%。
3.一种涂料组合物,其特征在于,包括:(A)含氟聚合物;所述含氟聚合物包括权利要求1或2所述的含氟聚合物;(B)非离子表面活性剂;(C)水溶性树脂;(D)碱。
4.根据权利要求3所述的涂料组合物,其特征在于,所述非离子表面活性剂为炔二醇衍生物、丙二醇嵌段聚醚、脂肪醇聚氧乙烯醚中的至少一种。
5.根据权利要求4所述的涂料组合物,其特征在于,所述水溶性树脂为乙烯基吡咯烷酮均聚物、乙烯基吡咯烷酮与乙酸乙烯酯或丙烯酸酯类的共聚物、聚丙烯酸类树脂中的至少一种。
6.根据权利要求5所述的涂料组合物,其特征在于,所述碱为醇胺类有机碱;所述醇胺类有机碱为一乙醇胺、二乙醇胺、二异丙醇胺中的至少一种;所述涂料组合物还包括水性介质;所述水性介质为水或/和水溶性有机溶剂。
7.根据权利要求6所述的涂料组合物,其特征在于,以质量百分比计,所述涂料组合物中含氟聚合物占比1wt%-5wt%,非离子表面活性剂占比0.1wt%-0.5wt%,水溶性树脂占比0.1wt%-1wt%,碱占比0.05wt%-0.2wt%,余量为水性介质。
8.权利要求1或2所述的含氟聚合物或权利要求3-7任一所述涂料组合物在制备抗反射涂料或抗反射膜中的应用。
9.一种抗反射膜,其特征在于,所述抗反射膜主要由权利要求1-2任一所述的含氟聚合物制备而成或主要由权利要求3-7任一所述的涂料组合物制备而成。
10.一种光刻胶,其特征在于,具有权利要求9所述的抗反射膜。
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