CN115413370A - 显示基板及显示装置 - Google Patents

Abstract

本公开实施例提供一种显示基板及显示装置，涉及显示技术领域，降低了显示装置边框宽度，以及显示装置的能耗。该显示基板包括显示区和环绕显示区的周边区，显示基板包括依次设置的衬底、第一电压信号传输结构和发光器件层。发光器件层包括阳极层和阴极层，阳极层相对于阴极层靠近衬底。第一电压信号传输结构被配置为向阴极层传输第一电压信号。其中，第一电压信号传输结构包括位于显示区的第一部分和位于周边区的第二部分，第一部分和第二部分电连接，且第一部分布设于显示区内。

Description

显示基板及显示装置

技术领域

本公开涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板及显示装置。

背景技术

随着显示技术的不断发展，显示装置已经逐渐遍及在人们的生活中。其中，有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，简称：OLED)显示面板由于具有自发光、低功耗、宽视角、响应速度快、高对比度等优点，因而被广泛的应用于手机、电视、笔记本电脑等智能产品中。窄边框化是目前显示装置的一个重要发展方向，如何降低显示装置的边框宽度是当前急需解决的问题。

发明内容

一方面，提供一种显示基板，包括显示区和环绕显示区的周边区，显示基板包括依次设置的：衬底、第一电压信号传输结构和发光器件层。发光器件层包括阳极层和阴极层，阳极层相对于阴极层更靠近衬底。第一电压信号传输结构被配置为向发光器件层中的阴极层传输第一电压信号；其中，第一电压信号传输结构包括位于显示区的第一部分和位于周边区的第二部分，第一电压信号传输结构的第一部分和第一电压信号传输结构的第二部分电连接，且第一电压信号传输结构的第一部分布设于显示区内。

在一些实施例中，第一电压信号传输结构的第一部分包括呈网状结构的图案；和/或，第一电压信号传输结构的第一部分包括多条第一电压信号线。

在一些实施例中，显示基板的显示区的边界包括多个边界线，第一电压信号传输结构的第二部分包括第一总线和第二总线。显示区的边界所包括的多个边界线中的一个边界线为选定边界线，第一总线沿选定边界线的延伸方向延伸，被配置为接入外部芯片提供的第一电压信号。第二总线环绕显示区的边界所包括的多个边界线中，除选定边界线之外的其他边界线设置，且第二总线在衬底上的正投影与第一总线在衬底上的正投影无交叠。

在一些实施例中，第一电压信号传输结构的第一部分与第一电压信号传输结构的第二部分所包括的第二总线连接，第一电压信号传输结构还包括多条连接线，第一电压信号传输结构的第一部分与第一电压信号传输结构的第二部分所包括的第一总线通过前述多条连接线连接。

在一些实施例中，显示基板还包括设置于衬底一侧的第一源漏导电层和设置于第一源漏导电层远离衬底一侧的第二源漏导电层。第一电压信号传输结构位于第二源漏导电层与阳极层之间。阳极层包括位于显示区内的多个阳极和位于周边区的搭接阳极，且搭接阳极与显示区内的多个阳极电绝缘。第一电压信号传输结构的第二部分通过周边区内的搭接阳极与发光器件层中的阴极层电连接。

在一些实施例中，显示基板的显示区包括第一显示区和第二显示区，第一显示区包围第二显示区。显示区内的多个阳极包括：位于第一显示区内的多个第一阳极，和位于第二显示区内的多个第二阳极。

显示基板还包括设置于衬底一侧的多个像素电路和设置于第二源漏导电层远离衬底一侧的至少一层透明导电层。所述多个像素电路位于第一显示区且不位于第二显示区。每层透明导电层包括：位于第一显示区内的多个第一转接电极、位于第二显示区内的多个第二转接电极和至少位于第一显示区中除多个第一转接电极之外的区域的第一图案。

每个第一转接电极与一个第一阳极电连接，每个第二转接电极与一个第二阳极电连接。第一图案包括多个网孔。至少一层透明导电层中的至少一层透明导电层为选定透明导电层，选定透明导电层的第一图案被配置为传输第一电压信号，第一电压信号传输结构包括选定透明导电层的第一图案。

在一些实施例中，至少一层透明导电层中的每层均为选定透明导电层，选定透明导电层的第一图案还位于周边区，每层透明导电层的第一图案均作为第一电压信号传输结构。至少一层透明导电层中的各层透明导电层位于周边区内的部分电连接，至少一层透明导电层中最远离衬底的透明导电层的第一图案位于周边区的部分，与搭接阳极连接。

在一些实施例中，衬底设置至少一层透明导电层的一侧表面包括多个侧边，显示基板还包括至少一层平坦化层。至少一层透明导电层包括自衬底依次设置的第一透明导电层、第二透明导电层、第三透明导电层，至少一层平坦化层包括：位于第一透明导电层与第二透明导电层之间的第一平坦化层、位于第二透明导电层和第三透明导电层之间的第二平坦化层和位于第三透明导电层远离衬底的一侧的第三平坦化层。

第三平坦化层在衬底上的正投影的边界与该边界所靠近的衬底的侧边之间的距离，大于第二平坦化层在衬底上的正投影的边界与该边界所靠近的衬底的侧边之间的距离，且第二平坦化层在衬底上的正投影的边界与该边界所靠近的衬底的侧边之间的距离大于第一平坦化层在衬底上的正投影与该边界所靠近的衬底的侧边之间的距离。至少一层透明导电层在衬底上的正投影与衬底的侧边之间的距离，小于第一平坦化层在衬底上的正投影与显示基板的侧边之间的距离。作为第一电压信号传输结构的第一图案位于周边区的部分，与搭接阳极连接。

在一些实施例中，至少一层透明导电层包括自衬底依次设置的第一透明导电层、第二透明导电层、第三透明导电层。第二透明导电层的第一图案作为第一电压信号传输结构，第二透明导电层的第一图案还位于周边区，第二透明导电层的第一图案位于周边区的部分，与阳极层所包括的搭接阳极连接。第一透明导电层的第一图案和第三透明导电层的第一图案被配置为向第一显示区内的多个像素电路传输第二电压信号。

在一些实施例中，显示基板还包括附加金属层，附加金属层与选定透明导电层位于同层。附加金属层包括第二图案，第二图案至少位于第一显示区中除多个第一转接电极之外的部分区域，附加金属层的第二图案被配置为传输第一电压信号，第一电压信号传输结构包括附加金属层的第二图案。

在一些实施例中，显示基板还包括附加金属层，附加金属层设置于选定透明导电层远离衬底的一侧。附加金属层包括第二图案，附加金属层的第二图案设置于选定透明导电层的第一图案的一侧，且附加金属层的第二图案与选定透明导电层的第一图案电连接，第一电压信号传输结构还包括附加金属层的第二图案。

在一些实施例中，衬底一侧阵列布置的多个像素电路阵列布置，包括多个第一像素电路、多个第二像素电路和多个虚拟像素电路。每个第一像素电路与一个第一阳极电连接，每个第二像素电路与一个第二阳极电连接，多个虚拟像素电路与阳极层电绝缘。多个像素电路排列成多个像素电路列，至少一个像素电路列为正常像素电路列，至少一个像素电路列为虚拟像素电路列，正常像素电路列包括多个第一像素电路和/或多个第二像素电路，虚拟像素电路列包括多个虚拟像素电路。

第二源漏导电层包括多条电压信号线，每条电压信号线与一个像素电路列电连接。多条电压信号线包括：多条第一电压信号线和多条第二电压信号线，第二电压信号线与正常像素电路列电连接，第一电压信号线与虚拟像素电路列电连接。每条第二电压信号线被配置为向像素电路列中的各像素电路传输第二电压信号，多条第一电压信号线被配置为传输第一电压信号，第一电压信号传输结构还包括多条第一电压信号线。

在一些实施例中，第二源漏导电层包括多条电压信号线中，多条电压信号线所包括的多条第一电压信号线，与选定透明导电层的第一图案在周边区电连接。

在一些实施例中，显示基板还包括：设置于衬底的一侧的阵列布置的多个像素电路，设置于衬底一侧栅导电层、设置于栅导电层远离衬底一侧的第一源漏导电层和设置于第一源漏导电层远离衬底一侧的第二源漏导电层。多个像素电路排列成多个像素电路列。第二源漏导电层包括沿第一方向延伸的多条电压信号线，第一方向为多个像素电路列的延伸方向，每条电压信号线与一个像素电路列有重叠。

多条电压信号线包括多条第一电压信号线和多条第二电压信号主线。多条第一电压信号线被配置为传输第一电压信号，第一电压信号传输结构还包括多条第一电压信号线。每条第二电压信号主线与一个像素电路列电连接，被配置为向像素电路列中的各像素电路传输第二电压信号。

栅导电层包括沿第二方向延伸的多条第二电压信号副线，多条第二电压信号副线与第二电压信号主线电连接。多条第二电压信号副线被配置为，为与第一电压信号线有重叠的像素电路传输第二电压信号。

在一些实施例中，多条第二电压信号主线中的每相邻两个第二电压信号主线之间设置有至少一条第一电压信号线，和/或，每相邻两个第一电压信号线之间设置有至少一条第二电压信号主线。

在一些实施例中，显示基板还包括设置于第二源漏导电层远离衬底一侧的至少一层透明导电层和至少一层平坦化层，至少一层透明导电层中的至少一层透明导电层为选定透明导电层，选定透明导电层的第一图案与多条第一电压信号线在周边区电连接。

在一些实施例中，显示基板还包括：设置于衬底一侧的遮光层和设置于遮光层远离衬底一侧的多个像素电路。多个像素电路中的每个像素电路包括驱动晶体管。遮光层包括多个遮光图案，每个像素电路的驱动晶体管在衬底上的正投影在一个遮光图案在衬底上的正投影内。多个遮光图案彼此连接。遮光层被配置为传输第一电压信号，第一电压信号传输结构包括遮光层。

在一些实施例中，包括自衬底依次设置的第一源漏导电层和第二源漏导电层，第一电压信号传输结构的第二部分包括第一电压信号总线，第一部分包括多条第一电压信号子线，第一电压信号总线位于第一源漏导电层内，和/或位于第二源漏导电层内。第一电压信号总线在垂直于其延伸方向的方向上的尺寸为5μm～20μm。

另一方面，提供一种显示装置，包括：如上述任一实施例所述的显示基板。

附图说明

为了更清楚地说明本公开中的技术方案，下面将对本公开一些实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例的附图，对于本领域普通技术人员来讲，还可以根据这些附图获得其他的附图。此外，以下描述中的附图可以视作示意图，并非对本公开实施例所涉及的产品的实际尺寸、方法的实际流程、信号的实际时序等的限制。

图1为根据一些实施例的显示基板中第一电压信号传输线的结构图；

图2为根据图1中截面线AA得到的截面图；

图3为根据一些实施例的显示基板中第一电压信号传输结构的结构图；

图4为根据图3中B区域的放大图；

图5为根据一些实施例的显示基板的周边区的膜层结构的截面图；

图6为根据另一些实施例的显示基板的平面结构图；

图7为根据图6中C区域的放大图；

图8为根据一些实施例的显示基板的第一显示区的截面结构图；

图9A为根据一些实施例的显示基板的第二显示区的截面结构图；

图9B为根据另一些实施例的显示基板的第二显示区的截面结构图；

图10为根据一些实施例的透明导电层和阳极层位于第一显示区内部分的放大图；

图11A为根据一些实施例的显示基板的第一显示区的截面图；

图11B为根据另一些实施例的显示基板的第一显示区的截面图；

图12A为根据一些实施例的显示基板的周边区的膜层结构图；

图12B为根据一些实施例的显示基板的搭接阳极在周边区的结构图；

图12C为根据一些实施例的显示基板的第三平坦化层在周边区的结构图；

图12D为根据一些实施例的显示基板的第三透明导电层在周边区的结构图；

图12E为根据一些实施例的显示基板的第二平坦化层在周边区的结构图；

图12F为根据一些实施例的显示基板的第二透明导电层在周边区的结构图；

图12G为根据一些实施例的显示基板的第一平坦化层在周边区的结构图；

图12H为根据一些实施例的显示基板的第一透明导电层在周边区的结构图；

图13A为根据一些实施例的显示基板的周边区的膜层结构的截面图；

图13B为根据另一些实施例的显示基板的周边区的膜层结构的截面图；

图14A为根据一些实施例的附加金属层的截面图；

图14B为根据另一些实施例的附加金属层的截面图；

图15为根据一些实施例的第二显示区及其周边区域的放大结构图；

图16为根据一些实施例的第二源漏导电层的结构图；

图17为根据另一些实施例的第二源漏导电层的结构图；

图18为根据又一些实施例的第二源漏导电层的结构图；

图19为根据另一些实施例的显示基板的周边区的膜层结构的截面图；

图20A为根据一些实施例的遮光层的截面图；

图20B为根据一些实施例的遮光层的平面结构图；

图21为根据一些实施例的第一电压信号总线的结构图；

图22为根据一些实施例的显示装置的结构图；

图23为根据一些实施例的显示基板的与电路板绑定的结构图。

具体实施方式

下面将结合附图，对本公开一些实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本公开一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本公开所提供的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。

除非上下文另有要求，否则，在整个说明书和权利要求书中，术语“包括(comprise)”及其其他形式例如第三人称单数形式“包括(comprises)”和现在分词形式“包括(comprising)”被解释为开放、包含的意思，即为“包含，但不限于”。在说明书的描述中，术语“一个实施例(one embodiment)”、“一些实施例(some embodiments)”、“示例性实施例(exemplary embodiments)”、“示例(example)”、“特定示例(specific example)”或“一些示例(some examples)”等旨在表明与该实施例或示例相关的特定特征、结构、材料或特性包括在本公开的至少一个实施例或示例中。上述术语的示意性表示不一定是指同一实施例或示例。此外，所述的特定特征、结构、材料或特点可以以任何适当方式包括在任何一个或多个实施例或示例中。

以下，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本公开实施例的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

在描述一些实施例时，可能使用了“耦接”和“连接”及其衍伸的表达。例如，描述一些实施例时可能使用了术语“连接”以表明两个或两个以上部件彼此间有直接物理接触或电接触。又如，描述一些实施例时可能使用了术语“耦接”以表明两个或两个以上部件有直接物理接触或电接触。然而，术语“耦接”或“通信耦合(communicatively coupled)”也可能指两个或两个以上部件彼此间并无直接接触，但仍彼此协作或相互作用。这里所公开的实施例并不必然限制于本文内容。

本文中“适用于”或“被配置为”的使用意味着开放和包容性的语言，其不排除适用于或被配置为执行额外任务或步骤的设备。

如本文所使用的那样，“约”、“大致”或“近似”包括所阐述的值以及处于特定值的可接受偏差范围内的平均值，其中所述可接受偏差范围如由本领域普通技术人员考虑到正在讨论的测量以及与特定量的测量相关的误差(即，测量系统的局限性)所确定。

如本文所使用的那样，“平行”、“垂直”、“相等”包括所阐述的情况以及与所阐述的情况相近似的情况，该相近似的情况的范围处于可接受偏差范围内，其中所述可接受偏差范围如由本领域普通技术人员考虑到正在讨论的测量以及与特定量的测量相关的误差(即，测量系统的局限性)所确定。例如，“平行”包括绝对平行和近似平行，其中近似平行的可接受偏差范围例如可以是5°以内偏差；“垂直”包括绝对垂直和近似垂直，其中近似垂直的可接受偏差范围例如也可以是5°以内偏差。“相等”包括绝对相等和近似相等，其中近似相等的可接受偏差范围内例如可以是相等的两者之间的差值小于或等于其中任一者的5％。

应当理解的是，当层或元件被称为在另一层或基板上时，可以是该层或元件直接在另一层或基板上，或者也可以是该层或元件与另一层或基板之间存在中间层。

本文参照作为理想化示例性附图的剖视图和/或平面图描述了示例性实施方式。在附图中，为了清楚，放大了层和区域的厚度。因此，可设想到由于例如制造技术和/或公差引起的相对于附图的形状的变动。因此，示例性实施方式不应解释为局限于本文示出的区域的形状，而是包括因例如制造而引起的形状偏差。例如，示为矩形的蚀刻区域通常将具有弯曲的特征。因此，附图中所示的区域本质上是示意性的，且它们的形状并非旨在示出设备的区域的实际形状，并且并非旨在限制示例性实施方式的范围。

随着行业发展，显示装置的窄边框甚至零边框成为了行业发展趋势。如何增加显示装置中的显示区占比，即增大显示画面的区域在整个显示装置的显示面一侧的面积占比成了行业需要解决的问题之一。

显示装置包括显示基板，显示基板的类型包括多种，可以根据实际需要选择设置。

示例性地，显示基板可以包括有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，简称OLED)显示基板、量子点发光二极管(Quantum Dot Light Emitting Diodes，简称QLED)显示基板、微发光二极管(Micro Light Emitting Diodes，简称Micro LED)显示基板等，本公开对此不做具体限定。

下面以显示基板为OLED显示基板为例，对本公开的一些实施例进行示意性说明。

在一些实施例中，如图1、图2所示，显示基板30包括显示区AA和环绕显示区AA的周边区AN。显示区AA设置有多个子像素P，多个子像素P例如阵列排布。每个子像素P均包括设置于衬底1上的发光器件3a和像素电路7，像素电路7包括多个薄膜晶体管T和电容。

显示基板30包括依次设置的衬底1、驱动电路层和发光器件层3。其中，驱动电路层包括多个像素电路7，驱动电路层例如包括自下而上设置的半导体层B、第一栅绝缘层G1、第一栅导电层8a、第二栅绝缘层G2、第二栅导电层8b、层间绝缘层G3、第一源漏导电层41、第一绝缘层N1和第二源漏导电层42、第二绝缘层N2。其中，薄膜晶体管T包括有源层T1、源极T2、漏极T3和栅极T4，有源层T1位于半导体层B，栅极T4位于第一栅导电层8a，源极T2和漏极T3位于第一源漏导电层41。电容的下基板C1第一栅导电层8a，电容的上基板C2位于第二栅导电层8b。

发光器件层3包括多个发光器件3a，发光器件层3包括阳极层31、发光功能层32、阴极层33、像素界定层34、隔垫物35和封装层36。像素界定层34设置于阳极层31远离衬底1的一侧，阳极层31包括多个第一阳极311和搭接阳极313，像素界定层34内设置有多个开口区，每个开口区暴露一个阳极311的至少一部分，且每个发光器件3a设置于一个开口区中。在显示区AA内，像素界定层34的每个开口区的轮廓线在一个第一阳极311之内。发光功能层32设置于阳极层31远离衬底1的一侧，发光功能层32包括多个发光部321，每个发光部321位于一个开口区内。隔垫物35设置于像素界定层34与发光功能层32之间。

在一些实施例中，发光功能层32仅包括发光层。在另一些实施例中，发光功能层32除包括发光层外，还包括电子传输层(Election Transporting Layer，简称ETL)、电子注入层(Election Injection Layer，简称EIL)、空穴传输层(Hole Transporting Layer，简称HTL)和空穴注入层(Hole Injection Layer，简称HIL)中的至少一个。

示例性地，阳极层31的材料例如为ITO，IZO，Au，Pt，Si中的至少一种。

在一个子像素P中，发光器件3a的第一阳极311和像素电路7包括的多个薄膜晶体管T中一个薄膜晶体管的源极T2或漏极T3电连接，图2中以第一阳极311和薄膜晶体管T的源极T2电连接进行示意。需要说明的是，上述源极T2和漏极T3可以互换，即图2中的T2表示漏极，图2中的T3表示源极。在一些示例中，如图2所示，薄膜晶体管的源极T2或漏极T3通过位于第二源漏导电层42的转接电极与第一阳极311电连接。

如图1和图2所示，显示基板30还包括设置于周边区AN内的第一电压信号传输线VSS，第一电压信号传输线VSS环绕显示区AA设置，被配置为向发光器件层3的阴极层33传输第一电压信号Vss，使得阴极层33接入第一电压。显示基板30还包括第二电压信号传输线VDD，第二电压信号传输线VDD被配置为向子像素P中的像素电路7传输第二电压信号Vdd，进而使得发光器件层3的阳极层31接入各像素电路7产生的驱动信号。当发光器件层3的阴极层33和阳极层31分别接入第一电压和驱动信号的电压时，位于阴极层33和阳极层31间的发光功能层32发光。

驱动电路层包括的各膜层的介绍如下：半导体层B的材料包括非晶硅、单晶硅、多晶硅、或金属氧化物半导体材料；例如，半导体层B的材料包括铟镓锌氧化物(IndiumGallium Zinc Oxide，IGZO)、氧化锌(ZnO)，本公开不限于此。半导体层B包括各个晶体管的有源层T1。

第一栅导电层8a与半导体层B交叠部分，分别形成晶体管。其中，第一栅导电层8a的材料包括导电金属；例如，第一栅导电层8a的材料包括铝、铜、钼中的至少一种，本公开不限于此。第一栅导电层8a包括各个晶体管的栅极，以及多条栅扫描线。

第一栅绝缘层G1设置于半导体层B和第一栅导电层8a之间，用于将半导体层B和第一栅导电层8a电绝缘。其中，第一栅绝缘层G1的材料包括氮化硅、氮氧化硅和氧化硅的无机绝缘材料中的任一种；例如，第一栅绝缘层G1的材料包括二氧化硅，本公开不限于此。

第二栅绝缘层G2设置于第一栅导电层8a和第二栅导电层8b之间，用于将第一栅导电层8a和第二栅导电层8b电绝缘。其中，第二栅绝缘层G2的材料包括氮化硅、氮氧化硅和氧化硅的无机绝缘材料中的任一种；例如，第二栅绝缘层G2的材料包括二氧化硅，本公开不限于此。

层间介质层G3设置于第一源漏导电层41和第二栅导电层8b之间，用于将第一源漏导电层41和第二栅导电层8b电绝缘。层间介质层G3的材料包括氮化硅、氮氧化硅和氧化硅的无机绝缘材料中的任一种。

第一源漏导电层41包括多条第一信号线(例如数据线)、多个第一电极等。

第二源漏导电层42包括多条第二信号线(例如第二电压信号传输线)、多个第二电极等。

在一些实施例中，第一电压信号传输线VSS位于第二源漏导电层42，也就是说，第二源漏导电层42包括位于显示区的多条第二信号线，以及位于周边区的第一电压信号传输线VSS。

如图2所示，阳极层31还包括设置于周边区AN内的搭接阳极313，搭接阳极313与第一电压信号传输线VSS连接，且与阴极层33连接，从而实现了通过搭接阳极313将第一电压信号线VSS传输的第一电压信号Vss传输至阴极层33。

需要说明的是，搭接阳极313仅是与多个阳极位于同一膜层的图案，用于连接第一电压信号传输线VSS和阴极层，并不用在发光器件中，搭接阳极与任意阳极均电绝缘。示例性地，搭接阳极313为环绕显示区的图案。

为保证第一电压信号传输线VSS传输的第一电压信号的有效传输，尽可能减小传输功耗和信号损耗，第一电压信号传输线VSS的宽度不能过窄，而应具有一定尺寸，以使第一电压信号传输线VSS具有较小的电阻，这样就会在周边区占据一定面积，造成周边区宽度过大，降低了显示基板的屏占比。

为了增大显示区AA在显示装置的显示侧的面积占比，可以通过减小周边区AN在垂直于显示区AA的方向上的尺寸，例如图1中所示的尺寸e2，来起到缩窄显示装置的边框，从而起到增大显示区AA在显示侧的面积占比的目的。周边区AN内包括被配置为向发光器件层3传输第一电压信号Vss的第一电压信号线VSS，可以通过减小第一电压信号传输线VSS在垂直于其所靠近的显示区AA的边界的方向上的尺寸，例如图1中所示的尺寸e1，来实现缩窄边框的目的。但是，在其他结构相同的情况下，降低第一电压信号传输线VSS宽度后，可以理解的是，第一电压信号传输线VSS的截面面积减小，这样会使得第一电压信号传输线VSS传输的第一电压信号Vss发生变化，使得第一电压产生压降，而为了达到工作所需的为保证信号的稳定传输，会使得显示装置的功耗增加。

基于此，本公开的一些实施例提供一种显示基板，通过重新设计第一电压信号传输线VSS的结构，达到窄化边框的效果。

以下对本公开提供的显示面板和显示装置分别进行介绍。

在本公开中，图3、图6为显示基板10的平面结构图，图4根据图3中的B区域的放大图，图7为根据图6中C区域的放大图。

图12A为显示基板10的周边区的膜层结构图，图5、图13A、图13B、图19为显示基板10的周边区的膜层结构的截面图。为了便于清晰地描述透明导电层、平坦化层和搭接阳极在周边区内的结构细节，将图12A中显示基板10的显示区AA内的多个阳极M等结构去掉，得到图12B～图12H所示的，每层透明导电层、每层平坦化层或搭接阳极分别在衬底的周边区的结构图。

图8、图11A和图11B为显示基板10的第一显示区AA1的截面结构图，图10为显示基板10的第一显示区AA1内透明导电层和阳极层的放大结构图。图9A、图9B为显示基板10的第二显示区AA2的截面结构图，图15为图6所示的显示基板10的第二显示区及其周边区域的放大图。

图14A、图14B为显示基板10的附加金属层的截面图，图16～图18为显示基板10的第二源漏导电层42的结构图，图20A、图20B为显示基板10的遮光层的结构图，图21为显示基板10的第一电压信号总线的结构图。

附图标记中的A～B表示A属于B。示例性地，61～6表示第一平坦化层61属于平坦化层6。可以理解的是，在一些实施例中，平坦化层6只包括第一平坦化层61；在另一些实施例中，平坦化层6包括第一平坦化层61，还包括其余膜层结构，例如第二平坦化层62、第三平坦化层63。

以下将显示基板10设置发光器件层3的一侧表面作为显示基板10的正面，示例性地，发光器件层3设置于衬底1的第一表面1a一侧，则衬底1的第一表面1a一侧为显示基板10的正面(显示侧)，对应的，衬底1的第二表面1b一侧为显示基板10的背面(示侧)。

在一些实施例中，提供了一种显示基板10，如图3所示，显示基板10包括显示区AA和环绕显示区AA的周边区AN，显示基板10包括依次设置的：衬底1、第一电压信号传输结构2和发光器件层3。发光器件层3包括阳极层31和阴极层33，阳极层31相对于阴极层33靠近衬底1。第一电压信号传输结构2包括位于显示区AA的第一部分21和位于周边区AN的第二部分22，第一电压信号传输结构2第一部分21和第一电压信号传输结构2的第二部分22电连接，第一电压信号传输结构2被配置为向阴极层33传输第一电压信号Vss。

第一电压信号传输结构2包括设置于显示区AA内的第一部分21和设置于周边区AN内的第二部分22，且第一电压信号传输结构2的第一部分21和第二部分22电连接，共同为发光器件层3的阴极层33传输第一电压信号Vss，这样相较图1中仅在周边区设置第一电压信号传输线VSS，由于第一电压信号传输结构2还包括位于显示区AA的第二部分22，第一电压信号传输结构2的总体面积增大，第一电压信号传输结构2的电阻能够大大降低，相应地可以将位于边框区的第一部分21的尺寸，例如图3中所示的尺寸e3适当减小，例如图3中的尺寸e3小于图1中的尺寸e1，从而减小了第一电压信号传输结构2在边框区AN所占据的面积，这样就能缩窄显示基板的边框，例如图3中所示的尺寸e4减小，例如图3中的尺寸e4小于图1中的尺寸e2，从而起到增大显示区AA在显示侧的面积占比的目的。

同时，第一电压信号传输结构2包括位于显示区AA的第一部分21和位于周边区AN的第二部分22，使得第一电压信号Vss除了从周边区AN输入阴极层33，还可以从显示区AA输入阴极层33。相较于仅从周边区AN引入第一电压信号Vss，其电阻大大降低，从而使得第一电压信号Vss的压降降低，进一步地，可以有效地降低第一电压信号Vss因为压降造成的衰减，降低了显示基板的中间和边缘的显示效果差异，且降低了显示基板10的功耗。

发光器件层3被配置为在其阴极层33接入第一电压信号Vss，且在其阳极层31接入像素电路7提供的驱动信号时，根据接入的第一电压信号Vss和驱动信号的变化发光，发光器件层3的阴极层33接入第一电压信号Vss时，阴极层33接入第一电压，像素电路7接入第二电压信号Vdd，根据第二电压信号Vdd以及数据信号生成驱动信号。第一电压信号Vss的稳定性会影响阴极层33接入的第一电压的稳定性，第一电压信号传输结构2的第一部分21和第二部分22共同为阴极层33传输第一电压信号Vss，在有效降低第一电压信号Vss的压降的同时，提高了第一电压的稳定性，还减小了显示基板中第一电压与第二电压之间的压差，从而更好的降低了显示基板的功耗。

示例性地，衬底1包括相对的第一表面1a和第二表面1b，以及连接第一表面1a和第二表面1b的多个侧面1c。

在一些示例中，衬底1的第一表面1a和第二表面1b的形状例如为矩形，衬底1包括四个侧面1c。

进一步地，如图3所示，衬底1的四个边角处为圆弧形。

在一些示例中，衬底1的材料例如为玻璃、石英、塑料等刚性材料。

在另一些示例中，衬底1的材料例如为柔性FPC(Flexible Printed CircuitBoard，柔性印刷电路板)、PI(Polyimide Film，聚酰亚胺薄膜)基膜等柔性材料。

在一些实施例中，如图3、图4所示，第一电压信号传输结构2的第一部分21包括呈网状结构的图案。

示例性地，如图3所示，第一电压信号传输结构2的第一部分21包括多个网孔K2。第一电压信号传输结构2的第一部分21例如为在一个整面的膜层结构上去除多个阵列排布的冗余部，从而使得前述整面的膜层结构上形成多个阵列排布的网孔K2，可以理解的是，这样得到的第一信号传输结构2的第一部分21为一个呈网状的膜层结构。

在另一些实施例中，如图16、图17和图18所示，第一电压信号传输结构2的第一部分21包括沿同一方向延伸的多条第一电压信号线421。

在又一些示例中，第一电压信号传输结构2的第一部分21包括呈网状结构的图案，且第一电压信号传输结构2的第一部分21还包括沿同一方向延伸的多条第一电压信号线421。

示例性地，第一电压信号传输结构2的第一部分21例如为层叠设计的膜层结构。进一步地，第一电压信号传输结构2的第一部分21例如包括第一导电层和第二导电层，第一导电层和第二导电层电连接。第一导电层包括沿第一方向X延伸的多条第一电压信号线421，第二导电层包括沿第二方向Y延伸的多条第一电压信号线421，第一方向X垂直于第二方向Y，沿第一方向X延伸的多条第一电压信号线421和沿第二方向Y延伸的多条第一电压信号线，构成纵横交错的网状结构。

在一些示例中，前述第一导电层例如为第一源漏导电层41，前述第二导电层例如为第二源漏导电层42。

第一电压信号传输结构2的第一部分21布设于显示区AA内，被配置为向发光器件层3的阴极层33传输第一电压信号Vss，第一电压信号传输结构2的第一部分21不论是采用网状结构，还是采用沿同一方向延伸的多条第一电压信号线421，相较于如图1所示，仅在周边区AN内设置第一电压信号传输线2’用于传输第一电压信号Vss，都增加了用于传输第一电压信号Vss的走线的面积，可以理解的是，用于传输第一电压信号Vss的走线的电阻降低，从而使得第一电压信号Vss的压降降低，可以有效地降低第一电压信号Vss因为压降造成的衰减，降低了显示基板的中间和边缘的显示效果差异。进一步地，采用这样的设计能够使得第一电压信号Vss的传输更稳定，从而保证加在发光器件层3上的第一电压与第二电压之间的压差较小，从而降低了显示基板的功耗。

在一些实施例中，如图3所示，显示基板10的显示区AA的边界包括多个边界线J，其中一个边界线J为选定边界线J1，第一电压信号传输结构2的第二部分22包括第一总线221和第二总线222。第一总线221沿选定边界线J1的延伸方向延伸，被配置为接入外部芯片提供的第一电压信号Vss。第二总线222环绕多个边界线J中除选定边界线J1之外的其他边界线J设置，且第二总线222在衬底1上的正投影与第一总线221在衬底1上的正投影无交叠。

如图3所示，第一总线221靠近显示区AA的选定边界线J1设置，衬底1的多个侧面1c中，靠近显示区AA的选定边界线J1的侧面为选定侧面1cc。

显示区AA的选定边界线J1沿第一方向X延伸，可以理解的是，第一总线221沿第一方向X延伸。衬底1的相邻的两个侧面1c形成一个边角，以下以衬底1的形状为矩形举例说明，此时，衬底1包括四个边角。

第二总线222在衬底1上的正投影与第一总线221在衬底1上的正投影无交叠，可以理解的是，衬底1的选定侧面1cc与其相邻的两个侧面1c形成的两个边角，所靠近的位置处，不包括第一总线221和第二总线222。即，在衬底1的这两个边角位置，不设置用于传输第一电压信号Vss的连接走线，因此，周边区AN位于前述两个边角所靠近的区域内的部分，在垂直于其所靠近的显示区AA的边界J的方向上的尺寸减小，有效降低了显示基板10在前述两个边角位置处的边框宽度。

在一些实施例中，第一电压信号传输结构2的第一部分21与第二总线222连接。如图4所示，第一电压信号传输结构2还包括多条连接线23，第一电压信号传输结构2的第一部分21与第一总线221通过多条连接线23连接。

如图4所示，相邻两条连接线23与第一电压信号传输结构2的第一部分21以及第一总线221之间形成一间隙区域K1，相较于采用整面的膜层结构作为第一电压信号传输结构2的第一部分21与第一总线221的连接结构，采用多条连接线23作为连接结构，形成的间隙区域K1可作为透气孔，使得被间隙区域K1暴露出的膜层能更好的散热，有效缓解了各膜层结构之间散热不良导致温升较快，从而导致显示基板10能耗增加的问题。

在一些实施例中，如图5所示，显示基板10还包括源漏导电层4，源漏导电层4包括设置于衬底1一侧的第一源漏导电层41，和设置于第一源漏导电层41远离衬底1一侧的第二源漏导电层42。第一电压信号传输结构2位于第二源漏导电层42与阳极层31之间。也就是说，在第二源漏导电层42和阳极层31之间还包括其他导电膜层，第一电压信号传输结构2位于前述其他导电膜层内。阳极层31包括位于显示区AA内的多个阳极M和位于周边区AN的搭接阳极313，且搭接阳极313与多个阳极M电绝缘。第一电压信号传输结构2的第二部分22通过搭接阳极313与阴极层33电连接。

参照对于图2中搭接阳极313的描述，以及对搭接阳极313与第一电压信号传输线VSS与搭接阳极313连接的描述，在本申请的另一些实施例中，如图5所示，第一电压信号传输结构2位于周边区的第二部分22，与位于周边区AN的搭接阳极313电连接，搭接阳极313与阴极层33电连接，从而实现将第一电压信号传输结构2传输的第一电压信号Vss传输至阴极层33。

在一些实施例中，如图5、图8所示，显示基板10还包括位于第二源漏导电层42与阳极层31之间的透明导电膜层，例如该透明导电膜层为ITO层，第一电压信号传输结构2形成于透明导电膜层中，且分布于显示区AA和周边区AN。

示例性地，第一电压信号传输结构2的第一部分21采用透明导电材料。进一步地，第一电压信号传输结构2例如采用ITO(氧化铟锡)，PEDOT(EDOT，3,4-乙烯二氧噻吩单体，的聚合物)。更进一步地，第一电压信号传输结构2的第二部分22也采用透明导电材料。

在一些实施例中，显示装置除包括显示基板之外，还可包括如传感器之类的电气元件，例如：光学传感器。以显示装置为手机为例，显示装置包括诸如前置摄像头、接近光传感器、3D感测模块等光学传感器，这些光学部件需要接收来自显示装置的显示面侧的光线，以实现相应的功能。在显示装置中，光学传感器通常安装在显示基板的非显示面侧，光学传感器的感光面一侧朝向显示基板。全屏显示器(Full Display Cell，FDC)采用屏下摄像头技术，将摄像头以及其他传感器隐藏至屏幕正下方，从而实现全屏显示。本公开以全屏显示器为基础，介绍第一电压信号传输结构2分布在显示区AA的几种具体实现方式。

如图6、图7所示，显示区AA包括第一显示区AA1和第二显示区AA2，第一显示区AA1包围第二显示区AA2。第二显示区AA2例如为圆形区域或者方形区域。

示例性地，第一显示区AA1为正常显示区域，即第一显示区AA1分布有阵列排布的子像素P，每个子像素P包括像素电路7和发光器件3a。第二显示区AA2为透明显示区域，该区域同样能够显示，但透光率较高，衬底1远离驱动电路层一侧设置有传感器，例如摄像头、接近光传感器、3D感测模块等光学传感器，且传感器在衬底1上的投影位于第二显示区AA2。光学传感器的感光面朝向显示装置的显示面一侧，用于接收显示装置的显示面一侧的环境光。示例性地，第二显示区AA2内分布有阵列排布的子像素P，为方便示意，图7中的每个子像素P微缩为一个黑点，每个子像素P中仅包括发光器件，各发光器件对应的像素电路7分布在第一显示区AA1中，由于像素电路7所包括的晶体管均采用不透光的金属材料制成，将第二显示区AA2的子像素P中的像素电路7设置在第一显示区AA1，第二显示区AA2的膜层材料采用透光率较高的材料，从而能够提高第二显示区AA2的透光率。

如图7所示，显示基板10包括设置于衬底1一侧且位于第一显示区AA1的多个像素电路7，所述多个像素电路7包括：控制位于第一显示区AA1中的子像素P的第一像素电路71和控制位于第二显示区AA2中的子像素P的第二像素电路72。

所述多个像素电路7位于第一显示区AA1，且不位于第二显示区AA2。示例性地，多个第二像素电路72分布在多个第一像素电路71之间的间隙空间中。

多个阳极M包括位于第一显示区AA1内的多个第一阳极311，和位于第二显示区内AA2的多个第二阳极312。其中，每个第一像素电路71与一个第一阳极311电连接，用于控制第一阳极311所连接的发光器件3a发光，每个第二像素电路72与一个第二阳极312电连接，用于控制第二阳极312连接的发光器件3a发光。由于第二阳极312位于第二显示区AA2，而第二像素电路72位于第一显示区AA1，这样就需要连接走线将二者连接，为保证合理规划布线以避免造成短路，且为保证第二显示区AA2的高透光率，在第二源漏导电层42和阳极层31之间增设透明导电膜层，用于布置连接走线5d。

示例性地，如图8所示，显示基板10还包括设置于第二源漏导电层42远离衬底1一侧的至少一层透明导电层5。

示例性地，透明导电层5采用透明导电材料。进一步地，透明导电层5例如采用ITO(氧化铟锡)，PEDOT(EDOT，3,4-乙烯二氧噻吩单体，的聚合物)。

如图8、图9A、图9B和图10所示，透明导电层5包括：位于第一显示区AA1内的多个第一转接电极5a、位于第二显示区AA2内的多个第二转接电极5b以及跨越第一显示区AA1和第二显示区AA2的多条连接走线5d。每个第一转接电极5a与阳极层31中的一个第一阳极311电连接，每个第二转接电极5b与阳极层31中的一个第二阳极312电连接，如图10所示，第一转接电极5a连接位于其上层的阳极M，同时连接位于其下层的像素电路，例如连接该像素电路中晶体管的源极或漏极。

如图9A和图9B所示，第二转接电极5b连接位于其上层的阳极M，同时通过连接走线5d连接对应的像素电路。每条连接走线5d的一端连接一个第二转接电极5b，另一端连接像素电路中晶体管的源极或漏极，如图9A所示，在至少一层透明导电层5包括三层的情况下，一个第二阳极312对应的连接走线5d可以位于三层透明导电层5中的任一层。

作为一种可能的设计，第二显示区AA2内设置有摄像头等器件，使用透明导电层5代替金属层作为布置连接走线5d，以向第二显示区AA2输入控制信号，由于透明导电层5具备较好的光透过率，进而使得透明导电层5能够在起到信号传输作用的同时，还不会遮挡第二显示区AA2内设置有摄像头等器件，从而保证显示基板10的正常工作。

可以理解的是，对于非全屏显示器，也可以采用上述设计，本公开是在显示装置为全屏显示器的基础上进行描述，但不作为对显示装置的类型的限定。

以上介绍了在全屏显示器中，透明导电层的应用，即在透明导电层中布置转接电极和连接走线，以实现第二像素电路对第二显示区的第二阳极的控制，接下来介绍第一电压信号传输结构在透明导电层中的一些布置方式。

以下介绍第一电压信号传输结构的第一部分包括呈网状结构的图案的实施例。

请参见图10，如图10所示为第一显示区AA1的部分区域内，透明导电层5和阳极层31的图案示意图。在一些实施例中，透明导电层5还包括至少位于第一显示区AA1中除多个第一转接电极5a之外的区域的第一图案5c。

如图10所示，透明导电层5位于第一显示区AA1的部分仅包括多个第一转接电极5a，透明导电层5位于第一显示区AA1的部分中，在除多个第一转接电极5a之外，还包括第一图案5c，第一图案5c和多个第一转接电极5a无接触。

示例性地，如图10所示，第一图案5c包括多个网孔K2。

至少一层透明导电层5中的至少一层透明导电层为选定透明导电层，选定透明导电层的第一图案被配置为传输第一电压信号Vss，第一电压信号传输结构2包括选定透明导电层的第一图案。

具体地，当显示基板仅包括一层透明导电层5时，该透明导电层5即为选定透明导电层；当显示基板包括多层透明导电层5时，多层透明导电层5中的一层或者多层，又或者全部透明导电层5为选定透明导电层。

每层透明导电层5的结构均相同，透明导电层5的第一图案5c包括多个网孔K2，可以理解的是，被配置为传输第一电压信号Vss的选定透明导电层的第一图案也包括多个网孔K2。这时，选定透明导电层传输第一电压信号线Vss的部分呈网状结构。

相较于采用整面的膜层结构，第一图案5c包括的多个网孔K2可作为透气孔，使得被多个网孔K2暴露出的膜层能更好的散热，有效缓解了各膜层结构之间散热不良导致温升较快，从而导致显示基板10能耗增加的问题。

进一步地，通过在透明导电层5中设置第一图案5c，作为第一电压信号传输结构2的一部分，相较于仅在第二显示区AA2内设置透明导电层5用于传输信号，在第一显示区AA1内设置第一图案5c用于传输第一电压信号Vss，将透明导电层5复用，提高了透明导电层5的利用率。这样，无需设置新的用作第一电压信号传输结构2的膜层，节省了膜材，简化制备工艺，显示基板的厚度不会增加。

同时，相较于图1所示的仅在周边区AN内设置第一电压信号传输线VSS传输第一电压信号Vss，将第一显示区AA1内的选定透明导电层的网状结构的第一图案配置为传输第一电压信号Vss，增加了传输第一电压信号Vss的信号线的总体面积，从而使得传输第一电压信号Vss的信号线的电阻降低，相应地，可以将传输第一电压信号Vss的信号线位于边框区的部分的尺寸适当减小，从而减小了传输第一电压信号Vss的信号线在边框区AN所占据的面积，这样就能缩窄显示基板的边框，从而起到增大显示区AA在显示侧的面积占比的目的。

需要说明的是，上述传输第一电压信号Vss的信号线，在如图1所示一些实施例中，所指的是第一电压信号传输线VSS，在如图3所示的另一些实施例中，所指的是被配置为传输第一电压信号Vss的，选定透明导电层的第一图案。

相较于仅在透明导电层制作出位于第二显示区AA2内的多个第二转接电极5b和用于连接像素电路7和阳极M的多条连接走线5d，在第一显示区AA1内设置第一图案5c传输第一电压信号Vss，增加了透明导电层的利用率，同时，增加了传输第一电压信号Vss的信号线的总面积，从而提高了第一电压信号Vss传输的稳定性。

在一些实施例中，如图11A所示，至少一层透明导电层5中的每层均为选定透明导电层，选定透明导电层的第一图案还位于周边区AN，每层透明导电层的第一图案均作为第一电压信号传输结构2。至少一层透明导电层5中的各层透明导电层位于周边区AN内的部分电连接，如图13A、图13B所示，至少一层透明导电层5中最远离衬底1的透明导电层的第一图案位于周边区AN的部分，与搭接阳极313连接。

示例性地，作为第一电压信号传输结构2的第一图案为覆盖显示区AA的整面膜层结构，在垂直于衬底1的方向上，作为第一电压信号传输结构2的第一图案能够覆盖第一图案与衬底1之间的像素电路，例如驱动晶体管等，这样可以屏蔽像素电路对阳极的耦合电容的影响。

前述覆盖所指的是，像素电路所包括的例如驱动晶体管等在衬底1上的正投影被作为第一电压信号传输结构2的第一图案在衬底1上的正投影所包围。

示例性地，如图11A所示，显示基板10包括三层透明导电层5，三层透明导电层5包括自衬底1依次设置的第一透明导电层51、第二透明导电层52和第三透明导电层53，第一透明导电层51、第二透明导电层52和第三透明导电层53位于周边区AN内的部分电连接，第三透明导电层53位于周边区AN的部分与搭接阳极313连接。

在一些实施例中，如图11A、图11B所示，显示基板10还包括至少一层平坦化层6。

如图11A、图11B所示，至少一层透明导电层5包括自衬底1依次设置的第一透明导电层51、第二透明导电层52、第三透明导电层53，至少一层平坦化层6包括位于第一透明导电层51与第二透明导电层52之间的第一平坦化层61、位于第二透明导电层52和第三透明导电层53之间的第二平坦化层62和位于第三透明导电层53远离衬底1的一侧的第三平坦化层63。

示例性地，平坦化层6位于第一显示区AA1内的部分在垂直于衬底1上的尺寸小于或者等于，平坦化层6位于第二显示区AA2内的部分在垂直于衬底1上的尺寸。

在一些示例中，平坦化层6位于第一显示区AA1内的部分在垂直于衬底1上的尺寸与平坦化层6位于第二显示区AA2内的部分在垂直于衬底1上的尺寸相同。

在另一些示例中，平坦化层6位于第一显示区AA1内的部分在垂直于衬底1上的尺寸为平坦化层6位于第二显示区AA2内的部分在垂直于衬底1上的尺寸的二分之一。

在又一些示例中，平坦化层6位于第一显示区AA1内的部分在垂直于衬底1上的尺寸为零，且平坦化层6位于第二显示区AA2内的部分在垂直于衬底1上的尺寸不为零。

在一些实施例中，如图10～图12A所示，显示基板10包括依次设置的衬底1、半导体层B、第一栅绝缘层G1、第一栅导电层8a、第二栅绝缘层G2、第二栅导电层8b、层间绝缘层G3、第一源漏导电层41、第一绝缘层N1和第二源漏导电层42、第二绝缘层N2、第一透明导电层51、第一平坦化层61、第二透明导电层52、第二平坦化层62、第三透明导电层53、第三平坦化层63。

图12A、图12B展示了搭接阳极313在周边区AN内的放大结构图。搭接阳极313位于周边区AN内。在一些示例中，搭接阳极313为一个整面的膜层结构。在另一些示例中，搭接阳极313包括多个第四开口Q4，结合图13A，可以理解的是，多个第四开口Q4暴露出平坦化层6的一部分，前述平坦化层6例如为第三平坦化层63和/或第二平坦化层62、第一平坦化层61。多个第四开口Q4例如作为第三平坦化层63和/或第二平坦化层62、第一平坦化层61的透气孔，便于第三平坦化层63和/或第二平坦化层62、第一平坦化层61的散热。由于平坦化层6为绝缘材料，因此，不会影响搭接阳极313与阴极层33的电连接。

图12A、图12C展示了第三平坦化层63在周边区AN内的放大结构图。

图12A、图12D展示了第三透明导电层53在周边区AN内的放大结构图。示例性地，第三透明导电层53在周边区AN内的边缘部分还包括多个第三开口Q3，结合图13A，可以理解的是，多个第三开口Q3暴露出平坦化层6的一部分，前述平坦化层6例如为第二平坦化层62和/或第一平坦化层61。多个第三开口Q3例如作为第二平坦化层62和/或第一平坦化层61的透气孔，便于第二平坦化层62和/或第一平坦化层61的散热。

图12A、图12E展示了第二平坦化层62在周边区AN内的放大结构图。

图12A、图12F展示了第二透明导电层52在周边区AN内的放大结构图。示例性地，第二透明导电层52在周边区AN内的边缘部分还包括多个第二开口Q2，结合图13A，可以理解的是，多个第二开口Q2暴露出平坦化层6的一部分，前述平坦化层6例如为第二平坦化层62和/或第一平坦化层61。多个第三开口Q3例如作为第二平坦化层62和/或第一平坦化层61的透气孔，便于第二平坦化层62和/或第一平坦化层61的散热。

图12G展示了第一平坦化层61在周边区AN内的放大结构图。

图12H展示了第一透明导电层51在周边区AN内的放大结构图。示例性地，第一透明导电层51在周边区AN内的边缘部分还包括多个第一开口Q1，结合图13A，可以理解的是，多个第一开口Q1暴露出平坦化层6的一部分，前述平坦化层6例如为第一平坦化层61。多个第一开口Q1例如作为第一平坦化层61的透气孔，便于第一平坦化层61的散热。

对于上述结构，由于平坦化层6为绝缘材料，因此，在透明导电层5上的开口，例如第一透明导电层51上的第一开口Q1、第二透明导电层52上的第二开口Q2、第三透明导电层53上的第三开口Q3，可以作为平坦化层6，例如第一平坦化层61、第二平坦化层62、第三平坦化层63的透气孔，且不会使得多层透明导电层5之间通过透明导电层上的开口互相连接。

如图13A所示，第三平坦化层63的边界与衬底1的侧面1c之间的距离d3，大于第二平坦化层62的边界与衬底1的侧面1c之间的距离d2，且第二平坦化层62的边界与衬底1的侧面1c之间的距离d2大于第一平坦化层61与衬底1的侧面1c之间的距离d1。

如图13A所示，显示基板10包括多个透明电极层5与多个平坦化层6时，多个透明电极层5与多个平坦化层6的边界与衬底1的侧面1c之间的距离均不相同，且在显示基板10的截面图中可以明显看出，多个透明电极层5与多个平坦化层6的边界的截面呈阶梯状。通过采用这种设计，使得显示基板10在垂直于第一表面1a方向上的厚度变化是逐渐变化的，避免了由于膜层结构厚度不同产生的段差，进一步地，避免了由于段差的存在容易导致显示基板10正常工作的问题。

可以理解的是，如图13A中所示的D区域，为了清楚地表示出透明导电层5和平坦化层6的边界与该边界所靠近的衬底1的侧面1c之间的距离关系，图中每层平坦化层6在其相邻的透明导电层5的边界位置(如图13A中所示处的D区域)的截面为阶梯状，但在实际生产中，图13A中所示的D区域为连续的坡度渐变的缓坡，采用这种设计，可以有效避免阴极层33在该区域内由于段差太大引起的断裂问题。

以下以至少一层透明导电层5包括第一透明导电层51、第二透明导电层52、第三透明导电层53，至少一层平坦化层6包括第一平坦化层61、第二平坦化层62、第三平坦化层63为例进行说明。

在一些实施例中，如图13B所示，搭接阳极313远离衬底1的一侧表面与第三平坦化层63远离衬底1的一侧表面齐平或大致齐平。

在另一些实施例中，搭接阳极313远离衬底1的一侧表面与第二平坦化层62远离衬底1的一侧表面齐平或大致齐平。

前述齐平或大致齐平是指，搭接阳极313远离衬底1的一侧表面与衬底1之间的距离与第三平坦化层63或第二平坦化层62远离衬底1的一侧表面与衬底1之间的距离相同或大致相同。

上述搭接阳极313在周边区AN内与透明导电层5和/或平坦化层6的位置关系仅作为示例性描述，不作为对本公开的具体实施方式的限定。

示例性地，由于搭接阳极313与阳极层31中的其余部分电绝缘，将阳极层31包括的搭接阳极313和多个阳极M等称为阳极层31的导电图案，那么，搭接阳极313与多个阳极M等是独立分隔开的导电图案。因此，在制备显示基板10时：

在一些实施例中，阳极层31所包括的导电图案通过一道工序一次形成，阳极层31所包括的导电图案在垂直于衬底1的方向上的尺寸是一致的。可以理解的是，这时，搭接阳极313与阳极层31中的其他导电图案在垂直于衬底1的方向上的尺寸是一致的。

在另一些实施例中，阳极层31所包括的导电图案例如采用两道工序分别形成，其中，前述两道工序分别形成搭接阳极313和阳极层31中的其他导电图案。可以理解的是，采用这样的设计，在垂直于衬底1的方向上，搭接阳极313的尺寸与阳极层31中的其他导电图案的尺寸可以不一致。因此，如图13B所示，搭接阳极313的远离衬底1的一侧表面例如与第三平坦化层63远离衬底1的一侧表面齐平，这样，通过增加搭接阳极313在垂直于衬底1的方向上的尺寸，使得在图13B中所示的D’区域内不存在段差，阴极层33在周边区AN内的部分的各个位置处，与衬底1之间的距离大致保持一致，从而有效避免阴极层33在该区域内由于段差的存在出现断裂风险的问题。

进一步地，如图13B所示，搭接阳极313的远离衬底1的一侧表面例如与第三平坦化层63远离衬底1的一侧表面齐平，这时，搭接阳极313将透明导电层5的边缘位置处存在的段差补平，因此，第一透明导电层51、第二透明导电层52和第三透明导电层53的边界与衬底1的侧面1c之间的距离可以相同，即d1、d2和d3可以相同。

示例性地，显示基板10所包括的所有膜层结构的边界部分的截面均采用阶梯状设计。这里所述的膜层结构的边界部分的截面采用的阶梯状设计是指，显示基板10中的任一膜层结构，例如透明导电层5，透明导电层5靠近衬底1一侧例如与第二绝缘层N2相接，透明导电层5远离衬底1的一侧与平坦化层6相接，可以理解的是，自衬底1一侧，第二绝缘层N2、透明导电层5、平坦化层6依次设置，且依次相接，第二绝缘层N2、透明导电层5、平坦化层6的边界与衬底1的侧面1c之间的距离均不相同，且最靠近衬底1的膜层，与衬底1的侧面1c之间的距离最小，即第二绝缘层N2的边界与衬底1的侧面1c之间的距离小于透明导电层5的边界与衬底1的侧面1c之间的距离，且透明导电层5的边界与衬底1的侧面1c之间的距离小于平坦化层6的边界与衬底1的侧面1c之间的距离。将第二绝缘层N2、透明导电层5、平坦化层6视为一个整体，该整体的边界位置处的截面形状为阶梯状。

示例性地，至少一层透明导电层5与衬底1的侧边之间的距离，小于第一平坦化层6与显示基板10的侧面1c之间的距离。

具体地，如图13A所示，第一透明导电层51的边界与衬底1的侧面1c之间的距离为d4，第二透明导电层52的边界与衬底1的侧面1c之间的距离为d5，第三透明导电层53的边界与衬底1的侧面1c之间的距离为d6。d4、d5、d6均小于d1，且d4、d5、d6均小于d2，且d4、d5、d6均小于d3。

示例性地，第一透明导电层51、第二透明导电层52、第三透明导电层53中的至少一个为选定透明导电层，选定透明导电层的第一图案作为第一电压信号传输结构2。作为第一电压信号传输结构2的第一图案位于周边区AN的部分，与搭接阳极313连接。

在一些示例中，如图13A所示，第一透明导电层51、第二透明导电层52、第三透明导电层53均为选定透明导电层，第一透明导电层51、第二透明导电层52、第三透明导电层53的第一图案在周边区AN连接，且第三透明导电层53的第一图案53c位于周边区AN的部分与搭接阳极313连接。

如图11A所示，示例性地，显示基板10包括三层透明导电层5，三层透明导电层5包括自衬底1依次设置的第一透明导电层51、第二透明导电层52和第三透明导电层53，第一透明导电层51的第一转接电极51a、第二透明导电层52的第一转接电极52a和第三透明导电层53的第一转接电极53a依次相接，整体作为一个第一转接电极5a。第一转接电极5a与源漏导电层4内的第二信号线4a连接。在一些示例中，如图11A所示，第一转接电极5a通过第二信号线4a与薄膜晶体管T的源极T2或漏极T3连接。

示例性地，显示基板10包括两层透明导电层5，两层透明导电层5包括自衬底1依次设置的第一透明导电层51和第二透明导电层52，第一透明导电层51的第一转接电极51a和第二透明导电层52的第一转接电极52a相接，整体作为一个第一转接电极5a。第一转接电极5a与源漏导电层4内的第二信号线4a连接。在一些示例中，第一转接电极5a通过第二信号线4a与薄膜晶体管T的源极T2或漏极T3连接。

示例性地，显示基板10包括一层透明导电层5，透明导电层5的第一转接电极5a与源漏导电层4内的第二信号线4a连接。在一些示例中，如图11A所示，第一转接电极5a通过第二信号线4a与薄膜晶体管T的源极T2或漏极T3连接。

在一些实施例中，如图11A、图11B、图12A和图13A所示，至少一层透明导电层5包括自衬底1依次设置的第一透明导电层51、第二透明导电层52、第三透明导电层53。第二透明导电层52的第一图案52c作为第一电压信号传输结构2，被配置为向多个像素电路7传输第一电压信号Vss，第二透明导电层52的第一图案52c还位于周边区AN，第二透明导电层52的第一图案52c位于周边区AN的部分，与搭接阳极313连接。第一透明导电层51的第一图案51c和第三透明导电层53的第一图案53c被配置为向多个像素电路7传输第二电压信号Vdd。

第二电压信号Vdd为恒压信号，相较于第一电压信号Vss更稳定，第二透明导电层52位于第一透明导电层51和第三透明导电层53之间，使得第一电压信号Vss的传输更稳定，不易受到影响。

在一些实施例中，如图14A所示，显示基板10还包括设置于选定透明导电层远离衬底1的一侧的附加金属层43，附加金属层43包括第二图案43c。附加金属层43的第二图案43c设置于选定透明导电层5’的第一图案5’c的一侧，附加金属层43的第二图案43c与选定透明导电层5’的第一图案5’c电连接，第一电压信号传输结构2还包括附加金属层43的第二图案43c。

在一些实施例中，附加金属层43的第二图案43c与选定透明导电层5’的第一图案5’c直接接触，附加金属层43的第二图案43c位于选定透明导电层5’的第一图案5’c远离衬底1的一侧且两者重叠。

在另一些实施例中，附加金属层43与选定透明导电层5’之间还包括其余膜层结构，附加金属层43的第二图案43c与选定透明导电层5’的第一图案5’c通过连接部实现电连接。附加金属层43与选定透明导电层5’之间的其余膜层结构包括至少一层膜层结构，且前述至少一层膜层结构分别与附加金属层43和选定透明导电层5’电绝缘，这时，示例性地，前述至少一层膜层结构上包括连通附加金属层43的第二图案43c与选定透明导电层5’的第一图案5’c的连接过孔，且连接过孔中填充有导电材料，附加金属层43的第二图案43c与选定透明导电层5’的第一图案5’c通过连接过孔以及连接过孔中的导电材料实现电连接。前述导电材料包括金属材料，例如铝、铜或钼中的至少一种。

示例性地，透明导电层5例如采用透明导电材料。进一步地，透明导电层5例如采用ITO(氧化铟锡)，PEDOT(EDOT，3,4-乙烯二氧噻吩单体，的聚合物)。附加金属层43例如采用铝、铜或钼中的至少一种。

选定透明导电层5’为至少一层透明导电层5中的至少一层，相较于金属材料，其在具备较好的光透过率的同时，电阻也更大，从而会使得其传输的第一电压信号Vss产生压降。在一些实施例中，至少一层透明导电层5包括第一透明导电层51和第二透明导电层52，那么，选定透明导电层5’包括第一透明导电层51和第二透明导电层52中的至少一个。在另一些实施例中，至少一层透明导电层5包括第一透明导电层51、第二透明导电层52和第三透明导电层53，那么，选定透明导电层5’包括第一透明导电层51、第二透明导电层52和第三透明导电层53中的至少一个。

通过在其用于传输第一电压信号Vss的第一图案5’c上(第一图案5’c远离衬底1的一侧)重叠设置金属材料制成的第二图案43c，能够有效降低用于传输第一电压信号Vss的第一图案5’c的电阻，从而实现压降优化。

示例性地，第二图案43c与选定透明导电层5’的第一图案5’c形状相同，第二图案43c在衬底1上的正投影与选定透明导电层5’的第一图案5’c在衬底1上的正投影重叠或大致重叠。

进一步地，由于附加金属层43的第二图案43c与选定透明导电层5’的第一图案5’c形状相同，因此，在显示基板10的制备过程中，可以采用同一个掩膜版分别制备选定透明导电层5’的第一图案5’c和附加金属层43的第二图案43c，仅作工艺变更，无需另外新增掩膜版，在实现压降优化的同时，不会增加显示基板10的制备成本。

在另一些实施例中，如图14B所示，显示基板10还包括附加金属层43，附加金属层43与选定透明导电层5’位于同层。附加金属层43包括第二图案43c至少位于第一显示区AA1中除多个第一转接电极5a之外的部分区域，附加金属层43的第二图案43c被配置为传输第一电压信号Vss，第一电压信号传输结构2包括附加金属层43的第二图案43c。

采用附加金属层43的第二图案43c传输第一电压信号Vss，由于金属结构的电阻更小，因此，更利于实现第一电压信号Vss的压降优化。

以下介绍第一电压信号传输结构2的第一部分21包括多条第一电压信号线的实施例。

需要说明的是，图15～图18中仅示意出了像素电路与信号线之间的位置对应关系，并不表示各结构的上下层关系。

在一些实施例中，如图8、图9A、图9B和图15所示，阳极层31内的多个阳极M包括位于第一显示区AA1内的多个第一阳极311和位于第二显示区AA2内的多个第二阳极312，衬底1一侧阵列布置的多个像素电路7包括多个第一像素电路71、多个第二像素电路72和多个虚拟像素电路73。第一像素电路71和/或第二像素电路72包括多个第一像素电路71和多个第二像素电路72，每个第一像素电路71与一个第一阳极311电连接，每个第二像素电路72与一个第二阳极312电连接，多个虚拟像素电路73与阳极层31电绝缘。

多个像素电路7排列成多个像素电路列，至少一个像素电路列为正常像素电路列7a，至少一个像素电路列为虚拟像素电路列7b。示例性地，多个像素电路7呈阵列排布，沿第一方向X，至少两个像素电路7排成一列，称为一个像素电路列，沿第二方向Y，至少两个像素电路7排成一行，称为一个像素电路行。正常像素电路列7a包括沿第一方向X排列的多个第一像素电路71和/或多个第二像素电路72，虚拟像素电路列7b包括沿第一方向X排列的多个虚拟像素电路73。

如图15所示，第二源漏导电层42包括多条电压信号线，每条电压信号线与一个像素电路列电连接。其中，一条电压信号线经过一个像素电路列，一条电压信号线与一个像素电路列中的各像素电路均有重叠且电连接。

多条电压信号线包括：多条第一电压信号线421和多条第二电压信号线422，第二电压信号线422与正常像素电路列7a电连接，第一电压信号线421与虚拟像素电路列7b电连接。每条第二电压信号线422被配置为向像素电路列中的各像素电路7传输第二电压信号Vdd，多条第一电压信号线421被配置为传输第一电压信号Vss，第一电压信号传输结构2还包括多条第一电压信号线421。

显示区AA内的多个子像素包括位于第一显示区AA1内的第一子像素和位于第二显示区AA2内的第二子像素，与第一阳极311电连接的第一像素电路71用于控制第一子像素，与第二阳极312电连接的第二像素电路72用于控制第二子像素，多个虚拟像素电路73为冗余像素电路，不控制子像素。

多个像素电路7位于第一显示区AA1内，透明导电层5还包括多条连接走线5d，每条连接走线5d用于连接一个像素电路7和一个第二阳极M。具体地，每个第一像素电路71通过一条连接走线5d与一个第一阳极311连接，每个第二像素电路72通过一条连接走线5d与一个第二阳极312连接。

可以理解的是，控制第二显示区AA2内的第二子像素的第二像素电路72，穿插布置在控制第一显示区AA1内的第一子像素的第一像素电路71之中。

如图15所示，正常像素电路列7a包括多个第一像素电路71和/或多个第二像素电路72。虚拟像素电路列7b包括多个虚拟像素电路73。

每个像素电路7需要被接入第二电压信号Vdd。在一些实施例中，多条第一电压信号线421和多条第二电压信号线422均作为第二电压信号传输线VDD，被配置为传输第二电压信号Vdd。这样，第一像素电路71和/或第二像素电路72和虚拟像素电路73均被接入第二电压信号Vdd，而由于多个虚拟像素电路73为冗余像素电路，不控制子像素，不与阳极M电连接，这样虚拟像素电路73是否被接入第二电压信号Vdd，均不影响显示基板10的正常显示。

示例性地，正常像素电路列7a和虚拟像素电路列7b沿第二方向Y交替排布。

在一些实施例中，如图16所示，相邻的两列正常像素电路列7a之间包括一列虚拟像素电路列7b。在沿第二方向Y上，例如为一列正常像素电路列7a、一列虚拟像素电路列7b依次交替设置。

在另一些实施例中，如图17所示，相邻的两列正常像素电路列7a之间包括两列虚拟像素电路列7b。在沿第二方向Y上，例如为一列正常像素电路列7a、两列虚拟像素电路列7b依次交替设置。

在又一些实施例中，如图18所示，相邻的两列虚拟像素电路列7b之间包括两列正常像素电路列7a。在沿第二方向Y上，例如为两列正常像素电路列7a、一列虚拟像素电路列7b依次交替设置。

本公开的一些实施例中，如图15所示，多条第一电压信号线421被配置为传输第一电压信号Vss，第一电压信号传输结构2还包括多条第一电压信号线421，多条第二电压信号线422被配置为传输第二电压信号Vdd，作为第二电压信号传输线VDD。利用与虚拟像素电路73相连的第二电压信号线422(原本用于传输第二电压信号Vdd)传输第一电压信号Vss，这样在不影响显示效果的同时，将多条第二电压信号线422利用，使得多条第二电压信号线422传输第一电压信号Vss，这样多条第二电压信号线422就作为了第一电压信号传输结构2的一部分，实现了第一电压信号传输结构2分布在显示区AA，起到降低第一电压压降的效果，从而能够减小第一电压信号传输结构2的位于周边区AN的第二部分22的尺寸，例如图3中所示的尺寸e3，减小显示基板10边框尺寸，例如图3所示的尺寸e4。

在一些实施例中，多条第一电压信号线421与选定透明导电层的第一图案在周边区AN电连接。这样，多条第二电压信号线422接收来自透明导电层所传输的第一电压信号，且二者在周边区内连接，无需改变显示区内各膜层的原有结构，不会影响显示区的各膜层结构的图案分布。

多条第一电压信号线421和选定透明导电层的第一图案均被配置为传输第一电压信号Vss，由于选定透明导电层的第一图案布设在显示区AA内，选定透明导电层的第一图案在显示区AA内即可实现与发光器件层3的连接，因此，多条第一电压信号线421和选定透明导电层的第一图案位于周边区的部分的尺寸(垂直于其所靠近的显示区AA的边界的方向上的尺寸)仅需要满足与多条第一电压信号线421的有效连接即可，进一步地，由于连接走线(例如多条第一电压信号线421和选定透明导电层的第一图案)位于周边区AN内的部分的尺寸减小，可以理解的是，显示基板10的显示区AA占比相应地增大，进一步地，实现了显示装置的边框缩窄。

在一些实施例中，如图13A、图16和图17所示，显示基板10还包括：设置于衬底1的一侧的阵列布置的多个像素电路7、设置于衬底1一侧栅导电层8、设置于栅导电层8远离衬底1一侧的第一源漏导电层41和设置于第一源漏导电层41远离衬底1一侧的第二源漏导电层42。多个像素电路7排列成多个像素电路列。第二源漏导电层42包括沿第一方向X延伸的多条电压信号线，第一方向X为多个像素电路列的延伸方向，每条电压信号线与一个像素电路列有重叠。

前述栅导电层8例如包括第一栅导电层8a和第二栅导电层8b，第一栅导电层8a相较于第二栅导电层8b更靠近衬底1。

多条电压信号线包括多条第一电压信号线421和多条第二电压信号主线423。多条第一电压信号线421被配置为传输第一电压信号Vss。第一电压信号传输结构2还包括多条第一电压信号线421。

每条第二电压信号主线423与一个像素电路列电连接，被配置为向像素电路列中的各像素电路传输第二电压信号Vdd。栅导电层8包括沿第二方向Y延伸的多条第二电压信号副线81，多条第二电压信号副线81与第二电压信号主线423电连接。多条第二电压信号副线81被配置为，为与第一电压信号线421有重叠的像素电路7传输第二电压信号Vdd。

示例性地，第一方向X与第二方向Y交叉。进一步地，第一方向X垂直于第二方向Y。

如图16所示，多条第二电压信号主线423与多条第二电压信号副线81位于显示区AA内部分形成网状结构。多条第二电压信号主线423与多条第二电压信号副线81位于显示区AA内部分与像素电路7连接，作为VDD信号线，传输第二电压信号Vdd，多条第二电压信号主线423与多条第二电压信号副线81位于周边区AN的部分连接。

在一些实施例中，多条第二电压信号主线423与多条第二电压信号副线81均作为VDD信号线，传输第二电压信号Vdd。

本公开的一些实施例中，第二电压信号主线423作为VDD信号线，传输第二电压信号Vdd，相邻两条第二电压信号主线423之间的第一电压信号线421作为VSS信号线，用于传输第一电压信号Vss。这时，与第二电压信号主线423有重叠的像素电路7所需的第二电压信号Vdd，通过栅导电层8内的多条第二电压信号副线81提供。

进一步地，如图16、图17、图18所示，多条第二电压信号主线423中的每相邻两个第二电压信号主线423之间设置有至少一条第一电压信号线421，和/或，每相邻两个第一电压信号线421之间设置有至少一条第二电压信号主线423。

更进一步地，如图19所示，显示基板10还包括设置于第二源漏导电层42远离衬底1一侧的至少一层透明导电层5和至少一层平坦化层6，至少一层透明导电层5中的至少一层透明导电层为选定透明导电层，选定透明导电层的第一图案与多条第一电压信号线421在周边区AN电连接。

在一些实施例中，透明导电层5包括第一透明导电层51、第二透明导电层52和第三透明导电层53。其中，第一透明导电层51和第三透明导电层53包括沿第一方向X延伸的多条第二电压信号主线423，第一透明导电层51和第三透明导电层53内包括的多条第二电压信号主线423作为VDD信号线，被配置为传输第二电压信号Vdd；第二透明导电层52内包括沿第一方向X延伸的多条第一电压信号线421，第二透明导电层52内包括的多条第一电压信号线421作为VSS信号线，被配置为传输第一电压信号Vss。

通过第一透明导电层51和第三透明导电层53内的多条第二电压信号主线423传输第二电压信号Vdd，第二透明导电层52包括的多条第一电压信号线421传输第一电压信号Vss。第一透明导电层51和第三透明导电层53将第二透明导电层52包围其中，由于，第二电压信号Vdd相较于第一电压信号Vss更稳定，这样会使得第二透明导电层52内传输的第一电压信号Vss更稳定，从而保证显示基板10工作所需信号的稳定传输，从而避免由于第一电压信号Vss传输不稳定导致的显示装置的功耗增大的问题。

在一些实施例中，如图20A、图20B所示，显示基板10还包括设置于衬底1一侧的遮光层9和设置于遮光层9远离衬底1一侧的多个像素电路7。多个像素电路7中的每个像素电路7包括驱动晶体管T。遮光层9包括多个遮光图案91，每个像素电路7的驱动晶体管T在衬底1上的正投影在一个遮光图案91在衬底1上的正投影内。多个遮光图案91彼此连接。遮光层9被配置为传输第一电压信号Vss，第一电压信号传输结构2包括遮光层9。

示例性地，遮光层9作为隔绝层，设置于用于驱动晶体管T与衬底1之间，每个遮光层9至少对应一个驱动晶体管T，避免驱动晶体管T与衬底1的第二表面1b一侧的导电结构等之间产生离子传输，以及当衬底1为玻璃等透明材料时，光线自衬底1的第二表面1b一侧射向第一表面1a一侧的驱动晶体管T造成驱动晶体管T异常的问题，从而保证显示基板10正常工作。

每个遮光图案91覆盖一个驱动晶体管T，多个遮光图案91之间通过连接线92互相连接，可以理解的是，多个遮光图案91是一个整体结构。

在一些实施例中，如图21，显示基板10还包括源漏导电层4，源漏导电层4包括自衬底1依次设置的第一源漏导电层41和第二源漏导电层42，第一电压信号传输结构2的第二部分22包括第一电压信号总线，第一部分21包括多条第一电压信号子线211，第一电压信号总线位于第一源漏导电层41内，和/或第一电压信号总线位于第二源漏导电层42。第一电压信号总线在垂直于其延伸方向的方向上的尺寸为5μm～20μm。

示例性地，如图21所示，第一电压信号总线包括第一总线221和第二总线222。第一总线221在垂直于其延伸方向的方向上的尺寸d7为5μm～20μm，第二总线222在垂直于其延伸方向的方向上的尺寸d8为5μm～20μm。

第一总线221在垂直于其延伸方向的方向上的尺寸d7例如为5μm、15μm或20μm。第二总线222在垂直于其延伸方向的方向上的尺寸d8例如为5μm、15μm或20μm。

用于传输VSS信号的连接走线，如图21所示第一总线221和第二总线222，位于周边区AN内的部分的宽度小，可以理解的是，相应地，当该显示基板10应用于显示装置中时，能够实现显示装置的超窄边框。

本公开的一些实施例还提供了一种显示装置100，如图22所示，包括如上述任一实施例所述的显示基板10。

该显示装置100可以是显示不论运动的(例如，视频)、固定(例如，静止图像)的、文字的或是图像的任何装置。更明确地说，预期所述实施例可实施在多种电子装置中或与多种电子装置关联，所述多种电子装置例如(但不限于)移动电话、无线装置、个人数据助理(PDA)、手持式或便携式计算机、GPS接收器/导航器、相机、MP4视频播放器、摄像机、游戏控制台、手表、时钟、计算器、电视监视器、平板显示器、计算机监视器、汽车显示器(例如，里程表显示器等)、导航仪、座舱控制器和/或显示器、相机视图的显示器(例如，车辆中后视相机的显示器)、电子相片、电子广告牌或指示牌、投影仪、建筑结构、包装和美学结构(例如，对于一件珠宝的图像的显示器)等。

示例性地，参阅图22、图23所示，上述显示装置100还可以包括框架、柔性线路板20、以及其他电子配件等。其中，显示基板10例如可以设置在该框架内。

在一些示例中，显示基板10还包括沿第二方向Y延伸的绑定引线，绑定引线的一端与第一总线221相连，绑定引线的另一端用于与柔性线路板20绑定，绑定引线位于周边区AN外的部分(超出衬底1之外的部分)与柔性线路板20一起弯折到显示基板10的背面。

上述显示装置的有益效果和上述一些实施例所述的显示基板10的有益效果相同，此处不再赘述。

以上所述，仅为本公开的具体实施方式，但本公开的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本公开揭露的技术范围内，想到变化或替换，都应涵盖在本公开的保护范围之内。因此，本公开的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (18)

1.一种显示基板，包括显示区和环绕所述显示区的周边区，所述显示基板包括：

衬底；

发光器件层，设置于所述衬底一侧，所述发光器件层包括阳极层和阴极层，所述阳极层相对于所述阴极层靠近所述衬底；

第一电压信号传输结构，设置于所述发光器件层与所述衬底之间，被配置为向所述阴极层传输第一电压信号；

其中，所述第一电压信号传输结构包括位于所述显示区的第一部分和位于所述周边区的第二部分，所述第一部分和所述第二部分电连接，且所述第一部分布设于所述显示区内。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述第一部分包括呈网状结构的图案；和/或，所述第一部分包括多条第一电压信号线。

3.根据权利要求1或2所述的显示基板，其中，所述显示区的边界包括多个边界线，其中一个边界线为选定边界线；

所述第一电压信号传输结构的第二部分包括第一总线和第二总线；

所述第一总线沿所述选定边界线的延伸方向延伸，被配置为接入外部芯片提供的第一电压信号；

所述第二总线环绕所述多个边界线中除所述选定边界线之外的其他边界线设置，且所述第二总线在所述衬底上的正投影与所述第一总线在所述衬底上的正投影无交叠。

4.根据权利要求3所述的显示基板，其中，所述第一电压信号传输结构的第一部分与所述第二总线连接；

所述第一电压信号传输结构还包括多条连接线，所述第一电压信号传输结构的第一部分与所述第一总线通过所述多条连接线连接。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的显示基板，还包括：

设置于所述衬底一侧的第一源漏导电层；

设置于所述第一源漏导电层远离所述衬底一侧的第二源漏导电层；

所述第一电压信号传输结构位于所述第二源漏导电层与所述阳极层之间；

所述阳极层包括：位于所述显示区内的多个阳极和位于所述周边区的搭接阳极；其中，所述搭接阳极与所述多个阳极电绝缘；

所述第一电压信号传输结构的第二部分通过所述搭接阳极，与所述阴极层电连接。

6.根据权利要求5所述的显示基板，其中，所述显示区包括第一显示区和第二显示区，所述第一显示区包围所述第二显示区；

所述多个阳极包括：位于所述第一显示区内的多个第一阳极，和位于所述第二显示区内的多个第二阳极；

所述显示基板还包括设置于所述衬底一侧的多个像素电路，所述多个像素电路位于所述第一显示区且不位于所述第二显示区；

所述显示基板还包括设置于所述第二源漏导电层远离所述衬底一侧的至少一层透明导电层；

每层所述透明导电层包括：

多个第一转接电极，位于所述第一显示区内，每个第一转接电极与所述阳极层中的一个第一阳极电连接；

多个第二转接电极，位于所述第二显示区内，每个第二转接电极与所述阳极层中的一个第二阳极电连接；

第一图案，至少位于所述第一显示区中除所述多个第一转接电极之外的部分区域；所述第一图案包括多个网孔；

所述至少一层透明导电层中的至少一层透明导电层为选定透明导电层，所述选定透明导电层的第一图案被配置为传输所述第一电压信号，所述第一电压信号传输结构的第一部分包括所述选定透明导电层的第一图案位于显示区内的部分。

7.根据权利要求6所述的显示基板，其中，所述至少一层透明导电层中的每层均为选定透明导电层；所述选定透明导电层的第一图案还位于所述周边区，所述第一电压信号传输结构的第二部分包括所述选定透明导电层的第一图案位于周边区内的部分；

每层透明导电层的第一图案均作为所述第一电压信号传输结构；所述至少一层透明导电层中的各层透明导电层位于所述周边区内的部分电连接；

所述至少一层透明导电层中最远离所述衬底的透明导电层的第一图案位于周边区的部分，与所述搭接阳极连接。

8.根据权利要求7所述的显示基板，其中，所述衬底设置所述至少一层透明导电层的一侧表面包括多个侧边；

所述至少一层透明导电层包括自所述衬底依次设置的第一透明导电层、第二透明导电层、第三透明导电层；所述显示基板还包括至少一层平坦化层，所述至少一层平坦化层包括：

第一平坦化层，位于所述第一透明导电层与所述第二透明导电层之间；

第二平坦化层，位于所述第二透明导电层和所述第三透明导电层之间；

第三平坦化层，位于所述第三透明导电层远离所述衬底的一侧；

所述第三平坦化层在所述衬底上的正投影的边界与该边界所靠近的所述衬底的侧面之间的距离，大于所述第二平坦化层在所述衬底上的正投影的边界与所述衬底的侧面之间的距离，且

所述第二平坦化层在所述衬底上的正投影的边界与所述衬底的侧面之间的距离，大于所述第一平坦化层在所述衬底上的正投影与所述衬底的侧面之间的距离；

所述至少一层透明导电层在所述衬底上的正投影的边界与该边界所靠近的所述衬底的侧面之间的距离，小于所述第一平坦化层在所述衬底上的正投影的边界与该边界所靠近的所述衬底的侧面之间的距离；

作为所述第一电压信号传输结构的所述第一图案位于所述周边区的部分，与所述搭接阳极连接。

9.根据权利要求6所述的显示基板，其中，所述至少一层透明导电层包括自所述衬底依次设置的第一透明导电层、第二透明导电层、第三透明导电层；

所述第二透明导电层的第一图案作为所述第一电压信号传输结构，第二透明导电层的第一图案还位于所述周边区；所述第二透明导电层的第一图案位于周边区的部分，与所述搭接阳极连接；

所述第一透明导电层的第一图案和所述第三透明导电层的第一图案被配置为向所述多个像素电路传输第二电压信号。

10.根据权利要求6～9中任一项所述的显示基板，其中，所述显示基板还包括附加金属层，所述附加金属层包括第二图案；

所述附加金属层与所述选定透明导电层位于同层；所述附加金属层的第二图案至少位于所述第一显示区中除所述多个第一转接电极之外的部分区域；所述附加金属层的第二图案被配置为传输所述第一电压信号，所述第一电压信号传输结构包括所述附加金属层的第二图案；

或者，

所述附加金属层设置于所述选定透明导电层远离所述衬底的一侧；所述附加金属层的第二图案设置于所述选定透明导电层的第一图案的一侧，且所述附加金属层的第二图案与所述选定透明导电层的第一图案电连接，所述第一电压信号传输结构还包括附加金属层的第二图案。

11.根据权利要求6～10中任一项所述的显示基板，其中，

所述多个像素电路阵列布置，包括多个第一像素电路、多个第二像素电路和多个虚拟像素电路，每个第一像素电路与一个所述第一阳极电连接，每个第二像素电路与一个所述第二阳极电连接；所述多个虚拟像素电路与所述阳极层电绝缘；

所述多个像素电路排列成多个像素电路列，至少一个像素电路列为正常像素电路列，至少一个像素电路列为虚拟像素电路列；所述正常像素电路列包括多个所述第一像素电路和/或多个所述第二像素电路，所述虚拟像素电路列包括多个所述虚拟像素电路；

所述第二源漏导电层包括多条电压信号线，每条电压信号线与一个像素电路列电连接；所述多条电压信号线包括：多条第一电压信号线和多条第二电压信号线，所述第二电压信号线与所述正常像素电路列电连接；所述第一电压信号线与所述虚拟像素电路列电连接；

每条第二电压信号线被配置为向所述像素电路列中的各像素电路传输第二电压信号；所述多条第一电压信号线被配置为传输所述第一电压信号；所述第一电压信号传输结构还包括所述多条第一电压信号线。

12.根据权利要求11所述的显示基板，其中，所述多条第一电压信号线与所述选定透明导电层的第一图案在所述周边区电连接。

13.根据权利要求1～12中任一项所述的显示基板，还包括：设置于所述衬底的一侧的多个像素电路，所述多个像素电路阵列布置，所述多个像素电路排列成多个像素电路列；

所述显示基板还包括：

设置于所述衬底一侧栅导电层；

设置于所述栅导电层远离所述衬底一侧的第一源漏导电层；

设置于所述第一源漏导电层远离所述衬底一侧的第二源漏导电层；

所述第二源漏导电层包括沿第一方向延伸的多条电压信号线，每条电压信号线与一个像素电路列有重叠；所述多条电压信号线包括多条第一电压信号线和多条第二电压信号主线，每条第二电压信号主线与一个所述像素电路列电连接，被配置为向所述像素电路列中的各像素电路传输第二电压信号；所述第一方向为所述多个像素电路列的延伸方向；

所述栅导电层包括沿第二方向延伸的多条第二电压信号副线，所述多条第二电压信号副线与所述第二电压信号主线电连接；所述多条第二电压信号副线被配置为，为与所述第一电压信号线有重叠的像素电路传输第二电压信号；

其中，所述多条第一电压信号线被配置为传输所述第一电压信号；所述第一电压信号传输结构还包括所述多条第一电压信号线。

14.根据权利要求13所述的显示基板，其中，所述多条第二电压信号主线中的每相邻两个第二电压信号主线之间设置有至少一条第一电压信号线，和/或，每相邻两个第一电压信号线之间设置有至少一条第二电压信号主线。

15.根据权利要求13或14所述的显示基板，其中，所述显示基板还包括设置于所述第二源漏导电层远离所述衬底一侧的至少一层透明导电层和至少一层平坦化层，至少一层透明导电层中的至少一层透明导电层为选定透明导电层，所述选定透明导电层的第一图案与所述多条第一电压信号线在所述周边区电连接。

16.根据权利要求1～15中任一项所述的显示基板，其中，还包括：

设置于所述衬底一侧的遮光层；

设置于所述遮光层远离所述衬底一侧的多个像素电路，所述多个像素电路中的每个像素电路包括驱动晶体管；

其中，所述遮光层包括多个遮光图案，每个像素电路的驱动晶体管在所述衬底上的正投影在一个遮光图案在所述衬底上的正投影内；所述多个遮光图案彼此连接；

所述遮光层被配置为传输第一电压信号，所述第一电压信号传输结构还包括所述遮光层。

17.根据权利要求1所述的显示基板，其中，包括自所述衬底依次设置的第一源漏导电层和第二源漏导电层；

所述第一电压信号传输结构的第二部分包括第一电压信号总线，所述第一部分包括多条第一电压信号子线；

所述第一电压信号总线位于所述第一源漏导电层内，和/或位于所述第二源漏导电层；

所述第一电压信号总线在垂直于其延伸方向的方向上的尺寸为5μm～20μm。

18.一种显示装置，其中，包括如权利要求1～16所述的显示基板。

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