CN114983284A - 基站设备的基座、基站设备以及热处理控制方法 - Google Patents

基站设备的基座、基站设备以及热处理控制方法 Download PDF

Info

Publication number
CN114983284A
CN114983284A CN202210806611.XA CN202210806611A CN114983284A CN 114983284 A CN114983284 A CN 114983284A CN 202210806611 A CN202210806611 A CN 202210806611A CN 114983284 A CN114983284 A CN 114983284A
Authority
CN
China
Prior art keywords
cleaning
base
air
air flow
guide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN202210806611.XA
Other languages
English (en)
Other versions
CN114983284B (zh
Inventor
曹力
唐成
段飞
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Beijing Xiaomi Mobile Software Co Ltd
Beijing Shunzao Technology Co Ltd
Original Assignee
Beijing Shunzao Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Beijing Shunzao Technology Co Ltd filed Critical Beijing Shunzao Technology Co Ltd
Priority to CN202210806611.XA priority Critical patent/CN114983284B/zh
Priority claimed from CN202210806611.XA external-priority patent/CN114983284B/zh
Publication of CN114983284A publication Critical patent/CN114983284A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN114983284B publication Critical patent/CN114983284B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • AHUMAN NECESSITIES
    • A47FURNITURE; DOMESTIC ARTICLES OR APPLIANCES; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47LDOMESTIC WASHING OR CLEANING; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47L11/00Machines for cleaning floors, carpets, furniture, walls, or wall coverings
    • A47L11/29Floor-scrubbing machines characterised by means for taking-up dirty liquid
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A47FURNITURE; DOMESTIC ARTICLES OR APPLIANCES; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47LDOMESTIC WASHING OR CLEANING; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47L11/00Machines for cleaning floors, carpets, furniture, walls, or wall coverings
    • A47L11/40Parts or details of machines not provided for in groups A47L11/02 - A47L11/38, or not restricted to one of these groups, e.g. handles, arrangements of switches, skirts, buffers, levers
    • A47L11/4091Storing or parking devices, arrangements therefor; Means allowing transport of the machine when it is not being used

Landscapes

  • Drying Of Solid Materials (AREA)

Abstract

本公开提供了一种基站设备的基座,包括:基座壳体,基座壳体形成腔体结构,基座壳体具有进气部以及出气部;气流产生装置,设置在基座之内,用于产生由进气部向出气部流动的气流;加热机构,设置在基座壳体形成的腔体结构之内,加热机构能够对流动的气流进行加热;至少一个气流导向装置,具有进气口以及出气口,气流导向装置对气流产生装置产生的流动的气流进行导向,至少将流动的气流由气流产生装置导向至加热机构;可拆卸托盘,设置在基座壳体上,可拆卸托盘具有导风口,经由出气部流出的气流经由可拆卸托盘的导风口输出至可拆卸托盘上。本公开还提供了一种基站设备。

Description

基站设备的基座、基站设备以及热处理控制方法
技术领域
本公开属于清洁技术领域,本公开尤其涉及一种基站设备的基座、基站设备以及热处理控制方法。
背景技术
现有技术中的表面清洁装置通常可以用于加湿擦洗清洁硬地板或短毛地毯。这种清洁装置通常具有一个或多个由毛织材料制成的滚刷或清洁盘。可以通过添加水或水/清洁剂混合物来擦洗地板上的顽固污垢。
当清洁设备在污垢上移动时,已经被滚刷擦掉并被水或水/洗涤剂混合物溶解的污垢通过沿滚刷运动方向排列的清洁头吸起,在设置清洁盘的技术中,可以不设置清洁头,污垢直接被清洁盘上的清洁材料吸附。
热水的清洁效果是显著有效的。表面清洁装置回到基站,通过加水接头与基站设备水箱对接,实现自动补水,然后继续用热水清扫。
但是在室内温度较低的条件下,热水喷洒到滚刷上清扫的方式,对能量消耗效率来说是不友好的。因为滚刷一般为植毛或绒毛,其具有很大的表面积,一种情形是,在室温较低的情况下,热水喷洒的前一段时间,由于对滚刷的预热和热量的耗散,滚刷仍然有可能是凉水或温水附着状态,此时,在清洁开始的一段时间内,清洁设备的滚刷热水温度始终不能达到理想温度,影响清洁效率,因此需要在清洁设备进行清洁工作前对滚刷进行预热。
另外一种情形是,在清洁工作完毕,滚刷自清洁之后,滚刷上和基站托盘上仍然会残留水分,为细菌的附着和滋生创造了条件。因此,清洁工作结束后,需要将滚刷上的水分和托盘上的水分去除。
现有技术中的基站设备的目的一般仅在于上述第二种情形,例如现有技术中,其设置有导风管,空气从基站设备的进风口导入,经过基站设备的热风机加热形成热风,热风通过导风管从基站设备的出风口导出吹向湿润的滚刷。然而,该基站设备的导风管是将热风以恒定的流体截面导向出风口,虽然出风口分布在滚刷的轴向方向上,然而由于导风管结构的局限性,仍然会导致热风对滚刷的干燥不均匀,影响滚刷干燥的效果。
发明内容
为了解决上述技术问题中的至少一个,本公开提供一种基站设备的基座、基站设备以及热处理控制方法。
本公开的基站设备的基座、基站设备以及热处理控制方法通过以下技术方案实现。
根据本公开的一个方面,提供一种基站设备的基座,包括:
基座壳体,所述基座壳体形成腔体结构,所述基座壳体具有进气部以及出气部;
气流产生装置,所述气流产生装置设置在所述基座之内,用于产生由所述进气部向所述出气部流动的气流;
加热机构,所述加热机构设置在所述基座壳体形成的所述腔体结构之内,所述加热机构能够对所述流动的气流进行加热;以及,
气流导向装置,所述气流导向装置具有进气口以及出气口,所述气流导向装置对所述气流产生装置产生的所述流动的气流进行导向,至少将所述流动的气流由所述气流产生装置导向至所述加热机构。
根据本公开的至少一个实施方式的基座,所述气流导向装置的数量为两个以上,至少一个所述气流导向装置的进气口面积大于出气口面积。
根据本公开的至少一个实施方式的基座,所述气流产生装置的数量与所述气流导向装置的数量相同。
根据本公开的至少一个实施方式的基座,所述气流导向装置为扁平喇叭状结构。
根据本公开的至少一个实施方式的基座,所述气流导向装置的进气口设置有至少一个进气口导流部,所述至少一个进气口导流部对进入所述进气口的气流进行导流。
根据本公开的至少一个实施方式的基座,所述气流导向装置的出气口设置有至少一个出气口导流部,所述至少一个出气口导流部对经由所述出气口流出的气流进行导流。
根据本公开的至少一个实施方式的基座,所述气流导向装置包括导向装置上壳体以及导向装置下壳体,所述导向装置上壳体与所述导向装置下壳体可拆卸地连接。
根据本公开的至少一个实施方式的基座,所述出气口导流部由所述导向装置上壳体的内壁延伸至所述导向装置下壳体的内壁。
根据本公开的至少一个实施方式的基座,所述进气口导流部由所述导向装置上壳体的内壁向下延伸,不延伸至所述导向装置下壳体的内壁。
根据本公开的至少一个实施方式的基座,还包括可拆卸托盘,所述可拆卸托盘设置在所述基座壳体上,所述可拆卸托盘具有导风口,经由所述出气部流出的气流经由所述可拆卸托盘的导风口输出至可拆卸托盘上。
根据本公开的至少一个实施方式的基座,还包括导风部,所述导风部对所述导风口的出风进行导向,导向为朝向所述可拆卸托盘的槽部。
根据本公开的至少一个实施方式的基座,所述基座壳体包括基座下壳体以及基座上壳体,所述基座下壳体与所述基座上壳体可拆卸地连接。
根据本公开的至少一个实施方式的基座,所述加热机构包括发热体以及发热体包裹体,所述发热体包裹体为开放式结构,以使得流动的气流能够被所述发热体加热。
根据本公开的至少一个实施方式的基座,还包括温控开关,所述温控开关与所述发热体的加热电路连接,所述温控开关能够基于所述发热体的温度对所述发热体的工作状态进行控制。
根据本公开的至少一个实施方式的基座,所述进气部设置在基座壳体的后部的侧壁区域,而非后壁区域。
根据本公开的至少一个实施方式的基座,所述基座壳体的后部的侧壁区域为弧形区域,所述进气部为多孔结构。
根据本公开的至少一个实施方式的基座,所述导风部设置在所述基座壳体上,或者,所述导风部与所述基座壳体一体地形成。
根据本公开的至少一个实施方式的基座,所述导风部设置在可拆卸托盘上,或者,所述导风部与所述可拆卸托盘一体地形成。
根据本公开的至少一个实施方式的基座,所述可拆卸托盘与所述基座上壳体通过磁性组件可拆卸地连接。
根据本公开的至少一个实施方式的基座,所述气流产生装置临近所述进气部设置。
根据本公开的至少一个实施方式的基座,所述基座下壳体的内侧壁上设置有存水部或存水区,所述存水部或存水区位于所述加热机构与所述出气部之间。
根据本公开的至少一个实施方式的基座,所述存水部或存水区内设置有水位检测部,当所述存水部或存水区内的水位到达预设水位时,所述水位检测部生成触发信号。
根据本公开的至少一个实施方式的基座,所述水位检测部包括电路板以及设置在所述电路板的同一侧的至少两根电极部,电极部与所述存水部或存水区的最低位置具有预设间距。
根据本公开的至少一个实施方式的基座,所述电极部的数量为两个,且具有相同长度。
根据本公开的至少一个实施方式的基座,所述水位检测部通过支撑部被支撑在所述存水部或存水区之内。
根据本公开的另一个方面,提供一种基站设备,包括:上述任一项的所述的基座。
根据本公开的至少一个实施方式的基站设备,还包括储液箱,所述储液箱设置在所述基座上,用于向停靠在所述基座上的清洁设备提供清洁用液体。
根据本公开的又一个方面,提供一种清洁设备的热处理控制方法,使用上述任一项所述的基座对清洁设备的至少一个清洁部进行热处理,包括:
确定清洁设备的当前的模式类型;以及,
使得所述基座基于所述清洁设备的当前的模式类型对所述清洁设备的所述至少一个清洁部进行热处理。
根据本公开的至少一个实施方式的热处理控制方法,所述清洁设备的模式类型至少包括第一模式类型以及第二模式类型,所述第一模式类型为清洁设备开机准备清洁,所述第二模式类型为清洁设备清洁结束进行自清洁。
根据本公开的至少一个实施方式的热处理控制方法,所述第一模式类型包括:
所述清洁设备的所述至少一个清洁部被驱动以第一速度进行旋转。
根据本公开的至少一个实施方式的热处理控制方法,当所述清洁设备的当前的模式类型为第一模式类型时,所述基座的加热机构被启动以向所述清洁设备的所述至少一个清洁部提供第一预设时长的热干风。
根据本公开的至少一个实施方式的热处理控制方法,所述第二模式类型包括:
S2002、清洁设备的所述至少一个清洁部被驱动以第二速度进行旋转,所述至少一个清洁部被施加清洁液体,所述至少一个清洁部被施加抽吸处理以使得流经所述至少一个清洁部的液体被抽吸入所述清洁设备之内的污水箱;以及
S2004、当步骤S2002持续时间达到第二预设时长,或者,当污水箱内的液量达到预设液量,所述至少一个清洁部停止被施加清洁液体以及所述至少一个清洁部停止被施加抽吸处理,且所述至少一个清洁部被驱动以第三速度进行旋转,所述第三速度低于所述第二速度。
根据本公开的至少一个实施方式的热处理控制方法,当所述清洁设备的所述至少一个清洁部被驱动以第三速度旋转时,所述加热机构被启动以向所述清洁设备的所述至少一个清洁部提供热干风。
附图说明
附图示出了本公开的示例性实施方式,并与其说明一起用于解释本公开的原理,其中包括了这些附图以提供对本公开的进一步理解,并且附图包括在本说明书中并构成本说明书的一部分。
图1是本公开的一个实施方式的基站设备的基座以及基站设备的一个视角的整体结构示意图。
图2是本公开的一个实施方式的基站设备的基座以及基站设备的另一个视角的整体结构示意图。
图3是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的一个视角的整体结构示意图。
图4是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的另一个视角的整体结构示意图。
图5是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的一个视角的局部结构示意图。
图6是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的可拆卸托盘的结构示意图。
图7是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的又一个视角的局部结构示意图。
图8是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的又一个视角的局部结构示意图。
图9是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的加热机构的结构示意图。
图10是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的又一个视角的局部结构示意图。
图11是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的又一个视角的局部结构示意图。
图12是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的气流导向装置的局部结构示意图。
图13是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的水位检测部的结构示意图。
图14是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的剖面结构示意图。
附图标记说明
100 基座
101 基座下壳体
102 基座上壳体
110 可拆卸托盘
120 气流导向装置
121 导向装置上壳体
122 进气口导流部
123 出气口导流部
124 导向装置下壳体
130 气流产生装置
140 导风部
150 加热机构
160 水位检测部
170 温控开关
180 进气部
190 出气部
200 储液箱
300 收纳箱
400 支撑机构
1000 基站设备
1101 槽部
1102 安装结构
1501 发热体
1502 发热体包裹体
1503 多孔结构
1601 电极部
1602 电路板。
具体实施方式
下面结合附图和实施方式对本公开作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施方式仅用于解释相关内容,而非对本公开的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与本公开相关的部分。
需要说明的是,在不冲突的情况下,本公开中的实施方式及实施方式中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施方式来详细说明本公开的技术方案。
除非另有说明,否则示出的示例性实施方式/实施例将被理解为提供可以在实践中实施本公开的技术构思的一些方式的各种细节的示例性特征。因此,除非另有说明,否则在不脱离本公开的技术构思的情况下,各种实施方式/实施例的特征可以另外地组合、分离、互换和/或重新布置。
在附图中使用交叉影线和/或阴影通常用于使相邻部件之间的边界变得清晰。如此,除非说明,否则交叉影线或阴影的存在与否均不传达或表示对部件的具体材料、材料性质、尺寸、比例、示出的部件之间的共性和/或部件的任何其它特性、属性、性质等的任何偏好或者要求。此外,在附图中,为了清楚和/或描述性的目的,可以夸大部件的尺寸和相对尺寸。当可以不同地实施示例性实施例时,可以以不同于所描述的顺序来执行具体的工艺顺序。例如,可以基本同时执行或者以与所描述的顺序相反的顺序执行两个连续描述的工艺。此外,同样的附图标记表示同样的部件。
当一个部件被称作“在”另一部件“上”或“之上”、“连接到”或“结合到”另一部件时,该部件可以直接在所述另一部件上、直接连接到或直接结合到所述另一部件,或者可以存在中间部件。然而,当部件被称作“直接在”另一部件“上”、“直接连接到”或“直接结合到”另一部件时,不存在中间部件。为此,术语“连接”可以指物理连接、电气连接等,并且具有或不具有中间部件。
为了描述性目的,本公开可使用诸如“在……之下”、“在……下方”、“在……下”、“下”、“在……上方”、“上”、“在……之上”、“较高的”和“侧(例如,在“侧壁”中)”等的空间相对术语,从而来描述如附图中示出的一个部件与另一(其它)部件的关系。除了附图中描绘的方位之外,空间相对术语还意图包含设备在使用、操作和/或制造中的不同方位。例如,如果附图中的设备被翻转,则被描述为“在”其它部件或特征“下方”或“之下”的部件将随后被定位为“在”所述其它部件或特征“上方”。因此,示例性术语“在……下方”可以包含“上方”和“下方”两种方位。此外,设备可被另外定位(例如,旋转90度或者在其它方位处),如此,相应地解释这里使用的空间相对描述语。
这里使用的术语是为了描述具体实施例的目的,而不意图是限制性的。如这里所使用的,除非上下文另外清楚地指出,否则单数形式“一个(种、者)”和“所述(该)”也意图包括复数形式。此外,当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”以及它们的变型时,说明存在所陈述的特征、整体、步骤、操作、部件、组件和/或它们的组,但不排除存在或附加一个或更多个其它特征、整体、步骤、操作、部件、组件和/或它们的组。还要注意的是,如这里使用的,术语“基本上”、“大约”和其它类似的术语被用作近似术语而不用作程度术语,如此,它们被用来解释本领域普通技术人员将认识到的测量值、计算值和/或提供的值的固有偏差。
图1是本公开的一个实施方式的基站设备的基座以及基站设备的一个视角的整体结构示意图。图2是本公开的一个实施方式的基站设备的基座以及基站设备的另一个视角的整体结构示意图。图3是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的一个视角的整体结构示意图。图4是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的另一个视角的整体结构示意图。图5是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的一个视角的局部结构示意图。图6是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的可拆卸托盘的结构示意图。图7是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的又一个视角的局部结构示意图。图8是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的又一个视角的局部结构示意图。图9是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的加热机构的结构示意图。图10是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的又一个视角的局部结构示意图。图11是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的又一个视角的局部结构示意图。图12是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的气流导向装置的局部结构示意图。图13是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的水位检测部的结构示意图。图14是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的剖面结构示意图。
下文参考图1至图14对本公开的基站设备的基座以及基站设备进行详细说明。
首先参考图1至图5,根据本公开的一个实施方式的基站设备的基座100,包括:
基座壳体,基座壳体形成腔体结构,基座壳体具有进气部180以及出气部190;
气流产生装置130,气流产生装置130设置在基座之内,用于产生由进气部180向出气部190流动的气流;
加热机构150,加热机构150设置在基座壳体形成的腔体结构之内,加热机构150能够对流动的气流进行加热;以及,
气流导向装置120,气流导向装置120具有进气口以及出气口,气流导向装置120对气流产生装置130产生的流动的气流进行导向,至少将流动的气流由气流产生装置130导向至加热机构150。
本公开通过设置气流导向装置120,将气流由气流产生装置130导向至加热机构150,能够增大加热机构150的气流利用效率,在不需要过大的功率的情况下,气流产生装置130即能够满足使用要求的气流量,降低基座100的功耗,其中,气流产生装置130可以是风扇装置等。本领域技术人员可以基于实际情形选择是否启动加热机构150,以选择进行烘干操作或者风干操作。
参考图3,气流产生装置130可以设置在基座下壳体101之内,图3示出的实施方式的基座100的气流产生装置130未设置在基座壳体形成的腔体结构之内,本领域技术人员可以对基座壳体的具体结构、形状进行适当调整。
气流产生装置130可以是风扇装置或者风机装置,数量可以是一个也可以是两个以上,图4中示出了两个气流产生装置130,根据本公开的优选实施方式,气流产生装置130还套设有缓冲层或缓冲垫,缓冲层或缓冲垫可以是风机套的形式,以缓冲气流产生装置130在工作过程的振动。
根据本公开的优选实施方式的基座100,气流导向装置120的数量为两个以上,至少一个气流导向装置120的进气口面积大于出气口面积。
本实施方式将气流导向装置120的数量设置为两个以上,是为了在清洁设备(例如洗地机设备)的滚刷较长时,保证整个滚刷的长度方向均能够被烘干/风干,保证烘干/风干效果,缩短烘干/风干时间。
图5示出了两个气流导向装置120。
对于上述各个实施方式的基座100,优选地,气流产生装置130的数量与气流导向装置120的数量相同。
根据本公开的优选实施方式的基座100,气流导向装置120为扁平喇叭状结构。
将气流导向装置120设置为扁平喇叭状结构,能够在满足对气流进行导向需求的同时,节省占用空间,不导致基座100尺寸的增大。
参考图5,根据本公开的优选实施方式的基座100,气流导向装置120的进气口设置有至少一个进气口导流部122,至少一个进气口导流部122对进入进气口的气流进行导流。
其中,进气口导流部122可以是导流片的形式,图5中示例性地示出了两个进气口导流部122,本领域技术人员可以对进气口导流部122的结构、数量进行适当地调整。
通过设置进气口导流部122,能够进一步提高气流产生装置130的利用效率。
参考图10以及图12,根据本公开的优选实施方式的基座100,气流导向装置120的出气口设置有至少一个出气口导流部123,至少一个出气口导流部123对经由出气口流出的气流进行导流。
其中,出气口导流部123可以是导流片的形式,图10和图12中示例性地示出了一个出气口导流部123,本领域技术人员可以对出气口导流部123的结构、数量进行适当地调整。
通过设置出气口导流部123,能够使得气流被加热机构150充分加热。
对于上述各个实施方式的基座100,参考图12以及图14,优选地,气流导向装置120包括导向装置上壳体121以及导向装置下壳体124,导向装置上壳体121与导向装置下壳体124可拆卸地连接。
对于上述各个实施方式的基座100,优选地,出气口导流部123由导向装置上壳体121的内壁延伸至导向装置下壳体124的内壁。
根据本公开的优选实施方式,出气口导流部123固定设置在导向装置上壳体121的内壁上。
根据本公开的优选实施方式,进气口导流部122由导向装置上壳体121的内壁向下延伸,不延伸至导向装置下壳体124的内壁。
本实施方式中的进气口导流部122的上述结构设计,是为了在满足对气流产生装置130产生的气流导向的同时,避免对由进气口进入的气流进行过度阻挡。
本实施方式中,进气口导流部122固定设置在导向装置上壳体121的内壁。
对于上述各个实施方式的基座100,参考图1以及图6,优选地,还包括可拆卸托盘110,可拆卸托盘110设置在基座壳体上,可拆卸托盘110具有导风口,经由出气部190流出的气流经由可拆卸托盘110的导风口输出至可拆卸托盘110上。
参考图14,可拆卸托盘110安装在基座壳体上时,导风口恰好与出气部190对上,气流可以按照箭头方向流动,以对放置于可拆卸托盘110上的滚刷等部件进行烘干或者风干。
根据本公开的优选实施方式,参考图4至图6,基座100还包括导风部140,导风部140对导风口的出风进行导向,导向为朝向可拆卸托盘110的槽部1101。
参考图6,槽部1101为可拆卸托盘110上的凹形区域,用于放置滚刷等部件。
图6中还示出了可拆卸托盘110上的安装结构1102,通过安装结构1102将可拆卸托盘110与基座壳体可拆卸地安装。
对于上述各个实施方式的基座100,优选地,基座壳体包括基座下壳体101以及基座上壳体102,基座下壳体101与基座上壳体102可拆卸地连接。
对于上述各个实施方式的基座100,优选地,加热机构150包括发热体1501以及发热体包裹体1502,发热体包裹体1502为开放式结构,以使得流动的气流能够被发热体1501加热。
根据本公开的优选实施方式,加热机构150为双层结构,参考图9,具有两层发热体1501及发热体包裹体1502,两层结构之间形成多孔结构1503,以利于气流的流动。
其中,发热体1501可以为PTC发热体,发热体包裹体1502优选地采用耐高温材质,防止加热后变形而导致加热机构的功能失效。
根据本公开的优选实施方式,加热机构150与基座壳体的内壁之间设置间隙,防止热量的过快传导至基座壳体。
对于上述各个实施方式的基座100,优选地,参考图10,还包括温控开关170,温控开关170与发热体1501的加热电路连接,温控开关170能够基于发热体1501的温度对发热体1501的工作状态进行控制。
优选地,当温控开关170检测到发热体1501的温度达到第一预设阈值时,温控开关170跳闸以将发热体1501的加热电路断开,当温度降到第二预设阈值时,温控开关170自动接通,发热体1501继续加热,从而保证出风温度始终保持在预设范围,保证干燥效果。
优选地,温控开关170通过硅脂紧贴发热体1501。
对于上述各个实施方式的基座100,参考图2,优选地,进气部180设置在基座壳体的后部的侧壁区域,而非后壁区域。
更优选地,基座壳体的后部的侧壁区域为弧形区域,进气部180为多孔结构。
参考图2,通过本实施方式的进气部180的位置、结构设计,将进气部180设置在基座壳体的后部的左右两侧,而非正后面,防止基站设备贴墙时,导致墙面挡住进气部180从而影响进风量,影响滚刷干燥效果。
对于上述各个实施方式的基座100,优选地,导风部140设置在基座壳体上,或者,导风部140与基座壳体一体地形成。
对于上述各个实施方式的基座100,优选地,导风部140设置在可拆卸托盘110上,或者,导风部140与可拆卸托盘110一体地形成。
对于上述各个实施方式的基座100,优选地,可拆卸托盘110与基座上壳体102通过磁性组件可拆卸地连接。
对于上述各个实施方式的基座100,优选地,气流产生装置130临近进气部180设置。
参考图7和图8,优选地,基座100的基座下壳体101的内侧壁上设置有存水部或存水区,存水部或存水区位于加热机构150与出气部190之间。
更优选地,存水部或存水区内设置有水位检测部160,当存水部或存水区内的水位到达预设水位时,水位检测部160生成触发信号。
参考图13,优选地,水位检测部160包括电路板1602以及设置在电路板1602的同一侧的至少两根电极部1601,电极部1601与存水部或存水区的最低位置具有预设间距。
优选地,电极部1601的数量为两个,且具有相同长度。
上述实施方式中,水位检测部160通过支撑部被支撑在存水部或存水区之内。
根据本公开的一个实施方式的基站设备1000,包括:上述任一个实施方式的基座100。
根据本公开的优选实施方式,基站设备1000还包括储液箱200,储液箱200设置在基座100上,用于向停靠在基座100上的清洁设备(未示出)提供清洁用液体。
其中,储液箱200可以通过支撑机构400固定设置在基座100上。
再次参考图2,对于上述各个实施方式的基座100,也可以不包括上文描述的进气部180,气流导向装置120的进气口作为基座100的进气部,可将进气部180形成在支撑机构400上,例如形成在支撑机构400的后盖部上,即将图2中示出的进气部180作为支撑机构400的一分部。
其中,支撑机构400可以是支撑柱的形式也可以是支撑架的形式。
对于上述实施方式的基站设备1000,优选地,还包括收纳箱300,收纳箱300用于收纳清洁设备的子部件。
其中,清洁设备的子部件例如清洁刷、滚刷等,收纳箱300之内可以设置一个或者多个保持结构,用于对清洁刷、滚刷等进行保持。
收纳箱300可以具有收纳箱门,收纳箱门能够被打开及关闭。
本公开的基站设备1000,可以在清洁设备工作之前,将清洁设备置于基座100上,对清洁设备的清洁部(例如滚刷)进行预热,也可以拆卸下上文描述的可拆卸托盘110,直接将清洁设备的清洁部放置于基座100的基座上壳体102上进行预热。
本公开的基站设备1000,还可以在清洁设备工作结束之后,将清洁设备置于基座100上,对清洁设备的清洁部进行烘干。
根据本公开的一个实施方式的清洁设备的热处理控制方法,包括:
S102、确定清洁设备的当前的模式类型;以及,
S104、使得基站设备基于清洁设备的当前的模式类型对清洁设备的至少一个清洁部进行热处理。
上述实施方式中,清洁设备的模式类型至少包括第一模式类型以及第二模式类型,第一模式类型为清洁设备开机准备清洁,第二模式类型为清洁设备清洁结束进行自清洁。
优选地,第一模式类型包括:
清洁设备的至少一个清洁部被驱动以第一速度进行旋转。
优选地,当清洁设备的当前的模式类型为第一模式类型时,基座的加热机构被启动以向清洁设备的至少一个清洁部提供第一预设时长的热干风。
其中,清洁设备在进行清洁工作之前,被置于基座上,可以通过使得清洁部进行低速旋转,加热机构向清洁部提供热干风以对其进行均匀预热。
可以通过清洁设备之内的驱动装置对清洁部进行驱动以使得清洁部以第一速进行第一预设时长的旋转。
本实施方式中,可以在清洁设备被置于基座上时,清洁设备与基站设备通信连接,基站设备获取清洁设备的模式类型,基站设备基于清洁设备的模式类型对清洁设备进行相应地热处理。
对于上述各个实施方式的清洁设备的热处理控制方法,第二模式类型包括:
S2002、清洁设备的至少一个清洁部被驱动以第二速度进行旋转,至少一个清洁部被施加清洁液体,至少一个清洁部被施加抽吸处理以使得流经至少一个清洁部的液体被抽吸入清洁设备之内的污水箱;以及,
S2004、当步骤S2002持续时间达到第二预设时长,或者,当污水箱内的液量达到预设液量,至少一个清洁部停止被施加清洁液体以及至少一个清洁部停止被施加抽吸处理,且至少一个清洁部被驱动以第三速度进行旋转,第三速度低于第二速度。
对于上述实施方式的清洁设备的热处理方法,当清洁设备的至少一个清洁部被驱动以第三速度旋转时,加热机构被启动以向清洁设备的至少一个清洁部提供热干风。
其中,可以将清洁部以第三速度旋转的时长与加热机构提供热干风的时长设置为相同,例如均为第三预设时长。
在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例/方式”、“一些实施例/方式”、“示例”、“具体示例”或“一些示例”等的描述意指结合该实施例/方式或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本公开的至少一个实施例/方式或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例/方式或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例/方式或示例中以合适的方式结合。此外,在不相互矛盾的情况下,本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例/方式或示例以及不同实施例/方式或示例的特征进行结合和组合。
此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本公开的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。
本领域的技术人员应当理解,上述实施方式仅仅是为了清楚地说明本公开,而并非是对本公开的范围进行限定。对于所属领域的技术人员而言,在上述公开的基础上还可以做出其它变化或变型,并且这些变化或变型仍处于本公开的范围内。

Claims (10)

1.一种基站设备的基座,其特征在于,包括:
基座壳体,所述基座壳体形成腔体结构,所述基座壳体具有进气部以及出气部;
气流产生装置,所述气流产生装置设置在所述基座之内,用于产生由所述进气部向所述出气部流动的气流;
加热机构,所述加热机构设置在所述基座壳体形成的所述腔体结构之内,所述加热机构能够对所述流动的气流进行加热;
至少一个气流导向装置,所述气流导向装置具有进气口以及出气口,所述气流导向装置对所述气流产生装置产生的所述流动的气流进行导向,至少将所述流动的气流由所述气流产生装置导向至所述加热机构,至少一个所述气流导向装置的进气口面积大于出气口面积;以及
可拆卸托盘,所述可拆卸托盘设置在所述基座壳体上,所述可拆卸托盘具有导风口,经由所述出气部流出的气流经由所述可拆卸托盘的导风口输出至可拆卸托盘上。
2.根据权利要求1所述的基座,其特征在于,还包括导风部,所述导风部对所述导风口的出风进行导向,导向为朝向所述可拆卸托盘的槽部。
3.根据权利要求2所述的基座,其特征在于,所述导风部设置在所述基座壳体上,或者,所述导风部与所述基座壳体一体地形成。
4.根据权利要求2所述的基座,其特征在于,所述导风部设置在可拆卸托盘上,或者,所述导风部与所述可拆卸托盘一体地形成。
5.根据权利要求1所述的基座,其特征在于,所述气流导向装置的数量为两个以上。
6.根据权利要求1所述的基座,其特征在于,所述气流产生装置的数量与所述气流导向装置的数量相同。
7.根据权利要求1所述的基座,其特征在于,所述气流导向装置为扁平喇叭状结构。
8.根据权利要求1所述的基座,其特征在于,所述气流导向装置的进气口设置有至少一个进气口导流部,所述至少一个进气口导流部对进入所述进气口的气流进行导流;
优选地,所述气流导向装置的出气口设置有至少一个出气口导流部,所述至少一个出气口导流部对经由所述出气口流出的气流进行导流;
优选地,所述气流导向装置包括导向装置上壳体以及导向装置下壳体,所述导向装置上壳体与所述导向装置下壳体可拆卸地连接;
优选地,所述出气口导流部由所述导向装置上壳体的内壁延伸至所述导向装置下壳体的内壁;
优选地,所述进气口导流部由所述导向装置上壳体的内壁向下延伸,不延伸至所述导向装置下壳体的内壁;
优选地,所述基座壳体包括基座下壳体以及基座上壳体,所述基座下壳体与所述基座上壳体可拆卸地连接;
优选地,所述加热机构包括发热体以及发热体包裹体,所述发热体包裹体为开放式结构,以使得流动的气流能够被所述发热体加热;
优选地,还包括温控开关,所述温控开关与所述发热体的加热电路连接,所述温控开关能够基于所述发热体的温度对所述发热体的工作状态进行控制;
优选地,所述进气部设置在基座壳体的侧壁和后壁之间的连接区域;
优选地,所述连接区域为弧形区域,所述进气部为多孔结构;
优选地,所述可拆卸托盘与所述基座上壳体通过磁性组件可拆卸地连接;
优选地,所述气流产生装置临近所述进气部设置;
优选地,所述基座下壳体的内侧壁上设置有存水部或存水区,所述存水部或存水区位于所述加热机构与所述出气部之间;
优选地,所述存水部或存水区内设置有水位检测部,当所述存水部或存水区内的水位到达预设水位时,所述水位检测部生成触发信号;
优选地,所述水位检测部包括电路板以及设置在所述电路板的同一侧的至少两根电极部,电极部与所述存水部或存水区的最低位置具有预设间距;
优选地,所述电极部的数量为两个,且具有相同长度;
优选地,所述水位检测部通过支撑部被支撑在所述存水部或存水区之内。
9.一种基站设备,其特征在于,包括:
权利要求1至8中任一项所述的基座;
优选地,还包括储液箱,所述储液箱设置在所述基座上,用于向停靠在所述基座上的清洁设备提供清洁用液体。
10.一种清洁设备的热处理控制方法,其特征在于,使用权利要求1至8中任一项所述的基座对清洁设备的至少一个清洁部进行热处理,包括:
确定清洁设备的当前的模式类型;以及
使得所述基座基于所述清洁设备的当前的模式类型对所述清洁设备的所述至少一个清洁部进行热处理;
优选地,所述清洁设备的模式类型至少包括第一模式类型以及第二模式类型,所述第一模式类型为清洁设备开机准备清洁,所述第二模式类型为清洁设备清洁结束进行自清洁;
优选地,所述第一模式类型包括:
所述清洁设备的所述至少一个清洁部被驱动以第一速度进行旋转;
优选地,当所述清洁设备的当前的模式类型为第一模式类型时,所述基座的加热机构被启动以向所述清洁设备的所述至少一个清洁部提供第一预设时长的热干风;
优选地,所述第二模式类型包括:
S2002、清洁设备的所述至少一个清洁部被驱动以第二速度进行旋转,所述至少一个清洁部被施加清洁液体,所述至少一个清洁部被施加抽吸处理以使得流经所述至少一个清洁部的液体被抽吸入所述清洁设备之内的污水箱;以及
S2004、当步骤S2002持续时间达到第二预设时长,或者,当污水箱内的液量达到预设液量,所述至少一个清洁部停止被施加清洁液体以及所述至少一个清洁部停止被施加抽吸处理,且所述至少一个清洁部被驱动以第三速度进行旋转,所述第三速度低于所述第二速度;
优选地,当所述清洁设备的所述至少一个清洁部被驱动以第三速度旋转时,所述加热机构被启动以向所述清洁设备的所述至少一个清洁部提供热干风。
CN202210806611.XA 2021-07-01 基站设备的基座、基站设备以及热处理控制方法 Active CN114983284B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210806611.XA CN114983284B (zh) 2021-07-01 基站设备的基座、基站设备以及热处理控制方法

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210806611.XA CN114983284B (zh) 2021-07-01 基站设备的基座、基站设备以及热处理控制方法
CN202110748176.5A CN113317728B (zh) 2021-07-01 2021-07-01 基站设备的基座、基站设备以及热处理控制方法

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202110748176.5A Division CN113317728B (zh) 2021-07-01 2021-07-01 基站设备的基座、基站设备以及热处理控制方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN114983284A true CN114983284A (zh) 2022-09-02
CN114983284B CN114983284B (zh) 2024-06-25

Family

ID=

Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106725135A (zh) * 2016-12-16 2017-05-31 云翊智能科技(东莞)有限公司 基站和清洁机器人系统
CN107752926A (zh) * 2016-08-18 2018-03-06 德国福维克控股公司 用于湿式清洁设备的维护装置
CN109528111A (zh) * 2018-12-28 2019-03-29 云鲸智能科技(东莞)有限公司 基站
CN110881900A (zh) * 2018-09-10 2020-03-17 苏州宝时得电动工具有限公司 清洁系统以及清洁系统的基站
CN210384460U (zh) * 2019-01-29 2020-04-24 宁波方太厨具有限公司 一种带有地面干燥装置的消毒柜
CN111358391A (zh) * 2019-11-21 2020-07-03 添可智能科技有限公司 一种清洗托盘及清洗机组件
CN111657788A (zh) * 2019-03-08 2020-09-15 德国福维克控股公司 抽吸物收集基站、抽吸清洁设备和系统
CN112057000A (zh) * 2020-09-30 2020-12-11 苏州普发科技有限公司 家用洗地机及其自清洗方法
CN112244701A (zh) * 2020-10-22 2021-01-22 深圳市洁傲智能科技有限公司 智能洗地机的自清洁-烘干方法和组件
CN112401771A (zh) * 2020-12-10 2021-02-26 江苏美的清洁电器股份有限公司 清洁设备及其滚刷清洁方法
CN112656318A (zh) * 2020-12-24 2021-04-16 广东德尔玛科技股份有限公司 一种烘干底座和洗地机
CN112914448A (zh) * 2021-03-15 2021-06-08 深圳市杰深科技有限公司 清洁收纳座和自清洁的清洁机
CN112932346A (zh) * 2021-03-23 2021-06-11 深圳市银星智能科技股份有限公司 清洁基站及清洁机器人系统
CN213429958U (zh) * 2020-08-10 2021-06-15 广州视源电子科技股份有限公司 干燥机
CN215016836U (zh) * 2021-07-01 2021-12-07 北京顺造科技有限公司 基站设备的基座及基站设备

Patent Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107752926A (zh) * 2016-08-18 2018-03-06 德国福维克控股公司 用于湿式清洁设备的维护装置
CN106725135A (zh) * 2016-12-16 2017-05-31 云翊智能科技(东莞)有限公司 基站和清洁机器人系统
CN110881900A (zh) * 2018-09-10 2020-03-17 苏州宝时得电动工具有限公司 清洁系统以及清洁系统的基站
CN109528111A (zh) * 2018-12-28 2019-03-29 云鲸智能科技(东莞)有限公司 基站
CN210384460U (zh) * 2019-01-29 2020-04-24 宁波方太厨具有限公司 一种带有地面干燥装置的消毒柜
CN111657788A (zh) * 2019-03-08 2020-09-15 德国福维克控股公司 抽吸物收集基站、抽吸清洁设备和系统
CN111358391A (zh) * 2019-11-21 2020-07-03 添可智能科技有限公司 一种清洗托盘及清洗机组件
CN213429958U (zh) * 2020-08-10 2021-06-15 广州视源电子科技股份有限公司 干燥机
CN112057000A (zh) * 2020-09-30 2020-12-11 苏州普发科技有限公司 家用洗地机及其自清洗方法
CN112244701A (zh) * 2020-10-22 2021-01-22 深圳市洁傲智能科技有限公司 智能洗地机的自清洁-烘干方法和组件
CN112401771A (zh) * 2020-12-10 2021-02-26 江苏美的清洁电器股份有限公司 清洁设备及其滚刷清洁方法
CN112656318A (zh) * 2020-12-24 2021-04-16 广东德尔玛科技股份有限公司 一种烘干底座和洗地机
CN112914448A (zh) * 2021-03-15 2021-06-08 深圳市杰深科技有限公司 清洁收纳座和自清洁的清洁机
CN112932346A (zh) * 2021-03-23 2021-06-11 深圳市银星智能科技股份有限公司 清洁基站及清洁机器人系统
CN215016836U (zh) * 2021-07-01 2021-12-07 北京顺造科技有限公司 基站设备的基座及基站设备

Also Published As

Publication number Publication date
CN113317728A (zh) 2021-08-31
CN113317728B (zh) 2022-08-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN215016836U (zh) 基站设备的基座及基站设备
CN113317728B (zh) 基站设备的基座、基站设备以及热处理控制方法
CN113243845B (zh) 基站设备、表面清洁系统及烘干处理控制方法
CN112401771A (zh) 清洁设备及其滚刷清洁方法
CN113243856B (zh) 具有收纳装置的基站设备及表面清洁系统
WO2022237480A1 (zh) 清洁设备控制方法及清洁设备
CN112716390A (zh) 底座及具有其的清洁系统
CN215937242U (zh) 清洁系统及清洁设备
CN113317725B (zh) 基站设备及清洁系统
CN113243858B (zh) 基站设备及表面清洁系统
CN214965126U (zh) 基站设备及清洁系统
CN221083548U (zh) 一种清洁设备用除湿托盘和清洁设备
CN117297409A (zh) 表面清洁系统及表面清洁系统的控制方法
CN113413098B (zh) 清洁系统
CN208957991U (zh) 湿式清洁设备
WO2022228242A1 (zh) 基站设备、表面清洁系统及烘干处理控制方法
CN115486758B (zh) 表面清洁系统的控制方法及表面清洁系统
CN114983284B (zh) 基站设备的基座、基站设备以及热处理控制方法
CN214712341U (zh) 具有烘干机构的基站设备及表面清洁系统
CN215937261U (zh) 基站设备的基座及基站设备
CN218165162U (zh) 一种清洁辊均匀干燥的表面清洁系统
WO2023274238A1 (zh) 基站设备的基座、基站设备以及热处理控制方法
CN114098560A (zh) 地刷机构、洗地机主体及洗地机
WO2023000932A1 (zh) 清洁系统及清洁设备
WO2022228243A1 (zh) 具有收纳装置的基站设备及表面清洁系统

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20240527

Address after: 100085 Room 101, 1st floor, building 1, yard 16, anningzhuang East Road, Haidian District, Beijing

Applicant after: Beijing Shunzao Technology Co.,Ltd.

Country or region after: China

Applicant after: BEIJING XIAOMI MOBILE SOFTWARE Co.,Ltd.

Address before: 100085 Room 101, 1st floor, building 1, yard 16, anningzhuang East Road, Haidian District, Beijing

Applicant before: Beijing Shunzao Technology Co.,Ltd.

Country or region before: China

GR01 Patent grant