CN115498052B - 一种cigs太阳能电池的制备方法 - Google Patents

一种cigs太阳能电池的制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN115498052B
CN115498052B CN202211156922.2A CN202211156922A CN115498052B CN 115498052 B CN115498052 B CN 115498052B CN 202211156922 A CN202211156922 A CN 202211156922A CN 115498052 B CN115498052 B CN 115498052B
Authority
CN
China
Prior art keywords
layer
cigs
electrode
zno
depositing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202211156922.2A
Other languages
English (en)
Other versions
CN115498052A (zh
Inventor
苑欣业
李伟民
俞深
唐玮
王赛强
李松
赵晨晨
祁同庆
马明
宁德
杨春雷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shenzhen Institute of Advanced Technology of CAS
Original Assignee
Shenzhen Institute of Advanced Technology of CAS
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen Institute of Advanced Technology of CAS filed Critical Shenzhen Institute of Advanced Technology of CAS
Priority to CN202211156922.2A priority Critical patent/CN115498052B/zh
Priority to PCT/CN2022/138220 priority patent/WO2024060425A1/zh
Publication of CN115498052A publication Critical patent/CN115498052A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN115498052B publication Critical patent/CN115498052B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/06Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers
    • H01L31/072Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers the potential barriers being only of the PN heterojunction type
    • H01L31/0749Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers the potential barriers being only of the PN heterojunction type including a AIBIIICVI compound, e.g. CdS/CulnSe2 [CIS] heterojunction solar cells
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0623Sulfides, selenides or tellurides
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02104Forming layers
    • H01L21/02365Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
    • H01L21/02518Deposited layers
    • H01L21/02521Materials
    • H01L21/02568Chalcogenide semiconducting materials not being oxides, e.g. ternary compounds
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02104Forming layers
    • H01L21/02365Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
    • H01L21/02612Formation types
    • H01L21/02617Deposition types
    • H01L21/02631Physical deposition at reduced pressure, e.g. MBE, sputtering, evaporation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/0248Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
    • H01L31/0256Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by the material
    • H01L31/0264Inorganic materials
    • H01L31/032Inorganic materials including, apart from doping materials or other impurities, only compounds not provided for in groups H01L31/0272 - H01L31/0312
    • H01L31/0322Inorganic materials including, apart from doping materials or other impurities, only compounds not provided for in groups H01L31/0272 - H01L31/0312 comprising only AIBIIICVI chalcopyrite compounds, e.g. Cu In Se2, Cu Ga Se2, Cu In Ga Se2
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/042PV modules or arrays of single PV cells
    • H01L31/0445PV modules or arrays of single PV cells including thin film solar cells, e.g. single thin film a-Si, CIS or CdTe solar cells
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/18Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Sustainable Energy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Sustainable Development (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)

Abstract

本申请提供的CIGS太阳能电池及其制备方法,包括依次层叠设置的钠钙玻璃衬底、Mo背电极、CIGS吸收层、CdS缓冲层、i‑ZnO和AZO窗口层及Ni‑Al‑Ni栅电极,解决了衬底温度过低导致的CIGS薄膜的结晶性能变差,晶粒过小,光生载流子复合几率增大,从而导致的电池的光电转换效率降低等问题,实现了CIGS太阳能电池的低温沉积,且在低温生长的同时保持CIGS太阳能电池的光电性能和电池性能不受大的影响,可与不耐高温的柔性基底(PI)工艺兼容,在实际生产中可简化设备制造难度,降低衬底的加热能耗,有效避免玻璃的软化变形,克服产业化生产中大面积玻璃的变形问题,能够加速促进CIGS电池技术的大面积产业化应用,因此具有广阔的市场应用前景。

Description

一种CIGS太阳能电池的制备方法
技术领域
本申请涉及薄膜太阳能电池技术领域,特别涉及一种CIGS太阳能电池及制备方法。
背景技术
CIGS太阳能电池是目前最有前景的太阳能电池之一,具有能源回收周期短,发电量高,发电稳定性好,光吸收能力强,转换效率高,白天发电时间长等优点。然而,高效CIGS太阳能电池通常是在550℃以上的高基板温度下制备的。在低于500℃的温度下制造CIGS太阳能电池具有巨大的优势,降低了高温条件下的能源消耗和设备要求,从而降低了CIGS太阳能电池和组件的成本。此外,低温CIGS制造工艺可以应用于某些基板,例如柔性聚酰亚胺(PI)基板,以获得用于构建集成光伏和空间应用的轻型CIGS太阳能电池。先前的研究表明,在低于450℃的温度下沉积的CIGS的效率可以与在高于550℃的高温下沉积的CIGS的效率相媲美。最近,Tiwari和他的同事们报道了在450℃沉积的聚酰亚胺基板上的20.8%的新记录效率,这归功于他们将碱元素掺入CIGS的精心策略。然而,在低温下沉积的CIGS的效率仍然存在差异。低基板温度沉积CIGS太阳能电池存在的主要挑战是结晶度差和钠钙基板的钠扩散不足。沉积在低温衬底上的CIGS薄膜结晶度差的原因是In和Ga的低互扩散性,从衬底扩散的钠可以提高CIGS薄膜的结晶度和器件的性能。然而,当基板低于500℃时,Na从基板上的扩散不足,因此沉积后的碱元素处理对于制造高效CIGS太阳能电池至关重要。
发明内容
鉴于此,有必要针对现有技术中存在的缺陷提供一种性能温度且工艺兼容性较佳的CIGS太阳能电池及其制备方法。
为解决上述问题,本申请采用下述技术方案:
本申请目的之一,提供了一种CIGS太阳能电池,包括:依次层叠设置的钠钙玻璃衬底、Mo背电极、CIGS吸收层、CdS缓冲层、i-ZnO和AZO窗口层、Ni-Al-Ni栅电极。
在其中一些实施例中,所述Mo背电极包括双层Mo薄膜,所述双层Mo薄膜包括一层疏松层及一层致密层,所述双层Mo薄膜的厚度为500-1000nm。
在其中一些实施例中,所述CIGS吸收层包括88at.%的GGI(Ga/([Ga]+[In])和35at.%的CIG(Cu/([Ga]+[In])),所述CIGS吸收层的厚度为1.8-3μm。
在其中一些实施例中,所述CdS缓冲层为n型CdS缓冲层,厚度为30-80nm。
在其中一些实施例中,所述i-ZnO和AZO窗口层中i-ZnO厚度为50-100nm,ZnO:Al厚度为100-300nm。
在其中一些实施例中,所述Ni-Al-Ni栅电极包括第一层Ni电极、蒸镀于所述第一层Ni电极上的Al电极及覆盖于所述Al电极上的第二层Ni电极,所述第一层Ni电极厚度为所述Al电极厚度为/>所述第二层Ni电极厚度为/>
本申请的目的之二,提供了一种所述的CIGS太阳能电池的制备方法,包括下述步骤:
在所述钠钙玻璃衬底上沉积所述Mo背电极;
在所述Mo背电极上沉积所述CIGS吸收层;
在所述CIGS吸收层上沉积所述CdS缓冲层;
在所述CdS缓冲层上制备所述i-ZnO和AZO窗口层;
在所述i-ZnO和AZO窗口层上沉积Ni/Al/Ni栅电极。
在其中一些实施例中,在所述钠钙玻璃衬底上沉积所述Mo背电极的步骤中,具体包括:通过直流磁控溅射法将所述Mo背电极沉积于所述钠钙玻璃衬底上。
在其中一些实施例中,在在所述Mo背电极上沉积所述CIGS吸收层的步骤中,具体包括下述步骤:利用三步共蒸发法制备CIGS吸收层在所述Mo背电极上沉积所述CIGS吸收层。
在其中一些实施例中,利用三步共蒸发法制备CIGS吸收层在所述Mo背电极上沉积所述CIGS吸收层,具体包括:
第一步,在500-550℃温度下,将所述钠钙玻璃衬,蒸发85-90%左右的In和Ga,形成(In,Ga)2Se3预制层;
第二步,打开Cu源的挡板,只蒸发Cu,形成CIGS结晶;
第三步,保持所述钠钙玻璃衬底温度与第二步相同,蒸发剩下的In和Ga,保持蒸发的时间在15-20分钟,使其与第二步中过量的Cu反应,最终生成略贫Cu的CIGS吸收层;
上述步骤均在足量的Se的气氛中进行。
在其中一些实施例中,在所述CIGS吸收层上沉积所述CdS缓冲层的步骤中,具体包括下述步骤:采用化学水浴法在所述CIGS吸收层上沉积所述CdS缓冲层。
在其中一些实施例中,在所述CdS缓冲层上制备所述i-ZnO和AZO窗口层的步骤中,具体包括下述步骤:采用射频磁控溅射的方法在所述CdS缓冲层上制备所述i-ZnO和AZO窗口层。
在其中一些实施例中,在所述i-ZnO和AZO窗口层上沉积Ni/Al/Ni栅电极的步骤中,具体包括下述步骤:采用电子束蒸发法镀在所述i-ZnO和AZO窗口层上蒸镀第一层Ni电极,再在所述第一层Ni电极上蒸镀Al电极,再在所述Al电极蒸镀第二层Ni电极。
本申请采用上述技术方案,其有益效果如下:
本申请提供的CIGS太阳能电池及其制备方法,包括依次层叠设置的钠钙玻璃衬底、Mo背电极、CIGS吸收层、CdS缓冲层、i-ZnO和AZO窗口层及Ni-Al-Ni栅电极,解决了衬底温度过低导致的CIGS薄膜的结晶性能变差,晶粒过小,光生载流子复合几率增大,从而导致的电池的光电转换效率降低等问题,实现了CIGS太阳能电池的低温沉积,且在低温生长的同时保持CIGS太阳能电池的光电性能和电池性能不受大的影响,可与不耐高温的柔性基底(PI)工艺兼容,在实际生产中可简化设备制造难度,降低衬底的加热能耗,有效避免玻璃的软化变形,克服产业化生产中大面积玻璃的变形问题,能够加速促进CIGS电池技术的大面积产业化应用,因此具有广阔的市场应用前景。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案,下面将对本申请实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面所描述的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请实施例提供的CIGS太阳能电池的结构示意图。
图2为本申请实施例提供的所述的CIGS太阳能电池的制备方法的步骤流程图。
图3为本实施1例改进的三步共蒸镀用于CIGS薄膜沉积的基板温度和Cu、In、Ga和Se的沉积速率。
图4为本实施例1提供的低温沉积的CIGS的器件性能示意图。
具体实施方式
下面详细描述本申请的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,旨在用于解释本申请,而不能理解为对本申请的限制。
在本申请的描述中,需要理解的是,术语“上”、“下”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。
此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本申请进行进一步详细说明。
请参阅图1,为本申请一实施例提供的一种CIGS太阳能电池的结构示意图,包括依次层叠设置的钠钙玻璃衬底110、Mo背电极120、CIGS吸收层130、CdS缓冲层140、i-ZnO和AZO窗口层150、Ni-Al-Ni栅电极160。以下详细说明各层的具体实现方式。
在其中一些实施例中,所述Mo背电极120包括双层Mo薄膜,所述双层Mo薄膜包括一层疏松层及一层致密层,所述双层Mo薄膜的厚度为500-1000nm。
在其中一些实施例中,所述CIGS吸收层包括88at.%的GGI(Ga/([Ga]+[In])和35at.%的CIG(Cu/([Ga]+[In])),所述CIGS吸收层的厚度为1.8-3μm。
在其中一些实施例中,所述CdS缓冲层为n型CdS缓冲层,厚度为30-80nm。
在其中一些实施例中,所述i-ZnO和AZO窗口层中i-ZnO厚度为50-100nm,ZnO:Al厚度为100-300nm。
在其中一些实施例中,所述Ni-Al-Ni栅电极包括第一层Ni电极、蒸镀于所述第一层Ni电极上的Al电极及覆盖于所述Al电极上的第二层Ni电极,所述第一层Ni电极厚度为所述Al电极厚度为5-10μm,所述第二层Ni电极厚度为/>
本申请上述实施例提供的CIGS太阳能电池,解决了衬底温度过低导致的CIGS薄膜的结晶性能变差,晶粒过小,光生载流子复合几率增大,从而导致的电池的光电转换效率降低等问题,实现了CIGS太阳能电池的低温沉积,且在低温生长的同时保持CIGS太阳能电池的光电性能和电池性能不受大的影响,可与不耐高温的柔性基底(PI)工艺兼容,在实际生产中可简化设备制造难度,降低衬底的加热能耗,有效避免玻璃的软化变形,克服产业化生产中大面积玻璃的变形问题,能够加速促进CIGS电池技术的大面积产业化应用,因此具有广阔的市场应用前景。
请参阅图2,为本申请实施例提供的所述的CIGS太阳能电池的制备方法的步骤流程图,包括下述步骤S110至步骤S150,以下详细说明各个步骤的实现方式。
步骤S110:在所述钠钙玻璃衬底上沉积所述Mo背电极。
可以理解,在所述钠钙玻璃衬底上沉积所述Mo背电极之前,还包括对钠钙玻璃(SLG)衬底清洗的步骤,以除去表面污染物与灰尘。
在其中一些实施例中,在所述钠钙玻璃衬底上沉积所述Mo背电极的步骤中,具体包括:通过直流磁控溅射法将所述Mo背电极沉积于所述钠钙玻璃衬底上。
具体地,先采用高气压低功率在所述钠钙玻璃衬底上沉积一层疏松层,提高Mo膜与衬底附着性,再采用低气压高功率在所述疏松层沉积一层致密层,以提高Mo电极导电能力,从而获得适合铜铟镓硒薄膜太阳能电池工艺的Mo背电极层。
步骤S120:在所述Mo背电极上沉积所述CIGS吸收层。
在其中一些实施例中,在在所述Mo背电极上沉积所述CIGS吸收层的步骤中,具体包括下述步骤:利用三步共蒸发法制备CIGS吸收层在所述Mo背电极上沉积所述CIGS吸收层。
具体地,在MBE真空腔室内,利用三步共蒸发法制备CIGS吸收层,第一步,在500-550℃衬底温度下,蒸发85-90%左右的In和Ga,形成(In,Ga)2Se3预制层,第二步,打开Cu源的挡板,只蒸发Cu,形成CIGS结晶,第三步,保持衬底温度与第二步相同,蒸发剩下的10%的In和Ga,保持蒸发的时间在15-20分钟,使其与第二步中过量的Cu反应,最终生成略贫Cu的CIGS薄膜。整个实验过程都是在足量的Se的气氛中进行。
可以理解,本实施例通过改进的三步法共蒸发工艺来沉积CIGS吸收层,该工艺在第二步之后加入了额外的富铜相沉积,即使在没有沉积后碱金属元素处理的条件下,这种工艺也能够低温生长具有良好结晶度的大CIGS晶粒。在460℃下沉积的CIGS太阳能电池的效率与在540℃高温下沉积的效率相当。解决了衬底温度过低导致的CIGS薄膜的结晶性能变差,晶粒过小,光生载流子复合几率增大,从而导致的电池的光电转换效率降低等问题。
步骤S130:在所述CIGS吸收层上沉积所述CdS缓冲层。
在其中一些实施例中,在所述CIGS吸收层上沉积所述CdS缓冲层的步骤中,具体包括下述步骤:采用化学水浴法在所述CIGS吸收层上沉积所述CdS缓冲层。
可以理解,通过化学水浴法制备CdS缓冲层,从而避免CIGS层被高能粒子轰击而产生缺陷。
步骤S140:在所述CdS缓冲层上制备所述i-ZnO和AZO窗口层。
在其中一些实施例中,在所述CdS缓冲层上制备所述i-ZnO和AZO窗口层的步骤中,具体包括下述步骤:采用射频磁控溅射的方法在所述CdS缓冲层上制备所述i-ZnO和AZO窗口层。
步骤S150:在所述i-ZnO和AZO窗口层上沉积Ni/Al/Ni栅电极。
在其中一些实施例中,在所述i-ZnO和AZO窗口层上沉积Ni/Al/Ni栅电极的步骤中,具体包括下述步骤:采用电子束蒸发法镀在所述i-ZnO和AZO窗口层上蒸镀第一层Ni电极,再在所述第一层Ni电极上蒸镀Al电极,再在所述Al电极蒸镀第二层Ni电极。
本申请提供的CIGS太阳能电池制备方法,包括依次层叠设置的钠钙玻璃衬底、Mo背电极、CIGS吸收层、CdS缓冲层、i-ZnO和AZO窗口层及Ni-Al-Ni栅电极,解决了衬底温度过低导致的CIGS薄膜的结晶性能变差,晶粒过小,光生载流子复合几率增大,从而导致的电池的光电转换效率降低等问题,实现了CIGS太阳能电池的低温沉积,且在低温生长的同时保持CIGS太阳能电池的光电性能和电池性能不受大的影响,可与不耐高温的柔性基底(PI)工艺兼容,在实际生产中可简化设备制造难度,降低衬底的加热能耗,有效避免玻璃的软化变形,克服产业化生产中大面积玻璃的变形问题,能够加速促进CIGS电池技术的大面积产业化应用,因此具有广阔的市场应用前景。
以下结合具体实施例对本申请上述技术方案进行详细说明。
实施例1
1.选择尺寸10cm×10cm×2mm的钠钙玻璃为衬底,先用大量去离子水冲洗,再用沾水无尘纸擦拭,用含有清洁粉水溶液的无尘纸擦拭,再用大量去离子水冲洗,氮气吹干,放入高真空进样室中,烘烤10min,去除水分。
2.利用直流磁控溅射,先在工作气压1.0Pa溅射功率350W下溅射45次,沉积一层疏松层,提高Mo膜与衬底附着性,之后在工作气压0.3Pa溅射功率800W下溅射5次,沉积一层致密层,提高Mo电极导电能力。
3.利用三步共蒸发法低温制备CIGS吸收层,第一步,在衬底温度为370℃下,此时打开衬底的大挡板和In源、Ga源的挡板,蒸发90%左右的In和Ga,形成的(In,Ga)2Se3预制层,然后关闭In和Ga的挡板。第二步,将衬底温度从370℃升高到510℃,打开Cu源的挡板,只蒸发Cu,形成CIGS结晶。当GIS预制层达到CIGS化学计量比后,过量的Cu与Se反应生成Cu2Se,红外测温仪监测到衬底表面生长中的薄膜表面温度突然降低,出现“降温点”,此为第二步的终点出现降温点后,立即关闭Cu挡板,结束第二步,CIGS薄膜略微富Cu。第三步,保持衬底温度510℃与第二步相同,蒸发剩下的10%的In和Ga,所以可通过增加第三步蒸发的时间,使其与第二步中过量的Cu反应,最终生成略贫Cu的CIGS薄膜。整个过程都是在足量的Se的气氛中进行。
请参阅图3,为本实施1例改进的三步共蒸镀用于CIGS薄膜沉积的基板温度和Cu、In、Ga和Se的沉积速率。
其中,样品衬底温度的设置为510℃,实际温度为460℃的低温。
4.首先配置好反应溶液。反应溶液包括:硫酸镉(CdSO4)溶液(0.184g,60mL),硫脲(CH4N2S)溶液(5.694g,150mL),浓氨水NH3·H2O(45mL),去离子水(450ml)。外置水浴锅温度升至69℃并保持该温度不变,将CIGS样品放置于大烧杯中,然后依次倒入反应溶液。接着将大烧杯放入外置水浴锅中,打开磁力搅拌器,用秒表计时,反应时间为9分钟,沉积的CdS薄膜厚度大约在50nm。用去离子水冲洗样品表面,再用高压N2气吹干,然后把样品迅速放入到150℃烘箱中,退火2min,最后取出。
5.利用射频磁控溅射技术制备i-ZnO和AZO,用本征ZnO靶材(纯度为99.99%)制备i-ZnO,用ZnO:Al2O3靶材(掺杂2wt%的Al2O3)制备AZO。在真空度5×10-5Pa的真空条件下,将样品放在加热炉盘上,调整工艺参数后,小车在靶上方做周期往返运动。溅射完成后,就得到了厚度大约总共约为400~500nm的i-ZnO和AZO窗口层。
6.将制作好的掩模板覆盖于样品表面,通过调节束流的位置和电子束电流,蒸发置于坩埚内的金属,依次沉积Ni、Al、Ni金属源。第一层Ni电极厚度为Al电极厚度为最后蒸镀的Ni电极厚度为/>
请参阅图4,为本实施例1提供的低温沉积的CIGS的器件性能,(a)表示为开路电压(VOC),(b)表示为短路电流(JSC),(c)表示为填充因子(FF)及(d)表示为效率(Eff.)。通过富铜相处理,可以显著提高器件的开路电压与填充因子,获得高效率低温衬底样品。
可以理解,以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
以上仅为本申请的较佳实施例而已,仅具体描述了本申请的技术原理,这些描述只是为了解释本申请的原理,不能以任何方式解释为对本申请保护范围的限制。基于此处解释,凡在本申请的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进,及本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本申请的其他具体实施方式,均应包含在本申请的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种CIGS太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述CIGS太阳能电池包括:
依次层叠设置的钠钙玻璃衬底、Mo背电极、CIGS吸收层、CdS缓冲层、i-ZnO和AZO窗口层、Ni-Al-Ni栅电极;
所述Mo背电极包括双层Mo薄膜,所述双层Mo薄膜包括一层疏松层及一层致密层,所述双层Mo薄膜的厚度为500-1000nm;
所述CdS缓冲层为n型CdS缓冲层,厚度为30-80nm;
所述i-ZnO和AZO窗口层中i-ZnO厚度为50-100nm,ZnO:Al厚度为100-300nm;
所述Ni-Al-Ni栅电极包括第一层Ni电极、蒸镀于所述第一层Ni电极上的Al电极及覆盖于所述Al电极上的第二层Ni电极,所述第一层Ni电极厚度为所述Al电极厚度为5-10μm,所述第二层Ni电极厚度为/>
所述CIGS太阳能电池的制备方法,包括下述步骤:
在所述钠钙玻璃衬底上沉积所述Mo背电极;
在所述Mo背电极上沉积所述CIGS吸收层;
在所述CIGS吸收层上沉积所述CdS缓冲层;
在所述CdS缓冲层上制备所述i-ZnO和AZO窗口层;
在所述i-ZnO和AZO窗口层上沉积Ni/Al/Ni栅电极;
在所述Mo背电极上沉积所述CIGS吸收层的步骤中,具体包括下述步骤:利用三步共蒸发法制备CIGS吸收层在所述Mo背电极上沉积所述CIGS吸收层;
利用三步共蒸发法制备CIGS吸收层在所述Mo背电极上沉积所述CIGS吸收层,具体包括:
第一步,在500-550℃温度下,将所述钠钙玻璃衬底蒸发85-90%左右的In和Ga,形成(In,Ga)2Se3预制层;
第二步,打开Cu源的挡板,只蒸发Cu,形成CIGS结晶;
第三步,保持所述钠钙玻璃衬底温度与第二步相同,蒸发剩下的In和Ga,保持蒸发的时间在15-20分钟使其与第二步中过量的Cu反应,最终生成略贫Cu的CIGS吸收层;
上述步骤均在足量的Se的气氛中进行。
2.如权利要求1所述的CIGS太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述CIGS吸收层包括88at.%的GGI(Ga/([Ga]+[In])和35at.%的CIG(Cu/([Ga]+[In])),所述CIGS吸收层的厚度为1.8-3μm。
3.如权利要求1所述的CIGS太阳能电池的制备方法,其特征在于,在所述钠钙玻璃衬底上沉积所述Mo背电极的步骤中,具体包括:通过直流磁控溅射法将所述Mo背电极沉积于所述钠钙玻璃衬底上。
4.如权利要求1所述的CIGS太阳能电池的制备方法,其特征在于,在所述CIGS吸收层上沉积所述CdS缓冲层的步骤中,具体包括下述步骤:采用化学水浴法在所述CIGS吸收层上沉积所述CdS缓冲层。
5.如权利要求1所述的CIGS太阳能电池的制备方法,其特征在于,在所述CdS缓冲层上制备所述i-ZnO和AZO窗口层的步骤中,具体包括下述步骤:采用射频磁控溅射的方法在所述CdS缓冲层上制备所述i-ZnO和AZO窗口层。
6.如权利要求1所述的CIGS太阳能电池的制备方法,其特征在于,在所述i-ZnO和AZO窗口层上沉积Ni/Al/Ni栅电极的步骤中,具体包括下述步骤:采用电子束蒸发法镀在所述i-ZnO和AZO窗口层上蒸镀第一层Ni电极,再在所述第一层Ni电极上蒸镀Al电极,再在所述Al电极蒸镀第二层Ni电极。
CN202211156922.2A 2022-09-22 2022-09-22 一种cigs太阳能电池的制备方法 Active CN115498052B (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202211156922.2A CN115498052B (zh) 2022-09-22 2022-09-22 一种cigs太阳能电池的制备方法
PCT/CN2022/138220 WO2024060425A1 (zh) 2022-09-22 2022-12-09 一种cigs太阳能电池及其制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202211156922.2A CN115498052B (zh) 2022-09-22 2022-09-22 一种cigs太阳能电池的制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN115498052A CN115498052A (zh) 2022-12-20
CN115498052B true CN115498052B (zh) 2024-02-09

Family

ID=84469955

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202211156922.2A Active CN115498052B (zh) 2022-09-22 2022-09-22 一种cigs太阳能电池的制备方法

Country Status (2)

Country Link
CN (1) CN115498052B (zh)
WO (1) WO2024060425A1 (zh)

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100743923B1 (ko) * 2006-02-08 2007-07-30 한국에너지기술연구원 씨아이예스계 화합물 박막 태양 전지의 후면 전극
WO2012064000A1 (ko) * 2010-11-12 2012-05-18 영남대학교 산학협력단 Cigs 태양광 흡수층 제조방법
CN102983219A (zh) * 2012-12-03 2013-03-20 深圳先进技术研究院 薄膜太阳能电池组件的制备方法
CN105023961A (zh) * 2015-08-24 2015-11-04 中国工程物理研究院材料研究所 一种柔性铜锌锡硫薄膜太阳能电池及其制备方法
CN105355676A (zh) * 2015-11-18 2016-02-24 北京四方创能光电科技有限公司 一种柔性cigs薄膜太阳电池的背电极结构
CN105826425A (zh) * 2015-12-24 2016-08-03 云南师范大学 一种铜锌锡硫薄膜太阳电池的制备方法
CN109560144A (zh) * 2018-11-26 2019-04-02 深圳先进技术研究院 一种cigs薄膜太阳能电池及其制备方法
CN110416367A (zh) * 2019-08-14 2019-11-05 浙江尚越新能源开发有限公司 一种利用In-Ga合金蒸发源制备大面积均匀性CIGS薄膜太阳能电池的方法
CN112259639A (zh) * 2020-10-20 2021-01-22 北京圣阳科技发展有限公司 一种应用于玻璃衬底cigs薄膜太阳电池的低成本制备方法
CN112736150A (zh) * 2021-01-07 2021-04-30 中国科学院深圳先进技术研究院 一种铜铟镓硒薄膜太阳能电池及其制备方法
CN113571594A (zh) * 2021-07-16 2021-10-29 北京交通大学 铜铟镓硒电池及其制造方法

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100743923B1 (ko) * 2006-02-08 2007-07-30 한국에너지기술연구원 씨아이예스계 화합물 박막 태양 전지의 후면 전극
WO2012064000A1 (ko) * 2010-11-12 2012-05-18 영남대학교 산학협력단 Cigs 태양광 흡수층 제조방법
CN102983219A (zh) * 2012-12-03 2013-03-20 深圳先进技术研究院 薄膜太阳能电池组件的制备方法
CN105023961A (zh) * 2015-08-24 2015-11-04 中国工程物理研究院材料研究所 一种柔性铜锌锡硫薄膜太阳能电池及其制备方法
CN105355676A (zh) * 2015-11-18 2016-02-24 北京四方创能光电科技有限公司 一种柔性cigs薄膜太阳电池的背电极结构
CN105826425A (zh) * 2015-12-24 2016-08-03 云南师范大学 一种铜锌锡硫薄膜太阳电池的制备方法
CN109560144A (zh) * 2018-11-26 2019-04-02 深圳先进技术研究院 一种cigs薄膜太阳能电池及其制备方法
CN110416367A (zh) * 2019-08-14 2019-11-05 浙江尚越新能源开发有限公司 一种利用In-Ga合金蒸发源制备大面积均匀性CIGS薄膜太阳能电池的方法
CN112259639A (zh) * 2020-10-20 2021-01-22 北京圣阳科技发展有限公司 一种应用于玻璃衬底cigs薄膜太阳电池的低成本制备方法
CN112736150A (zh) * 2021-01-07 2021-04-30 中国科学院深圳先进技术研究院 一种铜铟镓硒薄膜太阳能电池及其制备方法
CN113571594A (zh) * 2021-07-16 2021-10-29 北京交通大学 铜铟镓硒电池及其制造方法

Also Published As

Publication number Publication date
WO2024060425A1 (zh) 2024-03-28
CN115498052A (zh) 2022-12-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20080023336A1 (en) Technique for doping compound layers used in solar cell fabrication
KR20090106513A (ko) Ⅰbⅲaⅵa 족 화합물 층들을 위한 도핑 기술들
EP1964180A1 (en) Process of making a thin-film photovoltaic device and thin-film photovoltaic device
KR101628312B1 (ko) CZTSSe계 박막 태양전지의 제조방법 및 이에 의해 제조된 CZTSSe계 박막 태양전지
CN104143579A (zh) 一种锑基化合物薄膜太阳能电池及其制备方法
US20110232762A1 (en) Method for manufacturing photoelectric conversion element, and photoelectric conversion element and thin-film solar cell
CN1547239A (zh) 铜铟镓的硒或硫化物半导体薄膜材料的制备方法
KR20180034274A (ko) 은이 첨가된 czts계 박막 태양전지 및 이의 제조방법
WO2013185506A1 (zh) 一种铜铟镓硒薄膜太阳能电池的制备方法
CN114242819A (zh) 一种Sb2(S1-xSex)3薄膜太阳电池吸收层及其制备方法与应用
JP4055064B2 (ja) 薄膜太陽電池の製造方法
KR101542342B1 (ko) Czts계 태양전지의 박막 제조방법 및 이로부터 제조된 태양전지
CN112466969B (zh) 一种具有v型能带结构的锑硫硒薄膜的制备方法及其应用
KR101582200B1 (ko) Czts계 태양전지용 박막의 제조방법 및 이를 통해 제조된 박막을 포함하는 czts계 태양전지
CN109638096A (zh) 一种化合物半导体薄膜太阳能电池制备方法
CN111403558B (zh) 高效率柔性叠层薄膜太阳能电池及其制备方法
JPH08102546A (ja) 半導体薄膜の製造方法
KR20140047760A (ko) 태양전지 광흡수층 제조방법
CN115498052B (zh) 一种cigs太阳能电池的制备方法
KR101541450B1 (ko) Czts계 박막 태양전지의 제조방법
CN113078224A (zh) 透明导电玻璃铜铟硒薄膜太阳能电池器件及其制备方法与应用
KR102057234B1 (ko) Cigs 박막 태양전지의 제조방법 및 이의 방법으로 제조된 cigs 박막 태양전지
KR101388458B1 (ko) 급속 열처리 공정을 사용한 cigs 박막의 제조방법
CN112259623A (zh) 一种改善铜铟镓硒(cigs)薄膜太阳能电池光吸收层结晶性的方法
CN112563117B (zh) 一种具有硫组分梯度的铜锌锡硫硒薄膜的制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant