CN215937242U - 清洁系统及清洁设备 - Google Patents

Abstract

本公开提供一种清洁系统，包括：清洁设备；以及基站设备，基站设备至少能够向清洁设备提供热气流；清洁设备包括：回收系统，回收系统包括清洁头装置、回收路径以及回收箱，清洁头装置及回收箱至少部分地限定回收路径；气流产生装置；以及控制器，控制器控制气流产生装置关闭以使得清洁设备基于基站设备提供的热气流被干燥处理，热气流不流经回收箱。本公开还提供一种清洁设备。

Description

清洁系统及清洁设备

技术领域

本公开属于清洁设备技术领域，本公开尤其涉及一种清洁系统及清洁设备。

背景技术

现有技术中的清洁设备通常可以用于加湿擦洗清洁硬地板或短毛地毯。这种清洁设备通常具有一个或多个由毛织材料制成的滚刷或清洁盘。可以通过添加水或水/清洁剂混合物来擦洗地板上的顽固污垢。

当清洁设备在污垢上移动时，已经被滚刷擦掉并被水或水/洗涤剂混合物溶解的污垢通过沿滚刷运动方向排列的清洁头吸起，在设置清洁盘的技术中，可以不设置清洁头，污垢直接被清洁盘上的清洁材料吸附。

通过在清洁设备中设置气流产生装置，能够将清洁设备清洁的污物收集至设置在清洁设备中的污物储存装置例如回收箱中。

清洁设备的清洁部(例如滚刷、清洁盘等)往往进行湿式清洁，清洁设备在清洁工作结束之后，需要对清洁部进行干燥处理，避免清洁部滋生细菌、发霉发臭，在对清洁部进行干燥处理的过程中，干燥处理一般基于热强制气流而进行，现有技术中一般是通过开启清洁设备的气流产生装置产生用于干燥处理的热强制气流，用于干燥处理的热强制气流需流经清洁设备的回收箱，热强制气流进入回收箱导致回收箱内温度升高，增加了细菌滋生的可能，细菌的滋生导致回收箱发臭。热强制气流。

实用新型内容

为了解决上述技术问题中的至少一个，本公开提供一种清洁系统及清洁设备。

本公开的清洁系统及清洁设备通过以下技术方案实现。

根据本公开的一个方面，提供一种清洁系统，包括：

清洁设备；以及，

基站设备，所述基站设备至少能够向所述清洁设备提供热气流；

所述清洁设备包括：

回收系统，所述回收系统包括清洁头装置、回收路径以及回收箱，所述清洁头装置及所述回收箱至少部分地限定所述回收路径；

气流产生装置；以及，

控制器，所述控制器控制所述气流产生装置关闭以使得所述清洁设备基于所述基站设备提供的热气流被干燥处理，所述热气流不流经所述回收箱。

根据本公开的至少一个实施方式的清洁系统，所述热气流被提供至所述清洁头装置之内。

根据本公开的至少一个实施方式的清洁系统，所述热气流被提供至至少部分地设置在所述清洁头装置之内的清洁部。

根据本公开的至少一个实施方式的清洁系统，所述热气流不流经所述回收路径。

根据本公开的至少一个实施方式的清洁系统，所述清洁头装置被置于所述基站设备上以被所述热气流干燥处理。

根据本公开的至少一个实施方式的清洁系统，所述清洁设备被干燥处理的过程中，所述清洁部被驱动。

根据本公开的至少一个实施方式的清洁系统，所述控制器为控制电路板或者控制芯片。

根据本公开的至少一个实施方式的清洁系统，所述基站设备包括：

基座，所述基座包括基座壳体，所述基座壳体形成腔体结构，所述基座壳体具有进气部以及出气部；

气流发生器，所述气流发生器设置在所述基座之内，用于产生由所述进气部向所述出气部流动的气流；以及，

加热机构，所述加热机构设置在所述基座壳体形成的所述腔体结构之内，所述加热机构能够对所述流动的气流进行加热以形成所述热气流。

根据本公开的另一个方面，提供一种清洁设备，包括：

回收系统，所述回收系统包括清洁头装置、回收路径以及回收箱，所述清洁头装置及所述回收箱至少部分地限定所述回收路径；

气流产生装置；以及，

控制器，所述控制器至少控制所述气流产生装置形成强制气流以使得所述清洁设备执行干燥处理过程，所述干燥处理过程中的所述强制气流不流经所述回收箱，且所述干燥处理过程中的所述强制气流被提供至所述清洁头装置之内。

根据本公开的至少一个实施方式的清洁设备，所述干燥处理过程中的所述强制气流被提供至至少部分地设置在所述清洁头装置之内的清洁部。

根据本公开的至少一个实施方式的清洁设备，所述气流产生装置包括第一气流产生部，所述控制器控制所述第一气流产生部形成不流经所述回收箱的所述强制气流。

根据本公开的至少一个实施方式的清洁设备，所述气流产生装置包括第二气流产生部，所述控制器控制所述第二气流产生部产生流经所述回收箱的强制气流，以对所述清洁头装置收集的污物进行回收。

根据本公开的至少一个实施方式的清洁设备，还包括热发生装置，所述热发生装置能够被所述控制器控制进行发热，使得干燥处理过程中的所述强制气流被所述热发生装置加热以生成热强制气流。

根据本公开的至少一个实施方式的清洁设备，所述热发生装置设置在所述清洁头装置之内。

根据本公开的至少一个实施方式的清洁设备，所述热发生装置设置在干燥路径上。

根据本公开的至少一个实施方式的清洁设备，还包括气流产生装置壳体，所述气流产生装置设置在所述气流产生装置壳体之内，所述气流产生装置壳体具有第一气口部以及第二气口部。

附图说明

附图示出了本公开的示例性实施方式，并与其说明一起用于解释本公开的原理，其中包括了这些附图以提供对本公开的进一步理解，并且附图包括在本说明书中并构成本说明书的一部分。

图1是根据本公开的一个实施方式的清洁设备的结构示意图。

图2是根据本公开的又一个实施方式的清洁设备的结构示意图。

图3是根据本公开的一个实施方式的清洁设备的清洁头装置的结构示意图。

图4是本公开的一个实施方式的基站设备的基座以及基站设备的一个视角的整体结构示意图。

图5是本公开的一个实施方式的基站设备的基座以及基站设备的另一个视角的整体结构示意图。

图6是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的一个视角的整体结构示意图。

图7是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的另一个视角的整体结构示意图。

图8是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的一个视角的局部结构示意图。

图9是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的可拆卸托盘的结构示意图。

图10是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的又一个视角的局部结构示意图。

图11是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的又一个视角的局部结构示意图。

图12是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的加热机构的结构示意图。

图13是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的又一个视角的局部结构示意图。

图14是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的又一个视角的局部结构示意图。

图15是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的气流导向装置的局部结构示意图。

图16是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的水位检测部的结构示意图。

图17是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的剖面结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施方式对本公开作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于解释相关内容，而非对本公开的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本公开相关的部分。

需要说明的是，在不冲突的情况下，本公开中的实施方式及实施方式中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施方式来详细说明本公开的技术方案。

除非另有说明，否则示出的示例性实施方式/实施例将被理解为提供可以在实践中实施本公开的技术构思的一些方式的各种细节的示例性特征。因此，除非另有说明，否则在不脱离本公开的技术构思的情况下，各种实施方式/实施例的特征可以另外地组合、分离、互换和/或重新布置。

在附图中使用交叉影线和/或阴影通常用于使相邻部件之间的边界变得清晰。如此，除非说明，否则交叉影线或阴影的存在与否均不传达或表示对部件的具体材料、材料性质、尺寸、比例、示出的部件之间的共性和/或部件的任何其它特性、属性、性质等的任何偏好或者要求。此外，在附图中，为了清楚和/或描述性的目的，可以夸大部件的尺寸和相对尺寸。当可以不同地实施示例性实施例时，可以以不同于所描述的顺序来执行具体的工艺顺序。例如，可以基本同时执行或者以与所描述的顺序相反的顺序执行两个连续描述的工艺。此外，同样的附图标记表示同样的部件。

当一个部件被称作“在”另一部件“上”或“之上”、“连接到”或“结合到”另一部件时，该部件可以直接在所述另一部件上、直接连接到或直接结合到所述另一部件，或者可以存在中间部件。然而，当部件被称作“直接在”另一部件“上”、“直接连接到”或“直接结合到”另一部件时，不存在中间部件。为此，术语“连接”可以指物理连接、电气连接等，并且具有或不具有中间部件。

为了描述性目的，本公开可使用诸如“在……之下”、“在……下方”、“在……下”、“下”、“在……上方”、“上”、“在……之上”、“较高的”和“侧(例如，在“侧壁”中)”等的空间相对术语，从而来描述如附图中示出的一个部件与另一(其它)部件的关系。除了附图中描绘的方位之外，空间相对术语还意图包含设备在使用、操作和/或制造中的不同方位。例如，如果附图中的设备被翻转，则被描述为“在”其它部件或特征“下方”或“之下”的部件将随后被定位为“在”所述其它部件或特征“上方”。因此，示例性术语“在……下方”可以包含“上方”和“下方”两种方位。此外，设备可被另外定位(例如，旋转90度或者在其它方位处)，如此，相应地解释这里使用的空间相对描述语。

这里使用的术语是为了描述具体实施例的目的，而不意图是限制性的。如这里所使用的，除非上下文另外清楚地指出，否则单数形式“一个(种、者)”和“所述(该)”也意图包括复数形式。此外，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”以及它们的变型时，说明存在所陈述的特征、整体、步骤、操作、部件、组件和/或它们的组，但不排除存在或附加一个或更多个其它特征、整体、步骤、操作、部件、组件和/或它们的组。还要注意的是，如这里使用的，术语“基本上”、“大约”和其它类似的术语被用作近似术语而不用作程度术语，如此，它们被用来解释本领域普通技术人员将认识到的测量值、计算值和/或提供的值的固有偏差。

下文参考图1至图17对本公开的清洁系统及清洁设备进行详细说明。

根据本公开的一个方面，提供一种清洁系统。

根据本公开的一个实施方式，清洁系统包括：

清洁设备200；以及，

基站设备1000，基站设备1000至少能够向清洁设备200提供热气流；

清洁设备200包括：

回收系统，回收系统包括清洁头装置210、回收路径250以及回收箱240，清洁头装置210及回收箱240至少部分地限定回收路径250；

气流产生装置230；以及

控制器225，控制器225控制气流产生装置230关闭以使得清洁设备200基于基站设备1000提供的热气流被干燥处理，热气流不流经回收箱240。

清洁设备200的气流产生装置230优选地包括真空电机和风扇装置。

气流产生装置230可以基于控制器225的第一控制信号被关闭。

优选地，基站设备1000提供的热气流被提供至清洁头装置210之内。

优选地，基站设备1000提供的热气流被提供至至少部分地设置在清洁头装置210之内的清洁部211。

根据本公开的优选实施方式的清洁系统，基站设备1000提供的热气流不流经清洁设备200的回收路径250。

其中，对于上述各个实施方式的清洁系统，清洁头装置200被置于基站设备1000上以被热气流干燥处理。

图3示出了本公开的一个实施方式的清洁系统的清洁设备200的清洁头装置210的结构示意图。

清洁头装置210具有壳体部216，图3中示出了壳体部216的一部分。在本公开的某些实施方式中，清洁头装置210内还可以设置有液体加热装置213，泵装置212将清洁质泵送至液体加热装置213进行加热后再输送至清洁部211的表面或者内部。

其中，清洁头装置210的清洁部211至少部分地设置在清洁头装置210之内，清洁设备200被干燥处理的过程中，清洁部211被驱动。

其中，清洁部211可以是振动式清洁部，也可以是滚动式清洁部(滚刷等)。

其中，清洁设备200被干燥处理的过程中，清洁部211优选地基于控制器225的控制以被驱动，例如控制器225通过控制设置在清洁头装置210之内的驱动装置214经由传动装置215(例如传动皮带)对清洁部211进行驱动。

其中，控制器225还可以控制驱动装置214对清洁部211进行驱动以使得清洁头装置210至少基于气流产生装置230产生的强制气流执行至少一个清洁模式的清洁动作。

控制器225也可以控制驱动装置214对清洁部211进行驱动以使得清洁设备200在基站设备1000上执行自清洁操作，在清洁设备200执行自清洁操作的过程中，控制器225也控制气流产生装置230产生强制气流。

对于上述各个实施方式的清洁系统，清洁设备200的控制器225可以为控制电路板或者控制芯片。

下文结合图4至图17详细描述本公开的基站设备1000的结构。

根据本公开的一个实施方式，首先参考图1至图12，基站设备1000包括：基座100，基座100包括基座壳体，基座壳体形成腔体结构，基座壳体具有进气部以及出气部；

气流发生器130，气流发生器130设置在基座100之内，用于产生由进气部向出气部流动的气流；以及，

加热机构150，加热机构150设置在基座壳体形成的腔体结构之内，加热机构150能够对流动的气流进行加热；

经由出气部输出的气流用于对上述任意一个实施方式的清洁设备200进行干燥处理。

下文描述的基站设备1000的结构为本公开优选实施方式的基站设备1000的结构。

优选地，基座壳体包括基座下壳体101以及基座上壳体102，基座下壳体101与基座上壳体102可拆卸地连接。

优选地，基座100还包括气流导向装置120，气流导向装置120将气流由气流发生器130导向至加热机构150，能够增大加热机构150的气流利用效率，在不需要过大的功率的情况下，气流发生器130即能够满足使用要求的气流量，降低基座100的功耗，其中，气流发生器130可以是风扇装置等。本领域技术人员可以基于实际情形选择是否启动加热机构150，以选择进行烘干操作或者风干操作。

参考图3，气流发生器130可以设置在基座下壳体101之内，图6示出的实施方式的基座100的气流发生器130未设置在基座壳体形成的腔体结构之内，本领域技术人员可以对基座壳体的具体结构、形状进行适当调整。

气流发生器130可以是风扇装置或者风机装置，数量可以是一个也可以是两个以上，图7中示出了两个气流发生器130，根据本公开的优选实施方式，气流发生器130还套设有缓冲层或缓冲垫，缓冲层或缓冲垫可以是风机套的形式，以缓冲气流发生器130在工作过程的振动。

根据本公开的优选实施方式，基座100的气流导向装置120的数量为两个以上，至少一个气流导向装置120的进气口面积大于出气口面积。

本实施方式将气流导向装置120的数量设置为两个以上，是为了在清洁设备(例如洗地机设备)的滚刷较长时，保证整个滚刷的长度方向均能够被烘干/风干，保证烘干/风干效果，缩短烘干/风干时间。

图8示出了两个气流导向装置120。

对于上述各个实施方式的基站设备1000，优选地，基座100的气流发生器130的数量与气流导向装置120的数量相同。

根据本公开的优选实施方式，基座100的气流导向装置120为扁平喇叭状结构。

将气流导向装置120设置为扁平喇叭状结构，能够在满足对气流进行导向需求的同时，节省占用空间，不导致基座100尺寸的增大。

参考图8，根据本公开的优选实施方式，基座100的气流导向装置120的进气口设置有至少一个进气口导流部122，至少一个进气口导流部122对进入进气口的气流进行导流。

其中，进气口导流部122可以是导流片的形式，图8中示例性地示出了两个进气口导流部122，本领域技术人员可以对进气口导流部122的结构、数量进行适当地调整。

通过设置进气口导流部122，能够进一步提高气流发生器130的利用效率。

参考图13以及图15，根据本公开的优选实施方式，基座100的气流导向装置120的出气口设置有至少一个出气口导流部123，至少一个出气口导流部123对经由出气口流出的气流进行导流。

其中，出气口导流部123可以是导流片的形式，图13和图15中示例性地示出了一个出气口导流部123，本领域技术人员可以对出气口导流部123的结构、数量进行适当地调整。

通过设置出气口导流部123，能够使得气流被加热机构150充分加热。

对于上述各个实施方式的基站设备1000，参考图15以及图17，优选地，气流导向装置120包括导向装置上壳体121以及导向装置下壳体124，导向装置上壳体121与导向装置下壳体124可拆卸地连接。

对于上述各个实施方式的基站设备1000，优选地，出气口导流部123由导向装置上壳体121的内壁延伸至导向装置下壳体124的内壁。

根据本公开的优选实施方式，出气口导流部123固定设置在导向装置上壳体121的内壁上。

根据本公开的优选实施方式，进气口导流部122由导向装置上壳体121的内壁向下延伸，不延伸至导向装置下壳体124的内壁。

本实施方式中的进气口导流部122的上述结构设计，是为了在满足对气流发生器130产生的气流导向的同时，避免对由进气口进入的气流进行过度阻挡。

本实施方式中，进气口导流部122固定设置在导向装置上壳体121的内壁。

对于上述各个实施方式的基座100，参考图4以及图9，优选地，还包括可拆卸托盘110，可拆卸托盘110设置在基座壳体上，可拆卸托盘110具有导风口，经由出气部190流出的气流经由可拆卸托盘110的导风口输出至可拆卸托盘110上。

参考图17，可拆卸托盘110安装在基座壳体上时，导风口恰好与出气部190对上，气流可以按照箭头方向流动，以对放置于可拆卸托盘110上的滚刷等部件进行烘干或者风干。

根据本公开的优选实施方式，参考图7至图9，基座100还包括导风部140，导风部140对导风口的出风进行导向，导向为朝向可拆卸托盘110的槽部1101。

参考图9，槽部1101为可拆卸托盘110上的凹形区域，用于放置滚刷等部件。

图9中还示出了可拆卸托盘110上的安装结构1102，通过安装结构1102将可拆卸托盘110与基座壳体可拆卸地安装。

对于上述各个实施方式的基座100，优选地，加热机构150包括发热体1501以及发热体包裹体1502，发热体包裹体1502为开放式结构，以使得流动的气流能够被发热体1501加热。

根据本公开的优选实施方式，加热机构150为双层结构，参考图12，具有两层发热体1501及发热体包裹体1502，两层结构之间形成多孔结构1503，以利于气流的流动。

其中，发热体1501可以为PTC发热体，发热体包裹体1502优选地采用耐高温材质，防止加热后变形而导致加热机构的功能失效。

根据本公开的优选实施方式，加热机构150与基座壳体的内壁之间设置间隙，防止热量的过快传导至基座壳体。

对于上述各个实施方式的基座100，优选地，参考图13，还包括温控开关170，温控开关170与发热体1501的加热电路连接，温控开关170能够基于发热体1501的温度对发热体1501的工作状态进行控制。

优选地，当温控开关170检测到发热体1501的温度达到第一预设阈值时，温控开关170跳闸以将发热体1501的加热电路断开，当温度降到第二预设阈值时，温控开关170自动接通，发热体1501继续加热，从而保证出风温度始终保持在预设范围，保证干燥效果。

优选地，温控开关170通过硅脂紧贴发热体1501。

对于上述各个实施方式的基座100，参考图5，优选地，进气部180设置在基座壳体的后部的侧壁区域，而非后壁区域。

更优选地，基座壳体的后部的侧壁区域为弧形区域，进气部180为多孔结构。

参考图5，通过本实施方式的进气部180的位置、结构设计，将进气部180设置在基座壳体的后部的左右两侧，而非正后面，防止基站设备贴墙时，导致墙面挡住进气部180从而影响进风量，影响滚刷干燥效果。

对于上述各个实施方式的基座100，优选地，导风部140设置在基座壳体上，或者，导风部140与基座壳体一体地形成。

对于上述各个实施方式的基座100，优选地，导风部140设置在可拆卸托盘110上，或者，导风部140与可拆卸托盘110一体地形成。

对于上述各个实施方式的基座100，优选地，可拆卸托盘110与基座上壳体102通过磁性组件可拆卸地连接。

对于上述各个实施方式的基座100，优选地，气流发生器130临近进气部180设置。

参考图13和图14，优选地，基座100的基座下壳体101的内侧壁上设置有存水部或存水区，存水部或存水区位于加热机构150与出气部190之间。

更优选地，存水部或存水区内设置有水位检测部160，当存水部或存水区内的水位到达预设水位时，水位检测部160生成触发信号。

参考图16，优选地，水位检测部160包括电路板1602以及设置在电路板1602的同一侧的至少两根电极部1601，电极部1601与存水部或存水区的最低位置具有预设间距。

优选地，电极部1601的数量为两个，且具有相同长度。

上述实施方式中，水位检测部160通过支撑部被支撑在存水部或存水区之内。

根据本公开的优选实施方式，基站设备1000还包括储液箱500，储液箱500设置在基座100上，用于向停靠在基座100上的清洁设备200提供清洁质。

其中，储液箱500可以通过支撑机构400固定设置在基座100上。

再次参考图5，对于上述各个实施方式的基座100，也可以不包括上文描述的进气部180，气流导向装置120的进气口作为基座100的进气部，可将进气部180形成在支撑机构400上，例如形成在支撑机构400的后盖部上，即将图5中示出的进气部180作为支撑机构400的一分部。

其中，支撑机构400可以是支撑柱的形式也可以是支撑架的形式。

对于上述实施方式的基站设备1000，优选地，还包括收纳箱300，收纳箱300用于收纳清洁设备200的子部件。

收纳箱300之内可以设置一个或者多个保持结构，用于对清洁刷、滚刷等进行保持。

收纳箱300可以具有收纳箱门，收纳箱门能够被打开及关闭。

根据本公开的另一个方面，提供一种清洁设备。

根据本公开的一个实施方式，参考图1，清洁设备200包括：

回收系统，回收系统包括清洁头装置210、回收路径250以及回收箱240，清洁头装置210及回收箱240至少部分地限定回收路径250；

气流产生装置230；以及，

控制器225，控制器225至少控制气流产生装置230产生强制气流以使得清洁设备200执行干燥处理过程，干燥处理过程中的强制气流不流经回收箱240，且干燥处理过程中的强制气流被提供至清洁头装置210之内。

优选地，可以使得干燥处理过程中的强制气流被提供至至少部分地设置在清洁头装置210之内的清洁部211的表面或者内部以对清洁部211进行干燥处理。

根据本公开的优选实施方式，回收箱240内还设置有过滤部241，其对强制气流中的污液、灰尘、固体污物等进行过滤。

根据本公开的优选实施方式，清洁设备200在干燥处理过程中的强制气流被提供至至少部分地设置在清洁头装置210之内的清洁部211。

本公开的清洁部211可以是滚刷(刷辊)、盘式清洁部等，本公开不对清洁部的具体结构等进行特别限定。

对于上述各个实施方式的清洁设备200，优选地，气流产生装置230包括第一气流产生部231，控制器225控制第一气流产生部231产生不流经回收箱240的强制气流。

气流产生装置230包括第二气流产生部232，控制器225控制第二气流产生部232产生流经回收箱240的强制气流，以对清洁头装置210收集的污物进行回收。

本实施方式的清洁设备200，通过设置第一气流产生部231以及第二气流产生部232，实现用于污物回收的强制气流与用于干燥处理的强制气流的路径分离，从而实现干燥处理过程中的强制气流不流经回收箱240。

其中，第一气流产生部231可以通过干燥路径与清洁头装置210流体连通，可以通过将第一气流产生部231设置在回收箱240的旁侧的方式实现干燥路径不经过回收箱240。清洁头装置210以及第一气流产生部231至少部分地限定干燥路径。

第二气流产生部232优选地设置在回收箱240的顶部之上的位置。

本实施方式通过设置两个气流产生部将干燥路径和回收路径分离。

图2示例性的示出了第一气流产生部231以及第二气流产生部232的设置位置。

对于上述各个实施方式的清洁设备200，优选地，还包括热发生装置，热发生装置能够被控制器225控制进行发热，使得干燥处理过程中的强制气流被热发生装置加热以生成热强制气流。

根据本公开的优选实施方式，热发生装置设置在清洁头装置210之内。

优选地，热发生装置设置在干燥路径上。

上文描述的回收路径以及干燥路径均可以是管道的形式，且回收路径和干燥路径可以在清洁头装置210内具有相同的路径，即清洁头装置210内的路径既作为回收路径的一部分，也作为干燥路径的一部分。

对于上述各个实施方式的清洁设备200，气流产生装置230、第一气流产生部231、第二气流产生部232可以包括真空电机和风扇装置。

对于上述各个实施方式的清洁设备200，还包括气流产生装置壳体，气流产生装置230(第一气流产生部、第二气流产生部)设置在气流产生装置壳体之内，气流产生装置壳体具有第一气口部以及第二气口部。

上述各个实施方式中描述的清洁头装置210可以包括清洁头壳体、清洁部211(滚刷等)、用于吸取清洁部上的污物或临近清洁部表面的污物的吸嘴部，吸嘴部可以同时设置在上文描述的干燥路径和回收路径上。吸嘴部的数量可以是多个以适应清洁部211的形状。

对于上述各个实施方式的清洁设备，参考图1和图2，清洁设备200包括设备主体部220，设备主体部220为腔体结构，设备主体部220与清洁头装置210优选地为可拆卸地连接。

参考图1和图2，设备主体部220的腔体结构之内设置有清洁质存储部221，清洁质存储部221可以是箱体的形式，临近清洁质存储部221，设备主体部220的腔体结构之内还可以设置有液位检测部223以对清洁质存储部221中的液量进行实时检测。

参考图1和图2，清洁头装置210内还设置有泵装置212，泵装置212能够将清洁质存储部221中的清洁质经由第一输送管路222泵送至清洁部211的表面或者清洁部211的内部。

根据本公开的优选实施方式，第一输送管路222上设置有温度检测部224，以对第一输送管路222输送的清洁质的温度进行检测。

其中，清洁质可以是清水、混合有清洁剂的清水、混合有消毒液的清水等等，本公开对此不做特别限定。

根据本公开的优选实施方式，参考图1和图2，第一输送管路222与第二输送管路227连通，通过第二输送管路227，可以为清洁设备200的清洁质存储部221补充清洁质或者对清洁质存储部221内的清洁质进行回收。

第二输送管路227的第二端连接有接口部2221，第二输送管路227可以通过接口部2221与清洁设备之外的基站设备的液体输送管路连通。

清洁设备200还包括电源装置226，电源装置226优选地为可充电电池装置。

清洁设备200的控制器225通过连接部2251与清洁设备200之外的基站设备1000进行信号传输或者通过连接部2251与清洁设备200之外的基站设备进行电连接以对电源装置226进行充电。

图1和图2中的清洁设备200的设备主体部220还形成有扶手部228。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例/方式”、“一些实施例/方式”、“示例”、“具体示例”或“一些示例”等的描述意指结合该实施例/方式或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本公开的至少一个实施例/方式或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例/方式或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例/方式或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例/方式或示例以及不同实施例/方式或示例的特征进行结合和组合。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本公开的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

本领域的技术人员应当理解，上述实施方式仅仅是为了清楚地说明本公开，而并非是对本公开的范围进行限定。对于所属领域的技术人员而言，在上述公开的基础上还可以做出其它变化或变型，并且这些变化或变型仍处于本公开的范围内。

Claims (16)

1.一种清洁系统，其特征在于，包括：

清洁设备；以及

基站设备，所述基站设备至少能够向所述清洁设备提供热气流；

所述清洁设备包括：

回收系统，所述回收系统包括清洁头装置、回收路径以及回收箱，所述清洁头装置及所述回收箱至少部分地限定所述回收路径；

气流产生装置；以及

控制器，所述控制器控制所述气流产生装置关闭以使得所述清洁设备基于所述基站设备提供的热气流被干燥处理，所述热气流不流经所述回收箱。

2.根据权利要求1所述的清洁系统，其特征在于，所述热气流被提供至所述清洁头装置之内。

3.根据权利要求1或2所述的清洁系统，其特征在于，所述热气流被提供至至少部分地设置在所述清洁头装置之内的清洁部。

4.根据权利要求1所述的清洁系统，其特征在于，所述热气流不流经所述回收路径。

5.根据权利要求1所述的清洁系统，其特征在于，所述清洁头装置被置于所述基站设备上以被所述热气流干燥处理。

6.根据权利要求3所述的清洁系统，其特征在于，所述清洁设备被干燥处理的过程中，所述清洁部被驱动。

7.根据权利要求1所述的清洁系统，其特征在于，所述控制器为控制电路板或者控制芯片。

8.根据权利要求1所述的清洁系统，其特征在于，所述基站设备包括：

基座，所述基座包括基座壳体，所述基座壳体形成腔体结构，所述基座壳体具有进气部以及出气部；

气流发生器，所述气流发生器设置在所述基座之内，用于产生由所述进气部向所述出气部流动的气流；以及

加热机构，所述加热机构设置在所述基座壳体形成的所述腔体结构之内，所述加热机构能够对所述流动的气流进行加热以形成所述热气流。

9.一种清洁设备，其特征在于，包括：

回收系统，所述回收系统包括清洁头装置、回收路径以及回收箱，所述清洁头装置及所述回收箱至少部分地限定所述回收路径；

气流产生装置；以及

控制器，所述控制器至少控制所述气流产生装置形成强制气流以使得所述清洁设备执行干燥处理过程，所述干燥处理过程中的所述强制气流不流经所述回收箱，且所述干燥处理过程中的所述强制气流被提供至所述清洁头装置之内。

10.根据权利要求9所述的清洁设备，其特征在于，所述干燥处理过程中的所述强制气流被提供至至少部分地设置在所述清洁头装置之内的清洁部。

11.根据权利要求9所述的清洁设备，其特征在于，所述气流产生装置包括第一气流产生部，所述控制器控制所述第一气流产生部形成不流经所述回收箱的所述强制气流。

12.根据权利要求9或11所述的清洁设备，其特征在于，所述气流产生装置包括第二气流产生部，所述控制器控制所述第二气流产生部产生流经所述回收箱的强制气流，以对所述清洁头装置收集的污物进行回收。

13.根据权利要求9至11中任一项所述的清洁设备，其特征在于，还包括热发生装置，所述热发生装置能够被所述控制器控制进行发热，使得干燥处理过程中的所述强制气流被所述热发生装置加热以生成热强制气流。

14.根据权利要求13所述的清洁设备，其特征在于，所述热发生装置设置在所述清洁头装置之内。

15.根据权利要求13所述的清洁设备，其特征在于，所述热发生装置设置在干燥路径上。

16.根据权利要求9所述的清洁设备，其特征在于，还包括气流产生装置壳体，所述气流产生装置设置在所述气流产生装置壳体之内，所述气流产生装置壳体具有第一气口部以及第二气口部。

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