CN114904692A - 一种带有自辨别自检测效果的高精度晶圆喷涂设备 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及芯片生产技术领域，尤其涉及一种带有自辨别自检测效果的高精度晶圆喷涂设备，包括真空工作箱、载片台、高精度喷嘴单元、控制模块。本发明通过在真空工作箱内增加若干浓度检测单元和表面覆着度检测单元来检测喷涂工作过程中或结束时的晶圆片喷涂是否满足预设标准，并在喷涂过程中通过控制模块判断是否需要开启/调整真空工作箱的真空抽气泵，并调整高精度喷嘴单元的位置、高精度喷头喷孔的流量、带泵储液箱的供液流量，用以基于当前晶圆片正在被加工或结束时的状态数据对喷涂工作方案进行临时调整及再补救，保障喷涂作业过程中的晶圆片成品率，降低喷涂作业总耗时。

Description

一种带有自辨别自检测效果的高精度晶圆喷涂设备
技术领域
本发明涉及芯片生产技术领域，尤其涉及一种带有自辨别自检测效果的高精度晶圆喷涂设备。
背景技术
晶圆，即硅晶棒在经过研磨，抛光，切片后，所形成的硅晶圆片，指制作硅半导体电路所用的原材料，而在芯片的光刻过程中，经常需要使用喷嘴向晶圆喷涂光阻液、薄胶等。而传统的操作方式无法将光刻胶或保护隔离层均匀喷涂至深孔顶部、拐角处、侧壁、底部各处的预设位置，或无法将光刻胶或保护隔离层在深孔中填满，甚至在深孔开口处光刻胶或保护隔离层黏附在一起，将深孔开口堵死，导致晶圆在后续加工工艺中出现缺陷，无法满足制程要求。
中国专利公开号：CN111804492B，公开了用于高深宽比深孔结构晶圆或薄胶喷涂晶圆的喷嘴装置和喷涂方法，其中，喷嘴装置包括液体输送管、雾化装置和除灰化装置，所述液体输送管与所述雾化装置相连接，所述雾化装置与所述除灰化装置相连接；所述雾化装置用于将所述液体输送管输送的喷胶用光刻胶光刻胶或保护隔离层雾化成液滴，并将小尺寸液滴作用于晶圆表面，通过调节雾化装置中电压以及共振频率即可调节喷胶速率，以满足不同工艺需求。该喷嘴针对带有深孔结构的晶圆喷涂光刻胶或保护隔离层，以及需喷涂薄胶(2μm以下)工艺的晶圆同，能够解决常规喷胶方式难以满足工艺需求如高深宽比深孔结构晶圆以及薄胶喷涂晶圆喷涂。
由此可见，所述用于高深宽比深孔结构晶圆或薄胶喷涂晶圆的喷嘴装置和喷涂方法，以满足不同工艺需求为出发点，通过调节雾化装置中的电压以及共振频率达到调节喷胶速率的方法，并不能在喷涂过程中，通过变量智能调节喷涂工艺中的各项运行状态，虽可以在一定程度上满足工艺要求，并提高成品率，但在芯片技术飞速发展的几天，此方法和装置并不足以应对未来根据芯片需要而越来越来复杂的工艺需求，其方法在人工智能自动化方面，略显笨拙。
发明内容
为此，本发明提供一种带有自辨别自检测效果的高精度晶圆喷涂设备，用以克服现有技术中喷涂设备无法基于当前晶圆片正在被加工时的状态数据对喷涂工作方案进行临时调整的问题。
为实现上述目的，本发明提供一种带有自辨别自检测效果的高精度晶圆喷涂设备，包括包括真空工作箱、载片台、高精度喷嘴单元、控制模块，其中，
真空工作箱外部设有真空抽气泵，真空抽气泵用以抽取真空工作箱内的雾化喷涂液，真空工作箱内留有预设空间用于喷涂作业，真空工作箱内部侧壁设置有若干浓度检测单元和若干表面覆着度检测单元，其中，浓度检测单元用以检测在真空工作箱工作时其内部喷涂液在单位区域/时间内的喷涂量，表面覆着度检测单元用以检测在真空工作箱内部正在进行或已经结束喷涂工作的晶圆片其表面喷涂液的覆着度。
真空工作箱设有L型开关门，L型开关门设置在真空工作箱顶部，其中L型开关门横版闭合在真空工作箱顶部，L型开关门竖板版闭合在真空工作箱一侧的L型开关门密封槽内。
浓度检测单元检测喷涂液在单位区域/时间内的喷涂量为雾化喷涂液按预设方向向可覆着于晶圆片表面区域运动的有效雾化喷涂量，喷涂液浓度达到标准浓度区间A1-A2内，其中，A1<A2,所述控制模块控制真空抽气泵对真空工作箱开启抽真空作业，抽取多余雾化喷涂液，保证喷涂工作达到预设标准的同时，使喷涂工作具有更强的针对性。
表面覆着度检测单元检测到任一厚度区域表面覆着度小于预设覆着度标准B1-B2时，控制模块控制电控阀门调节喷孔的流量和可移动基座至晶圆片的距离，对晶圆片局部或整片区域进行细化喷涂，以确保喷涂工作的成品率。
载片台设置在真空工作箱内部预设空间，用以放置需要进行喷涂作业的晶圆片；
请参阅本实施例图3所示，高精度喷嘴单元包括可移动基座、高精度喷头、输液管、超声波雾化装置、带泵储液箱，其中，
可移动基座设置在真空工作1一侧，用以承载高精度喷嘴单元，并根据喷涂需要在预设移动范围内进行移动，可移动基座的最小移动单位为1毫米(mm)，可移动基座包括可移动基座液压推杆、弹性密封件固定装置、基座螺纹推杆、基座螺纹顶杆、基座螺纹推杆动力装置、可移动基座固定键、可移动基座滑台、基座液压液、液压导液管、液压箱、弹性密封件，其中，
基座螺纹推杆动力装置带动基座螺纹推杆转动，基座螺纹推杆转动使基座螺纹顶杆移动，基座螺纹顶杆移动使连接在基座螺纹顶杆的可移动基座滑台移动，可移动基座滑台移动带动连接可移动基座滑台的可移动基座液压推杆移动，可移动基座滑台移动使高精度喷嘴单元上、下、左、右移动到预设位置，可移动基座固定键用以固定可移动基座；
液压箱设置在可移动基座内，并设有加压装置，用以储存液压液并通过液压导液管对可移动基座液压推杆内基座液压液施加或释放压力，推动可移动基座液压推杆做前后移动，可移动基座液压推杆连接高精度喷嘴单元，可移动基座液压推杆带动高精度喷嘴单元做前后移动并停留至预设位置；
高精度喷嘴单元设置在可移动基座的可移动基座液压推杆上，高精度喷嘴单元包括喷嘴螺纹推杆动力装置、喷嘴螺纹推杆、喷嘴螺纹顶杆、喷嘴调节柱、超声波雾化装置、高精度喷头，其中，喷嘴螺纹推杆动力装置带动喷嘴螺纹推杆转动，喷嘴螺纹推杆转动带动喷嘴螺纹顶杆移动,喷嘴螺纹顶杆与喷嘴调节柱连接，喷嘴螺纹顶杆移动带动喷嘴调节柱移动，喷嘴调节柱下方连接有超声波雾化装置和高精度喷头，喷嘴调节柱移动用以调节高精度喷头与载片台的距离，喷嘴调节柱的最小移动单位为50微米(μm)，超声波雾化装置下方设置有高精度喷头，超声波雾化装置用以将喷道内的喷涂液雾化，高精度喷头设有若干喷道及喷孔，喷道设有电控门阀，用以调节喷孔的流量，喷孔设有闭锁装置，用以控制喷孔的开合，电控门阀和闭锁装置根据喷涂需要在调节喷孔流量和喷孔开合，预设喷孔直径为5μm；
可移动基座与高精度喷嘴单元连接间有弹性密封件，弹性密封件固定在弹性密封件固定装置上，弹性密封件用以保证可移动基座与高精度喷嘴单元间连接的密封性，使真空工作箱进行抽真空作业时，真空工作箱内真空环境不被破坏；
输液管连接输液连接孔和高精度喷头，输液连接孔连接带泵储液箱，带泵储液箱用以存储喷涂液并对输液管内部喷涂液产生预设压力，输液管用以对高精度喷头提供进液服务，使其喷涂工作满足预设速率。
控制模块用以根据检测单元检测到的数据对设备器件进行控制，达到预设喷涂作业效果。
控制模块判定真空工作箱内浓度超标，并控制真空抽气泵对真空工作箱开启抽真空作业抽取多余雾化喷涂液时，控制模块同时控制喷孔闭锁装置关闭喷孔，防止在抽真空作业时喷涂液从喷孔外泄，在抽真空作业结束后，真空工作箱内恢复正常气压时，控制模块控制喷孔闭锁装置开启喷孔，进行喷涂作业。
在真空工作箱内对晶圆片进行喷涂工作时，晶圆片放置在载片台上，可移动基座和高精度喷嘴单元移动至预设作业位置，并在之后的喷涂工作过程中根据预设要求或测量数据对可移动基座和高精度喷嘴单元的位置进行再调节，高精度喷头喷孔通过喷道内电控阀门调节至预设流量，并在之后的喷涂工作过程中根据预设要求或测量数据对高精度喷头的流量进行再调节；
当浓度检测单元检测在喷涂作业进行中真空工作箱内部喷涂液在单位区域/时间内的喷涂量未达预设标准区间A1-A2时，控制模块根据其实时浓度数据与预设浓度数据进行对比，并根据其对比结果对电控阀门进行调节，使实时浓度数据达到预设浓度标准区间，从而确保喷涂在晶圆片上喷涂液的均匀性；
当表面覆着度检测单元检测在喷涂作业进行中真空工作箱内部正在进行或已经结束喷涂工作的晶圆片其表面喷涂液的覆着度未达预设覆着度标准B1-B2时，控制模块根据其实时覆着度数据与预设覆着度数据进行对比，并根据其对比结果对电控阀门进行调节，使实时覆着度数据达到预设覆着度标准区间，从而确保喷涂在晶圆片上喷涂液的厚度。
在真空工作箱内对晶圆片进行喷涂工作时，放置晶圆片的载片台根据其晶圆片的数量及尺寸调节可移动基座和高精度喷嘴单元所处的位置，控制模块根据晶圆片的预设尺寸及预设喷涂膜厚，控制浓度检测单元和表面覆着度检测单元对其晶圆片进行检测；
当浓度检测单元检测到的当前高精度喷嘴单元释放的雾化喷涂液在单位区域/时间内的数量大于预设浓度标准A2时，控制模块判定需控制真空抽气泵对真空工作箱开启抽真空作业，抽取多余雾化喷涂液，保证喷涂工作达到预设浓度标准，并控制高精度喷嘴单元停止喷涂作业，控制可移动基座和高精度喷嘴单元移动至距离载片台的最远距离，在保证喷涂工作达到预设标准的同时，减少晶圆片在喷涂过程中出现缺陷，提高成品率。
当浓度检测单元检测到当前高精度喷嘴单元释放的雾化喷涂液在单位区域/时间内的数量小于预设浓度标准A1，且在预设时间内无法完成对当前晶圆片的喷涂工作时，控制模块判定需控制电控阀门提高高精度喷头喷孔的流量，使当前高精度喷头释放的喷涂液在单位区域/时间内的数量在满足预设浓度标准A1-A2的同时，保证晶圆片喷涂工作的快速进行，节约时间成本，增加生产效率。
当表面覆着度检测单元检测到当前任一晶圆片某区域的喷涂液覆着度满足到预设覆着度标准B1-B2，且当前任一晶圆片某区域的喷涂液覆着度小于预设覆着度标准B1，则控制模块判定需根据未达到预设喷涂液覆着度标准区间B1-B2的区域面积及喷涂液覆着度预设标准区间B1-B2与实际数值的差值，控制电控阀门调节喷孔的流量，控制可移动基座和高精度喷嘴单元移动至所需位置并调节喷孔与任一晶圆片的距离至预设距离，对任一晶圆片局部区域进行细化喷涂，直至任一晶圆片整片区域达到预设标准，以确保喷涂工作的成品率。
当表面覆着度检测单元检测到当前任一晶圆片某区域的喷涂液覆着度小于到预设覆着度标准B1，且当前任一晶圆片某区域的喷涂液覆着度大于预设覆着度标准B2，则控制模块判定当前喷涂工作对于任一晶圆片已无法达到预设覆着度标准，需对任一晶圆片的当前位置进行标记并在后续的喷涂工作的调整中忽略其喷涂工作的调整对于任一晶圆片的影响，同时，将此任一晶圆片的位置在基于真空工作箱内相对应的空间坐标上进行标记，并将残次品晶圆片的位置输出报告，确保此任一晶圆片的加工终止于喷涂过程。
当浓度检测单元检测到当前高精度喷头释放的雾化喷涂液在单位区域/时间内的数量小于预设浓度标准A1，且表面覆着度检测单元检测到当前任一晶圆片某区域的喷涂液覆着度小于预设覆着度标准B1时，则控制模块判定当前高精度喷头释放的雾化喷涂液在单位区域/时间内的数量需要进一步提高，并根据未达到预设喷涂液覆着度标准的区域面积及喷涂液覆着度预设数值与实际数值的差值，控制带泵储液箱中的压力泵增加对带泵储液箱内喷涂液的压力，并控制电控阀门增加高精度喷头中喷孔的流量，使当前高精度喷头释放的雾化喷涂液在单位区域/时间内的数量快读提升至预设浓度标准A1-A2，即保证喷涂工作成品率的同时，最大限度减少喷涂工作的时间消耗。
当浓度检测单元检测到当前高精度喷头释放的雾化喷涂液在单位区域/时间内的数量小于预设浓度标准A1，且表面覆着度检测单元检测到当前任一晶圆片某区域的喷涂液覆着度小于预设覆着度标准B1，且当前任一晶圆片除某区域外其他区域的喷涂液覆着度满足预设覆着度标准B1-B2时，则控制模块判定需根据未达到预设喷涂液覆着度标准的区域面积及喷涂液覆着度预设数值与实际数值的差值控制电控阀门减小当前高精度喷头释放的雾化喷涂液在单位区域/时间内的数量，控制高精度喷头缩小与晶圆片的距离并移动至预设位置，对任一晶圆片某局部区域进行细化喷涂，若控制模块判断当前以此调节方法喷涂而导致当前喷涂工作的整体时间增加时，则控制模块判定以使晶圆片整片区域的喷涂液覆着度满足预设覆着度标准B1-B2为第一优先条件，在确保第一优先条件的同时，增加当前高精度喷头释放的雾化喷涂液在单位区域/时间内的数量至最大，即保证喷涂工作成品率的同时，最大限度减少喷涂工作的时间消耗。
当控制模块判定当前可移动基座和高精度喷嘴单元的预设位置需要进行调节时，由于可移动基座和高精度喷嘴单元中调节距离的最小单位不同，导致其可移动基座和高精度喷嘴单元根据预设位置分别进行调节，在可移动基座可精确移动至预设位置时，高精度喷嘴单元不做调节，在可移动基座无法精确移动至预设位置时，由可移动基座移动至最接近预设位置的位置后，并由高精度喷嘴单元精确移动至预设位置，以满足喷涂工作需要。
与现有技术相比，本发明的有益效果在于，其一，本设备通过预设的浓度检测单元和表面覆着度检测单元，对正在进行喷涂工作中或者结束喷涂工作的晶圆片进行检测，并根据检测到的数据实时调节正在进行对晶圆片进行喷涂工作的原器件，使之相较于传统喷涂设备，可以利用当前晶圆片正在被加工时的状态数据对喷涂工作方案进行临时调整，解决了传统喷涂设备不够智能的问题。
其二，浓度检测单元检测喷涂液在单位区域/时间内的喷涂量为雾化喷涂液按预设方向向可覆着于晶圆片表面区域运动的有效雾化喷涂量，喷涂液浓度达到标准浓度区间A1-A2内，其中，A1<A2,所述控制模块控制真空抽气泵对真空工作箱开启抽真空作业，抽取多余雾化喷涂液，保证喷涂工作达到预设标准的同时，使喷涂工作具有更强的针对性。
进一步地，表面覆着度检测单元检测到任一厚度区域表面覆着度小于预设覆着度标准B1-B2时，控制模块控制电控阀门调节喷孔的流量和可移动基座至晶圆片的距离，对晶圆片局部或整片区域进行细化喷涂，以确保喷涂工作的成品率。
其三，浓度检测单元检测在喷涂作业进行中真空工作箱内部喷涂液在单位区域/时间内的喷涂量未达预设标准区间A1-A2时，控制模块根据其实时浓度数据与预设浓度数据进行对比，并根据其对比结果对电控阀门进行调节，使实时浓度数据达到预设浓度标准区间，从而确保喷涂在晶圆片上喷涂液的均匀性。
进一步的，表面覆着度检测单元检测在喷涂作业进行中真空工作箱内部正在进行或已经结束喷涂工作的晶圆片其表面喷涂液的覆着度未达预设覆着度标准B1-B2时，控制模块根据其实时覆着度数据与预设覆着度数据进行对比，并根据其对比结果对电控阀门进行调节，使实时覆着度数据达到预设覆着度标准区间，从而确保喷涂在晶圆片上喷涂液的厚度。
其四，浓度检测单元检测到的当前高精度喷头释放的雾化喷涂液在单位区域/时间内的数量大于预设浓度标准A2时，控制模块判定需控制真空抽气泵对真空工作箱开启抽真空作业，抽取多余雾化喷涂液，保证喷涂工作达到预设浓度标准，并控制高精度喷嘴单元停止喷涂作业，控制可移动基座和高精度喷嘴单元移动至距离载片台的最远距离，在保证喷涂工作达到预设标准的同时，减少晶圆片在喷涂过程中出现缺陷，提高成品率。
其五，浓度检测单元检测到当前高精度喷头释放的雾化喷涂液在单位区域/时间内的数量小于预设浓度标准A1，且在预设时间内无法完成对当前晶圆片的喷涂工作时，控制模块判定需控制电控阀门提高高精度喷头喷孔的流量，使当前高精度喷头释放的喷涂液在单位区域/时间内的数量在满足预设浓度标准A1-A2的同时，保证晶圆片喷涂工作的快速进行，节约时间成本，增加生产效率。
其六，表面覆着度检测单元检测到当前任一晶圆片某区域的喷涂液覆着度满足到预设覆着度标准B1-B2，且当前任一晶圆片某区域的喷涂液覆着度小于预设覆着度标准B1，则控制模块判定需根据未达到预设喷涂液覆着度标准区间B1-B2的区域面积及喷涂液覆着度预设标准区间B1-B2与实际数值的差值，控制电控阀门调节喷孔的流量，控制可移动基座和高精度喷嘴单元移动至所需位置并调节喷孔与任一晶圆片的距离至预设距离，对任一晶圆片局部区域进行细化喷涂，直至任一晶圆片整片区域达到预设标准，以确保喷涂工作的成品率。
其七，表面覆着度检测单元检测到当前任一晶圆片某区域的喷涂液覆着度小于到预设覆着度标准B1，且当前任一晶圆片某区域的喷涂液覆着度大于预设覆着度标准B2，则控制模块判定当前喷涂工作对于任一晶圆片已无法达到预设覆着度标准，需对任一晶圆片的当前位置进行标记并在后续的喷涂工作的调整中忽略其喷涂工作的调整对于任一晶圆片的影响，同时，将此任一晶圆片的位置在基于真空工作箱内相对应的空间坐标上进行标记，并将残次品晶圆片的位置输出报告，确保此任一晶圆片的加工终止于喷涂过程，并在加工过程中，剔除残次品。
其八，浓度检测单元检测到当前高精度喷头释放的雾化喷涂液在单位区域/时间内的数量小于预设浓度标准A1，且表面覆着度检测单元检测到当前任一晶圆片某区域的喷涂液覆着度小于预设覆着度标准B1时，则控制模块判定当前高精度喷头释放的雾化喷涂液在单位区域/时间内的数量需要进一步提高，并根据未达到预设喷涂液覆着度标准的区域面积及喷涂液覆着度预设数值与实际数值的差值，控制带泵储液箱中的压力泵增加对带泵储液箱内喷涂液的压力，并控制电控阀门增加高精度喷头中喷孔的流量，使当前高精度喷头释放的雾化喷涂液在单位区域/时间内的数量快读提升至预设浓度标准A1-A2，即保证喷涂工作成品率的同时，最大限度减少喷涂工作的时间消耗。
进一步的，浓度检测单元检测到当前高精度喷头释放的雾化喷涂液在单位区域/时间内的数量小于预设浓度标准A1，且表面覆着度检测单元检测到当前任一晶圆片某区域的喷涂液覆着度小于预设覆着度标准B1，且当前任一晶圆片除某区域外其他区域的喷涂液覆着度满足预设覆着度标准B1-B2时，则控制模块判定需根据未达到预设喷涂液覆着度标准的区域面积及喷涂液覆着度预设数值与实际数值的差值控制电控阀门减小当前高精度喷头释放的雾化喷涂液在单位区域/时间内的数量，控制高精度喷头缩小与晶圆片的距离并移动至预设位置，对任一晶圆片某局部区域进行细化喷涂，若控制模块判断当前以此调节方法喷涂而导致当前喷涂工作的整体时间增加时，则控制模块判定以使晶圆片整片区域的喷涂液覆着度满足预设覆着度标准B1-B2为第一优先条件，在确保第一优先条件的同时，增加当前高精度喷头释放的雾化喷涂液在单位区域/时间内的数量至最大，即保证喷涂工作成品率的同时，最大限度减少喷涂工作的时间消耗。
其九，控制模块判定真空工作箱内浓度超标，并控制真空抽气泵对真空工作箱开启抽真空作业抽取多余雾化喷涂液时，控制模块同时控制喷孔闭锁装置关闭喷孔，防止在抽真空作业时喷涂液从喷孔外泄，在抽真空作业结束后，真空工作箱内恢复正常气压时，控制模块控制喷孔闭锁装置开启喷孔，进行喷涂作业。
其十，当控制模块判定当前可移动基座和高精度喷嘴单元的预设位置需要进行调节时，其中，由于可移动基座和高精度喷嘴单元中调节距离的最小单位不同，导致其可移动基座和高精度喷嘴单元根据预设位置分别进行调节，在可移动基座可精确移动至预设位置时，高精度喷嘴单元不做调节，在可移动基座无法精确移动至预设位置时，由可移动基座移动至最接近预设位置的位置后，并由高精度喷嘴单元精确移动至预设位置，以满足喷涂工作需要。
附图说明
图1为本发明实施例带有自辨别自检测效果的高精度晶圆喷涂设备的侧视图；
图2为本发明实施例带有自辨别自检测效果的高精度晶圆喷涂设备的主视图；
图3为本发明实施例带有自辨别自检测效果的高精度晶圆喷涂设备高精度喷嘴的结构示意剖面侧视图；
图4为本发明实施例带有自辨别自检测效果的高精度晶圆喷涂设备可移动基座的移动装置结构示意剖面图；
图中：真空工作箱1，带泵储液箱2，真空抽气泵3，抽真空连接孔4，高精度喷嘴单元5，可移动基座6，高精度喷头7、超声波雾化装置8，储液管9，载片台10，真空工作箱L型开关门11，真空工作箱L型开关门竖板111，真空工作箱L型开关门横板112，输液连接孔12，喷嘴螺纹推杆动力装置13，可移动基座液压推杆14，基座密封保护装置15，基座螺纹推杆16，基座螺纹顶杆17，基座螺纹推杆动力装置18，可移动基座固定键19，可移动基座滑台20，真空工作箱内壁21，真空工作箱L型开关门密封槽22，真空工作箱外壁23，弹性密封件24，基座液压液25，液压导液管26，液压箱27，喷嘴螺纹推杆28，喷嘴螺纹顶杆29，喷嘴调节柱30，带泵储液箱外壁31。
具体实施方式
为了使本发明的目的和优点更加清楚明白，下面结合实施例对本发明作进一步描述；应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，并不用于限定本发明。
下面参照附图来描述本发明的优选实施方式。本领域技术人员应当理解的是，这些实施方式仅仅用于解释本发明的技术原理，并非在限制本发明的保护范围。
需要说明的是，在本发明的描述中，术语“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”等指示的方向或位置关系的术语是基于附图所示的方向或位置关系，这仅仅是为了便于描述，而不是指示或暗示所述装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
此外，还需要说明的是，在本发明的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域技术人员而言，可根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
请参阅附图所示，其为本发明实施例带有自辨别自检测效果的高精度晶圆喷涂设备的结构示意图，本实施例包括真空工作箱1、载片台10、高精度喷嘴单元5、控制模块，其中，
真空工作箱1外部设有真空抽气泵3，真空抽气泵3用以抽取真空工作箱1内的雾化喷涂液，真空工作箱1内留有预设空间用于喷涂作业，真空工作箱1内部侧壁设置有若干浓度检测单元和若干表面覆着度检测单元，其中，浓度检测单元用以检测在真空工作箱1工作时其内部喷涂液在单位区域/时间内的喷涂量，表面覆着度检测单元用以检测在真空工作箱1内部正在进行或已经结束喷涂工作的晶圆片其表面喷涂液的覆着度。
真空工作箱1设有L型开关门11，L型开关门11设置在真空工作箱1顶部，其中L型开关门横版112闭合在真空工作箱1顶部，L型开关门竖板版111闭合在真空工作箱1一侧的L型开关门密封槽22内。
在本实施例中，L型开关门11与真空工作箱1的连接方式可以为合页连接，亦可以为液压开合系统连接，亦可以为电驱动铰链连接，只需能够满足本实施例中此门开关要求即可，此不再赘述。
在本实施例中，浓度检测单元检测的真空工作箱1工作时其内部喷涂液在单位区域/时间内的喷涂量仅限于雾化喷涂液按预设方向向可覆着于晶圆片表面区域运动的有效雾化喷涂量，不包括雾化喷涂液受重力效果的向无晶圆片区域扩散的无效雾化喷涂量，当喷涂工作持续顺利进行而导致真空工作箱1内所有工作空间的喷涂液浓度达到标准时，控制模块判定此时对于晶圆片喷涂工作的针对性丧失，则控制模块控制真空抽气泵3对真空工作箱1开启抽真空作业，抽取多余雾化喷涂液，保证喷涂工作达到预设标准的同时，使喷涂工作具有更强的针对性。
在本实施例中，表面覆着度包括喷涂液在晶圆片局部区域的厚度和整片区域的厚度，当表面覆着度检测单元检测到任一厚度区域厚度未达预设标准时，控制模块控制全向调节装置调节喷孔的直径、喷孔的方向、喷孔与晶圆片的距离及可移动基座6的位置，对晶圆片局部或整片区域进行细化喷涂，以确保喷涂工作的成品率。
载片台10设置在真空工作箱1内部预设空间，用以放置需要进行喷涂作业的晶圆片；
请参阅本实施例图3所示，高精度喷嘴单元5包括可移动基座6、高精度喷头7、输液管9、超声波雾化装置8、带泵储液箱2，其中，
可移动基座6设置在真空工作箱1一侧，用以承载高精度喷嘴5，并根据喷涂需要在预设移动范围内进行移动，可移动基座6的最小移动单位为1毫米(mm)，可移动基座6包括可移动基座液压推杆14、弹性密封件固定装置15、基座螺纹推杆16、基座螺纹顶杆17、基座螺纹推杆动力装置18、可移动基座固定键19、可移动基座滑台20、基座液压液25、液压导液管26、液压箱27、弹性密封件24，其中，
基座螺纹推杆动力装置18带动基座螺纹推杆16转动，基座螺纹推杆16转动使基座螺纹顶杆17移动，基座螺纹顶杆17移动使连接在基座螺纹顶杆17的可移动基座滑台20移动，可移动基座滑台20移动带动连接可移动基座滑台20的可移动基座液压推杆14移动，可移动基座滑台20移动使高精度喷嘴单元5上、下、左、右移动到预设位置，可移动基座固定键19用以固定可移动基座6；
液压箱27设置在可移动基座6内，并设有加压装置，用以储存液压液并通过液压导液管26对可移动基座液压推杆14内基座液压液25施加或释放压力，推动可移动基座液压推杆14做前后移动，可移动基座液压推杆14连接高精度喷嘴5，可移动基座液压推杆14带动高精度喷嘴单元5做前后移动并停留至预设位置；
高精度喷嘴单元5设置在可移动基座6的可移动基座液压推杆14上，高精度喷嘴单元5包括喷嘴螺纹推杆动力装置13、喷嘴螺纹推杆28、喷嘴螺纹顶杆29、喷嘴调节柱30、超声波雾化装置8、高精度喷头7，其中，喷嘴螺纹推杆动力装置13带动喷嘴螺纹推杆28转动，喷嘴螺纹推杆28转动带动喷嘴螺纹顶杆29移动,喷嘴螺纹顶杆29与喷嘴调节柱30连接，喷嘴螺纹顶杆29移动带动喷嘴调节柱30移动，喷嘴调节柱30下方连接有超声波雾化装置8和高精度喷头7，喷嘴调节柱30移动用以调节高精度喷头7与载片台10的距离，喷嘴调节柱30的最小移动单位为50微米(μm)，超声波雾化装置8下方设置有高精度喷头7，超声波雾化装置8用以将喷道内的喷涂液雾化，高精度喷头7设有若干喷道及喷孔，喷道设有电控门阀，用以调节喷孔的流量，喷孔设有闭锁装置，用以控制喷孔的开合，电控门阀和闭锁装置根据喷涂需要在调节喷孔流量和喷孔开合，预设喷孔直径为5μm；
可移动基座6与高精度喷嘴单元5连接间有弹性密封件24，弹性密封件24固定在弹性密封件固定装置15上，弹性密封件24用以保证可移动基座6与高精度喷嘴单元5间连接的密封性，使真空工作箱1进行抽真空作业时，真空工作箱1内真空环境不被破坏；
输液管9连接输液连接孔12和高精度喷头7，输液连接孔12连接带泵储液箱2，带泵储液箱2用以存储喷涂液并对输液管内部喷涂液产生预设压力，输液管9用以对高精度喷头7提供进液服务，使其喷涂工作满足预设速率。
控制模块用以根据检测单元检测到的数据对设备器件进行控制，达到预设喷涂作业效果。
控制模块判定真空工作箱内浓度超标，并控制真空抽气泵3对真空工作箱1开启抽真空作业抽取多余雾化喷涂液时，控制模块同时控制喷孔闭锁装置关闭喷孔，防止在抽真空作业时喷涂液从喷孔外泄，在抽真空作业结束后，真空工作箱1内恢复正常气压时，控制模块控制喷孔闭锁装置开启喷孔，进行喷涂作业。
在本实施例中，高精度喷头7可承载的喷孔数量可以为1，可以为5，亦可以为10，只需能够满足本实施例喷涂工作需要即可，此不再赘述。
在本实施例中，高精度喷头7的喷孔分布可以使用环形分布，亦可以使用方形分布或者交替式分布，只需能够满足本实施例对高精度喷嘴中喷孔在喷涂工作中的预设要求即可，此不再赘述。
在本实施例中，超声波雾化装置8仅对喷孔内的喷涂液根据预设喷涂液雾化度进行雾化，其雾化度数值根据喷涂液的物理、化学属性和喷涂作业的预设工艺标准而定，并不限定使用何种震荡片等关键雾化装置构件，其超声波雾化装置8只需能够满足本实施预设要求即可，此不再赘述。
在真空工作箱1内对晶圆片进行喷涂工作时，晶圆片放置在载片台10上，可移动基座6和高精度喷嘴单元5移动至预设作业位置，并在之后的喷涂工作过程中根据预设要求或测量数据对可移动基座6和高精度喷嘴单元5的位置进行再调节，高精度喷头7喷孔通过喷道内电控阀门调节至预设流量，并在之后的喷涂工作过程中根据预设要求或测量数据对高精度喷头7的流量进行再调节；
当浓度检测单元检测在喷涂作业进行中真空工作箱1内部喷涂液在单位区域/时间内的喷涂量未达预设标准区间A1-A2时，控制模块根据其实时浓度数据与预设浓度数据进行对比，并根据其对比结果对电控阀门进行调节，使实时浓度数据达到预设浓度标准区间，从而确保喷涂在晶圆片上喷涂液的均匀性；
当表面覆着度检测单元检测在喷涂作业进行中真空工作箱1内部正在进行或已经结束喷涂工作的晶圆片其表面喷涂液的覆着度未达预设覆着度标准B1-B2时，控制模块根据其实时覆着度数据与预设覆着度数据进行对比，并根据其对比结果对电控阀门进行调节，使实时覆着度数据达到预设覆着度标准区间，从而确保喷涂在晶圆片上喷涂液的厚度。
在真空工作箱1内对晶圆片进行喷涂工作时，放置晶圆片的载片台10根据其晶圆片的数量及尺寸调节可移动基座6和高精度喷嘴单元5所处的位置，控制模块根据晶圆片的预设尺寸及预设喷涂膜厚，控制浓度检测单元和表面覆着度检测单元对其晶圆片进行检测；
当浓度检测单元检测到的当前高精度喷头7释放的雾化喷涂液在单位区域/时间内的数量大于预设浓度标准A2时，控制模块判定需控制真空抽气泵3对真空工作箱1开启抽真空作业，抽取多余雾化喷涂液，保证喷涂工作达到预设浓度标准，并控制高精度喷头7停止喷涂作业，控制可移动基座6和高精度喷嘴单元5移动至距离载片台10的最远距离，在保证喷涂工作达到预设标准的同时，减少晶圆片在喷涂过程中出现缺陷，提高成品率。
当浓度检测单元检测到当前高精度喷头7释放的雾化喷涂液在单位区域/时间内的数量小于预设浓度标准A1，且在预设时间内无法完成对当前晶圆片的喷涂工作时，控制模块判定需控制电控阀门提高高精度喷头7喷孔的流量，使当前高精度喷头7释放的喷涂液在单位区域/时间内的数量在满足预设浓度标准A1-A2的同时，保证晶圆片喷涂工作的快速进行，节约时间成本，增加生产效率。
当表面覆着度检测单元检测到当前任一晶圆片某区域的喷涂液覆着度满足到预设覆着度标准B1-B2，且当前任一晶圆片某区域的喷涂液覆着度小于预设覆着度标准B1，则控制模块判定需根据未达到预设喷涂液覆着度标准区间B1-B2的区域面积及喷涂液覆着度预设标准区间B1-B2与实际数值的差值，控制电控阀门调节喷孔的流量，控制可移动基座6和高精度喷嘴单元5移动至所需位置并调节喷孔与任一晶圆片的距离至预设距离，对任一晶圆片局部区域进行细化喷涂，直至任一晶圆片整片区域达到预设标准，以确保喷涂工作的成品率。
当表面覆着度检测单元检测到当前任一晶圆片某区域的喷涂液覆着度小于到预设覆着度标准B1，且当前任一晶圆片某区域的喷涂液覆着度大于预设覆着度标准B2，则控制模块判定当前喷涂工作对于任一晶圆片已无法达到预设覆着度标准，需对任一晶圆片的当前位置进行标记并在后续的喷涂工作的调整中忽略其喷涂工作的调整对于任一晶圆片的影响，同时，将此任一晶圆片的位置在基于真空工作箱1内相对应的空间坐标上进行标记，并将残次品晶圆片的位置输出报告，确保此任一晶圆片的加工终止于喷涂过程。
当浓度检测单元检测到当前高精度喷嘴释放的雾化喷涂液在单位区域/时间内的数量小于预设浓度标准A1，且表面覆着度检测单元检测到当前任一晶圆片某区域的喷涂液覆着度小于预设覆着度标准B1时，则控制模块判定当前高精度喷头7释放的雾化喷涂液在单位区域/时间内的数量需要进一步提高，并根据未达到预设喷涂液覆着度标准的区域面积及喷涂液覆着度预设数值与实际数值的差值，控制带泵储液箱2中的压力泵增加对带泵储液箱2内喷涂液的压力，并控制电控阀门增加高精度喷头7中喷孔的流量，使当前高精度喷头7释放的雾化喷涂液在单位区域/时间内的数量快读提升至预设浓度标准A1-A2，即保证喷涂工作成品率的同时，最大限度减少喷涂工作的时间消耗。
当浓度检测单元检测到当前高精度喷头7释放的雾化喷涂液在单位区域/时间内的数量小于预设浓度标准A1，且表面覆着度检测单元检测到当前任一晶圆片某区域的喷涂液覆着度小于预设覆着度标准B1，且当前任一晶圆片除某区域外其他区域的喷涂液覆着度满足预设覆着度标准B1-B2时，则控制模块判定需根据未达到预设喷涂液覆着度标准的区域面积及喷涂液覆着度预设数值与实际数值的差值控制电控阀门减小当前高精度喷头7释放的雾化喷涂液在单位区域/时间内的数量，控制高精度喷头7缩小与晶圆片的距离并移动至预设位置，对任一晶圆片某局部区域进行细化喷涂，若控制模块判断当前以此调节方法喷涂而导致当前喷涂工作的整体时间增加时，则控制模块判定以使晶圆片整片区域的喷涂液覆着度满足预设覆着度标准B1-B2为第一优先条件，在确保第一优先条件的同时，增加当前高精度喷头7释放的雾化喷涂液在单位区域/时间内的数量至最大，即保证喷涂工作成品率的同时，最大限度减少喷涂工作的时间消耗。
在本实施例中，对于位置的调节根据其预设位置对可移动基座6和高精度喷嘴单元5的位置进行调节，其中，由于可移动基座6和高精度喷嘴单元5中调节距离的最小单位不同，导致其可移动基座6和高精度喷嘴单元5根据预设位置分别进行调节，在可移动基座6可精确移动至预设位置时，高精度喷嘴单元5不做调节，在可移动基座6无法精确移动至预设位置时，由可移动基座6移动至最接近预设位置的位置后，并由高精度喷嘴单元5精确移动至预设位置，以满足喷涂工作需要。
至此，已经结合附图所示的优选实施方式描述了本发明的技术方案，但是，本领域技术人员容易理解的是，本发明的保护范围显然不局限于这些具体实施方式。在不偏离本发明的原理的前提下，本领域技术人员可以对相关技术特征做出等同的更改或替换，这些更改或替换之后的技术方案都将落入本发明的保护范围之内。
以上所述仅为本发明的优选实施例，并不用于限制本发明；对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种带有自辨别自检测效果的高精度晶圆喷涂设备，其特征在于，包括真空工作箱(1)、载片台(10)、可移动基座(6)、高精度喷嘴单元(5)、控制模块，其中，
所述真空工作箱(1)外设有真空抽气泵(3)，所述真空抽气泵(3)用以抽取所述真空工作箱(1)内的雾化喷涂液，所述真空工作箱内留有预设空间用于喷涂作业，所述真空工作箱(1)内部侧壁设置有若干浓度检测单元以及若干表面覆着度检测单元，其中，所述浓度检测单元用以检测在所述真空工作箱(1)工作时其内部喷涂液在单位区域/时间内的喷涂量，所述表面覆着度检测单元用以检测在所述真空工作箱(1)内部正在进行或已经结束喷涂工作的晶圆片其表面喷涂液的覆着度；
所述载片台(10)设置在所述真空工作箱(1)内部底面，用以放置需要进行喷涂作业的晶圆片；
所述可移动基座(6)设置在所述真空工作箱(1)一侧，用以承载所述高精度喷嘴单元(5)，并根据喷涂需要在预设移动范围内进行移动；
所述高精度喷嘴单元(5)设置在所述真空工作箱(1)内部，高精度喷嘴单元(5)连接可移动基座(6)，所述高精度喷头(7)设有丝杠伸缩装置，用以调节所述高精度喷头(7)位置，所述高精度喷头(7)设有若干喷道及预设直径的喷孔，所述喷道设有电控阀门，用以调节喷孔的流量，所述喷孔设有闭锁装置，用以控制喷孔的开合，电控门阀和闭锁装置根据喷涂需要在调节喷孔流量和喷孔开合；
所述控制模块用以根据检测单元检测到的数据对设备器件进行控制，达到预设喷涂作业效果。
2.根据权利要求1所述的自辨别自检测效果的晶圆喷涂设备，其特征在于所述可移动基座(6)，包括可移动基座液压推杆(14)、弹性密封件固定装置(15)、基座螺纹推杆(16)、基座螺纹顶杆(17)、基座螺纹推杆动力装置(18)、可移动基座固定键(19)、可移动基座滑台(20)、基座液压液(25)、液压导液管(26)、液压箱(27)、弹性密封件(24)，其中，
基座螺纹推杆动力装置(18)带动基座螺纹推杆(16)转动，基座螺纹推杆(16)转动使基座螺纹顶杆(17)移动，基座螺纹顶杆(17)移动使连接在基座螺纹顶杆(17)的可移动基座滑台(20)移动，可移动基座滑台(20)移动带动连接可移动基座滑台(20)的可移动基座液压推杆(14)移动，可移动基座滑台(20)移动使高精度喷嘴(5)上、下、左、右移动到预设位置，可移动基座固定键(19)用以固定可移动基座(6)；
液压箱(27)设置在可移动基座(6)内，并设有加压装置，用以储存液压液并通过液压导液管(26)对可移动基座液压推杆(14)内基座液压液(25)施加或释放压力，推动可移动基座液压推杆(14)做前后移动，可移动基座液压推杆(14)连接高精度喷嘴单元(5)，可移动基座液压推杆(14)带动高精度喷嘴单元(5)做前后移动并停留至预设位置。
3.根据权利要求2所述的自辨别自检测效果的晶圆喷涂设备，其特征在于所述高精度喷嘴单元(5)，其设置在可移动基座(6)的可移动基座液压推杆(14)上，高精度喷嘴单元(5)包括喷嘴螺纹推杆动力装置(13)、喷嘴螺纹推杆(28)、喷嘴螺纹顶杆(29)、喷嘴调节柱(30)、超声波雾化装置(8)、高精度喷头(7)，其中，
喷嘴螺纹推杆动力装置(13)带动喷嘴螺纹推杆(28)转动，喷嘴螺纹推杆(28)转动带动喷嘴螺纹顶杆(29)移动,喷嘴螺纹顶杆(29)与喷嘴调节柱(30)连接，喷嘴螺纹顶杆(29)移动带动喷嘴调节柱(30)移动，喷嘴调节柱(30)下方连接有超声波雾化装置(8)和高精度喷头(7)，喷嘴调节柱(30)移动用以调节高精度喷头(7)与载片台(10)的距离，喷嘴调节柱(30)的最小移动单位为50微米，超声波雾化装置(8)下方设置有高精度喷头(7)，超声波雾化装置(8)用以将喷道内的喷涂液雾化，高精度喷头(7)设有若干喷道及喷孔，喷道设有电控门阀，用以调节喷孔的流量，喷孔设有闭锁装置，用以控制喷孔的开合，电控门阀和闭锁装置根据喷涂需要在调节喷孔流量和喷孔开合，预设喷孔直径为5μm。
4.根据权利要求3所述的自辨别自检测效果的晶圆喷涂设备，其特征在于，可移动基座(6)与高精度喷嘴单元(5)连接间有弹性密封件(24)，弹性密封件(24)固定在弹性密封件固定装置(15)上，弹性密封件(24)用以保证可移动基座(6)与高精度喷嘴单元(5)间连接的密封性，使真空工作箱(1)进行抽真空作业时，真空工作箱(1)内真空环境不被破坏；
输液管(9)连接输液连接孔(12)和高精度喷头(7)，输液连接孔(12)连接带泵储液箱(2)，带泵储液箱(2)用以存储喷涂液并对输液管内部喷涂液产生预设压力，输液管(9)用以对高精度喷头(7)提供进液服务。
5.根据权利要求4所述的自辨别自检测效果的晶圆喷涂设备，其特征在于，所述浓度检测单元检测所述真空工作箱(1)内部喷涂液在单位区域/时间内的喷涂量小于预设浓度标准区间A1-A2时，其中，A1<A2，所述控制模块根据检测到的实时喷涂量数据与预设喷涂量数据进行对比，并根据对比结果对所述电控阀门进行调节，使所述浓度检测单元检测到的实时喷涂量数据与预设数据一致，所述表面覆着度检测单元检测所述晶圆片表面局部或整体喷涂液的覆着度小于预设覆着度标准区间B1-B2时，其中，B1＜B2，所述控制模块根据检测到的实时覆着度数据与预设数据进行对比，并根据对比结果对所述可移动基座(6)和/或所述高精度喷嘴单元(5)进行调节，使所述表面覆着度检测单元检测到的实时覆着度数据与预设数据一致。
6.根据权利要求5所述的自辨别自检测效果的晶圆喷涂设备，其特征在于，
所述浓度检测单元检测喷涂液在单位区域/时间内的喷涂量为雾化喷涂液按预设方向向可覆着于晶圆片表面区域运动的有效雾化喷涂量，喷涂液浓度达到标准浓度区间A1-A2内，所述控制模块控制真空抽气泵(3)对所述真空工作箱开启抽真空作业，抽取多余雾化喷涂液；
所述表面覆着度检测单元检测到任一厚度区域表面覆着度未达预设标准时，所述控制模块控制所述电控阀门调节喷孔的流量及所述可移动基座(6)与晶圆片的距离，对晶圆片局部或整片区域进行细化喷涂，所述表面覆着度为喷涂液在晶圆片局的厚度。
7.根据权利要求6所述的自辨别自检测效果的晶圆喷涂设备，其特征在于，所述浓度检测单元检测到的雾化喷涂液在单位区域/时间内的数量大于预设浓度标准A2时，所述控制模块判定所述真空工作箱(1)内浓度超标，需控制所述真空抽气泵(3)对所述真空工作箱(1)开启抽真空作业，抽取多余雾化喷涂液，且，所述可移动基座(6)和高精度喷嘴单元(5)移动至距载片台(10)的最远距离；
所述浓度检测单元检测到雾化喷涂液在单位区域/时间内的数量小于预设浓度标准A1，且在预设时间内无法完成对当前晶圆片的喷涂工作时，所述控制模块判定需控制电控阀门提高高精度喷嘴单元(5)喷孔的流量，使当前高精度喷嘴单元(5)释放的喷涂液在单位区域/时间内的数量在满足预设浓度标准A1-A2；
所述表面覆着度检测单元检测到当前任一晶圆片某区域的喷涂液覆着度满足到预设覆着度标准B1-B2，且当前任一晶圆片某区域的喷涂液覆着度小于预设覆着度标准B1，则所述控制模块判定需根据未达到预设喷涂液覆着度标准区间B1-B2的区域面积及喷涂液覆着度预设标准区间B1-B2与实际数值的差值，控制电控阀门调节喷孔的流量，控制所述可移动基座(6)和所述高精度喷嘴单元(5)移动至所需位置并调节喷孔与任一晶圆片的距离至预设距离，对任一晶圆片局部区域进行细化喷涂，直至任一晶圆片整片区域达到预设标准；
所述表面覆着度检测单元检测到当前任一晶圆片某区域的喷涂液覆着度小于到预设覆着度标准B1，且当前任一晶圆片某区域的喷涂液覆着度大于预设覆着度标准B2，则所述控制模块判定当前喷涂工作对于任一晶圆片已无法达到预设覆着度标准，需对任一晶圆片的当前位置进行标记并在后续的喷涂工作的调整中忽略其喷涂工作的调整对于任一晶圆片的影响，同时，将此任一晶圆片的位置在基于真空工作箱(1)内相对应的空间坐标上进行标记，并将残次品晶圆片的位置通过所述控制模块输出进行报告。
8.根据权利要求7所述的自辨别自检测效果的晶圆喷涂设备，其特征在于，所述浓度检测单元检测到当前高精度喷嘴释放的雾化喷涂液在单位区域/时间内的数量小于预设浓度标准A1，且所述表面覆着度检测单元检测到当前任一晶圆片某区域的喷涂液覆着度小于预设覆着度标准B1时，则所述控制模块判定当前所述高精度喷嘴单元(5)释放的雾化喷涂液在单位区域/时间内的数量需要进一步提高，并根据未达到预设喷涂液覆着度标准的区域面积及喷涂液覆着度预设数值与实际数值的差值，控制带泵储液箱(2)中的压力泵增加对带泵储液箱(2)内喷涂液的压力，并控制电子阀门增加高精度喷头(7)中喷孔的流量，使当前所述高精度喷嘴单元(5)释放的雾化喷涂液在单位区域/时间内的数量快速提升至预设浓度标准A1-A2。
9.根据权利要求8所述的自辨别自检测效果的晶圆喷涂设备，其特征在于，所述浓度检测单元检测到当前高精度喷嘴单元(5)释放的雾化喷涂液在单位区域/时间内的数量小于预设浓度标准A1，且所述表面覆着度检测单元检测到当前任一晶圆片某区域的喷涂液覆着度小于预设覆着度标准B1，且当前任一晶圆片除某区域外其他区域的喷涂液覆着度满足预设覆着度标准B1-B2时，则所述控制模块判定需根据未达到预设喷涂液覆着度标准的区域面积及喷涂液覆着度预设数值与实际数值的差值控制电控阀门减小当前所述高精度喷嘴单元(5)释放的雾化喷涂液在单位区域/时间内的数量，控制所述高精度喷头(7)缩小与晶圆片的距离并移动至预设位置，对任一晶圆片某局部区域进行细化喷涂，若所述控制模块判断当前以此调节方法喷涂而导致当前喷涂工作的整体时间增加时，则所述控制模块判定以使晶圆片整片区域的喷涂液覆着度满足预设覆着度标准B1-B2为第一优先条件，在确保第一优先条件的同时，增加当前所述高精度喷嘴(5)释放的雾化喷涂液在单位区域/时间内的数量。
10.根据权利要求9所述的自辨别自检测效果的晶圆喷涂设备，其特征在于，真空工作箱(1)设有L型开关门(11)，L型开关门(11)设置在真空工作箱(1)顶部，其中L型开关门横版(112)闭合在真空工作箱(1)顶部，L型开关门竖板版(111)闭合在真空工作箱(1)一侧的L型开关门密封槽(22)内；
当控制模块判定当前可移动基座(6)和高精度喷嘴单元(5)的预设位置需要进行调节时，由于可移动基座(6)和高精度喷嘴单元(5)中调节距离的最小单位不同，导致其可移动基座(6)和高精度喷嘴单元(5)根据预设位置分别进行调节，在可移动基座(6)可精确移动至预设位置时，高精度喷嘴单元(5)不做调节，在可移动基座(6)无法精确移动至预设位置时，由可移动基座(6)移动至最接近预设位置的位置后，并由高精度喷嘴单元(5)精确移动至预设位置，以满足喷涂工作需要；
所述控制模块判定真空工作箱内浓度超标，并控制真空抽气泵(3)对真空工作箱(1)开启抽真空作业抽取多余雾化喷涂液时，控制模块同时控制喷孔闭锁装置关闭喷孔，防止在抽真空作业时喷涂液从喷孔外泄，在抽真空作业结束后，真空工作箱(1)内恢复正常气压时，控制模块控制喷孔闭锁装置开启喷孔，进行喷涂作业。
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