CN115179401A - 一种喷涂均匀的用于青瓷加工全方位青瓷釉料喷涂设备 - Google Patents

一种喷涂均匀的用于青瓷加工全方位青瓷釉料喷涂设备 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种喷涂均匀的用于青瓷加工全方位青瓷釉料喷涂设备，包括底座，所述底座的顶部设有壳体，所述壳体一侧设有釉料箱，所述釉料箱内设有釉料，所述釉料箱的内底部设有增压装置，所述壳体内底部设有外部喷涂机构，所述壳体内顶部设有升降气缸，所述升降气缸的底部输出端设有内部喷涂机构，所述内部喷涂机构包括与所述升降气缸输出端连接固定的固定座。有益效果：需要对大型青瓷制品的内部进行喷釉处理时，可以通过内部喷涂机构对大型青瓷制品内部进行喷釉，即，可以根据青瓷制品的内径尺寸，来调节调节板的外展距离，进而使得调节板上的喷头二靠近青瓷制品的内壁，然后通过增压装置将釉料箱内部的釉料均匀喷洒出来。

Description

一种喷涂均匀的用于青瓷加工全方位青瓷釉料喷涂设备
技术领域
本发明涉及青瓷加工技术领域，具体来说，涉及一种喷涂均匀的用于青瓷加工全方位青瓷釉料喷涂设备。
背景技术
喷釉工艺是陶瓷器制作工艺技术的一种，是指在成型的陶瓷坯体表面施以釉浆的过程，目前，陶瓷的喷釉工艺过程分为人工喷釉和机械自动化喷釉两种，全自动陶瓷喷釉机是用于陶瓷制品表面喷涂釉层的设备，机器内部设置有摆放陶瓷制品的回转平台和自动喷料装置，陶瓷制品随着回转平台旋转过程中，由自动喷料装置向陶瓷制品表面均匀喷涂釉料，完成喷釉工艺。
现有青瓷制品的喷釉工艺中，在喷釉过程中，当青瓷制品随旋转平台旋转的时候，旋转平台上的部件会对青瓷制品的喷涂范围造成遮挡，进而在进行喷涂釉料时，不能够对遮挡位置很好的喷涂，这就导致青瓷制品部分位置施釉不全面，且现有的喷釉设备，不能够针对不同大小的青瓷制品进行喷釉工作。
针对相关技术中的问题，目前尚未提出有效的解决方案。
发明内容
针对相关技术中的问题，本发明提出一种喷涂均匀的用于青瓷加工全方位青瓷釉料喷涂设备，以克服现有相关技术所存在的上述技术问题。
为此，本发明采用的具体技术方案如下：
一种喷涂均匀的用于青瓷加工全方位青瓷釉料喷涂设备，包括底座，所述底座的顶部设有壳体，所述壳体一侧设有釉料箱，所述釉料箱内设有釉料，所述釉料箱的内底部设有增压装置，所述壳体内底部设有外部喷涂机构，所述壳体内顶部设有升降气缸，所述升降气缸的底部输出端设有内部喷涂机构，所述内部喷涂机构包括与所述升降气缸输出端连接固定的固定座，所述固定座的侧边通过若干个U形杆与固定筒连接固定，所述固定筒的内部设有电机与连通管，所述电机的顶部输出端设有丝杆，所述丝杆的顶端贯穿至所述固定座内部与轴杆支撑座连接固定，所述丝杆上套设有移动块，所述移动块外表面设有若干个主动连接杆，所述连通管的侧边顶部设有输入软管，所述输入软管的另一端贯穿至所述釉料箱内部与所述增压装置连接贯通，所述固定筒的外表面设有若干组从动连接杆，所述从动连接杆的另一端与调节板连接固定，若干个所述主动连接杆的另一端与若干个所述调节板的侧边顶部活动连接，所述调节板内部设有流动腔，所述输出软管的另一端贯穿至所述调节板内部与所述流动腔连接贯通，所述调节板的外表面设有若干个与所述流动腔连接贯通的喷头二，所述釉料箱一侧设有输料支管，所述输料支管一端贯穿至所述釉料箱内部与所述增压装置连接贯通，所述输料支管的另一端设有手持输料管，所述手持输料管的另一端设有喷头三。
作为优选，所述外部喷涂结构包括位于所述底座内顶部的内腔，所述内腔的顶部中心处设有开口一，所述内腔的顶部中心处且位于所述开口一的外侧对称设有四个开口二，所述开口一内设有支撑块，所述支撑块左右两侧均设有一组电动伸缩杆，所述电动伸缩杆的输出端与承重杆连接，所述承重杆的中部设有连接件，所述支撑块的顶部中心处设有支撑轴，所述支撑轴的顶部贯穿至所述底座的上方套设有转动盘，所述转动盘的顶部设有放置座。
作为优选，四个所述开口二内设有两个对称设置的左右滑动块与两个对称设置的前后滑动块，两个所述左右滑动块与两个所述前后滑动块垂直设置，两个所述连接件的顶端与两个所述左右滑动块的底部连接固定，两个所述左右滑动块与两个所述前后滑动块四者均通过曲形连接杆与所述转动盘的底部活动连接，两个所述左右滑动块与两个所述前后滑动块四者的顶部分别设有一个固定管，所述固定管的侧边设有若干个喷头一，所述固定管的顶部设有输料管一，所述输料管一的顶端贯穿至所述釉料箱内部与所述增压装置连接贯通。
作为优选，所述增压装置包括增压泵与输出总管，所述输料管一、所述输入软管以及所述输料支管三者均与所述输出总管连接贯通，且三者的连接端均设有电磁阀。
作为优选，所述固定座的侧边设有与所述输入软管相配合的束缚带，每组所述从动连接杆均为两个。
作为优选，所述壳体上观察窗，所述壳体一侧底部设有进出口，所述进出口内设有开关门，所述放置座顶部设有弹性摩擦垫，所述弹性摩擦垫上设有若干个防滑颗粒。
作为优选，所述底座外表面设有控制开关，所述电动伸缩安、所述升降气缸、所述电机、所述底座内部设有蓄电池、控制器，所述控制开关、所述蓄电池均与所述控制器电性连接。
本发明的有益效果为：当需要对青瓷制品的外表面进行喷釉处理时，可以通过外部喷涂机构对青瓷制品的外表面进行喷釉，调节两个左右滑动块与两个前后滑动块四者的位置，使得两个左右滑动块与两个前后滑动块四者可以同时靠近放置座或者同时远离放置座，进而带动将四个输料管与喷头一与不同尺寸的青瓷制品相适配，进而可以通过若干个喷头一进行釉料输出，将釉料喷洒在青瓷制品的外表面；
当需要对大型青瓷制品的内部进行喷釉处理时，可以通过内部喷涂机构对大型青瓷制品内部进行喷釉，即，可以根据青瓷制品的内径尺寸，来调节调节板的外展距离，进而使得调节板上的喷头二靠近青瓷制品的内壁，然后通过增压装置将釉料箱内部的釉料均匀喷洒出来；
当需要对小型青瓷制品的内部进行喷釉处理时，将小型青瓷制品放置在底座的顶部，然后，握住手持输料管，将喷头三深入至小型青瓷制品的内部，然后，通过增压装置将釉料均匀喷洒至小型青瓷制品的内部；
可以通过控制电动伸缩杆的收缩速度，来调节转动盘与放置座的旋转速度，进而达到青瓷制品稳定在放置座上的目的，提高青瓷制品的稳定性。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是根据本发明实施例的一种喷涂均匀的用于青瓷加工全方位青瓷釉料喷涂设备的总结构示意图；
图2是根据本发明实施例的一种喷涂均匀的用于青瓷加工全方位青瓷釉料喷涂设备的局部内部结构示意图；
图3是根据本发明实施例的一种喷涂均匀的用于青瓷加工全方位青瓷釉料喷涂设备的内部结构示意图；
图4是根据本发明实施例的一种喷涂均匀的用于青瓷加工全方位青瓷釉料喷涂设备的外部喷涂机构局部结构示意图；
图5是根据本发明实施例的一种喷涂均匀的用于青瓷加工全方位青瓷釉料喷涂设备的内部喷涂机构结构示意图；
图6是根据本发明实施例的一种喷涂均匀的用于青瓷加工全方位青瓷釉料喷涂设备的内部喷涂机构局部结构示意图一；
图7是根据本发明实施例的一种喷涂均匀的用于青瓷加工全方位青瓷釉料喷涂设备的内部喷涂机构局部结构示意图二。
图中：
1、底座；2、壳体；3、釉料箱；4、内腔；5、开口一；6、开口二；7、支撑块；8、电动伸缩杆；9、承重杆；10、连接件；11、左右滑动块；12、前后滑动块；13、曲形连接杆；14、支撑轴；15、转动盘；16、放置座；17、固定管；18、喷头一；19、输料管一；20、升降气缸；21、固定座；22、固定筒；23、U形杆；24、电机；25、丝杆；26、移动块；27、主动连接杆；28、调节板；29、从动连接杆；30、连通管；31、输出软管；32、喷头二；33、输入软管；34、束缚带；35、输料支管；36、手持输料管；37、喷头三；38、；39、。
具体实施方式
为进一步说明各实施例，本发明提供有附图，这些附图为本发明揭露内容的一部分，其主要用以说明实施例，并可配合说明书的相关描述来解释实施例的运作原理，配合参考这些内容，本领域普通技术人员应能理解其他可能的实施方式以及本发明的优点，图中的组件并未按比例绘制，而类似的组件符号通常用来表示类似的组件。
根据本发明的实施例，提供了一种喷涂均匀的用于青瓷加工全方位青瓷釉料喷涂设备。
实施例一，如图1-7所示，根据本发明实施例的一种喷涂均匀的用于青瓷加工全方位青瓷釉料喷涂设备，包括底座1，所述底座1的顶部设有壳体2，所述壳体2一侧设有釉料箱3，所述釉料箱3内设有釉料，所述釉料箱3的内底部设有增压装置，所述壳体2内底部设有外部喷涂机构，所述壳体2内顶部设有升降气缸20，所述升降气缸20的底部输出端设有内部喷涂机构，所述内部喷涂机构包括与所述升降气缸20输出端连接固定的固定座21，所述固定座21的侧边通过若干个U形杆23与固定筒22连接固定，所述固定筒22的内部设有电机24与连通管30，所述电机24的顶部输出端设有丝杆25，所述丝杆25的顶端贯穿至所述固定座21内部与轴杆支撑座连接固定，所述丝杆25上套设有移动块26，所述移动块26外表面设有若干个主动连接杆27，所述连通管30的侧边顶部设有输入软管33，所述输入软管33的另一端贯穿至所述釉料箱3内部与所述增压装置连接贯通，所述固定筒22的外表面设有若干组从动连接杆29，所述从动连接杆29的另一端与调节板28连接固定，若干个所述主动连接杆27的另一端与若干个所述调节板28的侧边顶部活动连接，所述调节板28内部设有流动腔，所述输出软管31的另一端贯穿至所述调节板28内部与所述流动腔连接贯通，所述调节板28的外表面设有若干个与所述流动腔连接贯通的喷头二32，所述釉料箱3一侧设有输料支管35，所述输料支管35一端贯穿至所述釉料箱3内部与所述增压装置连接贯通，所述输料支管35的另一端设有手持输料管36，所述手持输料管36的另一端设有喷头三37。
实施例二，如图1-7所示，包括底座1，所述底座1的顶部设有壳体2，所述壳体2一侧设有釉料箱3，所述釉料箱3内设有釉料，所述釉料箱3的内底部设有增压装置，所述壳体2内底部设有外部喷涂机构，所述壳体2内顶部设有升降气缸20，所述升降气缸20的底部输出端设有内部喷涂机构，所述内部喷涂机构包括与所述升降气缸20输出端连接固定的固定座21，所述固定座21的侧边通过若干个U形杆23与固定筒22连接固定，所述固定筒22的内部设有电机24与连通管30，所述电机24的顶部输出端设有丝杆25，所述丝杆25的顶端贯穿至所述固定座21内部与轴杆支撑座连接固定，所述丝杆25上套设有移动块26，所述移动块26外表面设有若干个主动连接杆27，所述连通管30的侧边顶部设有输入软管33，所述输入软管33的另一端贯穿至所述釉料箱3内部与所述增压装置连接贯通，所述固定筒22的外表面设有若干组从动连接杆29，所述从动连接杆29的另一端与调节板28连接固定，若干个所述主动连接杆27的另一端与若干个所述调节板28的侧边顶部活动连接，所述调节板28内部设有流动腔，所述输出软管31的另一端贯穿至所述调节板28内部与所述流动腔连接贯通，所述调节板28的外表面设有若干个与所述流动腔连接贯通的喷头二32，所述釉料箱3一侧设有输料支管35，所述输料支管35一端贯穿至所述釉料箱3内部与所述增压装置连接贯通，所述输料支管35的另一端设有手持输料管36，所述手持输料管36的另一端设有喷头三37，所述外部喷涂结构包括位于所述底座1内顶部的内腔4，所述内腔4的顶部中心处设有开口一5，所述内腔4的顶部中心处且位于所述开口一5的外侧对称设有四个开口二6，所述开口一5内设有支撑块7，所述支撑块7左右两侧均设有一组电动伸缩杆8，所述电动伸缩杆8的输出端与承重杆9连接，所述承重杆9的中部设有连接件10，所述支撑块7的顶部中心处设有支撑轴14，所述支撑轴14的顶部贯穿至所述底座1的上方套设有转动盘15，所述转动盘15的顶部设有放置座16，四个所述开口二6内设有两个对称设置的左右滑动块11与两个对称设置的前后滑动块12，两个所述左右滑动块11与两个所述前后滑动块12垂直设置，两个所述连接件10的顶端与两个所述左右滑动块11的底部连接固定，两个所述左右滑动块11与两个所述前后滑动块12四者均通过曲形连接杆13与所述转动盘15的底部活动连接，两个所述左右滑动块11与两个所述前后滑动块12四者的顶部分别设有一个固定管17，所述固定管17的侧边设有若干个喷头一18，所述固定管17的顶部设有输料管一19，所述输料管一19的顶端贯穿至所述釉料箱3内部与所述增压装置连接贯通。从上述的设计不难看出，通过外部喷涂机构的设计，可以通过外部喷涂机构对青瓷制品的外表面进行喷釉，调节两个左右滑动块11与两个前后滑动块12四者的位置，使得两个左右滑动块11与两个前后滑动块12四者可以同时靠近放置座16或者同时远离放置座16，进而带动将四个输料管17与喷头一18与不同尺寸的青瓷制品相适配，进而可以通过若干个喷头一18进行釉料输出，将釉料喷洒在青瓷制品的外表面。
实施例三，如图1-7所示，包括底座1，所述底座1的顶部设有壳体2，所述壳体2一侧设有釉料箱3，所述釉料箱3内设有釉料，所述釉料箱3的内底部设有增压装置，所述壳体2内底部设有外部喷涂机构，所述壳体2内顶部设有升降气缸20，所述升降气缸20的底部输出端设有内部喷涂机构，所述内部喷涂机构包括与所述升降气缸20输出端连接固定的固定座21，所述固定座21的侧边通过若干个U形杆23与固定筒22连接固定，所述固定筒22的内部设有电机24与连通管30，所述电机24的顶部输出端设有丝杆25，所述丝杆25的顶端贯穿至所述固定座21内部与轴杆支撑座连接固定，所述丝杆25上套设有移动块26，所述移动块26外表面设有若干个主动连接杆27，所述连通管30的侧边顶部设有输入软管33，所述输入软管33的另一端贯穿至所述釉料箱3内部与所述增压装置连接贯通，所述固定筒22的外表面设有若干组从动连接杆29，所述从动连接杆29的另一端与调节板28连接固定，若干个所述主动连接杆27的另一端与若干个所述调节板28的侧边顶部活动连接，所述调节板28内部设有流动腔，所述输出软管31的另一端贯穿至所述调节板28内部与所述流动腔连接贯通，所述调节板28的外表面设有若干个与所述流动腔连接贯通的喷头二32，所述釉料箱3一侧设有输料支管35，所述输料支管35一端贯穿至所述釉料箱3内部与所述增压装置连接贯通，所述输料支管35的另一端设有手持输料管36，所述手持输料管36的另一端设有喷头三37，所述增压装置包括增压泵与输出总管，所述输料管一19、所述输入软管33以及所述输料支管35三者均与所述输出总管连接贯通，且三者的连接端均设有电磁阀，所述固定座21的侧边设有与所述输入软管33相配合的束缚带34，每组所述从动连接杆29均为两个，所述壳体2上观察窗，所述壳体2一侧底部设有进出口，所述进出口内设有开关门，所述放置座16顶部设有弹性摩擦垫，所述弹性摩擦垫上设有若干个防滑颗粒，所述底座1外表面设有控制开关，所述电动伸缩安8、所述升降气缸17、所述电机24、所述底座1内部设有蓄电池、控制器，所述控制开关、所述蓄电池均与所述控制器电性连接。从上述的设计不难看出，通过弹性摩擦垫与摩擦颗粒的设计，从而可以提高放置座16与青瓷制品之间的摩擦力，提高青瓷产品的稳定性。
综上所述，借助于本发明的上述技术方案，首先，将青瓷制品放置到壳体2内部的放置座16上，然后对青瓷制品进行喷釉处理；
当需要对青瓷制品的外表面进行喷釉处理时，首先，通过控制开关启动电动伸缩杆8，支撑块7两侧的电动伸缩杆8收缩进而带动两侧的连接杆9与连接件10同时向支撑块7的方向移动，连接件10在移动时带动两侧的左右滑动块11同时向支撑块7的方向移动，两个左右滑动块11在移动的同时会带动曲形连接杆13一端移动，而两个曲形连接杆13的另一端则会同时推动转动盘15的两侧，进而使得转动盘15可以以支撑轴14为支点进行旋转，转动盘15旋转的同时会带动另外两侧曲形连接杆13移动，另外两侧曲形连接杆13则会拉动两个前后滑动块12同时向转动盘15的方向移动，进而使得电动伸缩杆8收缩时，两个左右滑动块11与两个前后滑动块12四者同时向转动盘15靠近，电动伸缩杆8伸展时，两个左右滑动块11与两个前后滑动块12四者同时远离转动盘15，且两种运动与转动盘15的旋转同时进行，进而形成两个左右滑动块11与两个前后滑动块12四者带动各自顶部的输料管17与喷头一18靠近青瓷制品，喷头一18进行釉料输出，将釉料喷洒在青瓷制品的外表面；
当需要对大型青瓷制品的内部进行喷釉处理时，首先，将大型的青瓷制品放置在放置座16上，然后通过控制开关启动升降气缸20，升降气缸20带动内部喷涂机构下降到青瓷制品内部，然后，通过青瓷制品的内径尺寸，展开内部喷涂机构来调节调节板28的外展距离，即，启动电机24，电机24带动丝杆25旋转，丝杆25对移动块26螺纹作用，在加上主动连接杆27的旋转限位，进而使得移动块26可以沿着丝杆25下降，随着移动块26的下降，主动连接杆27则逐渐从倾斜状态转变成水平状态，在主动连接杆27转变状态的过程中，主动连接杆27会推动调节板28向固定筒22的外侧移动(可根据青瓷制品的口径来调节调节板28向外侧伸展的距离)，使得调节板28上的喷头二32靠近青瓷制品的内壁，然后通过增压装置将釉料箱3内部的釉料均匀喷洒出来；
当需要对小型青瓷制品的内部进行喷釉处理时，将小型青瓷制品放置在底座1的顶部，然后，握住手持输料管36，将喷头三37深入至小型青瓷制品的内部，然后，通过增压装置将釉料均匀喷洒至小型青瓷制品的内部。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种喷涂均匀的用于青瓷加工全方位青瓷釉料喷涂设备，包括底座(1)，所述底座(1)的顶部设有壳体(2)，所述壳体(2)一侧设有釉料箱(3)，所述釉料箱(3)内设有釉料，所述釉料箱(3)的内底部设有增压装置，其特征在于，所述壳体(2)内底部设有外部喷涂机构，所述壳体(2)内顶部设有升降气缸(20)，所述升降气缸(20)的底部输出端设有内部喷涂机构，所述内部喷涂机构包括与所述升降气缸(20)输出端连接固定的固定座(21)，所述固定座(21)的侧边通过若干个U形杆(23)与固定筒(22)连接固定，所述固定筒(22)的内部设有电机(24)与连通管(30)，所述电机(24)的顶部输出端设有丝杆(25)，所述丝杆(25)的顶端贯穿至所述固定座(21)内部与轴杆支撑座连接固定，所述丝杆(25)上套设有移动块(26)，所述移动块(26)外表面设有若干个主动连接杆(27)，所述连通管(30)的侧边顶部设有输入软管(33)，所述输入软管(33)的另一端贯穿至所述釉料箱(3)内部与所述增压装置连接贯通，所述固定筒(22)的外表面设有若干组从动连接杆(29)，所述从动连接杆(29)的另一端与调节板(28)连接固定，若干个所述主动连接杆(27)的另一端与若干个所述调节板(28)的侧边顶部活动连接，所述调节板(28)内部设有流动腔，所述输出软管(31)的另一端贯穿至所述调节板(28)内部与所述流动腔连接贯通，所述调节板(28)的外表面设有若干个与所述流动腔连接贯通的喷头二(32)，所述釉料箱(3)一侧设有输料支管(35)，所述输料支管(35)一端贯穿至所述釉料箱(3)内部与所述增压装置连接贯通，所述输料支管(35)的另一端设有手持输料管(36)，所述手持输料管(36)的另一端设有喷头三(37)。
2.根据权利要求1所述的一种喷涂均匀的用于青瓷加工全方位青瓷釉料喷涂设备，其特征在于，所述外部喷涂结构包括位于所述底座(1)内顶部的内腔(4)，所述内腔(4)的顶部中心处设有开口一(5)，所述内腔(4)的顶部中心处且位于所述开口一(5)的外侧对称设有四个开口二(6)，所述开口一(5)内设有支撑块(7)，所述支撑块(7)左右两侧均设有一组电动伸缩杆(8)，所述电动伸缩杆(8)的输出端与承重杆(9)连接，所述承重杆(9)的中部设有连接件(10)，所述支撑块(7)的顶部中心处设有支撑轴(14)，所述支撑轴(14)的顶部贯穿至所述底座(1)的上方套设有转动盘(15)，所述转动盘(15)的顶部设有放置座(16)。
3.根据权利要求2所述的一种喷涂均匀的用于青瓷加工全方位青瓷釉料喷涂设备，其特征在于，四个所述开口二(6)内设有两个对称设置的左右滑动块(11)与两个对称设置的前后滑动块(12)，两个所述左右滑动块(11)与两个所述前后滑动块(12)垂直设置，两个所述连接件(10)的顶端与两个所述左右滑动块(11)的底部连接固定，两个所述左右滑动块(11)与两个所述前后滑动块(12)四者均通过曲形连接杆(13)与所述转动盘(15)的底部活动连接，两个所述左右滑动块(11)与两个所述前后滑动块(12)四者的顶部分别设有一个固定管(17)，所述固定管(17)的侧边设有若干个喷头一(18)，所述固定管(17)的顶部设有输料管一(19)，所述输料管一(19)的顶端贯穿至所述釉料箱(3)内部与所述增压装置连接贯通。
4.根据权利要求3所述的一种喷涂均匀的用于青瓷加工全方位青瓷釉料喷涂设备，其特征在于，所述增压装置包括增压泵与输出总管，所述输料管一(19)、所述输入软管(33)以及所述输料支管(35)三者均与所述输出总管连接贯通，且三者的连接端均设有电磁阀。
5.根据权利要求4所述的一种喷涂均匀的用于青瓷加工全方位青瓷釉料喷涂设备，其特征在于，所述固定座(21)的侧边设有与所述输入软管(33)相配合的束缚带(34)，每组所述从动连接杆(29)均为两个。
6.根据权利要求5所述的一种喷涂均匀的用于青瓷加工全方位青瓷釉料喷涂设备，其特征在于，所述壳体(2)上观察窗，所述壳体(2)一侧底部设有进出口，所述进出口内设有开关门，所述放置座(16)顶部设有弹性摩擦垫，所述弹性摩擦垫上设有若干个防滑颗粒。
7.根据权利要求6所述的一种喷涂均匀的用于青瓷加工全方位青瓷釉料喷涂设备，其特征在于，所述底座(1)外表面设有控制开关，所述电动伸缩安(8)、所述升降气缸(17)、所述电机(24)、所述底座(1)内部设有蓄电池、控制器，所述控制开关、所述蓄电池均与所述控制器电性连接。
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