CN115784632B - 一种高透型低辐射镀膜玻璃 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种高透型低辐射镀膜玻璃，所述低辐射镀膜玻璃包括由下至上层叠设置的玻璃基片、第一介质膜、功能膜、外层介质膜，所述第一介质膜由氧化锡层、二氧化钛层组成，所述外层介质膜由氧化锌层、硅铝合金层组成，所述功能膜各组分原料如下，按重量份数计，包括聚苯乙烯、苯酚、4‑氯硝基苯、抗紫外线防老剂、粘结剂、增塑剂、分散剂。聚苯丙烯薄膜具有高度的透明性，加工方便，成本低廉，并且在焚烧时时不会散发出有毒的氯化氢等气体，用在玻璃薄膜上时能够提玻璃的高透明性能和耐水性能，保证可见光透过率，掺杂聚苯酚，可以提高薄膜的耐磨和耐腐蚀性能，进而提高玻璃的可见光透过率的效果。

Description

一种高透型低辐射镀膜玻璃
技术领域
本发明涉及镀膜玻璃的制备技术领域，具体为一种高透型低辐射镀膜玻璃。
背景技术
低辐射镀膜玻璃是玻璃上镀有多层金属或者其它化合物组成的膜系产品，功能膜的主要性能是增加可见光的透过性和中远红外线的高反射性能，在人们的日常生活中有广泛的应用。
聚苯乙烯薄膜具有高度的透明性，加工方便，成本低廉，并且在焚烧时时不会散发出有毒的氯化氢等气体，用在玻璃薄膜上时能够提玻璃的高透明性能和耐水性能，保证可见光透过率，但是聚苯乙烯薄膜的耐磨性能和耐腐蚀性相对于传统的聚乙烯、聚丙烯较差，在制备过程中会出现磨损被腐蚀的现象发生，因此发明一种高透型低辐射镀膜玻璃及其制备工艺就显得尤为重要。
发明内容
本发明的目的在于提供一种高透型低辐射镀膜玻璃及其制备工艺，以解决上述背景技术中提出的问题。
为了解决上述技术问题，本发明提供如下技术方案：一种高透型低辐射镀膜玻璃包括由下至上层叠设置的玻璃基片、第一介质膜、功能膜、外层介质膜。
进一步的，所述第一介质膜由氧化锡层、二氧化钛层组成。
本发明的第一介质膜是氧化锡层和二氧化钛层组成，才用的是金属绝缘材料。用来提高功能膜和玻璃的附着力，提高玻璃的透明度和色泽。
进一步的，所述外层介质膜由氧化锌层、硅铝合金层组成。
本发明的外层介质膜是氧化锌层和硅铝合金层组成，能够提高玻璃的可见光和中远红外光的反射能力，增加玻璃的透射比，进而使得玻璃具有低辐射和隔热的效果，并且作为外层介质膜还具有保护功能膜的作用，增加玻璃的使用寿命，降低维护成本。
进一步的，所述第一介质膜的厚度为0.3-0.5μm，所述外层介质膜的厚度为0.5-0.7μm。
进一步的，所述功能膜各组分原料如下，按重量份数计，包括聚苯乙烯40-50份、苯酚10-15份、4-氯硝基苯5-7份、抗紫外线防老剂2-4份、粘结剂5-7份、增塑剂2-4份、分散剂0.5-1份。
进一步的，所述抗紫外线防老剂为对硝基苯胺、N-苯基-α-萘胺、4-甲基-6-叔丁基苯酚的多种混合物。
进一步的，所述粘结剂为硅氧烷、聚四氟乙烯、乙基纤维素的任意一种或多种的混合物。
一种高透型低辐射镀膜玻璃的制备工艺，步骤如下，
（1）玻璃的表面处理：将玻璃一面进行抛光，得到玻璃基板，备用；
（2）聚苯乙烯改性：
①将硫酸银和浓硫酸进行混合，加入聚苯乙烯，加热，温度为90-100℃，搅拌，反应时间为4-5h，加入去离子水，降温，温度为5-8℃，放置2-3天，过滤，得到聚苯乙烯磺酸溶液；
②将聚苯乙烯磺酸溶液加入苯酚和去离子水，搅拌，加入过硫酸铵，搅拌，反应时间为2-3h，过滤，得到改性聚苯乙烯混合物；
（3）功能膜的制备：向步骤（2）中得到的改性聚苯乙烯混合物加入N，N-二甲基甲酰胺，搅拌，加入对硝基氯苯，加热，温度为170-180℃，加入碳酸钾和铜粉，搅拌，反应时间为2-3h，加入抗紫外线防老剂，加热，温度为200-210℃，搅拌，反应时间为2-3h，降至室温，加入粘结剂、分散剂、增塑剂，搅拌，得到功能膜混合液；
本发明通过向硫酸银和浓硫酸混合液中逐滴加入聚苯乙烯的方法，先将聚苯丙烯磺化，随后加入苯酚进行掺杂，为了保证充分反应，加入的苯酚是过量的，为了减少苯酚的含量，本发明加入了对硝基氯苯，对硝基氯苯在碳酸钾和铜粉的条件下能够将多余的苯酚吸收，降低苯酚杂质含量，进而避免了在后续的真空干燥、烘烤中温度达不到苯酚的沸点，造成残留，影响玻璃的可见光透过率和低辐射性能的问题发生，并且还能够减少苯酚有毒气体污染，提高原料使用效率。
加入的铜粉能够影响薄膜的表面电阻，但是铜容易被氧化，形成铜斑，影响可见光透过率和中远红外光反射率，因此需要提高抗氧化性能，对硝基氯苯和苯胺能够生成4-硝基二苯胺，4-硝基二苯胺能够作为防老剂，增加薄膜的抗氧化能力，降低铜粉氧化速度，保证玻璃的可见光透过率。
加入的对硝基氯苯还能够在铜粉和碳酸钾存在的条件下与抗紫外线防老剂对硝基苯胺进行反应，进而降低了因对硝基氯苯的加入量过多，导致产品杂质增多，合格率下降的问题发生，并且还能够生成4,4′，4″-三硝基三苯胺，三苯胺类化合物能够作为红外光吸收剂，提高玻璃的隔热性能，阻隔红外线的性能。
（4）镀膜：
①采用氧化锡为靶标，中频电源，溅射气压为4×10-3mbar，在氩气下沉积在玻璃基板抛光的表面，形成氧化锡层，得到玻璃基板A；
②采用二氧化钛为靶标，中频电源，溅射气压为4×10-3mbar，在氩气下沉积在玻璃基板氧化锡层的表面，形成二氧化钛层，得到玻璃基板B；
③将步骤（3）得到的功能膜混合液放入到旋涂机，设置转速为1200~1500rmp，喷枪压力为0.2-0.25MPa，喷涂时间为15秒，将功能膜混合液喷涂玻璃基板B的二氧化钛层的表面，真空干燥，干燥时间为10-15分钟，烘烤，烘烤温度为90-100℃，得到覆有功能膜的玻璃基板C；
④采用氧化锌为靶标，中频电源，溅射气压为4×10-3mbar，在氩气下沉积在玻璃基板功能膜的表面，形成氧化锌层，得到玻璃基板D；
⑤采用硅铝合金层为靶标，中频电源，溅射气压为4×10-3mbar，在氩气下沉积在玻璃基板氧化锌层的表面，形成硅铝合金层，得到高透型低辐射镀膜玻璃。
进一步的，步骤（1）中，将玻璃一面进行抛光，保证经过抛光后的表面平整，经过抛光后使用去离子水和异丙醇进行冲洗，冲洗3次后进行干燥。
进一步的，步骤（2）中，加入聚苯乙烯改性时，需要分10次加入，每次加入总质量比的1/10，保证反应完全。
与现有技术相比，本发明所达到的有益效果是：聚苯乙烯薄膜具有高度的透明性，加工方便，成本低廉，并且在焚烧时时不会散发出有毒的氯化氢等气体，用在玻璃薄膜上时能够提玻璃的高透明性能和耐水性能，保证可见光透过率，但是聚苯乙烯薄膜的耐磨性能和耐腐蚀性相对于传统的聚乙烯、聚丙烯较差，因此本发明选择将聚苯丙烯进行改性，掺杂聚苯酚，可以提高薄膜的耐磨和耐腐蚀性能，进而提高玻璃的可见光透过率。
具体实施方式
下面对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例1
一种高透型低辐射镀膜玻璃包括由下至上层叠设置的玻璃基片、第一介质膜、功能膜、外层介质膜。
所述第一介质膜由氧化锡层、二氧化钛层组成。
所述外层介质膜由氧化锌层、硅铝合金层组成。
所述第一介质膜的厚度为0.3μm，所述外层介质膜的厚度为0.5μm。
所述功能膜各组分原料如下，按重量份数计，包括聚苯乙烯40份、苯酚10份、4-氯硝基苯5份、抗紫外线防老剂2份、粘结剂5份、增塑剂2份、分散剂0.5份。
所述抗紫外线防老剂为对硝基苯胺、N-苯基-α-萘胺、4-甲基-6-叔丁基苯酚的多种混合物。
所述粘结剂为硅氧烷、聚四氟乙烯、乙基纤维素的任意一种或多种的混合物。
一种高透型低辐射镀膜玻璃的制备工艺，步骤如下，
（1）玻璃的表面处理：将玻璃一面进行抛光，使用去离子水和异丙醇进行冲洗，冲洗3次后进行干燥，得到玻璃基板，备用；
（2）聚苯乙烯改性：
①将硫酸银和浓硫酸进行混合，加入聚苯乙烯，分10次加入，每次加入总质量比的1/10，加热，温度为90℃，搅拌，反应时间为4h，加入去离子水，降温，温度为5℃，放置2天，过滤，得到聚苯乙烯磺酸溶液；
②将聚苯乙烯磺酸溶液加入苯酚和去离子水，搅拌，加入过硫酸铵，搅拌，反应时间为2h，过滤，得到改性聚苯乙烯混合物；
（3）功能膜的制备：向步骤（2）中得到的改性聚苯乙烯混合物加入N，N-二甲基甲酰胺，搅拌，加入对硝基氯苯，加热，温度为170℃，加入碳酸钾和铜粉，搅拌，反应时间为2h，加入抗紫外线防老剂，加热，温度为200℃，搅拌，反应时间为2h，降至室温，加入粘结剂、分散剂、增塑剂，搅拌，得到功能膜混合液；
（4）镀膜：
①采用氧化锡为靶标，中频电源，溅射气压为4×10-3mbar，在氩气下沉积在玻璃基板抛光的表面，形成氧化锡层，得到玻璃基板A；
②采用二氧化钛为靶标，中频电源，溅射气压为4×10-3mbar，在氩气下沉积在玻璃基板氧化锡层的表面，形成二氧化钛层，得到玻璃基板B；
③将步骤（3）得到的功能膜混合液放入到旋涂机，设置转速为1200rmp，喷枪压力为0.2MPa，喷涂时间为15秒，将功能膜混合液喷涂玻璃基板B的二氧化钛层的表面，真空干燥，干燥时间为10分钟，烘烤，烘烤温度为90℃，得到覆有功能膜的玻璃基板C；
④采用氧化锌为靶标，中频电源，溅射气压为4×10-3mbar，在氩气下沉积在玻璃基板功能膜的表面，形成氧化锌层，得到玻璃基板D；
⑤采用硅铝合金层为靶标，中频电源，溅射气压为4×10-3mbar，在氩气下沉积在玻璃基板氧化锌层的表面，形成硅铝合金层，得到高透型低辐射镀膜玻璃。
实施例2
一种高透型低辐射镀膜玻璃包括由下至上层叠设置的玻璃基片、第一介质膜、功能膜、外层介质膜。
所述第一介质膜由氧化锡层、二氧化钛层组成。
所述外层介质膜由氧化锌层、硅铝合金层组成。
所述第一介质膜的厚度为0.4μm，所述外层介质膜的厚度为0.6μm。
所述功能膜各组分原料如下，按重量份数计，包括聚苯乙烯45份、苯酚13份、4-氯硝基苯6份、抗紫外线防老剂3份、粘结剂6份、增塑剂3份、分散剂0.7份。
所述抗紫外线防老剂为对硝基苯胺、N-苯基-α-萘胺、4-甲基-6-叔丁基苯酚的多种混合物。
所述粘结剂为硅氧烷、聚四氟乙烯、乙基纤维素的任意一种或多种的混合物。
一种高透型低辐射镀膜玻璃的制备工艺，步骤如下，
（1）玻璃的表面处理：将玻璃一面进行抛光，使用去离子水和异丙醇进行冲洗，冲洗3次后进行干燥，得到玻璃基板，备用；
（2）聚苯乙烯改性：
①将硫酸银和浓硫酸进行混合，加入聚苯乙烯，分10次加入，每次加入总质量比的1/10，加热，温度为95℃，搅拌，反应时间为4.5h，加入去离子水，降温，温度为7℃，放置2天，过滤，得到聚苯乙烯磺酸溶液；
②将聚苯乙烯磺酸溶液加入苯酚和去离子水，搅拌，加入过硫酸铵，搅拌，反应时间为2-3h，过滤，得到改性聚苯乙烯混合物；
（4）功能膜的制备：向步骤（2）中得到的改性聚苯乙烯混合物加入N，N-二甲基甲酰胺，搅拌，加入对硝基氯苯，加热，温度为175℃，加入碳酸钾和铜粉，搅拌，反应时间为2.5h，加入抗紫外线防老剂，加热，温度为205℃，搅拌，反应时间为2.5h，降至室温，加入粘结剂、分散剂、增塑剂，搅拌，得到功能膜混合液；
（4）镀膜：
①采用氧化锡为靶标，中频电源，溅射气压为4×10-3mbar，在氩气下沉积在玻璃基板抛光的表面，形成氧化锡层，得到玻璃基板A；
②采用二氧化钛为靶标，中频电源，溅射气压为4×10-3mbar，在氩气下沉积在玻璃基板氧化锡层的表面，形成二氧化钛层，得到玻璃基板B；
③将步骤（3）得到的功能膜混合液放入到旋涂机，设置转速为1400rmp，喷枪压力为0.23MPa，喷涂时间为15秒，将功能膜混合液喷涂玻璃基板B的二氧化钛层的表面，真空干燥，干燥时间为13分钟，烘烤，烘烤温度为95℃，得到覆有功能膜的玻璃基板C；
④采用氧化锌为靶标，中频电源，溅射气压为4×10-3mbar，在氩气下沉积在玻璃基板功能膜的表面，形成氧化锌层，得到玻璃基板D；
⑤采用硅铝合金层为靶标，中频电源，溅射气压为4×10-3mbar，在氩气下沉积在玻璃基板氧化锌层的表面，形成硅铝合金层，得到高透型低辐射镀膜玻璃。
实施例3
一种高透型低辐射镀膜玻璃包括由下至上层叠设置的玻璃基片、第一介质膜、功能膜、外层介质膜。
所述第一介质膜由氧化锡层、二氧化钛层组成。
所述外层介质膜由氧化锌层、硅铝合金层组成。
所述第一介质膜的厚度为0.5μm，所述外层介质膜的厚度为0.7μm。
所述功能膜各组分原料如下，按重量份数计，包括聚苯乙烯50份、苯酚15份、4-氯硝基苯7份、抗紫外线防老剂4份、粘结剂7份、增塑剂4份、分散剂1份。
所述抗紫外线防老剂为对硝基苯胺、N-苯基-α-萘胺、4-甲基-6-叔丁基苯酚的多种混合物。
所述粘结剂为硅氧烷、聚四氟乙烯、乙基纤维素的任意一种或多种的混合物。
一种高透型低辐射镀膜玻璃的制备工艺，步骤如下，
（1）玻璃的表面处理：将玻璃一面进行抛光，使用去离子水和异丙醇进行冲洗，冲洗3次后进行干燥，得到玻璃基板，备用；
（2）聚苯乙烯改性：
①将硫酸银和浓硫酸进行混合，加入聚苯乙烯，分10次加入，每次加入总质量比的1/10，加热，温度为100℃，搅拌，反应时间为5h，加入去离子水，降温，温度为8℃，放置3天，过滤，得到聚苯乙烯磺酸溶液；
②将聚苯乙烯磺酸溶液加入苯酚和去离子水，搅拌，加入过硫酸铵，搅拌，反应时间为2-3h，过滤，得到改性聚苯乙烯混合物；
（5）功能膜的制备：向步骤（2）中得到的改性聚苯乙烯混合物加入N，N-二甲基甲酰胺，搅拌，加入对硝基氯苯，加热，温度为180℃，加入碳酸钾和铜粉，搅拌，反应时间为3h，加入抗紫外线防老剂，加热，温度为210℃，搅拌，反应时间为3h，降至室温，加入粘结剂、分散剂、增塑剂，搅拌，得到功能膜混合液；
（4）镀膜：
①采用氧化锡为靶标，中频电源，溅射气压为4×10-3mbar，在氩气下沉积在玻璃基板抛光的表面，形成氧化锡层，得到玻璃基板A；
②采用二氧化钛为靶标，中频电源，溅射气压为4×10-3mbar，在氩气下沉积在玻璃基板氧化锡层的表面，形成二氧化钛层，得到玻璃基板B；
③将步骤（3）得到的功能膜混合液放入到旋涂机，设置转速为1500rmp，喷枪压力为0.25MPa，喷涂时间为15秒，将功能膜混合液喷涂玻璃基板B的二氧化钛层的表面，真空干燥，干燥时间为15分钟，烘烤，烘烤温度为100℃，得到覆有功能膜的玻璃基板C；
④采用氧化锌为靶标，中频电源，溅射气压为4×10-3mbar，在氩气下沉积在玻璃基板功能膜的表面，形成氧化锌层，得到玻璃基板D；
⑤采用硅铝合金层为靶标，中频电源，溅射气压为4×10-3mbar，在氩气下沉积在玻璃基板氧化锌层的表面，形成硅铝合金层，得到高透型低辐射镀膜玻璃。
对比例1
一种高透型低辐射镀膜玻璃包括由下至上层叠设置的玻璃基片、第一介质膜、功能膜、外层介质膜。
所述第一介质膜由氧化锡层、二氧化钛层组成。
所述外层介质膜由氧化锌层、硅铝合金层组成。
所述第一介质膜的厚度为0.5μm，所述外层介质膜的厚度为0.7μm。
所述功能膜各组分原料如下，按重量份数计，包括聚苯乙烯50份、苯酚15份、抗紫外线防老剂4份、粘结剂7份、增塑剂4份、分散剂1份。
所述抗紫外线防老剂为对硝基苯胺、N-苯基-α-萘胺、4-甲基-6-叔丁基苯酚的多种混合物。
所述粘结剂为硅氧烷、聚四氟乙烯、乙基纤维素的任意一种或多种的混合物。
一种高透型低辐射镀膜玻璃的制备工艺，步骤如下，
（1）玻璃的表面处理：将玻璃一面进行抛光，使用去离子水和异丙醇进行冲洗，冲洗3次后进行干燥，得到玻璃基板，备用；
（2）聚苯乙烯改性：
①将硫酸银和浓硫酸进行混合，加入聚苯乙烯，分10次加入，每次加入总质量比的1/10，加热，温度为100℃，搅拌，反应时间为5h，加入去离子水，降温，温度为8℃，放置3天，过滤，得到聚苯乙烯磺酸溶液；
②将聚苯乙烯磺酸溶液加入苯酚和去离子水，搅拌，加入过硫酸铵，搅拌，反应时间为2-3h，过滤，得到改性聚苯乙烯混合物；
（6）功能膜的制备：向步骤（2）中得到的改性聚苯乙烯混合物加入N，N-二甲基甲酰胺，搅拌，加入碳酸钾和铜粉，搅拌，反应时间为3h，加入抗紫外线防老剂，加热，温度为210℃，搅拌，反应时间为3h，降至室温，加入粘结剂、分散剂、增塑剂，搅拌，得到功能膜混合液；
（4）镀膜：
①采用氧化锡为靶标，中频电源，溅射气压为4×10-3mbar，在氩气下沉积在玻璃基板抛光的表面，形成氧化锡层，得到玻璃基板A；
②采用二氧化钛为靶标，中频电源，溅射气压为4×10-3mbar，在氩气下沉积在玻璃基板氧化锡层的表面，形成二氧化钛层，得到玻璃基板B；
③将步骤（3）得到的功能膜混合液放入到旋涂机，设置转速为1500rmp，喷枪压力为0.25MPa，喷涂时间为15秒，将功能膜混合液喷涂玻璃基板B的二氧化钛层的表面，真空干燥，干燥时间为15分钟，烘烤，烘烤温度为100℃，得到覆有功能膜的玻璃基板C；
④采用氧化锌为靶标，中频电源，溅射气压为4×10-3mbar，在氩气下沉积在玻璃基板功能膜的表面，形成氧化锌层，得到玻璃基板D；
⑤采用硅铝合金层为靶标，中频电源，溅射气压为4×10-3mbar，在氩气下沉积在玻璃基板氧化锌层的表面，形成硅铝合金层，得到高透型低辐射镀膜玻璃。
对比例2
一种高透型低辐射镀膜玻璃包括由下至上层叠设置的玻璃基片、第一介质膜、功能膜、外层介质膜。
所述第一介质膜由氧化锡层、二氧化钛层组成。
所述外层介质膜由氧化锌层、硅铝合金层组成。
所述第一介质膜的厚度为0.5μm，所述外层介质膜的厚度为0.7μm。
所述功能膜各组分原料如下，按重量份数计，包括聚苯乙烯50份、苯酚15份、4-氯硝基苯7份、抗紫外线防老剂4份、粘结剂7份、增塑剂4份、分散剂1份。
所述抗紫外线防老剂为对苯二胺、N-苯基-α-萘胺、4-甲基-6-叔丁基苯酚的多种混合物。
所述粘结剂为硅氧烷、聚四氟乙烯、乙基纤维素的任意一种或多种的混合物。
一种高透型低辐射镀膜玻璃的制备工艺，步骤如下，
（1）玻璃的表面处理：将玻璃一面进行抛光，使用去离子水和异丙醇进行冲洗，冲洗3次后进行干燥，得到玻璃基板，备用；
（2）聚苯乙烯改性：
①将硫酸银和浓硫酸进行混合，加入聚苯乙烯，分10次加入，每次加入总质量比的1/10，加热，温度为100℃，搅拌，反应时间为5h，加入去离子水，降温，温度为8℃，放置3天，过滤，得到聚苯乙烯磺酸溶液；
②将聚苯乙烯磺酸溶液加入苯酚和去离子水，搅拌，加入过硫酸铵，搅拌，反应时间为2-3h，过滤，得到改性聚苯乙烯混合物；
（7）功能膜的制备：向步骤（2）中得到的改性聚苯乙烯混合物加入N，N-二甲基甲酰胺，搅拌，加入对硝基氯苯，加热，温度为180℃，加入碳酸钾和铜粉，搅拌，反应时间为3h，加入抗紫外线防老剂，加热，温度为210℃，搅拌，反应时间为3h，降至室温，加入粘结剂、分散剂、增塑剂，搅拌，得到功能膜混合液；
（4）镀膜：
①采用氧化锡为靶标，中频电源，溅射气压为4×10-3mbar，在氩气下沉积在玻璃基板抛光的表面，形成氧化锡层，得到玻璃基板A；
②采用二氧化钛为靶标，中频电源，溅射气压为4×10-3mbar，在氩气下沉积在玻璃基板氧化锡层的表面，形成二氧化钛层，得到玻璃基板B；
③将步骤（3）得到的功能膜混合液放入到旋涂机，设置转速为1500rmp，喷枪压力为0.25MPa，喷涂时间为15秒，将功能膜混合液喷涂玻璃基板B的二氧化钛层的表面，真空干燥，干燥时间为15分钟，烘烤，烘烤温度为100℃，得到覆有功能膜的玻璃基板C；
④采用氧化锌为靶标，中频电源，溅射气压为4×10-3mbar，在氩气下沉积在玻璃基板功能膜的表面，形成氧化锌层，得到玻璃基板D；
⑤采用硅铝合金层为靶标，中频电源，溅射气压为4×10-3mbar，在氩气下沉积在玻璃基板氧化锌层的表面，形成硅铝合金层，得到高透型低辐射镀膜玻璃。
实验
以实施例3位对照，设置了对比例1、对比例2，其中，对比例1不加入对硝基氯苯，对比例2中使用对苯二胺，替代对硝基苯胺。
将实施例1、实施例2、实施例3、对比例1、对比例2进行对照实验，采用国家标准GB/T 2680-1994进行可将光透射比、太阳光透射比测试，结果如下，
表一
对比例1的可见光透过率、折射率和太阳光的透过率、折射率相较于实施例1、实施例2、实施例3较低，原因在于对比例1不加入对硝基氯苯，使得多余的苯酚杂质残留在产品中，降低了透光性能，并且铜粉的氧化速度较快，形成铜斑，进而导致功能膜失去工作能力，导致太阳光的透过率、折射率下降。
对比例2的可见光透过率、折射率和太阳光的透过率、折射率相较于实施例1、实施例2、实施例3较低，原因在于对比例2中使用对苯二胺，替代对硝基苯胺，使得多余的对硝基氯苯残留，造成可见光透过率、折射率和太阳光的透过率、折射率下降。
最后应说明的是：以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (1)

1.一种高透型低辐射镀膜玻璃，其特征在于：包括由下至上层叠设置的玻璃基片、第一介质膜、功能膜、外层介质膜；
所述第一介质膜由氧化锡层、二氧化钛层组成；所述外层介质膜由氧化锌层、硅铝合金层组成；所述第一介质膜的厚度为0.3μm，所述外层介质膜的厚度为0.5μm；所述功能膜各组分原料如下，按重量份数计，包括聚苯乙烯40份、苯酚10份、4-氯硝基苯5份、抗紫外线防老剂2份、粘结剂5份、增塑剂2份、分散剂0.5份；所述抗紫外线防老剂为对硝基苯胺、N-苯基-α-萘胺、4-甲基-6-叔丁基苯酚的多种混合物；所述粘结剂为硅氧烷、聚四氟乙烯、乙基纤维素的任意一种或多种的混合物；
该镀膜玻璃的制备工艺步骤如下，
（1）玻璃的表面处理：将玻璃一面进行抛光，使用去离子水和异丙醇进行冲洗，冲洗3次后进行干燥，得到玻璃基板，备用；
（2）聚苯乙烯改性：
①将硫酸银和浓硫酸进行混合，加入聚苯乙烯，分10次加入，每次加入总质量比的1/10，加热，温度为90℃，搅拌，反应时间为4h，加入去离子水，降温，温度为5℃，放置2天，过滤，得到聚苯乙烯磺酸溶液；
②将聚苯乙烯磺酸溶液加入苯酚和去离子水，搅拌，加入过硫酸铵，搅拌，反应时间为2h，过滤，得到改性聚苯乙烯混合物；
（3）功能膜的制备：向步骤（2）中得到的改性聚苯乙烯混合物加入N，N-二甲基甲酰胺，搅拌，加入对硝基氯苯，加热，温度为170℃，加入碳酸钾和铜粉，搅拌，反应时间为2h，加入抗紫外线防老剂，加热，温度为200℃，搅拌，反应时间为2h，降至室温，加入粘结剂、分散剂、增塑剂，搅拌，得到功能膜混合液；
（4）镀膜：
①采用氧化锡为靶标，中频电源，溅射气压为4×10-3mbar，在氩气下沉积在玻璃基板抛光的表面，形成氧化锡层，得到玻璃基板A；
②采用二氧化钛为靶标，中频电源，溅射气压为4×10-3mbar，在氩气下沉积在玻璃基板氧化锡层的表面，形成二氧化钛层，得到玻璃基板B；
③将步骤（3）得到的功能膜混合液放入到旋涂机，设置转速为1200rmp，喷枪压力为0.2MPa，喷涂时间为15秒，将功能膜混合液喷涂玻璃基板B的二氧化钛层的表面，真空干燥，干燥时间为10分钟，烘烤，烘烤温度为90℃，得到覆有功能膜的玻璃基板C；
④采用氧化锌为靶标，中频电源，溅射气压为4×10-3mbar，在氩气下沉积在玻璃基板功能膜的表面，形成氧化锌层，得到玻璃基板D；
⑤采用硅铝合金层为靶标，中频电源，溅射气压为4×10-3mbar，在氩气下沉积在玻璃基板氧化锌层的表面，形成硅铝合金层，得到高透型低辐射镀膜玻璃。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112521027B (zh) * 2020-12-07 2023-05-23 毕节明钧玻璃股份有限公司 一种高透型低辐射镀膜玻璃及其制备工艺
CN117209166B (zh) * 2023-08-29 2024-02-06 秦皇岛市坤平安全玻璃有限公司 一种低辐射镀膜钢化玻璃的制备方法

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3871972A (en) * 1972-03-24 1975-03-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd Electrorecording sheet
JP2005040964A (ja) * 2003-07-22 2005-02-17 Konica Minolta Medical & Graphic Inc 印刷版固定シートとそれを用いた版掛け方法および印刷方法
CN101253440A (zh) * 2005-08-29 2008-08-27 柯尼卡美能达精密光学株式会社 液晶显示装置
CN101662923A (zh) * 2008-08-26 2010-03-03 上海添香实业有限公司 具有屏蔽电磁波功能的贴膜及其制作方法
EP2444381A1 (de) * 2010-10-19 2012-04-25 Saint-Gobain Glass France Transparente Scheibe
KR20140095862A (ko) * 2013-01-25 2014-08-04 도레이첨단소재 주식회사 정전용량방식 터치패널용 고투과 복합필름
CN106431012A (zh) * 2016-11-25 2017-02-22 武汉长利新材料科技有限公司 可钢化高透低辐射镀膜玻璃及其制造方法
CN109734332A (zh) * 2019-01-26 2019-05-10 殷红平 一种低辐射镀膜玻璃及其加工工艺
CN112521027A (zh) * 2020-12-07 2021-03-19 魏伟兴 一种高透型低辐射镀膜玻璃及其制备工艺

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BRPI0507402B1 (pt) * 2004-02-03 2017-11-21 Ricoh Company, Limited Toner and image formation method
JP2006110807A (ja) * 2004-10-13 2006-04-27 Central Glass Co Ltd 電波透過性波長選択板
JP2008036519A (ja) * 2006-08-04 2008-02-21 Nippon Shokubai Co Ltd ハロゲン含有化合物の変換方法
CN102557479A (zh) * 2011-12-26 2012-07-11 李德杰 非互易型遮阳低辐射玻璃
AU2016364438C1 (en) * 2015-12-02 2021-09-09 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Heat ray shielding microparticle, heat ray shielding microparticle dispersion solution, heat ray shielding film, heat ray shielding glass, heat ray shielding dispersion body, and heat ray shielding laminated transparent base material
WO2019021662A1 (ja) * 2017-07-27 2019-01-31 富士フイルム株式会社 赤外線遮蔽フィルム、赤外線遮蔽ガラス、及び、窓

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3871972A (en) * 1972-03-24 1975-03-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd Electrorecording sheet
JP2005040964A (ja) * 2003-07-22 2005-02-17 Konica Minolta Medical & Graphic Inc 印刷版固定シートとそれを用いた版掛け方法および印刷方法
CN101253440A (zh) * 2005-08-29 2008-08-27 柯尼卡美能达精密光学株式会社 液晶显示装置
CN101662923A (zh) * 2008-08-26 2010-03-03 上海添香实业有限公司 具有屏蔽电磁波功能的贴膜及其制作方法
EP2444381A1 (de) * 2010-10-19 2012-04-25 Saint-Gobain Glass France Transparente Scheibe
KR20140095862A (ko) * 2013-01-25 2014-08-04 도레이첨단소재 주식회사 정전용량방식 터치패널용 고투과 복합필름
CN106431012A (zh) * 2016-11-25 2017-02-22 武汉长利新材料科技有限公司 可钢化高透低辐射镀膜玻璃及其制造方法
CN109734332A (zh) * 2019-01-26 2019-05-10 殷红平 一种低辐射镀膜玻璃及其加工工艺
CN112521027A (zh) * 2020-12-07 2021-03-19 魏伟兴 一种高透型低辐射镀膜玻璃及其制备工艺

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
氧化锆保护层对Low-E镀膜玻璃的性能影响;张雷等;《门窗专栏》;第16-17页 *

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