CN115094499B - 一种熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层的方法 - Google Patents

一种熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN115094499B
CN115094499B CN202210784655.7A CN202210784655A CN115094499B CN 115094499 B CN115094499 B CN 115094499B CN 202210784655 A CN202210784655 A CN 202210784655A CN 115094499 B CN115094499 B CN 115094499B
Authority
CN
China
Prior art keywords
tib
salt
composite coating
naf
alf
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202210784655.7A
Other languages
English (en)
Other versions
CN115094499A (zh
Inventor
寇倩
肖赛君
齐文娟
王平
葛纯涛
庞杰
章俊
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Anhui University of Technology AHUT
Original Assignee
Anhui University of Technology AHUT
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Anhui University of Technology AHUT filed Critical Anhui University of Technology AHUT
Priority to CN202210784655.7A priority Critical patent/CN115094499B/zh
Publication of CN115094499A publication Critical patent/CN115094499A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN115094499B publication Critical patent/CN115094499B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D13/00Electrophoretic coating characterised by the process
    • C25D13/02Electrophoretic coating characterised by the process with inorganic material

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Carbon And Carbon Compounds (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)

Abstract

本发明涉及复合涂层制备技术领域,具体涉及一种熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层的方法,制备含TiB2‑X纳米复合粉末的固体混合盐,将NaF与AlF3盐、纳米TiB2以及纳米颗粒X按比例混合后加入球磨罐中,球磨后经真空加热处理后冷却到常温即得含TiB2‑X纳米复合粉末的固体混合盐;将NaF与AlF3盐装入石墨坩埚中加热到熔融状态后,将所制备的含TiB2‑X纳米复合粉末的固体混合盐加入NaF‑AlF3熔盐中,稳定后,将石墨和待沉积基体材料插入石墨坩埚中,施加一定电场强度,电泳沉积一段时间后,即可得TiB2基复合涂层,巧妙的利用两种纳米颗粒同时电泳沉积来制备复合涂层,不仅保留了熔盐电泳沉积制备涂层工艺的优点,同时所制备的TiB2基复合涂层致密度高、组织成分分布均匀且性能稳定。

Description

一种熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层的方法
技术领域
本发明涉及复合涂层制备技术领域,具体涉及一种熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层的方法。
背景技术
TiB2具有熔点高、硬度大、耐强酸抗高温氧化能力强,耐液态金属腐蚀能力强,同时导电和导热性能良好等特征,使其在很多恶劣环境下具有巨大的应用优势。但是,由于TiB2脆性大、韧性差且抗弯性能差等原因,纯TiB2涂层的应用受到了限制,为此,人们开发了TiB2-TiC、TiB2-Mo与TiB2-TiN等TiB2基复合涂层,这种TiB2基复合涂层,不仅硬度高、熔点高、且具有良好的耐蚀性、耐热性、耐磨性及导电导热性,所以广泛应用于机床零件、刀具材料、隔热防护体系、航天飞机的动力系统、轻质军用材料等领域。
TiB2基复合涂层主要采用等离子体喷涂与激光熔覆等方法制备。这些方法制备复合涂层具有高的沉积效率,但制备的复合涂层一般由部分熔化或未熔化的颗粒组成,呈现出疏松多孔的微观结构,容易导致复合涂层成分与组织结构不均匀,孔隙度高,致密度低,且容易氧化等问题,严重影响TiB2基复合涂层的性能。
鉴于上述缺陷,本发明创作者经过长时间的研究和实践终于获得了本发明。
发明内容
本发明的目的在于解决现有方法制备得到的TiB2基复合涂层成分分布不均匀、孔隙度高且存在氧化等影响涂层性能的问题,提供了一种熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层的方法。
为了实现上述目的,本发明公开了一种熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层的方法,包括以下步骤:
S1:制备含TiB2-X纳米复合粉末的固体混合盐
将NaF与AlF3盐、纳米TiB2以及纳米颗粒X按比例混合得混合粉末,球磨,在氩气气氛下取出球磨后的混合粉末,干燥保温,冷却到常温后即得含TiB2-X纳米复合粉末的固体混合盐;
S2:NaF-AlF3熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层
将NaF与AlF3盐,在惰性气体保护的电阻炉中加热熔融,将步骤S1中制得的含TiB2-X纳米复合粉末的固体混合盐加入NaF-AlF3熔盐中,形成含TiB2-X纳米复合粉的NaF-AlF3熔盐,稳定后,将石墨和待沉积基体材料插入熔盐中,施加电场,电泳沉积后即可得到致密TiB2基复合涂层。
所述步骤S1中NaF与AlF3盐的摩尔比为1.2~2:1。
所述步骤S1中纳米颗粒X为Mo、Fe、TiC、ZrO2和TiN中的任意一种,所述纳米TiB2和纳米颗粒X的平均粒径为50~100nm。
所述步骤S1中TiB2与纳米颗粒X的重量比为3~10:1,纳米TiB2和纳米颗粒X的总重量为NaF与AlF3盐总重量的40~60%。
所述步骤S1中球磨时磨球和混合粉末的质量比为20~30:1,球磨转速为500~800rpm,球磨时间为5~10h。
所述步骤S1中干燥在真空下进行,真空度为40Pa,干燥和保温温度为120℃,保温时间为1h。
所述步骤S2中NaF与AlF3盐的摩尔比为1.2~2:1,熔融的温度为950~1000℃
所述步骤S2中含TiB2-X纳米复合粉的NaF-AlF3熔盐中TiB2-X纳米复合粉的含量为20~200g/L。
所述步骤S2中施加电场的强度为0.3~0.8V/cm,电泳沉积时间为20~120min。
所述步骤S2中待沉积基体材料包括石墨、不锈钢、金属钼和金属钛中的任意一种。
发明实现的基本原理是:在高温NaF-AlF3熔盐中,均匀分散的纳米TiB2以及另外一种纳米颗粒X在电场的作用下同时发生电泳迁移,在作为负极的基体材料上同时沉积得到TiB2基复合涂层。由于高温熔盐提供了无氧环境,且两种物质的尺寸均为纳米级且均匀分散同时电泳沉积,可在基体材料上得到成分均匀、致密度高且结合力强的复合涂层。
与现有技术比较本发明的有益效果在于:
1、本发明采用熔盐电泳沉积工艺制备复合涂层,该方法制备的涂层致密度非常高,接近100%,另外设备成本低,工艺流程短且操作方便,在复杂形状的基体上也能形成涂层;
2、本发明采用的介质为氟化物熔盐,可提供无氧环境,所得TiB2基复合涂层不会被氧化,纯度高,杂质含量非常少;
3、本发明采用纳米级的原料,在保证两种纳米颗粒在熔盐中均匀分布的同时,两种纳米颗粒同时发生电泳沉积,可确保TiB2基复合涂层组织成分的均匀性,从而保证复合涂层性能的均匀性。
附图说明
图1为熔盐中电泳共沉积制备的石墨基体上TiB2-ZrO2复合涂层的XRD图;
图2为熔盐中电泳共沉积制备的石墨基体上TiB2-ZrO2复合涂层的表面SEM图;
图3为熔盐中电泳共沉积制备的石墨基体上TiB2-ZrO2复合涂层的断面SEM图;
图4为熔盐中电泳共沉积制备的石墨基体上TiB2-ZrO2复合涂层的截面SEM图(高倍);
图5为熔盐中电泳共沉积制备的石墨基体上TiB2-Mo复合涂层的XRD图;
图6为熔盐中电泳共沉积制备的石墨基体上TiB2-Mo复合涂层的表面SEM图;
图7为熔盐中电泳共沉积制备的石墨基体上TiB2-Mo复合涂层的截面SEM图;
图8为对比例熔盐中电泳共沉积制备的石墨基体上TiB2-Mo复合涂层的表面SEM图。
具体实施方式
以下结合附图,对本发明上述的和另外的技术特征和优点作更详细的说明。
实施例1
将摩尔比为3:2的NaF和AlF3充分混合,再将重量比为5:1的纳米TiB2与纳米ZrO2混合物加入NaF和AlF3混合盐中,纳米TiB2(平均粒径50nm)和纳米颗粒ZrO2(平均粒径60nm)的总重量为NaF与AlF3盐总重量的45%,一起放入行星式球磨机内球磨罐中,磨球与混合物的质量比为25:1,球磨机转速为700rpm,球磨6h。在氩气气氛下取出球磨后的混合粉末后,将混合粉末放入真空度为40Pa的真空干燥箱内,加热到120℃后保温1h,冷却到常温后即得含TiB2-ZrO2纳米复合粉末的固体混合盐;将摩尔比为3:2的NaF和AlF3无机盐混匀加入石墨坩埚中,在高纯氩气保护下,在温度为960℃的电阻炉内进行熔融,完全熔融之后,将制备得到的含TiB2-ZrO2纳米复合粉末的固体混合盐装入石墨坩埚中,确保最终制备得到的NaF-AlF3熔盐中纳米TiB2-ZrO2浓度为50g/L;完全熔融并稳定12min后,插入石墨正极和待沉积的石墨负极,施加0.5V/cm的电场强度,电泳沉积35min后,即可得厚度为12μm的致密TiB2-ZrO2复合涂层。
图1为熔盐中电泳共沉积制备的石墨基体上TiB2-ZrO2复合涂层的XRD图,表明涂层中同时含有TiB2和ZrO2。图2为熔盐中电泳共沉积制备的石墨基体上TiB2-ZrO2复合涂层的表面SEM图,图3为熔盐中电泳共沉积制备的石墨基体上TiB2-ZrO2复合涂层的断面SEM图,图4为熔盐中电泳共沉积制备的石墨基体上TiB2-ZrO2复合涂层的截面SEM图(高倍),从图2到图4可知,所制备的TiB2-ZrO2复合涂层表面和截面致密,且从宏观看,涂层厚度基本相同,表面非常平整。
实施例2
将摩尔比为2:1的NaF和AlF3充分混合,再将重量比为7:1的纳米TiB2与纳米Mo混合物加入NaF和AlF3混合盐中,纳米TiB2(平均粒径50nm)和纳米颗粒Mo(平均粒径80nm)的总重量为NaF与AlF3盐总重量的50%,一起放入行星式球磨机内球磨罐中,磨球与混合物的质量比为23:1,球磨机转速为670rpm,球磨8h。在氩气气氛下取出球磨后的混合粉末后,将混合粉末放入真空度为40Pa的真空干燥箱内,加热到120℃后保温1h,冷却到常温后即得含TiB2-Mo纳米复合粉末的固体混合盐;将摩尔比为2:1的NaF和AlF3无机盐混匀加入石墨坩埚中,在高纯氩气保护下,在温度为970℃的电阻炉内进行熔融,完全熔融之后,将制备得到的含TiB2-Mo纳米复合粉末的固体混合盐装入石墨坩埚中,确保最终制备得到的NaF-AlF3熔盐中纳米TiB2-Mo浓度为60g/L;完全熔融并稳定10min后,插入石墨正极和待沉积的石墨负极,施加0.3V/cm的电场强度,电泳沉积20min后,即可得厚度为3μm的致密TiB2-Mo复合涂层。
图5为熔盐中电泳共沉积制备的石墨基体上TiB2-Mo复合涂层的XRD图,表明涂层中同时含有TiB2和Mo。图6为熔盐中电泳共沉积制备的石墨基体上TiB2-Mo复合涂层的表面SEM图,图7为熔盐中电泳共沉积制备的石墨基体上TiB2-Mo复合涂层的截面SEM图,从图6和图7可知,所制备的TiB2-Mo复合涂层表面和截面致密,且涂层表面比较平整。
实施例3
将摩尔比为4:3的NaF和AlF3充分混合,再将重量比为6:1的纳米TiB2与纳米TiC混合物加入NaF和AlF3混合盐中,纳米TiB2(平均粒径50nm)和纳米颗粒TiC(平均粒径50nm)的总重量为NaF与AlF3盐总重量的48%,一起放入行星式球磨机内球磨罐中,磨球与混合物的质量比为26:1,球磨机转速为700rpm,球磨8h。在氩气气氛下取出球磨后的混合粉末后,将混合粉末放入真空度为40Pa的真空干燥箱内,加热到120℃后保温1h,冷却到常温后即得含TiB2-TiC纳米复合粉末的固体混合盐;将摩尔比为4:3的NaF和AlF3无机盐混匀加入石墨坩埚中,在高纯氩气保护下,在温度为980℃的电阻炉内进行熔融,完全熔融之后,将制备得到的含TiB2-TiC纳米复合粉末的固体混合盐装入石墨坩埚中,确保最终制备得到的NaF-AlF3熔盐中纳米TiB2-TiC浓度为40g/L;完全熔融并稳定15min后,插入石墨正极和待沉积的石墨负极,施加0.7V/cm的电场强度,电泳沉积60min后,即可得厚度为45μm的致密TiB2-TiC复合涂层。
对比例
本对比例中制备得到的TiB2-Mo复合涂层制备条件中NaF与AlF3盐的摩尔比为3:1,其他条件以及步骤与实施例2均相同,图8为本对比例制备得到的TiB2-Mo复合涂层SEM图,由图可以看出,本对比例制得的TiB2-Mo复合涂层表面疏松。
以上所述仅为本发明的较佳实施例,对本发明而言仅仅是说明性的,而非限制性的。本专业技术人员理解,在本发明权利要求所限定的精神和范围内可对其进行许多改变,修改,甚至等效,但都将落入本发明的保护范围内。

Claims (8)

1.一种熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层的方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1:制备含TiB2-X纳米复合粉末的固体混合盐
将NaF与AlF3盐、纳米TiB2以及纳米颗粒X按比例混合得混合粉末,球磨,在氩气气氛下取出球磨后的混合粉末,干燥保温,冷却到常温后即得含TiB2-X纳米复合粉末的固体混合盐;
S2:NaF-AlF3熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层
将NaF与AlF3盐,在惰性气体保护的电阻炉中加热熔融,将步骤S1中制得的含TiB2-X纳米复合粉末的固体混合盐加入NaF-AlF3熔盐中,形成含TiB2-X纳米复合粉的NaF-AlF3熔盐,稳定后,将石墨和待沉积基体材料插入熔盐中,施加电场,电泳沉积后即可得到致密TiB2基复合涂层;
所述步骤S1中纳米颗粒X为Mo、Fe、TiC、ZrO2和TiN中的任意一种,所述纳米TiB2和纳米颗粒X的平均粒径为50~100nm;
所述步骤S1中TiB2与纳米颗粒X的重量比为3~10:1;
所述步骤S1中球磨时磨球和混合粉末的质量比为20~30:1,球磨转速为500~800rpm,球磨时间为5~10h。
2.如权利要求1所述的一种熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层的方法,其特征在于,所述步骤S1中NaF与AlF3盐的摩尔比为1.2~2:1。
3.如权利要求1所述的一种熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层的方法,其特征在于,纳米TiB2和纳米颗粒X的总重量为NaF与AlF3盐总重量的40~60%。
4.如权利要求1所述的一种熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层的方法,其特征在于,所述步骤S1中干燥在真空下进行,真空度为40Pa,干燥和保温温度为120℃,保温时间为1h。
5.如权利要求1所述的一种熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层的方法,其特征在于,所述步骤S2中NaF与AlF3盐的摩尔比为1.2~2:1,熔融的温度为950~1000℃。
6.如权利要求1所述的一种熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层的方法,其特征在于,所述步骤S2中含TiB2-X纳米复合粉的NaF-AlF3熔盐中TiB2-X纳米复合粉的含量为20~200g/L。
7.如权利要求1所述的一种熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层的方法,其特征在于,所述步骤S2中待沉积基体材料为石墨、不锈钢、金属钼和金属钛中的任意一种。
8.如权利要求1所述的一种熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层的方法,其特征在于,所述步骤S2中施加电场的强度为0.3~0.8V/cm,电泳沉积时间为20~120min。
CN202210784655.7A 2022-07-05 2022-07-05 一种熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层的方法 Active CN115094499B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210784655.7A CN115094499B (zh) 2022-07-05 2022-07-05 一种熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层的方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210784655.7A CN115094499B (zh) 2022-07-05 2022-07-05 一种熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层的方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN115094499A CN115094499A (zh) 2022-09-23
CN115094499B true CN115094499B (zh) 2024-03-08

Family

ID=83295949

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202210784655.7A Active CN115094499B (zh) 2022-07-05 2022-07-05 一种熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层的方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN115094499B (zh)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3880729A (en) * 1973-10-18 1975-04-29 United Aircraft Corp Process for electrodepositing titanium diboride from fused salts
WO2011041809A1 (de) * 2009-10-06 2011-04-14 Gerhard Nauer VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON TITANDIBORID (TiB2)-SCHICHTEN AUS SCHMELZELEKTROLYTEN
CN112359395A (zh) * 2020-10-15 2021-02-12 安徽工业大学 一种金属硼化物涂层及其制备方法
CN114277421A (zh) * 2021-12-20 2022-04-05 安徽工业大学 一种Ti-Mo-B系三元硼化物涂层及其制备方法

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9290855B2 (en) * 2011-04-22 2016-03-22 Lawrence Livermore National Security, Llc Stabilization of green bodies via sacrificial gelling agent during electrophoretic deposition

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3880729A (en) * 1973-10-18 1975-04-29 United Aircraft Corp Process for electrodepositing titanium diboride from fused salts
WO2011041809A1 (de) * 2009-10-06 2011-04-14 Gerhard Nauer VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON TITANDIBORID (TiB2)-SCHICHTEN AUS SCHMELZELEKTROLYTEN
CN112359395A (zh) * 2020-10-15 2021-02-12 安徽工业大学 一种金属硼化物涂层及其制备方法
CN114277421A (zh) * 2021-12-20 2022-04-05 安徽工业大学 一种Ti-Mo-B系三元硼化物涂层及其制备方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
在石墨基体上电沉积TiB2镀层的研究;李冰等;稀有金属材料与工程;第33卷(第07期);第764-797页 *

Also Published As

Publication number Publication date
CN115094499A (zh) 2022-09-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN112359395B (zh) 一种金属硼化物涂层的制备方法
CN108330312A (zh) 一种金属包覆的石墨烯增强金属基复合材料的制备方法
CN111554907B (zh) 脂肪酸在制备锂离子电池中的应用及制取电极材料的方法
CN106505188B (zh) 锡基纳米颗粒-碳复合材料及其制备方法与应用
CN115094499B (zh) 一种熔盐中电泳共沉积制备TiB2基复合涂层的方法
JP6327133B2 (ja) 粉末冶金用鉄銅複合粉末の製造方法
DE60018472T2 (de) Dichtes feuerfestes material für hochtemperatur-anwendungen
DE60002364T2 (de) Aluminium-benetzbare schutzschicht für kohlenstoffbauteile angewendet in metallurgischen verfahren
CN112708919B (zh) 一种纳米无机熔盐复合电沉积制备铝基复合涂层的方法
CN111112629B (zh) 一种基于3d打印石墨烯增强钛基复合材料的制备方法
CN109848406A (zh) 钛基复合材料的粉末冶金制备方法及制品
CN114277421B (zh) 一种Ti-Mo-B系三元硼化物涂层及其制备方法
Han et al. Effect of the Addition of CeO2 on the microstructure and corrosion of in-situ TiB/Ti composite coatings prepared by laser cladding technology
CN107127334A (zh) 一种碳化物‑金属核‑壳结构的纳米颗粒及其制备方法
CN114045546B (zh) 一种熔盐原位合成并电泳沉积制备过渡金属硼化物涂层的方法
CN107236972B (zh) 一种利用电沉积法制备石墨烯/铜复合粉的方法
CN114559033A (zh) 一种碳包铜纳米颗粒及其制备方法
DE2411420A1 (de) Kohlenstoffsubstrat mit einem chemisch gebundenen aluminiumueberzug, und verfahren zur herstellung
CN114934297B (zh) 一种含纳米颗粒的铝电解质中复合电沉积制备铝基复合材料的方法
CN114150364B (zh) 一种金刚石表面改性的方法
CN115287647B (zh) 一种激光熔覆陶瓷颗粒增强铝基熔覆层及其制备方法
RU2482226C1 (ru) Способ получения композиционных электрохимических покрытий никель-диборид хрома
CN115181871B (zh) 一种铜合金/石墨复合材料的制备方法
JPS6270561A (ja) 鉄合金材料の表面処理方法
CN111872401B (zh) 一种odsw/tzm合金的放电等离子扩散连接方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant