CN203344423U - 一种四层膜系结构的低辐射镀膜玻璃 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种四层膜系结构的低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板，在玻璃基板上依次镀制有氧化锡层、氧化硅层、氟掺杂氧化锡层、掺锑氧化锡层。本实用新型的四层膜系结构的低辐射镀膜玻璃，氧化硅层主要功能是调节膜层的颜色与太阳光的透过率；氟掺杂氧化锡层能够极大的降低玻璃表面的辐射率；掺锑氧化锡层为近红外（NIR）阳光吸收层。本实用新型具有低辐射性能又具有阳光控制性能，可以满足现代建筑的需要。
Description
技术领域
本实用新型涉及玻璃深加工技术领域，特别涉及一种四层膜系结构的低辐射镀膜玻璃。
背景技术
现代建筑无论是商厦还是住宅，都趋向于大面积采光，然而普通玻璃夏季无法阻挡阳光中的热能向室内传递，冬季也无法阻挡室内热能的外泄，保持室内温度的代价只能是大量消耗空调和暖气的能耗，因此大面积玻璃采光带来的直接后果是整个建筑能量的极大损失。
实用新型内容
针对上述问题，本实用新型提供一种四层膜系结构的低辐射镀膜玻璃，其具有低辐射性能又具有阳光控制性能，可以满足现代建筑的需要。
为了实现上述目的，本实用新型的技术方案如下：
一种四层膜系结构的低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板，其特征在于，在玻璃基板上依次镀制有氧化锡层、氧化硅层、氟掺杂氧化锡层、掺锑氧化锡层。
在本实用新型的一个优选实施例中，氧化锡层厚度为5～50nm，氧化硅层厚度为5～50nm，氟掺杂氧化锡层厚度为100～400nm nm，掺锑氧化锡层厚度为100～400nm。
本实用新型的四层膜系结构的低辐射镀膜玻璃，氧化硅层主要功能是调节膜层的颜色与太阳光的透过率；氟掺杂氧化锡层能够极大的降低玻璃表面的辐射率；掺锑氧化锡层为近红外（NIR）阳光吸收层。本实用新型具有低辐射性能又具有阳光控制性能，可以满足现代建筑的需要。
本实用新型的特点可参阅以下较好实施方式的详细说明而获得清楚地了解。
附图说明
图1为四层膜系结构的低辐射镀膜玻璃的局部剖面示意图。
具体实施方式
为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施例进一步阐述本实用新型。
参见图1，一种四层膜系结构的低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板100，在玻璃基板上依次设置的氧化锡层110、氧化硅层120、氟掺杂氧化锡层130、掺锑氧化锡层140。
该四层膜系结构的低辐射镀膜玻璃的加工方法如下：在玻璃基板上依次镀上氧化锡层、氧化硅层、氟掺杂氧化锡层、掺锑氧化锡层。
各膜层的镀制工艺是：
氧化锡层（SnOx）：采用化学气相沉积工艺，以二氯二甲基锡或单丁基三氯化锡或四氯化锡为原料，氧气为氧化剂，通过镀膜梁在锡槽中高温反应，并喷涂于玻璃基板表面，经退火处理，形成氧化锡层；氧化锡层厚度为5-50nm，能有效阻止玻璃中碱金属离子的析出，与玻璃附着力强。
氧化硅层（SiOy）：采用化学气相沉积工艺，以硅烷、乙烯为原料，氧气为氧化剂通过镀膜梁在锡槽中高温反应，并喷涂于氧化锡层表面，经退火处理，形成氧化硅层；氧化硅层厚度为5-50nm，此为氧化物过渡层，主要功能是调节膜层的颜色与太阳光的透过率。
氟掺杂氧化锡层（SnOx：Fy）：采用化学气相沉积工艺，以二氯二甲基锡或单丁基三氯化锡或四氯化锡、氟化氢原料，氧气为氧化剂，水为催化剂，通过镀膜梁在锡槽中高温反应，并喷涂于氧化硅层表面，经退火处理，形成氟掺杂氧化锡层；氟掺杂氧化锡层厚度为100-400nm，能够极大的降低玻璃表面的辐射率。
掺锑氧化锡层（SnOx：Sby）：采用化学气相沉积工艺，以二氯二甲基锡或单丁基三氯化锡或四氯化锡、三氯化锑或三苯基锑为原料，氧气为氧化剂，水蒸气为催化剂，通过镀膜梁在锡槽中高温反应，在氟掺杂氧化锡层表面热解生成掺锑氧化锡层，掺锑氧化锡层的厚度为100-400nm。
下表列出了制出本实用新型的工艺参数。
四层膜系结构的低辐射镀膜玻璃的工艺参数
用上述工艺参数制出的四层膜系结构的低辐射镀膜玻璃的光学性能如下:
镀膜玻璃的可见光透过率T=40～70%,
可见光玻璃面反射率Rg=8～20%
可见光玻璃面色坐标a*值=-3～3
色坐标b*值=-2～3
以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型的范围内。本实用新型要求的保护范围由所附的权利要求书及其等同物界定。
Claims (2)
1.一种四层膜系结构的低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板，其特征在于，在玻璃基板上依次镀制有氧化锡层、氧化硅层、氟掺杂氧化锡层、掺锑氧化锡层。
2.根据权利要求1所述的四层膜系结构的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，氧化锡层厚度为5～50nm，氧化硅层厚度为5～50nm，氟掺杂氧化锡层厚度为100～400nm nm，掺锑氧化锡层厚度为100～400nm。
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| CN 201320407876 CN203344423U (zh) | 2013-07-09 | 2013-07-09 | 一种四层膜系结构的低辐射镀膜玻璃 |
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Publications (1)
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Family Applications (1)
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108249779A (zh) * | 2018-03-21 | 2018-07-06 | 上海耀皮玻璃集团股份有限公司 | 能够实现电加热的镀膜层、包含其的镀膜玻璃、电加热玻璃及用途 |
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2013
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| CN108249779A (zh) * | 2018-03-21 | 2018-07-06 | 上海耀皮玻璃集团股份有限公司 | 能够实现电加热的镀膜层、包含其的镀膜玻璃、电加热玻璃及用途 |
| CN108249779B (zh) * | 2018-03-21 | 2023-12-08 | 上海耀皮玻璃集团股份有限公司 | 能够实现电加热的镀膜层、包含其的镀膜玻璃、电加热玻璃及用途 |
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