CN115087764A - 镀覆装置的维护方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种能够抑制配置于镀覆槽的内部的膜的变形的技术。镀覆装置的维护方法包括：在将阳极室的阳极液返回至阳极液罐后，使阳极液在阳极液罐与阳极室之间循环(步骤S10e)；和在将阴极室的阴极液返回至阴极液罐后、并且在阳极液罐与阳极室之间的阳极液的循环开始后，使阴极液在阴极液罐与阴极室之间循环(步骤S10f)。

Description

镀覆装置的维护方法

技术领域

本发明涉及镀覆装置的维护方法。

背景技术

以往，作为对基板实施镀覆处理的镀覆装置，公知有所谓的杯式镀覆装置(例如参照专利文献1、专利文献2)。这样的镀覆装置具有镀覆槽。该镀覆槽的内部由膜划分为比膜靠下方的阳极室和比膜靠上方的阴极室。在阳极室配置阳极，在阴极室配置作为阴极的基板。另外，当在基板形成镀覆皮膜的镀覆处理时，使阳极液罐中贮存的阳极液(镀覆液)在阳极液罐与阳极室之间循环，并使阴极液罐中贮存的阴极液(镀覆液)在阴极液罐与阴极室之间循环。

专利文献1：日本特开2008-19496号公报

专利文献2：美国专利第6821407号说明书

然而，在如上所述的杯式镀覆装置中，例如在未执行对基板的镀覆处理的情况下，存在进行镀覆装置的维护的情况。具体而言，在该镀覆装置的维护中，例如将镀覆槽的阳极室中残存的阳极液返回至阳极液罐并使阳极液在阳极液罐与阳极室之间循环、或将镀覆槽的阴极室中残存的阴极液返回至阴极液罐并使阴极液在阴极液罐与阴极室之间循环。然而，从抑制配置于镀覆槽的内部的膜的变形的观点，这样的镀覆装置的维护尚有改善的余地。

发明内容

本发明是鉴于上述情况而完成的，目的之一是提供一种能够抑制配置于镀覆槽的内部的膜的变形的技术。

(形态1)

为了达成上述目的，本发明的一个形态所涉及的镀覆装置的维护方法包括：将镀覆槽的内部的在比膜靠下方的位置划分出的阳极室中残存的阳极液返回至用于贮存阳极液的阳极液罐；将上述镀覆槽的内部的在比上述膜靠上方的位置划分出的阴极室中残存的阴极液返回至用于贮存阴极液的阴极液罐；在将上述阳极室中残存的阳极液返回至上述阳极液罐后，使阳极液在上述阳极液罐与上述阳极室之间循环；以及在将上述阴极室中残存的阴极液返回至上述阴极液罐后、且在上述阳极液罐与上述阳极室之间的阳极液的循环开始后，使阴极液在上述阴极液罐与上述阴极室之间循环。

根据该形态，使阳极液在阳极液罐与阳极室之间循环比使阴极液罐与阴极室之间的阴极液循环早地开始，因此能够使阳极室的压力上升比阴极室的压力上升早地开始。由此，例如与阴极液的循环比阳极液的循环早地进行、阴极室的压力上升比阳极室的压力上升早地开始的情况相比较，能够抑制配置于镀覆槽的内部的膜由于阴极室的压力而向下方变形。

(形态2)

也可以构成为，上述形态1还包括：在上述阳极液罐中贮存的阳极液的液面水平未达预先设定的规定水平的情况下，向上述阳极液罐补给从阳极液供给装置所供给的阳极液，以使上述阳极液罐中贮存的阳极液的液面水平成为该规定水平以上。

(形态3)

也可以构成为，在上述形态2中，在将上述阳极室中残存的阳极液返回至上述阳极液罐后、并且在上述阳极液罐中贮存的阳极液的液面水平为上述规定水平以上的情况下，执行使阳极液在上述阳极液罐与上述阳极室之间循环。

(形态4)

也可以构成为，上述形态1～3中的任意一个形态还包括：在上述阴极液罐中贮存的阴极液的液面水平未达预先设定的规定水平的情况下，向上述阴极液罐补给从阴极液供给装置所供给的阴极液，以使上述阴极液罐中贮存的阴极液的液面水平成为该规定水平以上。

(形态5)

也可以构成为，上述形态4还包括：在上述阴极液罐中贮存的阴极液的液面水平为上述规定水平以上的情况下，在使阴极液在上述阴极液罐与上述阴极室之间循环之前，使上述阴极液罐中贮存的阴极液旁通过上述阴极室而流通后将其返回至上述阴极液罐。

根据该形态，通过使阴极液旁通过阴极室而流通后将其返回至阴极液罐，而能够使阴极液中包含的气泡的量减少。由此，在之后进行的阴极液罐与阴极室之间的阴极液的循环时，能够使向阴极室供给的阴极液中包含的气泡的量减少。

(形态6)

也可以构成为，在上述形态1～5中的任意一个形态中，使阳极液在上述阳极液罐与上述阳极室之间循环包括：通过温度调节器将从上述阳极液罐朝向上述阳极室流通的阳极液的温度调整至规定的温度范围内。

根据该形态，能够早期地使从阳极液罐朝向阳极室流通的阳极液的温度处于规定的温度范围内。

(形态7)

也可以构成为，在上述形态1～6中的任意一个形态中，使阴极液在上述阴极液罐与上述阴极室之间循环包括：通过温度调节器将从上述阴极液罐朝向上述阴极室流通的阴极液的温度调整至规定的温度范围内。

根据该形态，能够早期地使从阴极液罐朝向阴极室流通的阴极液的温度处于规定的温度范围内。

附图说明

图1是表示实施方式所涉及的镀覆装置的整体结构的立体图。

图2是表示实施方式所涉及的镀覆装置的整体结构的俯视图。

图3是示意性地表示实施方式所涉及的镀覆模块的一个镀覆槽的周边结构的图。

图4是表示实施方式所涉及的一个镀覆模块的液体流通结构的示意图。

图5是用于对实施方式所涉及的镀覆模块中的液体的流通形态的一个例子进行说明的流程图。

图6是用于对实施方式所涉及的药液准备处理的详情进行说明的流程图。

具体实施方式

以下，参照附图对本发明的实施方式进行说明。此外，附图为了使特征容易理解而示意性地进行图示，各构成要素的尺寸比率等不一定与实际的相同。另外，在若干附图中，图示有X-Y-Z的正交坐标作为参考用。该正交坐标中，Z方向相当于上方，-Z方向相当于下方(重力作用的方向)。

图1是表示本实施方式的镀覆装置1000的整体结构的立体图。图2是表示本实施方式的镀覆装置1000的整体结构的俯视图。如图1及图2所示，镀覆装置1000具备：装载埠100、搬运机器人110、对准器120、预湿模块200、预浸模块300、镀覆模块400、清洗模块500、旋转干燥机600、搬运装置700以及控制模块800。

装载埠100是用于将未图示的FOUP等盒中所收容的基板搬入至镀覆装置1000、从镀覆装置1000将基板搬出至盒的模块。在本实施方式中，在水平方向上排列配置有4台装载埠100，但装载埠100的数量及配置是任意的。搬运机器人110是用于搬运基板的机器人，构成为在装载埠100、对准器120、预湿模块200以及旋转干燥机600之间交接基板。搬运机器人110及搬运装置700当在搬运机器人110与搬运装置700之间交接基板时，能够经由临时放置台(未图示)进行基板的交接。

对准器120是用于将基板的定向平面、凹口等位置对准于规定的方向的模块。在本实施方式中，在水平方向上排列配置有2台对准器120，但对准器120的数量及配置是任意的。预湿模块200用纯水或者脱气水等处理液将镀覆处理前的基板的被镀覆面润湿，从而将形成于基板表面的图案内部的空气置换为处理液。预湿模块200构成为：实施通过在镀覆时将图案内部的处理液置换为镀覆液从而容易向图案内部供给镀覆液的预湿处理。在本实施方式中，在上下方向上排列配置有2台预湿模块200，但预湿模块200的数量及配置是任意的。

预浸模块300构成为：实施例如将镀覆处理前的基板的被镀覆面处所形成的晶种层表面等处所存在的电阻较大的氧化膜用硫酸、盐酸等处理液蚀刻去除来对镀覆基底表面进行清洗或者活性化的预浸处理。在本实施方式中，在上下方向上排列配置有2台预浸模块300，但预浸模块300的数量及配置是任意的。镀覆模块400对基板实施镀覆处理。在本实施方式中，在上下方向上排列配置3台并且在水平方向上排列配置4台的12台镀覆模块400的机组有两个，设置有合计24台镀覆模块400，但镀覆模块400的数量及配置是任意的。

清洗模块500构成为：为了将残留于镀覆处理后的基板的镀覆液等去除而对基板实施清洗处理。在本实施方式中，在上下方向上排列配置有2台清洗模块500，但清洗模块500的数量及配置是任意的。旋转干燥机600是用于使清洗处理后的基板高速旋转来使其干燥的模块。在本实施方式中，在上下方向上排列配置有2台旋转干燥机600，但旋转干燥机600的数量及配置是任意的。搬运装置700是用于在镀覆装置1000内的多个模块间搬运基板的装置。控制模块800构成为控制镀覆装置1000的多个模块，例如能够由具备与操作人员之间的输入输出界面的一般计算机或者专用计算机构成。

对由镀覆装置1000进行的一系列的镀覆处理的一个例子进行说明。首先，向装载埠100搬入已被收容于盒的基板。接着，搬运机器人110从装载埠100的盒取出基板，并将基板搬运至对准器120。对准器120将基板的定向平面、凹口等位置对准于规定的方向。搬运机器人110向预湿模块200交接已由对准器120对准了方向的基板。

预湿模块200对基板实施预湿处理。搬运装置700将已实施了预湿处理的基板向预浸模块300搬运。预浸模块300对基板实施预浸处理。搬运装置700将已实施了预浸处理的基板向镀覆模块400搬运。镀覆模块400对基板实施镀覆处理。

搬运装置700将已实施了镀覆处理的基板向清洗模块500搬运。清洗模块500对基板实施清洗处理。搬运装置700将已实施了清洗处理的基板向旋转干燥机600搬运。旋转干燥机600对基板实施干燥处理。搬运机器人110从旋转干燥机600接收基板，将已实施了干燥处理的基板向装载埠100的盒搬运。最后，从装载埠100搬出已收容了基板的盒。

此外，在图1、图2中说明的镀覆装置1000的结构不过是一个例子，镀覆装置1000的结构并不限定于图1、图2的结构。

接着，对镀覆模块400进行说明。此外，本实施方式所涉及的镀覆装置1000所具有的多个镀覆模块400具有同样的结构，因此对一个镀覆模块400进行说明。

图3是示意性地表示本实施方式所涉及的镀覆装置1000中的镀覆模块400的一个镀覆槽10的周边结构的图。本实施方式所涉及的镀覆装置1000是杯式镀覆装置。本实施方式所涉及的镀覆装置1000的镀覆模块400具备：镀覆槽10、基板保持架20、旋转机构22以及升降机构24。

此外，在本实施方式中，一个镀覆模块400具备多个镀覆槽10。多个镀覆槽10的个数只要为两个以上即可，其具体个数并不特别限定。在本实施方式中，作为一个例子，一个镀覆模块400具备4个镀覆槽10(参照后述的图4)。

如图3所例示，镀覆槽10由在上方具有开口的有底的容器构成。具体而言，镀覆槽10具有底壁10a、和从该底壁10a的外缘向上方延伸的外周壁10b，该外周壁10b的上部开口。此外，镀覆槽10的外周壁10b的形状并不特别限定，但作为一个例子，本实施方式所涉及的外周壁10b具有圆筒形状。在镀覆槽10的内部贮存有镀覆液Ps。在镀覆槽10的外周壁10b的外侧配置有用于贮存从外周壁10b的上端溢流了的镀覆液Ps的溢流槽19。

作为镀覆液Ps，只要是包含构成镀覆皮膜的金属元素的离子的溶液即可，其具体例并不特别限定。在本实施方式中，使用铜镀覆处理作为镀覆处理的一个例子，使用硫酸铜溶液作为镀覆液Ps的一个例子。

另外，在本实施方式中，镀覆液Ps中包含有规定的镀覆添加剂。在本实施方式中，使用有“非离子类的镀覆添加剂”作为该规定的镀覆添加剂的具体例。此外，非离子类的镀覆添加剂是指在镀覆液Ps中不显示离子性的添加剂。

在镀覆槽10的内部配置有阳极13。另外，阳极13配置为在水平方向上延伸。阳极13的具体种类并不特别限定，可以是不溶性阳极，也可以是可溶性阳极。在本实施方式中，使用不溶性阳极作为阳极13的一个例子。该不溶性阳极的具体种类并不特别限定，能够使用白金、氧化铱等。

在镀覆槽10的内部中的后述的阴极室12配置有离子阻抗体14。具体而言，离子阻抗体14设置于阴极室12中的比后述的膜40靠上方并且比基板Wf靠下方的部位。离子阻抗体14是能够成为阴极室12中的离子的移动的阻抗的部件，为了实现形成在阳极13与基板Wf之间的电场的均匀化而设置。

本实施方式所涉及的离子阻抗体14由具有以贯通离子阻抗体14的下表面与上表面的方式设置的多个贯通孔15的板部件构成。该多个贯通孔15设置于离子阻抗体14的孔形成区域(在本实施方式中，作为一个例子，其是俯视时呈圆形的区域)。离子阻抗体14的具体材质并不特别限定，但在本实施方式中，使用聚醚醚酮等树脂作为一个例子。

通过镀覆模块400具有离子阻抗体14，而能够实现形成于基板Wf的镀覆皮膜(镀覆层)的膜厚的均匀化。但是，该离子阻抗体14并非本实施方式所必需的部件，镀覆模块400也能够是不具备离子阻抗体14的结构。

在镀覆槽10的内部配置有膜40。镀覆槽10的内部由膜40划分为：比膜40靠下方的阳极室11；和比膜40靠上方的阴极室12。上述的阳极13配置于阳极室11，离子阻抗体14配置于阴极室12。另外，在对基板Wf的镀覆处理时，基板Wf配置于阴极室12。

此外，在本实施方式中，将向阳极室11供给的镀覆液Ps称为“阳极液”，将向阴极室12供给的镀覆液Ps称为“阴极液”。

膜40是构成为允许镀覆液Ps中包含的离子种(其包含有金属离子)通过膜40并且抑制镀覆液Ps中包含的非离子类的镀覆添加剂通过膜40的膜。具体而言，膜40具有多个微小的孔(微小孔)(省略该微小孔的图示)。该多个孔的平均直径为纳米尺寸(即1nm以上999nm以下的尺寸)。由此，允许包含金属离子的离子种(其为纳米尺寸)通过膜40的多个微小孔，另一方面，抑制非离子类的镀覆添加剂(其大于纳米尺寸)通过膜40的多个微小孔。例如能够使用离子交换膜作为这样的膜40。

如本实施方式那样，通过镀覆模块400具备膜40，而能够抑制阴极室12的阴极液中包含的非离子类的镀覆添加剂向阳极室11移动。由此，能够实现阴极室12的镀覆添加剂的消耗量的减少。

此外，如图3所例示，膜40也可以具备相对于水平方向倾斜了的倾斜部位41。具体而言，图3所例示的膜40的倾斜部位41相对于水平方向倾斜，并且倾斜为随着从镀覆槽10的中央侧朝向镀覆槽10的外周壁10b侧而位于上方。另外，作为一个例子，图3所例示的膜40具有在正面观察时呈“V字状”的外观形状。

但是，膜40的结构并不限定于上述结构。例如，膜40也可以不具备倾斜部位41而整体上在水平方向上延伸。

基板保持架20将作为阴极的基板Wf保持为基板Wf的被镀覆面(下表面)与阳极13对置。基板保持架20与旋转机构22连接。旋转机构22是用于使基板保持架20旋转的机构。旋转机构22与升降机构24连接。升降机构24由在上下方向上延伸的支柱26支承。升降机构24是用于使基板保持架20及旋转机构22升降的机构。旋转机构22及升降机构24的动作由控制模块800控制。此外，基板Wf及阳极13与通电装置(未图示)电连接。通电装置是用于在执行镀覆处理时向基板Wf与阳极13之间通电的装置。

在镀覆槽10设置有：用于向阳极室11供给阳极液的阳极室用供给口16a、和用于从阳极室11排出阳极液的阳极室用排出口16b。作为一个例子，本实施方式所涉及的阳极室用供给口16a配置于镀覆槽10的底壁10a。作为一个例子，阳极室用排出口16b配置于镀覆槽10的外周壁10b。另外，作为一个例子，阳极室用排出口16b设置于镀覆槽10的两处。

另外，在镀覆槽10设置有阴极室12用的供给泄放口17。供给泄放口17是“阴极液用的供给口”和“阴极液用的泄放口”合体而成的。

即，在向阴极室12供给阴极液时，该供给泄放口17作为“阴极液用的供给口”发挥功能，从该供给泄放口17向阴极室12供给阴极液。另一方面，在从阴极室12排出阴极液，例如使阴极室12的阴极液变空时，该供给泄放口17作为“阴极液用的泄放口”发挥功能，从该供给泄放口17排出阴极液。

此外，供给泄放口17的结构并不限定于上述结构。举出另一个例子，镀覆模块400也可以分别独立地具备“阴极液用的供给口”及“阴极液用的泄放口”来取代供给泄放口17。

作为一个例子，本实施方式所涉及的供给泄放口17以从阴极室12的底部(底表面)到供给泄放口17的距离例如为20mm以下的方式配置于镀覆槽10的外周壁10b。

在溢流槽19设置有用于将从阴极室12溢流而贮存于溢流槽19的镀覆液Ps(阴极液)向溢流槽19的外部排出的溢流槽用排出口18。

在镀覆槽10配置有：用于检测阳极室11的压力(Pa)的压力计80a；和用于检测阴极室12的压力(Pa)的压力计80b。压力计80a及压力计80b的检测结果向控制模块800传送。

控制模块800具备处理器801和非暂时性的存储装置802。在存储装置802中存储有程序、数据等。在控制模块800中，处理器801基于存储装置802中存储的程序的指令，控制镀覆装置1000的动作。

在执行对基板Wf的镀覆处理时，首先，旋转机构22使基板保持架20旋转，并且升降机构24使基板保持架20向下方移动，使基板Wf浸渍于镀覆槽10的镀覆液Ps(阴极室12的阴极液)。接下来，通过通电装置，向阳极13与基板Wf之间通电。由此，在基板Wf的被镀覆面形成镀覆皮膜。

图4是表示一个镀覆模块400的液体流通结构的示意图。如图4所示，镀覆模块400具备：罐50、51，泵52a、52b，温度调节器53a、53b，过滤器54，阳极液供给装置57a，阴极液供给装置57b，添加剂供给装置57c，金属离子供给装置57d，多个流路(流路70a～70g4)，多个阀门(阀门75a～75o)以及多个流路切换阀门(流路切换阀门77a～77d等)。

此外，在本实施方式中，作为一个例子，对一组罐50及罐51应用4个镀覆槽10(#1～#4的镀覆槽10)。即，在本实施方式中，作为一个例子，经由流路而与一组罐50及罐51连通的镀覆槽10的数量为4个。但是，对一组罐50及罐51应用的镀覆槽10的数量只要为多个即可，可以少于4个，也可以多于4个。

作为多个阀门(阀门75a～75o)，能够使用至少能够对闭阀状态(阀门开度为0％的状态，通过阀门的液体的流量为零的状态)、和开阀状态(阀门开度大于0％的状态，通过阀门的液体的流量大于零的状态)进行切换的流量调整阀门。

另外，作为这些多个阀门，还能够使用能够将阀门开度在0％以上、100％以下的范围内(即将通过阀门的流量在零以上、规定值以下的范围内)连续性地或者阶段性地调整的流量调整阀门。

此外，多个阀门及多个流路切换阀门也可以是由控制模块800控制的阀门，或者也可以是通过手动而动作的手动式阀门。在本实施方式中，多个阀门及多个流路切换阀门由控制模块800控制。

罐50是用于贮存阳极液的罐。罐50与阳极室11连通。罐51是用于贮存阴极液的罐。罐51与阴极室12连通。此外，罐50是“阳极液罐”的一个例子，罐51是“阴极液罐”的一个例子。

在罐50配置有用于检测罐50中贮存的阳极液的液面水平的液面水平传感器81a。另外，在罐51也配置有用于检测罐51中贮存的阴极液的液面水平的液面水平传感器81b。液面水平传感器81a、81b的检测结果向控制模块800传送。

泵52a是用于朝向阳极室11压送罐50的阳极液的泵。泵52b是用于朝向阴极室12压送罐51的阴极液的泵。对于泵52a、52b的动作而言，控制模块800进行控制。此外，泵52a是“阳极液泵”的一个例子，泵52b是“阴极液泵”的一个例子。

温度调节器53a是用于调整阳极液的温度的装置。温度调节器53b是用于调整阴极液的温度的装置。作为一个例子，本实施方式所涉及的温度调节器53a配置于流路70a的比泵52a靠下游侧的部位。作为一个例子，本实施方式所涉及的温度调节器53b配置于流路70c的比泵52b靠下游侧的部位。对于温度调节器53a、53b的动作而言，控制模块800进行控制。

如图5所示，过滤器54是用于对从罐51朝向阴极室12流通的阴极液进行过滤的装置。过滤器54配置于后述的流路70c的例如比温度调节器53b靠下游侧的部位。

此外，镀覆模块400所具有的过滤器的个数并不限定于一个，也可以为两个以上。或者，镀覆模块400也能够是不具备过滤器的结构。

阳极液供给装置57a是用于供给阳极液的装置。阳极液供给装置57a所供给的阳极液可以是未使用的阳极液(即新阳极液)，也可以是镀覆处理中使用过的阳极液。阴极液供给装置57b是用于供给阴极液的装置。阴极液供给装置57b所供给的阴极液可以是未使用的阴极液(即新阴极液)，也可以是镀覆处理中使用过的阴极液。

阳极液供给装置57a的具体结构并不特别限定，但例如，阳极液供给装置57a也可以具备：用于贮存供给用的阳极液的罐、和用于经由流路70g1朝向罐50压送该罐的阳极液的泵。阴极液供给装置57b的具体结构并不特别限定，但例如，阴极液供给装置57b也可以具备：用于贮存供给用的阴极液的罐、和用于经由流路70g2朝向罐51压送该罐的阴极液的泵。对于本实施方式所涉及的阳极液供给装置57a及阴极液供给装置57b的动作而言，控制模块800进行控制。

添加剂供给装置57c是用于供给镀覆添加剂的装置。在本实施方式中，添加剂供给装置57c在向镀覆液Ps补给镀覆添加剂时使用。具体而言，作为一个例子，本实施方式所涉及的添加剂供给装置57c在向罐51的阴极液补给镀覆添加剂时使用。对于本实施方式所涉及的添加剂供给装置57c的动作而言，控制模块800进行控制。

金属离子供给装置57d是用于供给金属离子的装置。本实施方式所涉及的金属离子供给装置57d在向镀覆液Ps补给金属离子时使用。具体而言，作为一个例子，本实施方式所涉及的金属离子供给装置57d在向罐51的阴极液补给包含金属离子(作为一个例子为铜离子)的溶液时使用。对于本实施方式所涉及的金属离子供给装置57d的动作而言，控制模块800进行控制。

流路70a将罐50、泵52a以及各个镀覆槽10的阳极室11连通。另外，在本实施方式所涉及的流路70a配置有温度调节器53a。本实施方式所涉及的流路70a在比温度调节器53a靠下游侧的部位分支为多个，成为流路70a1、流路70a2、流路70a3以及流路70a4，与各个镀覆槽10的阳极室11连通。

流路70a1的下游端与#1的镀覆槽10的阳极室用供给口16a连通。流路70a2的下游端与#2的镀覆槽10的阳极室用供给口16a连通。流路70a3的下游端与#3的镀覆槽10的阳极室用供给口16a连通。流路70a4的下游端与#4的镀覆槽10的阳极室用供给口16a连通。

流路70b1、70b2、70b3、70b4是构成为将各个镀覆槽10的阳极室11的阳极液返回至罐50的流路。

具体而言，本实施方式所涉及的流路70b1的比规定部位靠上游侧的部分分支为两个，与#1的镀覆槽10的两个阳极室用排出口16b连通。流路70b1的下游端与罐50连通。流路70b2的比规定部位靠上游侧的部分分支为两个，与#2的镀覆槽10的两个阳极室用排出口16b连通。流路70b2的下游端与罐50连通。

流路70b3的比规定部位靠上游侧的部分分支为两个，与#3的镀覆槽10的两个阳极室用排出口16b连通。流路70b3的下游端与罐50连通。流路70b4的比规定部位靠上游侧的部分分支为两个，与#4的镀覆槽10的两个阳极室用排出口16b连通。流路70b4的下游端与罐50连通。

流路70c将罐51、泵52b以及各个镀覆槽10的阴极室12连通。另外，在本实施方式所涉及的流路70c配置有温度调节器53b及过滤器54。本实施方式所涉及的流路70c在比过滤器54靠下游侧的部位分支为多个，成为流路70c1、70c2、70c3、70c4。

流路70c1的下游端与#1的镀覆槽10的供给泄放口17连通。流路70c2的下游端与#2的镀覆槽10的供给泄放口17连通。流路70c3的下游端与#3的镀覆槽10的供给泄放口17连通。流路70c4的下游端与#4的镀覆槽10的供给泄放口17连通。

流路70d1、70d2、70d3、70d4是构成为将各个镀覆槽10的溢流槽19的阴极液返回至罐51的流路。具体而言，流路70d1的上游端与#1的镀覆槽10的溢流槽用排出口18连通，下游端与罐51连通。流路70d2的上游端与#2的镀覆槽10的溢流槽用排出口18连通，下游端与罐51连通。流路70d3的上游端与#3的镀覆槽10的溢流槽用排出口18连通，下游端与罐51连通。流路70d4的上游端与#4的镀覆槽10的溢流槽用排出口18连通，下游端与罐51连通。

流路70e1、70e2、70e3、70e4是构成为使阴极液旁通过阴极室12流通后将其返回至罐51的流路。具体而言，流路70e1的上游端经由流路切换阀门77a而与流路70c1的中途连通，下游端与罐51连通。流路70e2的上游端经由流路切换阀门77b而与流路70c2的中途连通，下游端与罐51连通。流路70e3的上游端经由流路切换阀门77c而与流路70c3的中途连通，下游端与罐51连通。流路70e4的上游端经由流路切换阀门77d而与流路70c4的中途连通，下游端与罐51连通。

流路70g1是构成为使从阳极液供给装置57a所供给的阳极液流入至罐50的流路。具体而言，流路70g1的上游端与阳极液供给装置57a连通，下游端与罐50连通。流路70g2是构成为使从阴极液供给装置57b所供给的阴极液流入至罐51的流路。具体而言，流路70g2的上游端与阴极液供给装置57b连通，下游端与罐51连通。

流路70g3是构成为使从添加剂供给装置57c所供给的镀覆添加剂流入至罐51的流路。流路70g4是构成为使从金属离子供给装置57d所供给的包含金属离子的溶液流入至罐51的流路。

流路70f是构成为将罐50与罐51连通的流路(连通流路)。具体而言，本实施方式所涉及的流路70f构成为将流路70a的中途部位(比后述的阀门75a靠上游侧的部位)与流路70c的中途部位(比后述的阀门75j靠上游侧的部位)连通。

在流路70f配置有用于将流路70f打开关闭的阀门75k。若阀门75k成为开阀状态，则罐50及罐51经由流路70f成为相互连通的状态。另一方面，若阀门75k成为闭阀状态，则罐50及罐51成为不连通状态。

根据本实施方式，例如在使用不同的成分的镀覆液作为阳极液及阴极液的情况下，通过使阀门75k成为闭阀状态来将流路70f关闭，而能够使罐50的阳极液不与罐51的阴极液混合。另一方面，例如在使用相同的成分的镀覆液作为阳极液及阴极液的情况下，也可以通过使阀门75k成为开阀状态来将流路70f打开，而使罐50与罐51连通，使罐50及罐51作为一个较大的镀覆液罐发挥功能。

阀门75a配置于流路70a中的比泵52a靠上游侧且流路70a中的比流路70f所连接的部位靠下游侧的部位。

阀门75b配置于流路70a1。阀门75c配置于流路70a2。阀门75d配置于流路70a3。阀门75e配置于流路70a4。

阀门75f配置于流路70b1。阀门75g配置于流路70b2。阀门75h配置于流路70b3。阀门75i配置于流路70b4。

阀门75j配置于流路70c中的比泵52b靠上游侧且流路70c中的比流路70f所连接的部位靠下游侧的部位。阀门75l配置于流路70g1。阀门75m配置于流路70g2。阀门75n配置于流路70g3。阀门75o配置于流路70g4。

流路切换阀门77a配置于流路70c1中的流路70e1所连接的部位。流路切换阀门77a将流路70c1的流体的流动目的地在流路70e1与#1的镀覆槽10的阳极室11之间切换。流路切换阀门77b配置于流路70c2中的流路70e2所连接的部位。流路切换阀门77b将流路70c2的流体的流动目的地在流路70e2与#2的镀覆槽10的阳极室11之间切换。

流路切换阀门77c配置于流路70c3中的流路70e3所连接的部位。流路切换阀门77c将流路70c3的流体的流动目的地在流路70e3与#3的镀覆槽10的阳极室11之间切换。流路切换阀门77d配置于流路70c4中的流路70e4所连接的部位。流路切换阀门77d将流路70c4的流体的流动目的地在流路70e4与#4的镀覆槽10的阳极室11之间切换。

此外，能够使用所谓的三通阀作为流路切换阀门77a、77b、77c、77d。

图5是用于对镀覆模块400中的液体的流通形态的一个例子进行说明的流程图。图5的各步骤中，步骤S20所涉及的镀覆液循环步骤在对基板Wf的镀覆处理时执行。另一方面，步骤S10在镀覆装置1000的维护时执行。即、步骤S10相当于镀覆装置1000的维护方法。另外，对于图5的各步骤而言，例如也可以控制模块800基于程序的指令自动地执行。

＜＜镀覆液循环步骤＞＞

首先，对图5的步骤S20所涉及的镀覆液循环步骤进行说明。在步骤S20所涉及的镀覆液循环步骤中，使阳极液在罐50与阳极室11之间循环，并且使阴极液在罐51与阴极室12之间循环。

(阳极循环)

具体而言，使阳极液循环时，使泵52a驱动，并且使阀门75a、75b、75c、75d、75e、75f、75g、75h、75i成为开阀状态。由此，罐50的阳极液在流路70a流动后，在流路70a1、70a2、70a3、70a4流动，流入至#1～#4的镀覆槽10的阳极室11。然后，#1～#4的镀覆槽10的阳极室11的阳极液在流路70b1、70b2、70b3、70b4流动后，返回至罐50。

此外，流路70a、70a1、70a2、70a3、70a4是用于向阳极室11供给罐50的阳极液的“阳极液供给流路”的一个例子。另外，流路70b1、70b2、70b3、70b4是用于将阳极室11的阳极液返回至罐50的“阳极液返回流路”的一个例子。另外，阳极液供给流路及阳极液返回流路是用于使阳极液在罐50与阳极室11之间循环的“阳极液循环流路”的一个例子。

(阴极循环)

另外，使阴极液循环时，具体而言，使泵52b驱动，并且使阀门75j成为开阀状态。进一步，将流路切换阀门77a、77b、77c、77d切换为阴极液流入至阴极室12。由此，罐51的阴极液在流路70c流动后，在流路70c1、70c2、70c3、70c4流动，流入至#1～#4的镀覆槽10的阴极室12。从阴极室12溢流而流入至溢流槽19的阴极液在流路70d1、70d2、70d3、70d4流动并返回至罐51。

此外，流路70c、70c1、70c2、70c3、70c4是用于向阴极室12供给罐51的阴极液的“阴极液供给流路”的一个例子。另外，流路70d1、70d2、70d3、70d4是用于将阴极室12的阴极液返回至罐51的“阴极液返回流路”的一个例子。另外，阴极液供给流路及阴极液返回流路是用于使阴极液在罐51与阴极室12之间循环的“阴极液循环流路”的一个例子。

此外，在步骤S20中，也可以通过温度调节器53a将阳极液的温度调整至规定的温度范围内。同样地，也可以通过温度调节器53b将阴极液的温度调整至规定的温度范围内。这些温度范围的具体值并不特别限定，但举出一个例子，能够使用30℃以上、70℃以下的范围，更具体而言，能够使用40℃以上、60℃以下的范围。

根据本实施方式，各个镀覆模块400具备多个镀覆槽10，并且在各个镀覆模块400中，成为阳极液在多个镀覆槽10的阳极室11与罐50之间循环、且阴极液在多个镀覆槽10的阴极室12与罐51之间循环的结构，因此一个镀覆模块400中的阳极液及阴极液的循环和其他镀覆模块400中的阳极液及阴极液的循环独立地进行。由此，能够与其他镀覆模块400独立地进行一部分的镀覆模块400的维护。具体而言，例如，能够在其他镀覆模块400中的对基板Wf的镀覆处理的执行中，进行一部分的镀覆模块400的维护。

此外，在步骤S20的执行时，也可以通过调整阀门75f、75g、75h、75i来调整#1～#4的镀覆槽10的阳极室11的压力。举出其一个例子，例如也可以调整阀门75f、75g、75h、75i，以使#1～#4的镀覆槽10的阳极室11的压力分别成为与#1～#4的镀覆槽10的阴极室12的压力相同的值。

具体而言，例如使阀门75f的阀门开度减少来使在阀门75f通过的阳极液的流量减少，从而能够使#1的镀覆槽10的阳极室11的压力上升。另一方面，使阀门75f的阀门开度增加来使在阀门75f通过的阳极液的流量增加，从而能够使#1的镀覆槽10的阳极室11的压力降低。这样，通过在0％～100％的范围内调整阀门75f的阀门开度，而能够调整#1的镀覆槽10的阳极室11的压力。由此，能够使#1的镀覆槽10的阳极室11的压力成为与阴极室12的压力相同的值。

同样地，通过调整阀门75g的阀门开度，而能够调整#2的镀覆槽10的阳极室11的压力，来使该阳极室11的压力成为与阴极室12的压力相同的值。另外，通过调整阀门75h的阀门开度，而能够调整#3的镀覆槽10的阳极室11的压力，来使该阳极室11的压力成为与阴极室12的压力相同的值。另外，通过调整阀门75i的阀门开度，而能够调整#4的镀覆槽10的阳极室11的压力，来使该阳极室11的压力成为与阴极室12的压力相同的值。

此外，#1～#4的镀覆槽10的阳极室11的压力例如基于压力计80a的检测结果而取得即可。另外，#1～#4的镀覆槽10的阴极室12的压力例如基于压力计80b的检测结果而取得即可。

＜＜药液准备处理＞＞

接着，对图5的步骤S10所涉及的药液准备处理进行说明。步骤S10在对基板Wf的镀覆处理的执行前执行。具体而言，本实施方式所涉及的步骤S10在步骤S20之前执行。图6是用于对药液准备处理的详情进行说明的流程图。

(阳极液和阴极液回收步骤(步骤S10a))

在药液准备处理中，首先，执行将多个镀覆槽10的阳极室11中残存的阳极液返回至与阳极室11连通的罐50的“阳极液回收步骤”。另外，执行将多个镀覆槽10的阴极室12中残存的阴极液返回至与阴极室12连通的罐51的“阴极液回收步骤”。

具体而言，在阳极液回收步骤中，在使泵52a停止了的状态下，通过使阀门75f、75g、75h、75i成为开阀状态，来使各个阳极室11的阳极液在流路70b1、70b2、70b3、70b4流通，返回(回收)至罐50。此外，该情况下，阳极室11的阳极液利用重力返回至罐50。

另外，在阴极液回收步骤中，在使泵52b停止了的状态下，通过将流路切换阀门77a、77b、77c、77d切换为流路70e1、70e2、70e3、70e4和阴极室12成为连通状态，来使各个阴极室12的阴极液在流路70e1、70e2、70e3、70e4流通，返回(回收)至罐51。此外，该情况下，阴极室12的阴极液利用重力返回至罐51。

另外，在本实施方式中，阳极液回收步骤也可以执行到阳极室11中残存的阳极液成为阳极室11的容积的10％以下为止，优选为执行到成为5％以下为止，更加优选为执行到成为1％以下为止。同样地，在本实施方式中，阴极液回收步骤也可以执行到阴极室12中残存的阴极液成为阴极室12的容积的10％以下为止，优选为执行到成为5％以下为止，更加优选为成为1％以下为止。

具体而言，在本实施方式中，阳极液回收步骤也可以在预先设定的规定时间的期间执行。作为该规定时间，例如预先进行实验/模拟等来设定阳极室11中残存的阳极液成为阳极室11的容积的10％以下的时间即可，优选为成为5％以下的时间，更加优选为成为1％以下的时间。

同样地，在本实施方式中，阴极液回收步骤也可以在预先设定的规定时间的期间执行。作为该规定时间，例如预先进行实验/模拟等来设定阴极室12中残存的阴极液成为阴极室12的容积的10％以下的时间即可，优选为成为5％以下的时间，更加优选为成为1％以下的时间。

(阳极和阴极液面水平判断步骤(步骤S10b))

接下来，也可以执行对罐50中贮存的阳极液的液面水平是否为预先设定的规定水平以上进行判断的“阳极液面水平判断步骤”、和对罐51中贮存的阴极液的液面水平是否为预先设定的规定水平以上进行判断的“阴极液面水平判断步骤”。此外，罐50的阳极液的液面水平例如基于液面水平传感器81a的检测结果而取得即可。罐51的阴极液的液面水平基于例如液面水平传感器81b的检测结果而取得即可。

罐50的阳极液的“规定水平”的具体值并不特别限定，但例如能够使用由阳极液充满阳极室11并且阳极液能够在罐50与阳极室11之间循环的最低限度的液面水平以上的值。

同样地，罐51的阴极液的“规定水平”的具体值并不特别限定，但例如能够使用由阴极液充满阴极室12并且阴极液能够在罐51与阴极室12之间循环的最低限度的液面水平以上的值。此外，作为判断罐50的阳极液的液面水平的基准值的“规定水平”、和作为判断罐51的阴极液的液面水平的基准值的“规定水平”可以是相同的值，也可以是不同的值。

(阳极液和阴极液补给步骤(步骤S10c))

在罐50中贮存的阳极液的液面水平未达规定水平的情况下，优选为执行向罐50补给阳极液的“阳极液补给步骤”，以使罐50中贮存的阳极液的液面水平成为规定水平以上。另外，在罐51中贮存的阴极液的液面水平未达规定水平的情况下，优选为执行向罐51补给阴极液的“阴极液补给步骤”，以使罐51中贮存的阴极液的液面水平成为规定水平以上。

具体而言，在上述的步骤S10b所涉及的阳极液面水平判断步骤中，在未判断为罐50中贮存的阳极液的液面水平为规定水平以上的情况(阳极液的液面水平未达规定水平的情况)下，在步骤S10c所涉及的阳极液补给步骤中，从阳极液供给装置57a供给阳极液，并且使阀门75l成为开阀状态。由此，从阳极液供给装置57a所供给的阳极液在流路70g1流通，补给至罐50。该处理执行到罐50中贮存的阳极液的液面水平成为规定水平以上为止。

同样地，在上述的步骤S10b所涉及的阴极液面水平判断步骤中，在未判定为罐51中贮存的阴极液的液面水平为规定水平以上的情况(阴极液的液面水平未达规定水平的情况)下，在步骤S10c所涉及的阴极液补给步骤中，从阴极液供给装置57b供给阴极液，并且使阀门75m成为开阀状态。由此，从阴极液供给装置57b所供给的阴极液在流路70g2流通，补给至罐51。该处理执行到罐51中贮存的阴极液的液面水平成为规定水平以上为止。

(阴极旁通循环步骤(步骤S10d))

在步骤S10b的判断结果是罐51中贮存的阴极液的液面水平为规定水平以上的情况下，优选为执行使罐51中贮存的阴极液旁通过阴极室12流通后将其返回至罐51的“阴极旁通循环步骤”。此外，本实施方式所涉及的步骤S10d至少在后述的步骤S10f之前执行(在图6中，进一步在后述的步骤S10e之前执行)。

具体而言，在步骤S10d中，使泵52b运转，并且使阀门75j成为开阀状态，使其他阀门成为闭阀状态，并且将流路切换阀门77a、77b、77c、77d切换为流路70c1、70c2、70c3、70c4与流路70e1、70e2、70e3、70e4连通。

由此，罐51中贮存的阴极液在流路70c流通，在温度调节器53b、过滤器54流通。然后，在该过滤器54流通了的阴极液在流路70c1、70c2、70c3、70c4流通后，在流路70e1、70e2、70e3、70e4流通(即旁通过阴极室12)，返回至罐51。此外，本实施方式所涉及的步骤S10d在预先设定的规定时间执行。

此外，流路70c、70c1、70c2、70c3、70c4、70e1、70e2、70e3、70e4是用于使罐51中贮存的阴极液旁通过阴极室12流通后返回至罐51的“阴极液旁通流路”的一个例子。

另外，在步骤S10d中，温度调节器53b也可以将在流路流通的阴极液的温度调整至规定的温度范围内。该温度范围的具体值并不特别限定，但举出一个例子，能够使用30℃以上、70℃以下的范围，更具体而言，能够使用40℃以上、60℃以下的范围。

根据本实施方式，在步骤S10d所涉及的阴极旁通循环步骤中，在阴极液流通期间，能够使阴极液中包含的气泡的量减少。由此，在之后进行的后述的步骤S10f所涉及的罐51与阴极室12之间的阴极液的循环时，能够使向阴极室12供给的阴极液中包含的气泡的量减少。由此，例如能够抑制大量的气泡附着于离子阻抗体14。

(阳极液循环步骤(步骤S10e))

接下来，在步骤S10e中，执行使阳极液在罐50与阳极室11之间循环的“阳极液循环步骤”。由此，能够用阳极液充满阳极室11。

具体而言，在步骤S10e中，使泵52a运转，并且使阀门75a、75b、75c、75d、75e、75f、75g、75h、75i成为开阀状态，使其他阀门成为闭阀状态。由此，罐50的阳极液在流路70a流通并在温度调节器53a流通后，在流路70a1、70a2、70a3、70a4流通并流入至各个阳极室11。在阳极室11流通了的阳极液在流路70b1、70b2、70b3、70b4流通，返回至罐50。

另外，步骤S10e至少在步骤S10a结束后执行。具体而言，本实施方式所涉及的步骤S10e在步骤S10a结束后，并且在步骤S10b中判断为罐50中贮存的阳极液的液面水平为规定水平以上的情况下执行，更具体而言，进一步在步骤S10d结束后执行。

在步骤S10e中，温度调节器53a也可以将从罐50朝向阳极室11流通的阳极液的温度调整至规定的温度范围内。该温度范围的具体值并不特别限定，但举出一个例子，能够使用30℃以上、70℃以下的范围，更具体而言，能够使用40℃以上、60℃以下的范围。根据该结构，能够早期地使从罐50朝向阳极室11流通的阳极液的温度处于规定的温度范围内。

(阴极液循环步骤(步骤S10f))

在步骤S10a结束后(将阴极室12中残存的阴极液返回至罐51后)，并且步骤S10e所涉及的阳极液循环步骤开始后，在步骤S10f中，执行使阴极液在罐51与阴极室12之间循环的“阴极液循环步骤”。由此，能够用阴极液充满阴极室12。

具体而言，在步骤S10f中，使泵52b运转，并且将阀门75j控制为开阀状态，使其他阀门成为闭阀状态，将流路切换阀门77a、77b、77c、77d切换为在流路70c1、70c2、70c3、70c4流通了的阴极液流入至阴极室12。

由此，罐51中贮存的阴极液在流路70c流通，在温度调节器53b及过滤器54流通。在该过滤器54流通了的阴极液在流路70c1、70c2、70c3、70c4流通后，流入至各个阴极室12。在阴极室12流通了的阴极液(具体而言，从阴极室12溢流而流入至溢流槽19的阴极液)在流路70d1、70d2、70d3、70d4流通，返回至罐51。

在步骤S10f中，温度调节器53b也可以将从罐51朝向阴极室12流通的阴极液的温度调整至规定的温度范围内。该温度范围的具体值并不特别限定，但举出一个例子，能够使用30℃以上、70℃以下的范围，更具体而言，能够使用40℃以上、60℃以下的范围。根据该结构，能够早期地使从罐51朝向阴极室12流通的阴极液的温度处于规定的温度范围内。

另外，步骤S10f在步骤S10e开始后开始即可，例如也可以在步骤S10f执行中，继续执行步骤S10e。换言之，步骤S10e所涉及的阳极液循环步骤开始，在该阳极液循环步骤正在执行的过程中，开始步骤S10f所涉及的阴极液循环步骤的执行，之后，阳极液循环步骤和阴极液循环步骤也可以一起执行。

另外，步骤S10f优选为在步骤S10e开始后，且在阳极室11由阳极液充满后开始。具体而言，该情况下，例如也可以在从步骤S10e开始起经过了预先设定的规定时间后，开始步骤S10f。作为该规定时间，例如只要预先求出阳极室11由阳极液充满所需要的充分的时间，使用这样求出的时间即可。

此外，例如也可以在步骤S10f执行中，向罐51补给镀覆添加剂(将此称为“添加剂补给步骤”)。具体而言，在该添加剂补给步骤中，使添加剂供给装置57c开始镀覆添加剂的供给，并且将阀门75n控制为开阀状态。由此，从添加剂供给装置57c所供给的镀覆添加剂在流路70g3流通而补给至罐51。

另外，例如也可以在步骤S10f执行中，在上述的添加剂补给步骤的基础上或者取代添加剂补给步骤，向罐51补给金属离子(将此称为“金属离子补给步骤”)。具体而言，在该金属离子补给步骤中，使金属离子供给装置57d开始包含金属离子的溶液的供给，并且将阀门75o控制为开阀状态。由此，从金属离子供给装置57d所供给的包含金属离子的溶液在流路70g4流通而补给至罐51。

根据以上说明的那样的本实施方式，在步骤S10所涉及的药液准备处理中，罐50与阳极室11之间的阳极液的循环(阳极液循环步骤)比罐51与阴极室12之间的阴极液的循环(阴极液循环步骤)早地开始，因此能够使阳极室11的压力上升比阴极室12的压力上升早地开始。由此，例如与阴极液循环步骤比阳极液循环步骤早地开始，阴极室12的压力上升比阳极室11的压力上升早地开始的情况相比较，能够抑制配置于镀覆槽10的内部的膜40由于阴极室12的压力而向下方变形。

以上，对本发明的实施方式进行了详述，但本发明并不限定于该特定的实施方式，能够在权利要求所记载的本发明的范围内进行进一步的各种变形/变更。

附图标记说明

10...镀覆槽；11...阳极室；12...阴极室；13...阳极；40...膜；50...罐(阳极液罐)；51...罐(阴极液罐)；52a、52b...泵；53b...温度调节器(第二温度调节器)；54...过滤器；57a...阳极液供给装置；57b...阴极液供给装置；70a～70g4...流路；75a～75o...阀门；77a～77d...流路切换阀门；400...镀覆模块；1000...镀覆装置；Wf...基板；Ps...镀覆液(阳极液、阴极液)。

Claims (7)

1.一种镀覆装置的维护方法，其特征在于，包括：

将镀覆槽的内部的在比膜靠下方的位置划分出的阳极室中残存的阳极液返回至用于贮存阳极液的阳极液罐；

将所述镀覆槽的内部的在比所述膜靠上方的位置划分出的阴极室中残存的阴极液返回至用于贮存阴极液的阴极液罐；

在将所述阳极室中残存的阳极液返回至所述阳极液罐后，使阳极液在所述阳极液罐与所述阳极室之间循环；以及

在将所述阴极室中残存的阴极液返回至所述阴极液罐后、且在所述阳极液罐与所述阳极室之间的阳极液的循环开始后，使阴极液在所述阴极液罐与所述阴极室之间循环。

2.根据权利要求1所述的镀覆装置的维护方法，其特征在于，

还包括：在所述阳极液罐中贮存的阳极液的液面水平未达预先设定的规定水平的情况下，向所述阳极液罐补给从阳极液供给装置所供给的阳极液，以使所述阳极液罐中贮存的阳极液的液面水平成为该规定水平以上。

3.根据权利要求2所述的镀覆装置的维护方法，其特征在于，

在将所述阳极室中残存的阳极液返回至所述阳极液罐后、且在所述阳极液罐中贮存的阳极液的液面水平为所述规定水平以上的情况下，执行使阳极液在所述阳极液罐与所述阳极室之间循环。

4.根据权利要求1～3中的任一项所述的镀覆装置的维护方法，其特征在于，

还包括：在所述阴极液罐中贮存的阴极液的液面水平未达预先设定的规定水平的情况下，向所述阴极液罐补给从阴极液供给装置所供给的阴极液，以使所述阴极液罐中贮存的阴极液的液面水平成为该规定水平以上。

5.根据权利要求4所述的镀覆装置的维护方法，其特征在于，

还包括：在所述阴极液罐中贮存的阴极液的液面水平为所述规定水平以上的情况下，在使阴极液在所述阴极液罐与所述阴极室之间循环之前，使所述阴极液罐中贮存的阴极液旁通过所述阴极室而流通后将其返回至所述阴极液罐。

6.根据权利要求1～5中的任一项所述的镀覆装置的维护方法，其特征在于，

使阳极液在所述阳极液罐与所述阳极室之间循环包括：通过温度调节器将从所述阳极液罐朝向所述阳极室流通的阳极液的温度调整至规定的温度范围内。

7.根据权利要求1～6中的任一项所述的镀覆装置的维护方法，其特征在于，

使阴极液在所述阴极液罐与所述阴极室之间循环包括：通过温度调节器将从所述阴极液罐朝向所述阴极室流通的阴极液的温度调整至规定的温度范围内。

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