CN114787667A - 光学层叠体、偏振片、图像显示装置、电阻膜式触摸面板及静电电容式触摸面板 - Google Patents
光学层叠体、偏振片、图像显示装置、电阻膜式触摸面板及静电电容式触摸面板 Download PDFInfo
- Publication number
- CN114787667A CN114787667A CN202080083978.2A CN202080083978A CN114787667A CN 114787667 A CN114787667 A CN 114787667A CN 202080083978 A CN202080083978 A CN 202080083978A CN 114787667 A CN114787667 A CN 114787667A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- layer
- hard coat
- film
- meth
- optical laminate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 193
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 381
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims abstract description 133
- 238000007373 indentation Methods 0.000 claims abstract description 35
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims abstract description 30
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims abstract description 20
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 161
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 121
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 60
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 39
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 claims description 35
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 claims description 34
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 32
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 26
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 claims description 23
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 20
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 17
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 16
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 16
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims description 16
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 14
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 claims description 13
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 claims description 13
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 13
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 10
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 claims description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 description 238
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 74
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 69
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 48
- 238000000034 method Methods 0.000 description 46
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 37
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 33
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 33
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 33
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 33
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 33
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 31
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 27
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 24
- 239000002519 antifouling agent Substances 0.000 description 20
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 20
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 19
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 19
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 18
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 description 18
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 18
- 238000012663 cationic photopolymerization Methods 0.000 description 15
- 239000012792 core layer Substances 0.000 description 15
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 15
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 14
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 14
- ODIGIKRIUKFKHP-UHFFFAOYSA-N (n-propan-2-yloxycarbonylanilino) acetate Chemical compound CC(C)OC(=O)N(OC(C)=O)C1=CC=CC=C1 ODIGIKRIUKFKHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 13
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 13
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 13
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 13
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 13
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 13
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 12
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 12
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 12
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 11
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 11
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 11
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 10
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 8
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 8
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 8
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 8
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 8
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 7
- 239000003522 acrylic cement Substances 0.000 description 7
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 7
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 6
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 6
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 6
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 6
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 6
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 6
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 6
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 5
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 5
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 5
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical class C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 5
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 5
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 4
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 4
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- 125000006162 fluoroaliphatic group Chemical group 0.000 description 4
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 4
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 4
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 3
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 3
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 3
- 229920006332 epoxy adhesive Polymers 0.000 description 3
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 3
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 3
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 3
- 239000005001 laminate film Substances 0.000 description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 3
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 3
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- AICOOMRHRUFYCM-ZRRPKQBOSA-N oxazine, 1 Chemical compound C([C@@H]1[C@H](C(C[C@]2(C)[C@@H]([C@H](C)N(C)C)[C@H](O)C[C@]21C)=O)CC1=CC2)C[C@H]1[C@@]1(C)[C@H]2N=C(C(C)C)OC1 AICOOMRHRUFYCM-ZRRPKQBOSA-N 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 3
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 3
- 108010001861 pregnancy-associated glycoprotein 1 Proteins 0.000 description 3
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 3
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 3
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 2
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 2-[2,2-bis(hydroxymethyl)butoxymethyl]-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)(CO)COCC(CC)(CO)CO WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YXALYBMHAYZKAP-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl 7-oxabicyclo[4.1.0]heptane-4-carboxylate Chemical compound C1CC2OC2CC1C(=O)OCC1CC2OC2CC1 YXALYBMHAYZKAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 2
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYIUODUDSPAJQ-XVBQNVSMSA-N [(1S,6R)-7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-3-yl]methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CC[C@H]2O[C@H]2C1 FYYIUODUDSPAJQ-XVBQNVSMSA-N 0.000 description 2
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YPCHGLDQZXOZFW-UHFFFAOYSA-N [2-[[4-methyl-3-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]carbonylamino]phenyl]carbamoyloxymethyl]-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound CC1=CC=C(NC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C)C=C1NC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C YPCHGLDQZXOZFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VCFFZAQQHCLMNH-UHFFFAOYSA-N [3-(6-prop-2-enoyloxyhexanoyloxy)-2-[[3-(6-prop-2-enoyloxyhexanoyloxy)-2,2-bis(6-prop-2-enoyloxyhexanoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(6-prop-2-enoyloxyhexanoyloxymethyl)propyl] 6-prop-2-enoyloxyhexanoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCC(=O)OCC(COC(=O)CCCCCOC(=O)C=C)(COC(=O)CCCCCOC(=O)C=C)COCC(COC(=O)CCCCCOC(=O)C=C)(COC(=O)CCCCCOC(=O)C=C)COC(=O)CCCCCOC(=O)C=C VCFFZAQQHCLMNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 2
- 125000003354 benzotriazolyl group Chemical class N1N=NC2=C1C=CC=C2* 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 2
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 2
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000000313 electron-beam-induced deposition Methods 0.000 description 2
- MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N ethyl benzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 2
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 2
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N methyl benzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1 QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000010295 mobile communication Methods 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 2
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 2
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 108010001843 pregnancy-associated glycoprotein 2 Proteins 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 2
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 2
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UROHSXQUJQQUOO-UHFFFAOYSA-M (4-benzoylphenyl)methyl-trimethylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC(C[N+](C)(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 UROHSXQUJQQUOO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 1,9-Nonanediol Chemical compound OCCCCCCCCCO ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKQJCUYEEABXNK-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-propoxythioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(OCCC)=CC=C2Cl VKQJCUYEEABXNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDRZFSPCVYEJTP-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylcyclohexene Chemical compound C=CC1=CCCCC1 SDRZFSPCVYEJTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYENVBKSVVOOPS-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)butyl prop-2-enoate Chemical compound CCC(CO)(CO)COC(=O)C=C SYENVBKSVVOOPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxy-1-phenylethanone Chemical compound CCOC(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZZVAVMGKRNEAT-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpropane-1,3-diol;3-hydroxy-2,2-dimethylpropanoic acid Chemical compound OCC(C)(C)CO.OCC(C)(C)C(O)=O CZZVAVMGKRNEAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAJYJWXEWKRTPO-UHFFFAOYSA-N 2,3,3,4,4,5-hexamethylhexane-2-thiol Chemical compound CC(C)C(C)(C)C(C)(C)C(C)(C)S YAJYJWXEWKRTPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 2,4-D Chemical compound OC(=O)COC1=CC=C(Cl)C=C1Cl OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRKORVYTKKLNKX-UHFFFAOYSA-N 2,4-di(propan-2-yl)thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC(C(C)C)=C3SC2=C1 BRKORVYTKKLNKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXCIJKOCUAQMKD-UHFFFAOYSA-N 2,4-dichlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC(Cl)=C3SC2=C1 UXCIJKOCUAQMKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZHUBCULTHIFNO-UHFFFAOYSA-N 2,4-dihydroxy-1,5-bis[4-(2-hydroxyethoxy)phenyl]-2,4-dimethylpentan-3-one Chemical compound C=1C=C(OCCO)C=CC=1CC(C)(O)C(=O)C(O)(C)CC1=CC=C(OCCO)C=C1 LZHUBCULTHIFNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)oxirane;4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol Chemical compound ClCC1CO1.C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBBXSWKUFZWAMU-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(dimethylamino)ethyl]benzoic acid Chemical compound CN(C)CCC1=CC=CC=C1C(O)=O NBBXSWKUFZWAMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUAYDERMVQWIJD-UHFFFAOYSA-N 2-n,2-n,6-trimethyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound CN(C)C1=NC(C)=NC(N)=N1 DUAYDERMVQWIJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWDGNKGKLOBESZ-UHFFFAOYSA-N 2-oxooctanal Chemical compound CCCCCCC(=O)C=O MWDGNKGKLOBESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDXXYUDJOHIIDZ-UHFFFAOYSA-N 2-phosphonooxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OP(O)(=O)OCCOC(=O)C=C UDXXYUDJOHIIDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC=C3SC2=C1 KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVYRHLPUAHNHKR-UHFFFAOYSA-N 3-[[1-amino-2-[[1-amino-1-(2-carboxyethylimino)-2-methylpropan-2-yl]diazenyl]-2-methylpropylidene]amino]propanoic acid;hydrate Chemical compound O.OC(=O)CCNC(=N)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=N)NCCC(O)=O BVYRHLPUAHNHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USWANRSZMQLWTG-UHFFFAOYSA-N 4-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCOCC1CO1 USWANRSZMQLWTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKVYHNPVKUNCJM-UHFFFAOYSA-N 4-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(C(C)C)=CC=C2 IKVYHNPVKUNCJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004864 4-thiomethylphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- FYYIUODUDSPAJQ-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1C(COC(=O)C(=C)C)CCC2OC21 FYYIUODUDSPAJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000251468 Actinopterygii Species 0.000 description 1
- 102100033806 Alpha-protein kinase 3 Human genes 0.000 description 1
- 101710082399 Alpha-protein kinase 3 Proteins 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- FEXQDZTYJVXMOS-UHFFFAOYSA-N Isopropyl benzoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C1=CC=CC=C1 FEXQDZTYJVXMOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQSMEZJWJJVYOI-UHFFFAOYSA-N Methyl 2-benzoylbenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 NQSMEZJWJJVYOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N Oxozirconium Chemical compound [Zr]=O GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFSAUHSCHWRZKM-UHFFFAOYSA-N Padimate A Chemical compound CC(C)CCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 OFSAUHSCHWRZKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYWZRNAHINYAEF-UHFFFAOYSA-N Padimate O Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 WYWZRNAHINYAEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLINHMUFWFWBMU-UHFFFAOYSA-N Triisopropanolamine Chemical compound CC(O)CN(CC(C)O)CC(C)O SLINHMUFWFWBMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFOXEOLGJPJZAA-UHFFFAOYSA-N [(2,6-dimethoxybenzoyl)-(2,4,4-trimethylpentyl)phosphoryl]-(2,6-dimethoxyphenyl)methanone Chemical compound COC1=CC=CC(OC)=C1C(=O)P(=O)(CC(C)CC(C)(C)C)C(=O)C1=C(OC)C=CC=C1OC LFOXEOLGJPJZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEEVRZDUPHZSOX-UHFFFAOYSA-N [1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)carbazol-3-yl]ethylideneamino] acetate Chemical compound C=1C=C2N(CC)C3=CC=C(C(C)=NOC(C)=O)C=C3C2=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1C SEEVRZDUPHZSOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIVQCJOGAHNXBO-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] propanoate Chemical compound CCC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HIVQCJOGAHNXBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBHQYYNDKZDVTN-UHFFFAOYSA-N [4-(4-methylphenyl)sulfanylphenyl]-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1SC1=CC=C(C(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1 DBHQYYNDKZDVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IDLJKTNBZKSHIY-UHFFFAOYSA-N [4-(diethylamino)phenyl]-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 IDLJKTNBZKSHIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEUGBYXJXMVRFO-UHFFFAOYSA-N [4-(dimethylamino)phenyl]-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 BEUGBYXJXMVRFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N [phenyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 229920005822 acrylic binder Polymers 0.000 description 1
- 229920006222 acrylic ester polymer Polymers 0.000 description 1
- XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N acrylonitrile butadiene styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 description 1
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- KYZHGEFMXZOSJN-UHFFFAOYSA-N benzoic acid isobutyl ester Natural products CC(C)COC(=O)C1=CC=CC=C1 KYZHGEFMXZOSJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001559 benzoic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002619 bicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- DJUWPHRCMMMSCV-UHFFFAOYSA-N bis(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl) hexanedioate Chemical compound C1CC2OC2CC1COC(=O)CCCCC(=O)OCC1CC2OC2CC1 DJUWPHRCMMMSCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 1
- 239000005345 chemically strengthened glass Substances 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 1
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- MAWOHFOSAIXURX-UHFFFAOYSA-N cyclopentylcyclopentane Chemical group C1CCCC1C1CCCC1 MAWOHFOSAIXURX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012955 diaryliodonium Substances 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 1
- 230000001804 emulsifying effect Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 125000005670 ethenylalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBNFIHSLSHMBKC-UHFFFAOYSA-N ethyl 4-[2-(dimethylamino)ethyl]benzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(CCN(C)C)C=C1 IBNFIHSLSHMBKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004494 ethyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000012847 fine chemical Substances 0.000 description 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 239000002783 friction material Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003630 glycyl group Chemical group [H]N([H])C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Hf+4] WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007975 iminium salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 1
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 1
- 239000011254 layer-forming composition Substances 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 229940095102 methyl benzoate Drugs 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N niobium pentoxide Inorganic materials O=[Nb](=O)O[Nb](=O)=O ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 125000002868 norbornyl group Chemical group C12(CCC(CC1)C2)* 0.000 description 1
- OEDAJYOQELMMFC-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O OEDAJYOQELMMFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTLDLKLSNZMTTA-UHFFFAOYSA-N octahydro-1h-4,7-methanoindene-1,5-diyldimethanol Chemical compound C1C2C3C(CO)CCC3C1C(CO)C2 OTLDLKLSNZMTTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- HPAFOABSQZMTHE-UHFFFAOYSA-N phenyl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HPAFOABSQZMTHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N phenyl-(4-phenylphenyl)methanone Chemical compound C=1C=C(C=2C=CC=CC=2)C=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003016 phosphoric acids Chemical class 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L phthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 150000004291 polyenes Chemical class 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229940113115 polyethylene glycol 200 Drugs 0.000 description 1
- 229940068886 polyethylene glycol 300 Drugs 0.000 description 1
- 229940068918 polyethylene glycol 400 Drugs 0.000 description 1
- 229940057847 polyethylene glycol 600 Drugs 0.000 description 1
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFUASNAHBMBJIX-UHFFFAOYSA-N propan-1-one Chemical compound CC[C]=O UFUASNAHBMBJIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003505 terpenes Chemical class 0.000 description 1
- 235000007586 terpenes Nutrition 0.000 description 1
- MVQLEZWPIWKLBY-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-benzoylbenzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 MVQLEZWPIWKLBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005409 triarylsulfonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003190 viscoelastic substance Substances 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
本发明提供一种光学层叠体、偏振片、图像显示装置及触摸面板,该光学层叠体至少具有:粘接层;支撑体,配置于该粘接层的单面;及硬涂层,配置于该支撑体上,将储能模量A的单位设为MPa、厚度B的单位设为μm时,上述粘接层的储能模量A及厚度B满足下述式(1),A×30‑B≥0式(1)上述支撑体的拉伸模量为4.5GPa以上,压痕模量与恢复率的乘积为3.75以上,厚度为80μm以上,上述硬涂层的压痕模量为7GPa以上,厚度为10μm以上,由上述支撑体和上述硬涂层构成的硬涂膜与上述光学层叠体的铅笔硬度之差在1H以内。
Description
技术领域
本发明涉及一种光学层叠体、偏振片、图像显示装置、电阻膜式触摸面板及静电电容式触摸面板。
背景技术
在图像显示装置的前面侧偏振片、尤其触摸面板的前面侧偏振片等要求高耐久性的用途中以往主要使用了化学强化玻璃等玻璃。另一方面,塑料具有与玻璃相比重量轻、不易破裂、能够减薄之类的优点。因此,近年来,在主要使用玻璃的用途中,作为玻璃替代材料,塑料的有用性受到关注。尤其,研究将在支撑体上具有固化层的硬涂膜用作玻璃替代材料。
在此,对于用于触摸面板的表面的硬涂膜,表面的铅笔硬度被认为很重要。
例如,在专利文献1中记载有一种飞散防止用粘合片,其依次层叠有铅笔硬度为2H以上的硬涂膜的硬涂层、基材膜及粘合剂层,该飞散防止用粘合片的特征在于,硬涂层的厚度为8~20μm,粘合剂层的厚度为1~13μm,粘合剂层在0℃下的储能模量为1.0×106~1.0×108Pa。在专利文献1中记载有该飞散防止用粘合片维持铅笔硬度H以上的硬度,并且冲压加工适应性及裁断加工适应性良好,且记载有使用聚对苯二甲酸乙二酯薄膜作为基材膜的例子。
并且,在专利文献2中记载有一种硬涂膜,其具备基材和层叠于基材的至少一个面上的硬涂层,该硬涂膜的特征在于,硬涂膜的面内方向的延迟为6000nm以上且40000nm以下,且关于至少一个面,铅笔硬度为5H以上,与硬涂膜中的铅笔硬度为5H以上的面最近的硬涂层即第1硬涂层以30体积%以上且70体积%以下的含量含有填料,厚度为20μm以上且100μm以下。在专利文献2中记载有通过该硬涂膜能够抑制因设置硬涂层而产生的颜色不均匀,且记载有使用聚对苯二甲酸乙二酯薄膜作为基材的例子。
此外,在专利文献3中记载有一种层叠体,其为至少具有树脂薄膜和配置于树脂薄膜的一个面的粘合层的层叠体,在层叠体中的层叠状态下,树脂薄膜的与具有粘合层的面相反的一侧的面在测定视野4mm×5mm中的表面粗糙度Sa为30nm以下,粘合层的厚度为100μm以下,频率1Hz下的损耗角正切的极大值在0℃~-40℃的温度区域,且极大值为1.3以上。记载有根据专利文献3中所记载的层叠体,即使在层叠于其他部件上时也能够显示出优异的玻璃品质。
以往技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2011-168652号公报
专利文献2:日本特开2016-164641号公报
专利文献3:国际公开第2017/204228号
发明内容
发明要解决的技术课题
本发明人等进行了研究的结果,得知了在如上述专利文献1及2中所记载的使用聚对苯二甲酸乙二酯薄膜作为基材膜的薄膜中,作为硬涂膜的铅笔硬度低,作为触摸面板的前面板用途,硬度并不充分。并且,在上述专利文献3中虽然记载有显示出高铅笔硬度的层叠体,但本发明人等研究的结果,得知了若将显示出高铅笔硬度的硬涂膜贴合于偏振片等被粘物上,则有时因经由粘接层等的贴合而铅笔硬度大幅下降,因此有改善的余地。
本发明的课题在于提供一种作为硬涂膜具有优异的铅笔硬度,而且因经由粘接层的贴合而产生的铅笔硬度的下降的抑制优异的光学层叠体、具备该光学层叠体的偏振片、图像显示装置、电阻膜式触摸面板及静电电容式触摸面板。
用于解决技术课题的手段
本发明人等为了解决上述课题而进行了深入研究的结果,发现了通过下述方案能够解决上述课题。
<1>
一种光学层叠体,其至少具有:粘接层;支撑体,配置于该粘接层的单面;及硬涂层,配置于该支撑体上,其中,
上述粘接层的储能模量A及厚度B满足下述式(1),
A×30-B≥0 式(1)
上述支撑体是拉伸模量为4.5GPa以上,压痕模量与恢复率的乘积为3.75以上,厚度为80μm以上的支撑体,
上述硬涂层是压痕模量为7GPa以上,厚度为10μm以上的硬涂层,
由上述支撑体和上述硬涂层构成的硬涂膜的铅笔硬度与上述光学层叠体的铅笔硬度之差在1H以内,
其中,上述式(1)中,储能模量A的单位为MPa,厚度B的单位为μm。
<2>
根据技术方案1所述的光学层叠体,其中,
上述支撑体包含三乙酰纤维素树脂。
<3>
根据技术方案1或2所述的光学层叠体,其中,
上述支撑体的厚度为100μm以上。
<4>
根据技术方案1至3中任一项所述的光学层叠体,其中,
上述硬涂层由硬涂层形成用固化性组合物形成,该硬涂层形成用固化性组合物含有具有(甲基)丙烯酸基的聚合性化合物1及在同一分子内具有环氧基和(甲基)丙烯酸基且与上述聚合性化合物1不同的聚合性化合物2,
该硬涂层形成用固化性组合物中所包含的聚合性化合物中所占的上述聚合性化合物2的比例为51质量%以上。
<5>
根据技术方案1至4中任一项所述的光学层叠体,其中,
在上述硬涂层的与上述支撑体相反的一侧的面具有耐磨层,
该耐磨层由耐磨层形成用固化性组合物形成,所述耐磨层形成用固化性组合物含有在同一分子内具有至少3个(甲基)丙烯酸基的聚合性化合物和具有(甲基)丙烯酸基的含氟化合物。
<6>
根据技术方案1至5中任一项所述的光学层叠体,其中,
上述硬涂层形成用固化性组合物含有由(甲基)丙烯酸基或环氧基修饰的无机粒子,上述硬涂层形成用固化性组合物的固体成分中的上述无机粒子的含量为20质量%以上。
<7>
根据技术方案1至6中任一项所述的光学层叠体,其中,
上述粘接层的储能模量A及厚度B满足下述式(2)。
A×30-B≥6 式(2)
其中,上述式(2)中,储能模量A的单位为MPa,厚度B的单位为μm。
<8>
一种偏振片,其包含:
技术方案1至7中任一项所述的光学层叠体;及配置于该光学层叠体的粘接层侧的起偏器。
<9>
根据技术方案8所述的偏振片,其中,
在上述起偏器与构成上述光学层叠体的粘接层之间包含由聚对苯二甲酸乙二酯形成的起偏器保护膜。
<10>
根据<8>或<9>的偏振片,其中,
由上述支撑体和上述硬涂层构成的硬涂膜的铅笔硬度与上述偏振片的铅笔硬度之差在1H以内。
<11>
一种图像显示装置,其具有:
<8>至<10>中任一项所述的偏振片;及图像显示元件。
<12>
根据<11>所述的图像显示装置,其中,
上述图像显示元件为液晶显示元件。
<13>
根据<11>或<12>所述的图像显示装置,其中,
上述图像显示元件为有机电致发光显示元件。
<14>
根据<11>至<13>中任一项所述的图像显示装置,其中,
上述图像显示元件为内嵌式触摸面板显示元件。
<15>
根据<11>至<13>中任一项所述的图像显示装置,其中,
上述图像显示元件为外嵌式触摸面板显示元件。
<16>
一种电阻膜式触摸面板,其包含<8>至<10>中任一项所述的偏振片。
<17>
一种静电电容式触摸面板,其包含<8>至<10>中任一项所述的偏振片。
在本发明中,当存在多个以特定的符号或式表示的取代基或连接基等(以下,称为取代基等)时或者同时规定多个取代基等时,只要没有特别指定,则各个取代基等可以彼此相同也可以不同。这对于取代基等的数量的规定也相同。并且,当多个取代基等靠近时(尤其相邻时),只要没有特别指定,则它们可以彼此连接而形成环。并且,只要没有特别指定,则环例如脂环、芳香族环、杂环可以进一步稠合而形成稠环。
在本说明书中,只要没有特别指定,则关于双键,当在分子内存在E型及Z型时,可以为其中任一种,并且也可以为它们的混合物。
在本发明中,关于化合物(包括络合物。)的表示,是指在不损害本发明的效果的范围内包含结构的一部分变化的化合物。此外,关于未标明取代或未取代的化合物,是指在不损害本发明的效果的范围内可以具有任意取代基。这对于取代基及连接基也相同。
并且,在本发明中,使用“~”表示的数值范围是指将记载于“~”前后的数值作为下限值及上限值而包含的范围。
在本发明中,组合物除了成分浓度恒定的(各成分均匀地分散)混合物以外,还包含在不损害作为目标的颜色转换功能的范围内成分浓度发生了变动的混合物。
在本发明中,“(甲基)丙烯酸酯”以包括丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯这两者的含义使用。这对于“(甲基)丙烯酸”、“(甲基)丙烯酰胺”、“(甲基)丙烯酸基”、“(甲基)丙烯酰基”及“(甲基)丙烯酰氧基”也相同。另外,在本发明中,“(甲基)丙烯酸基”以包括“(甲基)丙烯酰基”及“(甲基)丙烯酰氧基”这两者的含义使用。
在本发明中,各成分分别可以使用一种,也可以混合使用两种以上。
在本发明中,组合物的固体成分是指从组合物的所有组成中去除溶剂后的成分。
在本发明中,固化层是指由至少包含固化性化合物的组合物形成且表面的铅笔硬度为2H以上的层。作为本发明的光学层叠体具有或可具有的固化层,例如可以举出硬涂层及耐磨层,硬涂层由硬涂层形成用固化性组合物形成,耐磨层由耐磨层形成用固化性组合物形成。
发明效果
本发明的光学层叠体作为硬涂膜具有优异的铅笔硬度,而且因经由粘接层的贴合而产生的铅笔硬度的下降抑制效果也优异。因此,包含该光学层叠体作为构成部件的本发明的偏振片、图像显示装置、电阻膜式触摸面板及静电电容式触摸面板能够以优异的等级维持硬涂膜所具有的优异的铅笔硬度。
(光学层叠体)
本发明的光学层叠体至少具有粘接层、配置于该粘接层的单面的支撑体及配置于该支撑体上的硬涂层,上述粘接层的储能模量A及厚度B满足下述式(1)。其中,下述式(1)中,储能模量A的单位为MPa,厚度B的单位为μm。
A×30-B≥0 式(1)
此外,本发明的光学层叠体中的上述支撑体是拉伸模量为4.5GPa以上,压痕模量与恢复率的乘积为3.75以上,厚度为80μm以上的支撑体,
上述硬涂层是压痕模量为7GPa以上,厚度为10μm以上的硬涂层,
由上述支撑体和上述硬涂层构成的硬涂膜的铅笔硬度与上述光学层叠体的铅笔硬度之差在1H以内。
本发明的光学层叠体通过将硬涂层的弹性模量和厚度提高至特定的值以上,能够实现作为由支撑体和硬涂层构成的硬涂膜显示出高铅笔硬度的硬涂膜。另一方面,若将显示出高铅笔硬度的硬涂膜经由粘接层贴合于偏振片等被粘物上,则伴随贴合而发生铅笔硬度的下降,本发明人等进行深入研究的结果,发现了通过具备满足上述式(1)的特定的粘接层作为粘接层,进而,将支撑体的厚度和拉伸模量提高至特定的值以上,且将支撑体的压痕模量与恢复率的乘积提高至特定的值以上,由此,本发明的光学层叠体作为硬涂膜的铅笔硬度高,而且经由粘接层贴合于偏振片等被粘物上之后,也能够将铅笔硬度的下降抑制至1H以内,维持良好的铅笔硬度。
以下,对构成本发明的光学层叠体的各层进行详细叙述。
[1]粘接层
本发明的光学层叠体中的粘接层只要满足上述式(1),则可以为粘合剂层(a),也可以为粘接剂层(b)。对用作本发明的光学层叠体中的粘接层的粘合剂层(a)及粘接剂层(b)分别进行详细叙述。
〔粘合剂层(a)〕
粘合剂层是指由粘合剂,即贴合之后仅通过施加力便显现粘接性的粘弹性体构成的层。作为用于本发明的粘合剂层(a),只要为在相位差膜或显示元件的贴合中通常使用且满足上述式(1)的粘合剂层,则能够无特别限定地进行使用。
本发明中的粘合剂不包括贴合之后通过干燥或反应而显现粘接性的后述的粘接剂。
作为用于粘合剂层(a)的粘合剂,例如可以举出橡胶粘合剂、丙烯酸粘合剂、硅酮粘合剂、氨基甲酸酯粘合剂、乙烯基烷基醚粘合剂、聚乙烯吡咯烷酮粘合剂、聚丙烯酰胺粘合剂及纤维素粘合剂等。
在这些之中,从透明性、耐候性、耐热性等观点考虑,优选为丙烯酸粘合剂(压敏粘合剂)。
粘合剂层(a)例如能够通过如下方法等来形成:将粘合剂的溶液涂布于脱模片上,进行干燥之后,将其转印到透明树脂层的表面的方法;将粘合剂的溶液直接涂布于透明树脂层的表面,并进行干燥的方法。
粘合剂的溶液例如制备成将粘合剂溶解或分散于甲苯或乙酸乙酯等溶剂而成的10~40质量%左右的溶液。
涂布法能够采用逆向涂布、凹版涂布等辊涂法、旋涂法、丝网涂布法、喷注涂布法、浸渍法、喷涂法等。
并且,作为脱模片的构成材料,例如可以举出聚乙烯、聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二酯等合成树脂薄膜;橡胶片;纸;布;无纺布;丝网;发泡片;金属箔等适当的薄片体等。
〔粘接剂层(b)〕
粘接剂层是指由粘接剂,即贴合之后通过干燥及反应等而显现粘接性的剂构成的层。作为用于本发明的粘接剂层(b),只要为满足上述式(1)的粘接剂层,则能够无特别限定地进行使用。
例如,聚乙烯醇粘接剂(PVA粘接剂)通过干燥而显现粘接性,能够使材料彼此粘接。
作为通过反应而显现粘接性的固化型粘接剂的具体例,可以举出(甲基)丙烯酸酯粘接剂之类的活性能量射线固化型粘接剂及环氧粘接剂之类的阳离子聚合固化型粘接剂。作为(甲基)丙烯酸酯粘接剂中的固化性成分,例如可以举出具有(甲基)丙烯酸基的化合物及具有乙烯基的化合物。
并且,作为阳离子聚合固化型粘接剂,也能够使用具有环氧基及氧杂环丁基中的至少任一个阳离子聚合性基团的化合物。具有环氧基的化合物只要在分子内具有至少两个环氧基,则不受特别限定,能够使用通常已知的各种固化性环氧化合物。作为优选的环氧化合物,作为例子可以举出在分子内具有至少两个环氧基和至少一个芳香环的化合物(芳香族类环氧化合物)、或在分子内具有至少两个环氧基且其中至少一个形成于构成脂环式环的相邻的两个碳原子之间的化合物(脂环式环氧化合物)等。
本发明的光学层叠体中的粘接层优选由丙烯酸粘合剂、(甲基)丙烯酸酯粘接剂之类的活性能量射线固化型粘接剂或环氧粘接剂之类的阳离子聚合固化型粘接剂中的任一种构成,更优选由丙烯酸粘合剂、(甲基)丙烯酸酯粘接剂或环氧粘接剂中的任一种构成,进一步优选由丙烯酸粘合剂或(甲基)丙烯酸酯粘接剂构成。
作为这些粘合剂及粘接剂,只要满足上述式(1),则不受特别限制,例如能够适当地调整使用国际公开第2017/204228号中所记载的丙烯酸粘合剂、日本特开2005-298641号公报中所记载的丙烯酸粘合剂、日本特开2011-128439号公报中所记载的丙烯酸粘合剂、日本特开2010-44211号公报中所记载的丙烯酸粘合剂等。
本发明的光学层叠体中的粘接层的储能模量优选0.04MPa以上,更优选0.1MPa以上,进一步优选0.3~5MPa,尤其优选0.5~5MPa,最优选0.7~2.5MPa。若粘接层的储能模量为上述优选的下限值以上,则不易伸展且操作性良好,若为上述优选的上限值以下,则能够显现良好的粘合性。
<储能模量的测定方法>
在本发明中,储能模量为使用IT Keisoku Seigyo Co.,Ltd.制造的动态粘弹性测定装置(商品名:DVA-200)在频率1Hz、25℃的条件下测定的值。
本发明的光学层叠体中的粘接层的厚度优选为1~30μm,更优选为3~15μm,进一步优选为5~10μm。若粘接层的厚度为上述优选的上限值以下,则能够抑制经由粘接层将硬涂膜贴合于被粘物时产生的铅笔硬度的下降。并且,若粘接层的厚度为上述优选的下限值以上,则不会发生破裂等,操作性良好。
<厚度的测定方法>
在本发明中,粘接层的厚度是指用切片机切削光学层叠体或构成光学层叠体的层而使剖面露出,以倍率1000~3000倍进行SEM(Scanning Electron Microscope:扫描电子显微镜)观察,在5点测定厚度,将它们的平均作为厚度。关于支撑体的厚度及硬涂层的厚度,也是以与粘接层的厚度相同的方式测定并计算出的值。
本发明的光学层叠体中的粘接层的储能模量A及厚度B满足下述式(1),优选满足下述式(2),更优选满足下述式(3)。其中,下述式(1)~(3)中,储能模量A的单位为MPa,厚度B的单位为μm,分别为通过上述方法测定的值。
A×30-B≥0 式(1)
A×30-B≥6 式(2)
A×30-B≥16 式(3)
从进一步提高硬涂膜的铅笔硬度的观点考虑,本发明的光学层叠体中的粘接层优选满足上述式(2),厚度为3~15μm且储能模量为0.3~5MPa,从进一步提高硬涂膜的铅笔硬度且进一步抑制经由粘接层将硬涂膜贴合于被粘物时的铅笔硬度的下降的观点考虑,更优选满足上述式(3),厚度为5~10μm且储能模量为0.7~2.5MPa。
另外,粘接层可以为1层结构,也可以为2层以上的层叠结构。当为2层以上的层叠结构时,使上述式(1)~(3)的关系在粘接层整体中满足即可。
[2]支撑体
本发明的光学层叠体中的支撑体只要是拉伸模量为4.5GPa以上,压痕模量与恢复率的乘积为3.75以上,厚度为80μ以上的支撑体,则不受特别限定,能够使用图像显示装置的前面板中使用的薄膜。作为支撑体,优选树脂薄膜。
作为树脂薄膜,能够举出丙烯酸树脂薄膜、聚碳酸酯(PC)树脂薄膜、三乙酰纤维素(TAC)树脂薄膜、聚烯烃树脂薄膜、聚酯树脂薄膜及丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物薄膜,优选丙烯酸树脂薄膜、三乙酰纤维素树脂薄膜或聚碳酸酯树脂薄膜。
另外,丙烯酸树脂薄膜是指将选自丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯中的一种以上的化合物作为构成成分的聚合物或共聚物的树脂薄膜。作为丙烯酸树脂薄膜的例子,可以举出聚甲基丙烯酸甲酯树脂(PMMA)薄膜。
作为上述支撑体,优选包含三乙酰纤维素,更优选为三乙酰纤维素树脂薄膜。
三乙酰纤维素树脂薄膜的结构并不受特别限定,可以为单层的薄膜,也可以为由2层以上构成的层叠膜。层叠膜的层叠数量优选2~10层,更优选2~5层,进一步优选2层或3层。在3层以上的情况下,外层与除外层以外的层(芯层等)优选为不同组成的薄膜。并且,外层彼此优选为相同组成的薄膜。
具体而言,为具有TAC-a/TAC-b/TAC-a的层叠结构的薄膜,标注有相同的符号a的薄膜Tac-a表示相同组成的薄膜。
并且,在三乙酰纤维素树脂薄膜中,优选含有糖酯化合物或邻苯二甲酸酯化合物作为增塑剂。作为糖酯化合物或邻苯二甲酸酯化合物,例如能够使用日本特开2012-215689号公报中所记载的化合物。
作为三乙酰纤维素树脂薄膜,例如能够按照国际公开第2017/204228号小册子的0021~0043段中所记载的树脂薄膜的形成方法的记载进行制造。
在TAC-a所表示的表层用浓液中使用的所有溶剂中的二氯甲烷的比率优选为83~97质量%,更优选为83~92质量%。若在该范围内,则将硬涂层涂设于纤维素酯薄膜时的密合性良好,进而,偏振片的再次加工性良好。
关于纤维素酯薄膜的输送方向或宽度方向的拉伸,对带硬涂层的薄膜单体的卷曲、偏振片形态的卷曲的调整有效,优选3~20%,5~15%为更优选的范围。
当支撑体为树脂薄膜时,除了树脂成分以外,还可以任意地包含一种以上公知的添加剂等其他成分。
作为上述可以任意地包含的成分,例如能够举出紫外线吸收剂等光稳定剂及消光剂等无机粒子。
作为紫外线吸收剂,例如能够举出苯并三唑化合物及三嗪化合物。在此,苯并三唑化合物是指具有苯并三唑环的化合物,作为具体例,例如能够举出日本特开2013-111835号公报的0033段中所记载的各种苯并三唑类紫外线吸收剂。三嗪化合物是指具有三嗪环的化合物,作为具体例,例如能够举出日本特开2013-111835号公报的0033段中所记载的各种三嗪类紫外线吸收剂。
树脂薄膜中所包含的紫外线吸收剂的含量并不受特别限定,例如相对于薄膜中所包含的树脂100质量份,能够设为0.1~10质量份左右。并且,关于紫外线吸收剂,还能够参考日本特开2013-111835号公报的0032段的记载。另外,在本发明中,紫外线(UV)是指在200~380nm的波长带具有发光中心波长的光。
本发明的光学层叠体中的支撑体的拉伸模量为4.5GPa以上,优选4.8GPa以上。通过将支撑体的拉伸模量设为4.5GPa以上,能够提高光学层叠体的铅笔硬度。另一方面,上述拉伸模量的上限值并没有特别规定,但优选20GPa以下,更优选15GPa以下,进一步优选10GPa以下,尤其优选8GPa以下。
在本发明中,拉伸模量为通过后述的实施例中所记载的方法测定并计算出的值。另外,关于在后述的实施例中所记载的支撑体的薄膜制作时的输送方向(MD方向),即使在支撑体的制作时的工序不明的情况下,也能够通过分析支撑体来判别。
本发明的光学层叠体中的支撑体的压痕模量与恢复率的乘积为3.75以上,优选3.80以上。通过将压痕模量与恢复率的乘积设为3.75以上,能够提高光学层叠体的铅笔硬度。另一方面,上述压痕模量与恢复率的乘积的上限值并没有特别规定,但优选19.00以下,更优选10.00以下,进一步优选5.00以下。
在本发明中,支撑体的压痕模量与恢复率的乘积为通过后述的实施例中所记载的方法测定压痕模量及恢复率而计算出的值。
支撑体的厚度(膜厚)为80μm以上,优选100μm以上。通过设为80μm以上,能够抑制将偏振片等贴合于被粘物时的铅笔硬度的下降。另一方面,上述厚度(膜厚)的上限值并没有特别规定,但优选500μm以下,更优选400μm以下,进一步优选300μm以下,尤其优选200μm以下,最优选150μm以下。
另外,当支撑体为2层以上的层叠结构时,使上述拉伸模量、压痕模量与恢复率的乘积及厚度均在支撑体整体中满足即可。
[3]硬涂层
本发明的光学层叠体中的硬涂层只要是压痕模量为7GPa以上,厚度为10μm以上的硬涂层,则不受特别限定,能够使用用于图像显示装置的前面板的硬涂层。
本发明的硬涂层为固化层,优选由硬涂层形成用固化性组合物形成。
上述硬涂层形成用固化性组合物优选包含具有自由基聚合性基团的聚合性化合物1,从进一步提高硬涂膜的铅笔硬度的观点考虑,更优选含有具有自由基聚合性基团的聚合性化合物1及在同一分子内具有阳离子聚合性基团和自由基聚合性基团且与聚合性化合物1不同的聚合性化合物2,硬涂层形成用固化性组合物中所包含的聚合性化合物中所占的聚合性化合物2的含量为51质量%以上,进一步优选含有具有(甲基)丙烯酸基的聚合性化合物1及在同一分子内具有环氧基和(甲基)丙烯酸基且与聚合性化合物1不同的聚合性化合物2,硬涂层形成用固化性组合物中所包含的聚合性化合物中所占的聚合性化合物2的含量为51质量%以上。
以下,对硬涂层形成用固化性组合物中所含有的各成分进行说明。
<<聚合性化合物1>>
本发明中使用的聚合性化合物1具有自由基聚合性基团。本发明中使用的聚合性化合物1为与聚合性化合物2不同的化合物。即,本发明中使用的聚合性化合物1为具有自由基聚合性基团的化合物中除在同一分子内具有阳离子聚合性基团和自由基聚合性基团的化合物以外的聚合性化合物。
聚合性化合物1可以为高分子(例如,重均分子量为2000以上),也可以为低分子(例如,分子量小于2000),但优选为低分子。通过使用低分子的聚合性化合物1,除自由基聚合性基团以外的部位变少,能够更有效地提高硬涂膜的铅笔硬度。具体而言,聚合性化合物1的分子量优选为1500以下,更优选为1200以下,进一步优选为1000以下。关于上述分子量的下限值,聚合性化合物1的分子量优选为100以上,更优选为120以上。通过设在这样的范围内,在形成硬涂层时能够更有效地抑制聚合性化合物1挥发。
在本发明中,只要没有特别限制,则重均分子量为通过GPC(Gel PermeationChromatography:凝胶渗透色谱)测定的值。
聚合性化合物1所具有的自由基聚合性基团的数量可以为1个,但在同一分子内优选2个以上,更优选3个以上,进一步优选4个以上,尤其优选6个以上。通过将聚合性化合物1所具有的自由基聚合性基团的数量在同一分子内设为2个以上,能够更有效地提高铅笔硬度及密合性。聚合性化合物1所具有的自由基聚合性基团的数量的上限并没有特别规定,即使在同一分子内为10以下,也能够充分发挥本发明的效果。作为聚合性化合物1所具有的自由基聚合性基团,优选苯乙烯基及(甲基)丙烯酸基,更优选(甲基)丙烯酸基,进一步优选(甲基)丙烯酰氧基。(甲基)丙烯酸基优选甲基丙烯酸基。
聚合性化合物1优选使用(甲基)丙烯酸酯化合物。作为(甲基)丙烯酸酯化合物,能够广泛采用具有(甲基)丙烯酸基且在本发明的技术领域中使用的形成高硬度的固化物的化合物。
作为(甲基)丙烯酸酯化合物,可以举出多元醇与(甲基)丙烯酸的酯。
作为多元醇与(甲基)丙烯酸的酯,可以举出乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-环己烷二丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷(EO)改性三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、环氧丙烷(PO)改性三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、EO改性磷酸三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、二三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,2,3-环己烷四甲基丙烯酸酯、聚氨酯聚丙烯酸酯、聚酯聚丙烯酸酯及己内酯改性三(丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯等。
并且,作为上述(甲基)丙烯酸酯化合物,还优选为在一个分子中与上述(甲基)丙烯酸基一同包含1个以上氨基甲酸酯键的化合物(氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯)。
作为上述氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯的市售品,并不受特别限定,例如能够举出Kyoeisha chemical Co.,Ltd.制造的UA-306H、UA-306I、UA-306T、UA-510H、UF-8001G、UA-101I、UA-101T、AT-600、AH-600、AI-600、Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造的U-4HA、U-6HA、U-6LPA、UA-32P、U-15HA、UA-1100H、Nippon Synthetic Chemical Industry Co.,Ltd.制造的紫光UV-1400B、紫光UV-1700B、紫光UV-6300B、紫光UV-7550B、紫光UV-7600B、紫光UV-7605B、紫光UV-7610B、紫光UV-7620EA、紫光UV-7630B、紫光UV-7640B、紫光UV-6630B、紫光UV-7000B、紫光UV-7510B、紫光UV-7461TE、紫光UV-3000B、紫光UV-3200B、紫光UV-3210EA、紫光UV-3310EA、紫光UV-3310B、紫光UV-3500BA、紫光UV-3520TL、紫光UV-3700B、紫光UV-6100B、紫光UV-6640B、紫光UV-2000B、紫光UV-2010B、紫光UV-2250EA。并且,还可以举出Nippon Synthetic Chemical Industry Co.,Ltd.制造的紫光UV-2750B、Kyoeishachemical Co.,Ltd.制造的UL-503LN、DIC Corporation制造的UNIDIC 17-806、UNIDIC 17-813、UNIDIC V-4030、UNIDIC V-4000BA、DAICEL-ALLNEX LTD.制造的EB-1290K、TOKUSHIKICO.,Ltd.制造的HI-COAP AU-2010、HI-COAP AU-2020等。
作为氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯的具体例,还优选下述例示化合物A-1~A-8。
[化学式1]
[化学式2]
当聚合性化合物1为不具有氨基甲酸酯键的(甲基)丙烯酸酯化合物时,还能够例示出以下化合物。但是,本发明并不限定于下述例示化合物。
聚乙二醇200二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇300二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇400二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇600二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性乙二醇二(甲基)丙烯酸酯(作为市售品,例如NAGASE&CO.,LTD.制造的Denacol DA-811等)、聚丙二醇200二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇400二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇700二(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷(EO;Ethylene Oxide)-环氧丙烷(PO;Propylene Oxide)嵌段聚醚二(甲基)丙烯酸酯(作为市售品,例如Nippon Oil&Fats GmbH制造的BLEMMER PET系列等)、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、双酚A EO加成型二(甲基)丙烯酸酯(作为市售品,例如TOAGOSEI CO.,LTD.制造的M-210、Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造的NK Ester A-BPE-20等)、氢化双酚A EO加成型二(甲基)丙烯酸酯(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造的NK Ester A-HPE-4等)、双酚A PO加成型二(甲基)丙烯酸酯(作为市售品,例如Kyoeisha chemical Co.,Ltd.制造的LIGHT ACRYLATE BP-4PA等)、双酚A表氯醇加成型二(甲基)丙烯酸酯(作为市售品,例如DAICEL-ALLNEX LTD.制造的EPICRYL 150等)、双酚AEO-PO加成型二(甲基)丙烯酸酯(作为市售品,例如Toho Chemical Industry Co.,Ltd.制造的BP-023-PE等)、双酚F EO加成型二(甲基)丙烯酸酯(作为市售品,例如TOAGOSEI CO.,LTD.制造的ARONIX M-208等)、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯及其表氯醇改性物、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、羟基新戊酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯及其己内酯改性物、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯单硬脂酸酯、三羟甲基丙烷丙烯酸/苯甲酸酯、异氰脲酸EO改性二(甲基)丙烯酸酯(作为市售品,例如TOAGOSEI CO.,LTD.制造的ARONIX M-215等)等2官能(甲基)丙烯酸酯化合物。
三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯及其EO、PO或表氯醇改性物、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯及其EO、PO或表氯醇改性物、异氰脲酸EO改性三(甲基)丙烯酸酯(作为市售品,例如为TOAGOSEI CO.,LTD.制造的ARONIX M-315等)、三(甲基)丙烯酰氧基乙基磷酸酯、邻苯二甲酸氢-(2,2,2-三-(甲基)丙烯酰氧基甲基)乙酯酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯及其EO、PO或表氯醇改性物等3官能(甲基)丙烯酸酯化合物;季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯及其EO、PO或表氯醇改性物、二三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯等4官能(甲基)丙烯酸酯化合物;二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯及其EO、PO或表氯醇、脂肪酸、烷基改性物等5官能(甲基)丙烯酸酯化合物;二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯及其EO、PO或表氯醇、脂肪酸、烷基改性物、山梨醇六(甲基)丙烯酸酯及其EO、PO或表氯醇、脂肪酸、烷基改性物等6官能(甲基)丙烯酸酯化合物。
并且,关于作为聚合性化合物1的(甲基)丙烯酸酯化合物,还优选重均分子量为200以上且小于1000的聚酯(甲基)丙烯酸酯或环氧(甲基)丙烯酸酯。
在市售品中,作为聚酯(甲基)丙烯酸酯,可以举出ARAKAWA CHEMICALINDUSTRIES,LTD.制造的商品名:Beam set700系列,即Beam set700(6官能)、Beam set710(4官能)、Beam set720(3官能)等。
并且,关于作为聚合性化合物1的(甲基)丙烯酸酯化合物的具体例,作为优选的方式,还可以举出除上述以外的具有3个以上的(甲基)丙烯酸基的(甲基)丙烯酸酯化合物。
作为具有3个以上的(甲基)丙烯酸基的(甲基)丙烯酸酯化合物的例子,还能够举出下述例示化合物A-9~A-11。
[化学式3]
作为具有3个以上的(甲基)丙烯酸基的(甲基)丙烯酸酯化合物的例子,还能够举出日本特开2007-256844号公报的0096段所示的例示化合物。
此外,作为具有3个以上的(甲基)丙烯酸基的(甲基)丙烯酸酯化合物的具体化合物,能够举出Nippon Kayaku Co.,Ltd.制造的KAYARAD DPHA、KAYARAD DPHA-2C、KAYARADPET-30、KAYARAD TMPTA、KAYARAD TPA-320、KAYARAD TPA-330、KAYARAD RP-1040、KAYARADT-1420、KAYARAD D-310、KAYARAD DPCA-20、KAYARAD DPCA-30、KAYARAD DPCA-60、KAYARADGPO-303、Osaka Organic Chemical Industry Co.,Ltd.制造的V#400、V#36095D等多元醇与(甲基)丙烯酸的酯化物。并且,还能够优选使用紫光UV-1400B、紫光UV-1700B、紫光UV-6300B、紫光UV-7550B、紫光UV-7600B、紫光UV-7605B、紫光UV-7610B、紫光UV-7620EA、紫光UV-7630B、紫光UV-7640B、紫光UV-6630B、紫光UV-7000B、紫光UV-7510B、紫光UV-7461TE、紫光UV-3000B、紫光UV-3200B、紫光UV-3210EA、紫光UV-3310EA、紫光UV-3310B、紫光UV-3500BA、紫光UV-3520TL、紫光UV-3700B、紫光UV-6100B、紫光UV-6640B、紫光UV-2000B、紫光UV-2010B、紫光UV-2250EA、紫光UV-2750B(Nippon Synthetic Chemical Industry Co.,Ltd.制造)、UL-503LN(Kyoeisha chemical Co.,Ltd.制造)、UNIDIC 17-806、UNIDIC 17-813、UNIDIC V-4030、UNIDIC V-4000BA(DIC Corporation制造)、EB-1290K、EB-220、EB-5129、EB-1830、EB-4358(DAICEL-ALLNEX LTD.制造)、HI-COAP AU-2010、HI-COAP AU-2020(TOKUSHIKI CO.,Ltd.制造)、ARONIX M-1960(TOAGOSEI CO.,LTD.制造)、Art resin UN-3320HA、UN-3320HC、UN-3320HS、UN-904、HDP-4T等3官能以上的氨基甲酸酯丙烯酸酯化合物、ARONIX M-8100、M-8030、M-9050(TOAGOSEI CO.,LTD.制造)、KBM-8307(DAICEL-ALLNEXLTD.制造)的3官能以上的聚酯化合物等。
此外,在本发明中,聚合性化合物1优选为选自二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯及二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯中的至少一种。作为这些市售品,可以例示出在后述的实施例中叙述的市售品。
聚合性化合物1可以为一种,也可以为两种以上,作为两种以上的共混方式,可以例示出二季戊四醇五丙烯酸酯与二季戊四醇六丙烯酸酯的组合。
硬涂层形成用固化性组合物中所包含的聚合性化合物中所占的聚合性化合物1的比例优选49质量%以下,更优选45质量%以下,进一步优选35质量%以下。上述聚合性化合物1的比例的下限值优选1质量%以上,更优选5质量%以上,进一步优选8质量%以上,尤其进一步优选10质量%以上,尤其优选20质量%以上。通过设为5质量%以上,能够更有效地提高密合性及铅笔硬度。
聚合性化合物1可以在硬涂层形成用固化性组合物中仅包含一种,也可以包含两种以上。当包含两种以上时,优选其合计量成为上述范围。
<<聚合性化合物2>>
本发明中使用的聚合性化合物2为在同一分子内具有阳离子聚合性基团和自由基聚合性基团且与聚合性化合物1不同的聚合性化合物。通过使用具有阳离子聚合性基团和自由基聚合性基团的聚合性化合物,能够进一步提高经由粘接层将硬涂膜贴合于被粘物时的铅笔硬度的下降抑制效果。
聚合性化合物2优选为低分子,具体而言,优选分子量小于10000。通过使用低分子的聚合性化合物2,除阳离子聚合性基团及自由基聚合性基团以外的部位变少,能够更有效地提高上述铅笔硬度的下降抑制效果。具体而言,聚合性化合物2的分子量优选为400以下,更优选为300以下,进一步优选为250以下。上述聚合性化合物2的分子量的下限值优选为100以上,更优选为120以上。通过设在这样的范围内,在形成硬涂层时能够更有效地抑制聚合性化合物2挥发。
在聚合性化合物2中,一个分子中的阳离子聚合性基团的数量优选为1~10,更优选为1~4,进一步优选为1或2,尤其优选为1。优选一个分子中的自由基聚合性基团的数量多,优选为1~10,更优选为1~4,进一步优选为1或2,尤其优选为1。在聚合性化合物2中,一个分子中的自由基聚合性基团的数量相对于阳离子聚合性基团的数量之比(阳离子聚合性基团的数量/自由基聚合性基团的数量)优选为0.5~2.0,更优选为0.8~1.2。
聚合性化合物2所具有的阳离子聚合性基团优选氧杂环丁基及环氧基中的至少任一种,更优选环氧基,进一步优选脂环式环氧基。作为脂环式环氧基中所包含的脂环结构,例如能够举出单环(cyclo ring)、二环、三环结构,作为具体例,能够举出二环戊基环、环己烷环等。
作为聚合性化合物2所具有的自由基聚合性基团,优选苯乙烯基及(甲基)丙烯酸基,更优选(甲基)丙烯酸基,进一步优选(甲基)丙烯酰氧基。(甲基)丙烯酸基优选甲基丙烯酸基。
作为聚合性化合物2,优选在同一分子内具有1个脂环式环氧基和1个自由基聚合性基团。
并且,聚合性化合物2进一步优选为下述通式(1)所表示的化合物。
[化学式4]
通式(1)中,R表示单环式烃或交联烃,L表示单键或2价的连接基,Q表示自由基聚合性基团。
当通式(1)中的R为单环式烃时,优选为脂环式烃,其中,更优选碳原子数4~10的脂环基,进一步优选碳原子数5~7的脂环基,尤其优选碳原子数6的脂环基。具体而言,优选环丁基、环戊基、环己基及环庚基,尤其优选环己基。
当通式(1)中的R为交联烃时,优选2环系交联(双环)及3环系交联(三环),可以举出碳原子数5~20的交联烃,可以举出降冰片基、冰片基、异冰片基、三环癸基、二环戊烯基、二环戊基、三环戊烯基及三环戊基、金刚烷基及低级烷基取代金刚烷基等。
当L表示2价的连接基时,优选2价的脂肪族烃基。2价的脂肪族烃基的碳原子数优选1~6,更优选1~3,进一步优选1。作为2价的脂肪族烃基,优选直链状、支链状或环状的亚烷基,更优选直链状或支链状的亚烷基,进一步优选直链状的亚烷基。
作为Q所表示的自由基聚合性基团,其含义与上述自由基聚合性基团相同,优选的范围也相同。
作为聚合性化合物2的具体例,能够举出日本特开平10-17614号公报的0015段中所记载的含有脂环式环氧基的(甲基)丙烯酸酯及下述通式(1A)或(1B)所表示的化合物。其中,更优选下述通式(1A)或(1B)所表示的化合物,从分子量更低的观点考虑,进一步优选下述通式(1A)所表示的化合物。另外,下述通式(1A)所表示的化合物还优选其异构物。下述通式(1A)的式中,L2表示碳原子数1~6的2价的脂肪族烃基,更优选碳原子数为1~3,从进一步提高经由粘接层将硬涂膜贴合于被粘物时的铅笔硬度的下降抑制效果的观点考虑,进一步优选碳原子数为1(即,聚合性化合物2为(甲基)丙烯酸环氧环己基甲酯)。
[化学式5]
通式(1A)中,R1表示氢原子或甲基,L2表示碳原子数1~6的2价的脂肪族烃基。
[化学式6]
通式(1B)中,R1表示氢原子或甲基,L2表示碳原子数1~6的2价的脂肪族烃基。
作为通式(1A)及(1B)中的L2的2价的脂肪族烃基,碳原子数为1~6,更优选碳原子数为1~3,进一步优选碳原子数为1。作为2价的脂肪族烃基,优选直链状、支链状或环状的亚烷基,更优选直链状或支链状的亚烷基,进一步优选直链状的亚烷基。
尤其,在本发明中,优选聚合性化合物2为选自(甲基)丙烯酸缩水甘油酯及甲基丙烯酸环氧环己基甲酯中的至少一种。
聚合性化合物2能够利用公知的方法进行合成。
并且,聚合性化合物2也能够作为市售品而获得。作为上述市售品,可以举出Daicel Corporation制造的CYCLOMER M100、Kyoeisha chemical Co.,Ltd.制造的商品名LIGHT ESTER G、Nippon Kasei Chemical Co.,Ltd.制造的4HBAGE、SHOWA HIGHPOLYMERCO.,LTD.制造的商品名SP系列例如SP-1506、500、SP-1507、480、VR系列例如VR-77、Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造的商品名EA-1010/ECA、EA-11020、EA-1025、EA-6310/ECA等。
硬涂层形成用固化性组合物中所包含的聚合性化合物中所占的聚合性化合物2的比例为51质量%以上,优选为55质量%以上,更优选为65质量%以上。通过设在这样的范围内,可得到经由粘接层将硬涂膜贴合于被粘物时的铅笔硬度的下降抑制效果更优异的硬涂膜。上述聚合性化合物2的比例的上限值优选99质量%以下,更优选95质量%以下,进一步优选92质量%以下,尤其优选90质量%以下,也可以为80质量%以下。
聚合性化合物2可以在硬涂层形成用固化性组合物中仅包含一种,也可以包含两种以上。当包含两种以上时,优选其合计量成为上述范围。
<<其他聚合性化合物>>
硬涂层形成用固化性组合物可以含有既与聚合性化合物1不同也与聚合性化合物2不同的其他聚合性化合物。
上述其他聚合性化合物优选为具有阳离子聚合性基团的聚合性化合物。作为上述阳离子聚合性基团,其含义与在聚合性化合物2中叙述的阳离子聚合性基团相同,优选的范围也相同。尤其,在本发明中,作为其他聚合性化合物,优选为包含阳离子聚合性基团的含有含氮杂环的化合物。通过使用这种化合物,能够更有效地提高支撑体与硬涂层的密合性。作为含氮杂环,可以例示出选自包括异氰脲酸酯环(后述的例示化合物B-1~B-3中所包含的含氮杂环)及甘脲环(后述的例示化合物B-10中所包含的含氮杂环)的组中的含氮杂环,更优选异氰脲酸酯环。其他聚合性化合物所具有的阳离子性基团的数量优选1~10,更优选2~5。并且,当使用具有阳离子聚合性基团和含氮杂环结构的聚合性化合物作为其他聚合性化合物时,支撑体优选包含丙烯酸树脂薄膜的支撑体。通过设为这样的构成,支撑体与硬涂层的密合性趋于进一步提高。
以下,作为其他聚合性化合物的具体例,示出例示化合物B-1~B-10,但本发明并不限定于以下具体例。
[化学式7]
[化学式8]
[化学式9]
作为其他聚合性化合物,也可以使用市售品。例如能够举出3,4-环氧环己基甲基-3’,4’-环氧环己烷羧酸酯(例如,Union Carbide Corporation制造的UVR6105、UVR6110及Daicel Corporation制造的CELLOXIDE(CELLOXIDE)2021P等市售品)、双(3,4-环氧环己基甲基)己二酸酯(例如,Union Carbide Corporation制造的UVR6128)、乙烯基环己烯单环氧化物(vinylcyclohexene monoepoxide)(例如,Daicel Corporation制造的CELLOXIDE2000)、ε-己内酯改性3,4-环氧环己基甲基3’,4’-环氧环己烷羧酸酯(例如,Daicel Corporation制造的CELLOXIDE2081)等。
当硬涂层形成用固化性组合物含有上述其他聚合性化合物(尤其是具有阳离子聚合性基团的聚合性化合物)时,其含量在硬涂层形成用固化性组合物中所包含的所有聚合性化合物中优选为20质量%以下,更优选为15质量%以下,进一步优选为10质量%以下,尤其优选为5质量%以下。作为上述含量的下限值,优选1质量%以上,更优选3质量%以上。
硬涂层形成用固化性组合物可以仅包含一种上述其他聚合性化合物,也可以包含两种以上。当包含两种以上时,优选其合计量成为上述范围。
并且,在本发明中,也能够设为在硬涂层形成用固化性组合物中实质上不包含上述其他聚合性化合物的构成。实质上不包含例如是指小于硬涂层形成用固化性组合物中所包含的所有聚合性化合物的1质量%,优选0质量%(对于以下的“实质上不包含”也相同。)。
<<无机粒子>>
硬涂层形成用固化性组合物还优选含有无机粒子。通过包含无机粒子,可更有效地发挥提高硬涂膜的铅笔硬度的效果。
作为能够用于硬涂层形成用固化性组合物的无机粒子,并没有特别限制。例如,能够举出二氧化硅粒子、氧化锆粒子及氧化铝粒子,优选二氧化硅粒子。这些无机粒子可以为经表面修饰的无机粒子,可以优选举出由(甲基)丙烯酸基或环氧基修饰的无机粒子。
作为无机粒子,也可以使用市售品,例如能够使用MEK-AC-2140Z(NissanChemical Industries,Ltd.制造)。
当硬涂层形成用固化性组合物包含无机粒子时,硬涂层形成用固化性组合物的固体成分中的无机粒子的含量优选10质量%以上,更优选20质量%以上,进一步优选40质量%以上。上限值并没有特别限制,但实际上为80质量%以下,优选60质量%以下。
<<聚合引发剂>>
硬涂层形成用固化性组合物优选包含聚合引发剂。聚合引发剂可以为光聚合引发剂,也可以为热聚合引发剂。
作为聚合引发剂,可以举出自由基聚合引发剂及阳离子聚合引发剂。通过掺合自由基聚合引发剂,能够促进自由基聚合性基团的聚合反应,通过掺合阳离子聚合引发剂,能够促进阳离子聚合性基团的聚合反应。
硬涂层形成用固化性组合物优选包含自由基聚合引发剂及阳离子聚合引发剂中的至少一者,更优选包含自由基聚合引发剂及阳离子聚合引发剂这两者。
以下,对聚合引发剂依次进行说明。
<<<自由基聚合引发剂>>>
自由基聚合引发剂优选为自由基光聚合引发剂。
作为自由基光聚合引发剂,只要能够通过光照射产生自由基作为活性种,则能够无任何限制地使用公知的自由基光聚合引发剂。作为具体例,可以举出:二乙氧基苯乙酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、苄基二甲基缩酮、4-(2-羟基乙氧基)苯基-(2-羟基-2-丙基)酮、1-羟基环己基苯基酮、2-甲基-2-吗啉代(4-硫代甲基苯基)丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)丁酮、2-羟基-2-甲基-1-[4-(1-甲基乙烯基)苯基]丙酮低聚物、2-羟基-1-{4-[4-(2-羟基-2-甲基-丙酰基)-苄基]苯基}-2-甲基-丙烷-1-酮等苯乙酮类;1,2-辛二酮,1-[4-(苯硫基)-,2-(O-苯甲酰肟)]、乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(O-乙酰肟)等肟酯类;苯甲酸、苯甲酸甲醚、苯甲酸乙醚、苯甲酸异丙醚、苯甲酸异丁醚等苯甲酸类;二苯甲酮、邻苯甲酰基苯甲酸甲酯、4-苯基二苯甲酮、4-苯甲酰基-4′-甲基-二苯基硫醚、3,3′,4,4′-四(叔丁基过氧羰基)二苯甲酮、2,4,6-三甲基二苯甲酮、4-苯甲酰基-N,N-二甲基-N-[2-(1-氧代-2-丙烯氧基)乙基]苯甲烷溴化胺、(4-苯甲酰基苄基)三甲基氯化铵等二苯甲酮类;2-异丙基噻吨酮、4-异丙基噻吨酮、2,4-二乙基噻吨酮、2,4-二氯噻吨酮、1-氯-4-丙氧基噻吨酮、2-(3-二甲基氨基-2-羟基)-3,4-二甲基-9H-噻吨酮-9-酮甲氯化物(methochloride)等噻吨酮类;2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦、双(2,6-二甲氧基苯甲酰基)-2,4,4-三甲基-戊基氧化膦、双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦等酰基氧化膦类等。并且,作为自由基光聚合引发剂的助剂,可以并用三乙醇胺、三异丙醇胺、4,4’-二甲基氨基二苯甲酮(米蚩酮)、4,4’-二乙基氨基二苯甲酮、2-二甲基氨基乙基苯甲酸、4-二甲基氨基乙基苯甲酸乙酯、4-二甲基氨基苯甲酸(正丁氧基)乙酯、4-二甲基氨基苯甲酸异戊酯、4-二甲基氨基苯甲酸2-乙基己酯、2,4-二乙基噻吨酮、2,4-二异丙基噻吨酮等。
以上的自由基光聚合引发剂及助剂能够利用公知的方法进行合成,也能够作为市售品而获得。
作为自由基光聚合引发剂的市售品,能够举出IRGACURE(注册商标)184(1-羟基-环己基-苯基-酮、α-羟基烷基苯酮类的自由基光聚合引发剂,BASF公司制造)。
自由基聚合引发剂的含量只要在良好地进行自由基聚合性化合物的聚合反应(自由基聚合)的范围内适当地调整即可,并不受特别限定。上述含量在硬涂层形成用固化性组合物的固体成分中优选为1~8质量%,更优选为1~5质量%,更优选为3~5质量%。
并且,自由基聚合引发剂可以仅包含一种,也可以包含两种以上。当包含两种以上时,优选合计量成为上述范围。
<<<阳离子聚合引发剂>>>
阳离子聚合引发剂优选阳离子光聚合引发剂。
作为阳离子光聚合引发剂,只要能够通过光照射产生阳离子作为活性种即可,能够无任何限制地使用公知的阳离子光聚合引发剂。作为具体例,可以举出公知的锍盐、铵盐、碘鎓盐(例如二芳基碘鎓盐)、三芳基锍盐、重氮盐、亚胺盐等。更具体而言,例如能够举出日本特开平8-143806号公报的0050~0053段所示的式(25)~(28)所表示的阳离子光聚合引发剂、日本特开平8-283320号公报的0020段中作为阳离子聚合催化剂而例示的阳离子光聚合引发剂等,这些内容被编入本说明书中。并且,阳离子光聚合引发剂能够利用公知的方法进行合成,也能够作为市售品而获得。作为市售品,例如能够举出NIPPON SODA CO.,LTD.制造的CI-1370、CI-2064、CI-2397、CI-2624、CI-2639、CI-2734、CI-2758、CI-2823、CI-2855及CI-5102等、Rhodia公司制造的PHOTOINITIATOR2047等、Union CarbideCorporation制造的UVI-6974、UVI-6990、San-Apro Ltd.制造的CPI-10P等。
作为阳离子光聚合引发剂,从光聚合引发剂对光的灵敏度、化合物的稳定性等观点考虑,优选重氮盐、碘鎓盐、锍盐、亚胺盐。并且,从耐候性的观点考虑,最优选碘鎓盐。
作为碘鎓盐的阳离子光聚合引发剂的具体的市售品,例如能够举出TokyoChemical Industry Co.,Ltd.制造的B2380、Midori Kagaku Co.,Ltd.制造的BBI-102、FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制造的WPI-113、FUJIFILM Wako PureChemical Corporation制造的WPI-124、FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制造的WPI-169、FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制造的WPI-170、Toyo Goseikagaku Co.,Ltd.制造的DTBPI-PFBS。
并且,作为能够用作阳离子光聚合引发剂的碘鎓盐化合物的具体例,还能够举出下述化合物PAG-1、PAG-2。
[化学式10]
阳离子光聚合引发剂(碘鎓盐化合物)PAG-1
[化学式11]
阳离子光聚合引发剂(碘鎓盐化合物)PAG-2
用于硬涂层形成用固化性组合物的阳离子聚合引发剂的含量只要在良好地进行阳离子聚合性化合物的聚合反应(阳离子聚合)的范围内适当地调整即可,并不受特别限定。上述阳离子聚合引发剂的含量在硬涂层形成用固化性组合物的固体成分中优选为5质量%以下,更优选为3质量%以下,进一步优选为2质量%以下。上述含量的下限值在硬涂层形成用固化性组合物的固体成分中优选为0.1质量%以上,更优选为0.5质量%以上,进一步优选为1质量%以上。
并且,阳离子聚合引发剂可以仅包含一种,也可以包含两种以上。当包含两种以上时,优选合计量成为上述范围。
<<溶剂>>
硬涂层形成用固化性组合物优选包含溶剂。作为溶剂,优选有机溶剂,能够以任意的比例混合使用一种或两种以上的有机溶剂。作为有机溶剂的具体例,例如可以举出甲醇、乙醇、丙醇、正丁醇、异丁醇等醇类;丙酮、甲基异丁基酮、甲基乙基酮、环己酮等酮类;乙基溶纤剂等溶纤剂类;甲苯、二甲苯等芳香族类;丙二醇单甲醚等二醇醚类;乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等乙酸酯类;二丙酮醇等。在这些之中,优选甲基乙基酮、甲基异丁基酮及乙酸甲酯,更优选能够以任意的比例混合使用甲基乙基酮、甲基异丁基酮及乙酸甲酯。通过设为这样的构成,可得到显示出更优异的铅笔硬度的硬涂膜。
硬涂层形成用固化性组合物中的溶剂量能够在可确保上述组合物的涂布适应性的范围内适当地调整。例如,相对于聚合性化合物及光聚合引发剂的合计量100质量份,能够将溶剂设为50~500质量份,优选能够设为80~200质量份。
并且,硬涂层形成用固化性组合物的固体成分优选为10~90质量%,更优选为50~80质量%,尤其优选为65~75质量%。
<<硬涂层的其他材料>>
此外,硬涂层根据需要能够任意地包含一种以上公知的添加剂。作为这种添加剂,能够举出防污剂、表面调节剂、流平剂、阻聚剂等。关于这些的详细内容,例如能够参考日本特开2012-229412号公报的0032~0034段,这些内容被编入本说明书中。并且,能够使用可在光聚合性组合物中通常使用的各种添加剂。适当地调整添加到硬涂层或硬涂层形成用固化性组合物中的各种添加剂的添加量即可,并不受特别限定。
<<流平剂>>
作为流平剂,优选使用含氟聚合物。例如,可以举出日本专利5175831号中所记载的含有氟脂肪族基团的聚合物。并且,也能够将构成含有氟脂肪族基团的聚合物的通式(1)所表示的含有氟脂肪族基团的单体的含量为所有聚合单元的50质量%以下的含有氟脂肪族基团的聚合物用作流平剂。
<<防污剂>>
关于防污剂的详细内容,能够采用在后述的耐磨层形成用固化性组合物中叙述的防污剂,优选的范围也相同。
硬涂层形成用固化性组合物含有防污剂时的含量优选为硬涂层形成用固化性组合物的固体成分的0.01~7质量%,更优选为0.05~5质量%,进一步优选为0.1~2质量%。
硬涂层形成用固化性组合物可以仅包含一种防污剂,也可以包含两种以上。当包含两种以上时,优选其合计量成为上述范围。
并且,硬涂层形成用固化性组合物也能够设为实质上不包含防污剂的构成。
本发明的光学层叠体中的硬涂层的压痕模量优选5~30GPa,更优选7~25GPa,进一步优选10~20GPa,尤其优选12~20GPa。通过将硬涂层的压痕模量设为上述优选的范围内的值,不易产生裂纹,能够显示出高铅笔硬度。
在本发明中,压痕模量为通过后述的实施例中所记载的方法测定的值。
<<硬涂层的膜厚>>
硬涂层的膜厚并没有特别规定,但优选10μm以上,更优选15μm以上。通过设为上述优选的下限值以上,能够更有效地提高铅笔硬度。另一方面,硬涂层的膜厚的上限值优选60μm以下,更优选50μm以下,进一步优选45μm以下,进一步优选30μm以下,更进一步优选25μm以下。
[4]耐磨层
从提高耐磨性的观点考虑,本发明的光学层叠体还优选在硬涂层的与支撑体相反的一侧的面具有耐磨层。
上述耐磨层由耐磨层形成用固化性组合物形成。
耐磨层形成用固化性组合物为含有在同一分子内具有至少2个自由基聚合性基团的聚合性化合物3的组合物,优选为含有在同一分子内具有至少3个(甲基)丙烯酸基的聚合性化合物和具有(甲基)丙烯酸基的含氟化合物的组合物。
<<聚合性化合物3>>
聚合性化合物3在同一分子内具有至少2个自由基聚合性基团。
聚合性化合物3所具有的自由基聚合性基团的数量优选3个以上,更优选4个以上,进一步优选6个以上。通过将聚合性化合物3所具有的自由基聚合性基团的数量在同一分子内设为2个以上,能够更有效地提高耐磨性及密合性。聚合性化合物3所具有的自由基聚合性基团的数量的上限并没有特别规定,即使在同一分子内为10以下,也充分实现本发明的效果。
作为聚合性化合物3所具有的自由基聚合性基团,优选苯乙烯基及(甲基)丙烯酸基,更优选(甲基)丙烯酸基,进一步优选(甲基)丙烯酰氧基。(甲基)丙烯酸基优选甲基丙烯酸基。
聚合性化合物3可以为高分子(例如,重均分子量为2000以上),也可以为低分子(例如,分子量小于2000),但优选为低分子。通过使用低分子,除自由基聚合性基团以外的部位变少,能够更有效地提高硬涂膜的铅笔硬度。具体而言,聚合性化合物3的分子量优选为1500以下,更优选为1200以下,进一步优选为700以下,尤其优选为250以下。关于上述分子量的下限值,聚合性化合物3的分子量优选为100以上,更优选为120以上。通过设在这样的范围内,在形成耐磨层时,能够更有效地抑制聚合性化合物3挥发。
作为聚合性化合物3的具体例,可以举出(甲基)丙烯酸酯化合物,更优选在上述聚合性化合物1中例示出的(甲基)丙烯酸酯化合物。
在本发明中,尤其优选硬涂层形成用固化性组合物中所包含的聚合性化合物1和耐磨层形成用固化性组合物中所包含的聚合性化合物3为相同的化合物。通过使用相同的化合物,硬涂层与耐磨层的界面处的融合性变得良好,能够更有效地提高硬涂层与耐磨层的密合性。
聚合性化合物3的含量在耐磨层形成用固化性组合物中所包含的聚合性化合物中优选为70质量%以上,更优选为75质量%以上,尤其优选为80质量%以上,进一步优选为90质量%以上,更进一步优选为95质量%以上。通过设在这样的范围内,能够进一步提高耐磨性。并且,上述含量的上限值并没有特别限制,能够设为100质量%以下。
耐磨层形成用固化性组合物可以仅包含一种聚合性化合物3,也可以包含两种以上。当包含两种以上时,优选其合计量成为上述范围。
<<其他聚合性化合物>>
耐磨层形成用固化性组合物可以含有除聚合性化合物3以外的其他聚合性化合物。作为其他聚合性化合物,能够采用掺合于硬涂层形成用固化性组合物中的聚合性化合物2及可以掺合于组合物中的其他聚合性化合物等。此外,作为其他聚合性化合物,优选为具有阳离子聚合性基团的聚合性化合物。具有阳离子聚合性基团的聚合性化合物能够采用可以掺合于硬涂层形成用固化性组合物中的具有阳离子聚合性基团的聚合性化合物,优选的范围也相同。
耐磨层形成用固化性组合物含有上述其他聚合性化合物(尤其是具有阳离子聚合性基团的聚合性化合物)时的含量优选为耐磨层形成用固化性组合物中所包含的所有聚合性化合物的20质量%以下,更优选为15质量%以下,尤其优选为10质量%以下,更尤其优选为5质量%以下。作为含有时的上述含量的下限值,优选1质量%以上,更优选3质量%以上。
耐磨层形成用固化性组合物可以仅包含一种上述其他聚合性化合物,也可以包含两种以上。当包含两种以上时,优选其合计量成为上述范围。
并且,在本发明中,也能够设为在耐磨层形成用固化性组合物中实质上不包含上述其他聚合性化合物的构成。
<<无机粒子>>
耐磨层形成用固化性组合物可以包含无机粒子。无机粒子能够使用可以掺合于硬涂层形成用固化性组合物中的无机粒子,优选的范围也相同。
耐磨层形成用固化性组合物包含无机粒子时的含量优选为耐磨层形成用固化性组合物的固体成分的20质量%以下,更优选为17质量%以下。上述含量的下限值优选1质量%以上,更优选7质量%以上。
尤其,在本发明中,也能够设为在耐磨层形成用固化性组合物中实质上不包含无机粒子的构成。
<<聚合引发剂>>
耐磨层形成用固化性组合物优选包含聚合引发剂,优选包含自由基聚合引发剂。聚合引发剂可以为光聚合引发剂,也可以为热聚合引发剂。
作为用于耐磨层形成用固化性组合物的自由基聚合引发剂,能够采用可以用于硬涂层形成用固化性组合物的自由基聚合引发剂,优选的范围也相同。
当耐磨层形成用固化性组合物包含阳离子聚合性化合物作为聚合性化合物时,还优选包含阳离子聚合引发剂。
用于耐磨层形成用固化性组合物的阳离子聚合引发剂能够采用可以用于硬涂层形成用固化性组合物的阳离子聚合引发剂,优选的范围也相同。
用于耐磨层形成用固化性组合物的阳离子聚合引发剂的含量只要在良好地进行阳离子聚合性化合物的聚合反应(阳离子聚合)的范围内适当地调整即可,并不受特别限定。上述含量在耐磨层形成用固化性组合物的固体成分中优选为5质量%以下,更优选为3质量%以下,进一步优选为2质量%以下。上述含量的下限值在耐磨层形成用固化性组合物的固体成分中优选为0.5质量%以上,更优选为1质量%以上。
并且,阳离子聚合引发剂可以仅包含一种,也可以包含两种以上。当包含两种以上时,优选合计量成为上述范围。
<<防污剂>>
耐磨层或耐磨层形成用固化性组合物优选含有防污剂。通过包含防污剂,能够减少指纹或污垢的附着,并且容易擦拭附着的污垢。并且,通过提高表面的平滑性,还能够进一步提高耐磨性。
防污剂优选含有含氟化合物。含氟化合物优选具有全氟聚醚基及聚合性基团(优选自由基聚合性基团),进一步优选具有全氟聚醚基及聚合性基团且在一个分子中具有多个聚合性基团。通过设为这样的构成,能够更有效地发挥改善耐磨性的效果。
作为上述含氟化合物所具有的优选的自由基聚合性基团,能够适用上述聚合性化合物3所具有的自由基聚合性基团的记载,例如优选具有(甲基)丙烯酸基的含氟化合物。
另外,在本说明书中,防污剂即使具有聚合性基团,也视为不符合上述聚合性化合物1~3及上述其他聚合性化合物的化合物来处理。
上述含氟化合物可以为单体、低聚物及聚合物中的任一种,但优选为低聚物(含氟低聚物)。
关于本发明中能够使用的防污剂,除了上述以外,还能够使用日本特开2012-088699号公报的0012~0101段中所记载的材料,该公报的内容被编入本说明书中。
作为以上说明的防污剂,可以使用利用公知的方法合成的防污剂,也可以使用市售品。作为市售品,能够优选使用DIC Corporation制造的RS-90、RS-78等。
耐磨层形成用固化性组合物含有防污剂时的含量优选为耐磨层形成用固化性组合物的固体成分的0.01~7质量%,更优选为0.05~5质量%,进一步优选为0.1~2质量%。
耐磨层形成用固化性组合物可以仅包含一种防污剂,也可以包含两种以上。当包含两种以上时,优选其合计量成为上述范围。
并且,耐磨层形成用固化性组合物也能够设为实质上不包含防污剂的构成。
<<溶剂>>
耐磨层形成用固化性组合物优选包含溶剂。用于耐磨层形成用固化性组合物的溶剂能够使用用于硬涂层形成用固化性组合物的溶剂,优选的范围也相同。
耐磨层形成用固化性组合物中的溶剂量能够在可确保上述组合物的涂布适应性的范围内适当地调整。例如,相对于聚合性化合物及光聚合引发剂的合计量100质量份,优选包含50~500质量份溶剂,更优选包含80~200质量份。
并且,耐膜层形成用固化性组合物的固体成分优选为10~90质量%,更优选为50~80质量%,尤其优选为65~75质量%。
<<耐磨层的其他材料>>
此外,耐磨层或耐磨层形成用固化性组合物能够任意地包含一种以上公知的添加剂。作为这种添加剂,能够举出表面调节剂、流平剂、阻聚剂等。关于这些的详细内容,例如能够参考日本特开2012-229412号公报的0032~0034段。但是,并不限于这些,能够使用可在聚合性组合物中通常使用的各种添加剂。并且,适当地调整添加到耐磨层形成用固化性组合物中的各种添加剂的添加量即可,并不受特别限定。
<<耐磨层的膜厚>>
耐磨层的膜厚并没有特别规定,但优选0.05μm以上,更优选0.08μm以上,进一步优选0.1μm以上,尤其优选1μm以上,也可以为3μm以上。通过设为0.05μm以上,能够更有效地提高铅笔硬度及耐磨性。另一方面,耐磨层的膜厚的上限值优选40μm以下,更优选30μm以下,进一步优选20μm以下,尤其优选15μm以下,也可以为8μm以下。
[5]其他层
本发明的光学层叠体除了上述粘合层、支撑体及硬涂层、可以具有的耐磨层以外,还可以任意地具有1层以上的其他层。作为其他层,并不受特别限定,例如可以具有除上述硬涂层及耐磨层以外的其他固化层、防反射层、易粘接层、装饰层、用于后述的1/4波长相位差片的光学各向异性层。关于其他层的详细内容,例如能够参考日本专利第5048304号公报的0069~0091段等,这些内容被编入本说明书中。
<<防反射层>>
当本发明的光学层叠体中的硬涂膜用作防反射膜时,在硬涂层或在硬涂层上可以具有的耐磨层等固化层的表面层叠1层或多层防反射层也是优选的方式。在此,在本说明书中,有时将高折射率层、中折射率层及低折射率层统称为防反射层。以下,示出本发明的光学层叠体具有防反射层的优选方式。
A:粘接层/支撑体/硬涂层/耐磨层/低折射率层B:粘接层/支撑体/硬涂层/耐磨层/高折射率层/低折射率层C:粘接层/支撑体/硬涂层/耐磨层/中折射率层/高折射率层/低折射率层
本发明的光学层叠体中的硬涂膜优选在固化层上直接或经由其他层具有低折射率层。
关于低折射率层的优选方式,在日本特开2009-204725号公报的0077~0102段中有记载,该公报的内容被编入本说明书中。
在本发明的光学层叠体中的硬涂膜中,通过在低折射率层与固化层之间设置折射率高的层(高折射率层、中折射率层),能够提高防反射性。另外,高折射率层、中折射率层、低折射率层的“高”、“中”、“低”是表示层彼此的相对折射率的大小关系。并且,以与支撑体的关系而言,折射率优选满足支撑体>低折射率层、高折射率层>支撑体的关系。
关于高折射率层的优选方式,在日本特开2009-204725号公报的0103~0112段中有记载,该公报的内容被编入本说明书中。
-低折射率层-
作为构成低折射率层的材料,可以举出比构成高折射率层的材料低折射率的材料,例如可以举出氧化铝(Al2O3)、二氧化硅(SiO2)、非化学计量的氧化硅(SiO2-X,0≤X<1)、氟化镁(MgF2)及它们的混合物等,其中优选氧化硅。
低折射率层的折射率优选为1.35以上且1.5以下。上述低折射率层的折射率的下限值更优选为1.38以上,进一步优选为1.47以下。并且,将设计波长λ0设为500nm时,低折射率层的光学膜厚优选为0.44λ0以下,更优选为0.35λ0以下,进一步优选为0.14λ0以下。
-高折射率层-
作为构成高折射率层的材料,可以举出比构成低折射率层的材料高折射率的材料,例如可以举出五氧化钽(Ta2O5)或五氧化铌(Nb2O5)、钛酸镧(LaTiO3)、氧化铪(HfO2)、氧化钛(TiO2)、氧化铬(Cr2O3)、氧化锆(ZrO)、硫化锌(ZnS)、锡掺杂氧化铟(ITO)、锑掺杂氧化锡(ATO)及它们的混合物等。
高折射率层的折射率优选为1.7以上且2.5以下,更优选为1.8以上且2.2以下。并且,将设计波长λ0设为500nm时,高折射率层的光学膜厚优选为0.036λ0以上且0.54λ0以下,更优选为0.072λ0以上且0.43λ0以下。
形成低折射率层及高折射率层的方法并不受特别限定,可以例示出湿式涂布法及干式涂布法,但从能够形成膜厚均匀的薄膜及容易调整纳米级薄膜的膜厚的角度来看,优选真空蒸镀、CVD(chemical vapor deposition:化学气相沉积)、溅射、电子射线蒸镀等干式涂布法,更优选溅射及电子射线蒸镀。
<硬涂层的形成>
本发明的光学层叠体中的硬涂层优选使用上述硬涂层形成用固化性组合物来形成,该硬涂层形成用固化性组合物含有具有自由基聚合性基团的聚合性化合物1及在同一分子内具有阳离子聚合性基团和自由基聚合性基团且与上述聚合性化合物1不同的聚合性化合物2。
<<制备>>
硬涂层形成用固化性组合物能够通过将构成硬涂层形成用固化性组合物的各种成分同时或以任意的顺序依次混合而制备。制备方法并不受特别限定,制备时能够使用公知的搅拌器等。
<<层叠>>
通过将以上述方式制备的硬涂层形成用固化性组合物层叠于支撑体的表面或经由粘接剂层、粘合剂层及易粘接层等其他层层叠于支撑体的表面,能够形成硬涂层。在本发明中,优选在支撑体的表面直接形成硬涂层。
作为层叠方法,并没有特别限制,能够采用公知的方法,但优选为涂布。涂布能够通过浸涂法、气刀刮涂法、帘式涂布法、辊涂法、模涂法、绕线棒涂布法、凹版涂布法等公知的涂布方法来进行。涂布量调整为能够形成所期望的膜厚的硬涂层的量即可。涂布时的输送速度并没有限制,例如能够设为10~50m/分钟。
另外,硬涂层也能够通过同时或逐次层叠两种以上的不同组成的硬涂层形成用组合物而形成为2层以上(例如,2层~5层左右)的层叠结构的固化层。并且,也可以同时层叠硬涂层和耐磨层。
<<固化>>
硬涂层优选使硬涂层形成用固化性组合物固化而形成。作为固化方法,并没有特别限制,可以举出进行光聚合处理或热聚合处理的方法,但在本发明中优选为光聚合处理。当进行光聚合处理时,优选以下方式。
通过对硬涂层形成用固化性组合物进行光聚合处理(光照射),自由基聚合性基团及阳离子聚合性基团的聚合反应分别受到自由基光聚合引发剂、阳离子光聚合引发剂的作用而引发并进行。所照射的光的波长根据所使用的聚合性化合物及聚合引发剂的种类来决定即可。作为用于光照射的光源,能够举出发出150~450nm波长范围的光的高压汞灯、超高压汞灯、碳弧灯、金属卤化物灯、氙气灯、化学灯、无电极放电灯、发光二极管(LED)等。并且,光照射量通常在10~3000mJ/cm2的范围内,优选在20~1500mJ/cm2的范围内。只要光照射量在该范围内,则灯输出或照度没有特别限制。并且,光照射优选在氮吹扫下进行,更优选在0.1体积%以下的氧浓度下进行。
另外,当在硬涂层上还具有耐磨层时,优选在硬涂层形成用固化性组合物中的具有自由基聚合性基团的聚合性化合物的一部分未反应的状态下设置耐磨层形成用固化性组合物。通过设为这样的构成,硬涂层与耐磨层的密合性趋于进一步提高,因此优选。
此外,硬涂层形成用固化性组合物和耐磨层形成用固化性组合物的固化可以同时进行。即,可以在同时或逐次涂布硬涂层形成用固化性组合物和耐磨层形成用固化性组合物之后,一次性固化。
<<干燥>>
在固化之前或之后、或固化之前及之后,根据需要可以对硬涂层形成用固化性组合物或硬涂层进行干燥处理。干燥处理能够通过吹暖风、配置于加热炉内、在加热炉内输送等来进行。加热温度只要设定为能够干燥去除溶剂的温度即可,并不受特别限定。例如,能够在40~80℃下干燥100~200秒。在此,加热温度是指暖风的温度或加热炉内的环境温度。
<耐磨层的形成>
当本发明的光学层叠体在硬涂层上还具有耐磨层时,优选使用含有在同一分子内具有至少2个自由基聚合性基团的聚合性化合物3的耐磨层形成用固化性组合物在硬涂层上形成耐磨层。耐磨层以上述支撑体、上述硬涂层、上述耐磨层的顺序形成。耐磨层可以形成于硬涂层的表面,也可以经由其他层而形成。优选为形成于硬涂层的表面的方式。
此外,形成耐磨层时的优选方式与形成硬涂层时的优选方式相同。
-铅笔硬度-
在本发明的光学层叠体中,由支撑体和硬涂层构成的硬涂膜的铅笔硬度与光学层叠体的铅笔硬度之差在1H以内,该差优选在0H以内。
在本发明中,铅笔硬度为通过后述的实施例中所记载的方法测定的值,测定硬涂层侧的硬度,还具有耐磨层时,测定耐磨层侧的硬度。
上述“由支撑体和硬涂层构成的硬涂膜的铅笔硬度”是指将由构成本发明的光学层叠体的粘接层、支撑体及硬涂层中除粘接层以外的支撑体和硬涂层构成的层叠体(硬涂膜)作为测定试样的铅笔硬度。
另外,当本发明的光学层叠体除了粘接层、支撑体及硬涂层以外还具有其他层(例如,耐磨层)时,在具备上述其他层的状态下测定上述硬涂膜的铅笔硬度及光学层叠体的铅笔硬度。
<光学层叠体的制作>
本发明的光学层叠体的制作方法并不受特别限制,例如能够通过将以上述方式制作的粘接层贴合于硬涂膜中的支撑体侧而制作。
另外,关于粘接层的制作方法,如上所述。
<光学层叠体的加工>
本发明的光学层叠体进行加工而用于各种用途。
加工中例如还包括卷取所制造的光学层叠体而制成卷形状的光学层叠体的步骤。
并且,可以使用冲裁刀冲裁(也称为模切)本发明的光学层叠体而使其成为所期望的形状。作为所期望的形状,例如可以举出偏振片、液晶显示装置、触摸面板等的形状。冲裁优选为将冲裁刀从本发明的光学层叠体的硬涂层侧插入并使其以支撑体及粘接层的顺序通过的方法。通过将冲裁刀从硬涂层侧插入而进行冲裁,能够将光学层叠体良好地冲裁。
插入冲裁刀的方向优选为相对于耐磨层的膜面呈90°±10°的方向,更优选为90°±3°的方向,进一步优选为90°±1°的方向。
作为用于冲裁的模切机,并没有特别限制,能够优选使用AMADA CO.,LTD.制造的手动压力机Torque Pack Press TP系列等。冲裁优选在10~40℃、相对湿度30~80%下进行,更优选在20~30℃、相对湿度50~70%下进行。
-包含光学层叠体的物品-
作为包含本发明的光学层叠体的物品,能够举出在以家电行业、电气电子行业、汽车行业、住宅行业为代表的各种产业界中要求提高耐磨性的各种物品。作为具体例,能够举出触摸传感器、触摸面板、液晶显示装置等图像显示装置、汽车的窗玻璃、住宅的窗玻璃等。通过在这些物品中优选设置本发明的光学层叠体作为表面保护膜,能够提供铅笔硬度优异的物品。本发明的光学层叠体优选用作用于图像显示装置用前面侧偏振片的硬涂膜,更优选为用于触摸面板的图像显示元件的前面侧偏振片的硬涂膜。
能够使用本发明的光学层叠体的触摸面板并没有特别限制,能够根据目的适当地选择,例如可以举出表面型静电电容式触摸面板、投影型静电电容式触摸面板、电阻膜式触摸面板等。关于详细内容,待留后述。
另外,触摸面板包含所谓的触摸传感器。触摸面板中的触摸面板传感器电极部的层结构可以为贴合两片透明电极的贴合方式、在一片基板的两面具备透明电极的方式、单面跨接或通孔方式或单面层叠方式中的任一种。
<图像显示装置>
本发明的图像显示装置是具有包含本发明的光学层叠体和起偏器的偏振片及图像显示元件的图像显示装置,优选具有包含本发明的光学层叠体和起偏器的偏振片作为前面侧偏振片。
作为图像显示装置,能够用于如液晶显示装置(Liquid Crystal Display;LCD)、等离子显示面板、有机电致发光显示器、阴极射线管显示装置及触摸面板那样的图像显示装置。
作为液晶显示装置,可以举出TN(Twisted Nematic:扭曲向列)型、STN(Super-Twisted Nematic:超扭曲向列)型、TSTN(Triple Super Twisted Nematic:三倍超扭曲向列)型、多域型、VA(Vertical Alignment:垂直取向)型、IPS(In Plane Switching:面内切换)型、OCB(Optically Compensated Bend:光学补偿弯曲)型等。
图像显示装置优选改善脆性,处理性优异,不会损害表面平滑性或由褶皱引起的显示品质,能够减少湿热试验时的漏光。
即,在本发明的图像显示装置中,优选图像显示元件为液晶显示元件。作为具有液晶显示元件的图像显示装置,能够举出Sony Ericsson Mobile Communications制造的Xperia P(商品名)等。
在本发明的图像显示装置中,还优选图像显示元件为有机电致发光(Electroluminescence;EL)显示元件。
有机电致发光显示元件能够无任何限制地适用公知技术。作为具有有机电致发光显示元件的图像显示装置,能够举出Samsung Electronics Co.,Ltd.制造的GALAXY SII(商品名)等。
在本发明的图像显示装置中,还优选图像显示元件为内嵌式(In-Cell)触摸面板显示元件。内嵌式触摸面板显示元件是将触摸面板功能内置于图像显示元件单元内的触摸面板显示元件。
内嵌式触摸面板显示元件中能够无任何限制地适用例如日本特开2011-76602号公报、日本特开2011-222009号公报等的公知技术。作为具有内嵌式触摸面板显示元件的图像显示装置,能够举出Sony Ericsson Mobile Communications制造的Xperia P(商品名)等。
并且,在本发明的图像显示装置中,还优选图像显示元件为外嵌式(On-Cell)触摸面板显示元件。外嵌式触摸面板显示元件是将触摸面板功能配置于图像显示元件单元外的触摸面板显示元件。
外嵌式触摸面板显示元件例如能够无任何限制地适用日本特开2012-88683号公报等的公知技术。作为具有外嵌式触摸面板显示元件的图像显示装置,能够举出SamsungElectronics Co.,Ltd.制造的GALAXY SII(商品名)等。
<<触摸面板>>
本发明的光学层叠体能够用作在本发明的光学层叠体中的粘接层侧(相对于支撑体,与配置有硬涂层的一侧相反的一侧)的面贴合触摸传感器薄膜而包含触摸传感器的触摸面板。
作为触摸传感器薄膜,并没有特别限制,但优选为形成有导电层的导电性薄膜。
导电性薄膜优选为在任意的支撑体上形成有导电层的导电性薄膜。
<<电阻膜式触摸面板>>
本发明的电阻膜式触摸面板是具有包含本发明的光学层叠体和起偏器的偏振片的电阻膜式触摸面板,优选具有包含本发明的光学层叠体和起偏器的偏振片作为前面侧偏振片。
电阻膜式触摸面板由具有导电性膜的上下一对基板的导电性膜彼此以对置的方式隔着间隔件(spacer)配置的基本结构构成。另外,电阻膜式触摸面板的结构是公知的,在本发明中能够无任何限制地适用公知技术。
<<静电电容式触摸面板>>
本发明的静电电容式触摸面板是具有包含本发明的光学层叠体和起偏器的偏振片的静电电容式触摸面板,优选具有包含本发明的光学层叠体和起偏器的偏振片作为前面侧偏振片。
作为静电电容式触摸面板的方式,可以举出表面型静电电容式、投影型静电电容式等。投影型静电电容式触摸面板由隔着绝缘体配置X轴电极和与X电极正交的Y轴电极的基本结构构成。作为具体方式,可以举出X电极及Y电极形成于一片基板上的不同面的方式;在一片基板上将X电极、绝缘体层、Y电极以上述顺序形成的方式;在一片基板上形成X电极,在另一基板上形成Y电极的方式(在该方式中,将两片基板贴合而成的结构成为上述基本结构)等。另外,静电电容式触摸面板的结构是公知的,本发明中能够无任何限制地适用公知技术。
<偏振片>
本发明的偏振片(以下,也称为带偏振片的光学层叠体。)至少包含本发明的光学层叠体和起偏器。本发明的光学层叠体能够用作在本发明的光学层叠体中的粘接层侧(相对于支撑体,与配置有硬涂层的一侧相反的一侧)的面具有起偏器的偏振片。
更具体而言,本发明的偏振片能够用作带偏振片的光学层叠体,该带偏振片的光学层是以由起偏器和配置于其两侧的起偏器保护膜构成的偏振片的起偏器保护膜与本发明的光学层叠体中的粘接层接触的方式层叠而成。即,该带偏振片的光学层叠体在起偏器与本发明的光学层叠体中的粘接层之间包含起偏器保护膜。
在该情况下,作为起偏器保护膜,能够使用常用的起偏器保护膜,例如可以举出乙酸纤维素薄膜、聚对苯二甲酸乙二酯薄膜。作为乙酸纤维素薄膜,可以使用以下详细叙述的利用溶液制膜法制造且以10~100%的延伸倍率沿卷膜形态中的宽度方向拉伸而成的乙酸纤维素薄膜。
并且,也可以用作以使本发明的光学层叠体中的支撑体相当于上述起偏器保护膜的一个或两个的方式层叠而成的带偏振片的光学层叠体。
例如,可以举出具有本发明的光学层叠体中的支撑体作为一个起偏器保护膜且使用乙酸纤维素薄膜等通常使用的起偏器保护膜作为另一个起偏器保护膜的方式。在该情况下,作为未由本发明的光学层叠体中的支撑体构成的起偏器保护膜,优选使用利用溶液制膜法制造且以10~100%的延伸倍率沿卷膜形态下的宽度方向拉伸而成的乙酸纤维素薄膜。
并且,除本发明的光学层叠体以外的薄膜为具有包含光学各向异性层而成的光学补偿层的光学补偿膜也是优选的方式。光学补偿膜(相位差膜)能够改善液晶显示画面的视角特性。作为光学补偿膜,能够使用公知的光学补偿膜,在扩大视角的观点上,优选日本特开2001-100042号公报中所记载的光学补偿膜。
作为起偏器,可以举出碘系起偏器、使用二色性染料的染料系起偏器及多烯系起偏器。碘系起偏器及染料系起偏器通常使用聚乙烯醇薄膜来制造。
并且,作为起偏器,可以使用公知的起偏器,可以使用从起偏器的吸收轴与长度方向既不平行也不垂直的长条的起偏器切出的起偏器。起偏器的吸收轴与长度方向既不平行也不垂直的长条的起偏器通过以下方法来制作。
即,一边利用保持机构保持连续供给的聚乙烯醇薄膜等聚合物薄膜的两端一边赋予张力进行拉伸而至少沿薄膜宽度方向拉伸至1.1~20.0倍。然后,通过如下拉伸方法,能够制造长条的起偏器:以薄膜两端的保持装置的长度方向行进速度差在3%以内且保持薄膜两端的工序的出口处的薄膜输送方向与薄膜的实质拉伸方向所成的角度倾斜20~70°的方式,使薄膜输送方向在保持薄膜两端的状态下弯曲。从生产率的观点考虑,尤其优选使用使保持薄膜两端的工序的出口处的薄膜输送方向与薄膜的实质拉伸方向所成的角度倾斜45°的拉伸方法。
关于聚合物薄膜的拉伸方法,在日本特开2002-86554号公报的0020~0030段中有详细记载,能够参考其内容。
-铅笔硬度-
在具有本发明的光学层叠体和起偏器的本发明的偏振片中,由支撑体和硬涂层构成的硬涂膜的铅笔硬度与本发明的偏振片的铅笔硬度之差在1H以内,优选该差在0H以内。
在本发明中,铅笔硬度为通过后述的实施例中所记载的方法测定的值。
上述“由支撑体和硬涂层构成的硬涂膜的铅笔硬度”是指将由构成本发明的光学层叠体的粘接层、支撑体及硬涂层中除粘接层以外的支撑体和硬涂层构成的层叠体(硬涂膜)作为测定试样的铅笔硬度。
另外,当本发明的光学层叠体除了粘接层、支撑体及硬涂层以外还具有其他层(例如,耐磨层)时,在具备上述其他层的状态下测定上述硬涂膜的铅笔硬度及光学层叠体的铅笔硬度。
<相位差片>
本发明的光学层叠体可以用作相位差片,该相位差片例如如日本专利第5703187号的公报中所记载,具有硬涂膜及在上述支撑体的一个面上由包含液晶性化合物的组合物形成的光学各向异性层。层叠光学各向异性层的支撑体的面并没有特别限制,但优选层叠于与层叠有固化层的一侧相反的一侧。在支撑体与含有液晶性化合物的光学各向异性层之间可以设置有用于控制液晶化合物的取向的取向膜。层叠有光学各向异性层的硬涂膜的光学特性并没有特别规定,但优选550nm下的面内延迟Re为5~300nm,更优选为10~250nm,进一步优选为80~200nm。并且,以下定义的Nz值优选为0~2.0,进一步优选为0.1~1.6,尤其优选为0.1~0.9(其中,Nz值由0.5+Rth/Re表示,Rth为厚度方向的延迟。这些光学特性的测定方法待留后述)。尤其设想1/4波长相位差片时,优选Re为80~200nm且Nz值为0.1~0.9,进一步优选Re为100~150nm且Nz值为0.1~0.9。
<1/4波长相位差片>
本发明的光学层叠体可以用于1/4波长相位差片。1/4波长相位差片能够将从起偏器出射的直线偏振光转换为圆偏振光,因此例如能够使视觉辨认者佩戴偏光太阳镜时的可见性变得良好。关于1/4波长相位差片,可以利用公知的方法来制作,也可以直接使用具有1/4波长相位差功能的市售的树脂薄膜或者对市售的树脂薄膜实施拉伸处理等而使其具有1/4波长相位差功能的薄膜。可以通过用粘合材料将硬涂膜的支撑体表面和层叠有光学各向异性层的薄膜进行贴合并仅剥离薄膜部分而在硬涂膜上赋予光学各向异性层。并且,例如如日本专利第4866638号公报中所记载,1/4波长相位差片可以在任意的支撑体上涂布包含液晶性化合物的固化性组合物来制作。1/4波长相位差片可以设置于硬涂膜的支撑体表面中未形成有硬涂层及耐磨层的一侧的表面,也可以设置于耐磨层的表面。
实施例
以下,举出实施例对本发明进行进一步具体的说明。以下实施例所示的材料、使用量、比例、处理内容、处理步骤等只要不脱离本发明的宗旨,则能够适当地进行变更。因此,本发明的范围并不限定于以下所示的具体例。关于混合比,只要没有特别记载,则表示质量比。并且,只要没有特别记载,则在室温下进行以下所记载的工序。在此,室温是指25℃。
<1.支撑体的制作>
(1-1.支撑体A)
(纤维素酯溶液的制备)
将下述组合物投入到混合罐中,一边加热一边搅拌而溶解各成分,从而制备出纤维素酯溶液。
[化学式12]
(消光剂分散液M-2的制备)
将下述组合物投入到分散机中进行搅拌而制备出消光剂分散液M-2。
(紫外线吸收剂溶液U-2的制备)
将下述组合物投入到另一混合罐中,一边加热一边搅拌而溶解各成分,从而制备出紫外线吸收剂溶液U-2。
[化学式13]
(UV-1)
(UV-2)
(芯层用浓液的制备)
在上述纤维素酯溶液中添加相对于每100质量份纤维素酯为8.0质量份的糖酯化合物1,此外,以紫外线吸收剂(UV-1)及紫外线吸收剂(UV-2)相对于每100质量份纤维素酯分别成为1.2质量份的方式加入上述紫外线吸收剂溶液U-2,一边加热一边充分搅拌而溶解各成分,从而制备出芯层用浓液。
(表层用浓液1的制备)
在上述纤维素酯溶液中以紫外线吸收剂(UV-1)及紫外线吸收剂(UV-2)相对于每100质量份纤维素酯分别成为1.2质量份的方式加入上述紫外线吸收剂溶液U-2,此外,以二氧化硅粒子相对于每100质量份纤维素酯成为0.026质量份的方式加入上述消光剂分散液M-2,且以成为浓液溶剂的85重量%的方式加入二氯甲烷,一边加热一边充分搅拌而溶解各成分,从而制备出表层用浓液1。
(表层用浓液2的制备)
在上述纤维素酯溶液中以紫外线吸收剂(UV-1)及紫外线吸收剂(UV-2)相对于100质量份纤维素酯分别成为1.2质量份的方式加入上述紫外线吸收剂溶液U-2,此外,以二氧化硅粒子相对于100质量份纤维素酯成为0.078质量份的方式加入上述消光剂分散液M-2,且以成为浓液溶剂的85重量%的方式加入二氯甲烷,一边加热一边充分搅拌而溶解各成分,从而制备出表层用浓液2。
-支撑体A的制作-
将所得到的浓液加温至30℃并使其通过流延模具,从模具以3层结构共流延至作为直径3m的滚筒的镜面不锈钢支撑体上。在支撑体上接触的第1层制作成使上述表层用浓液1的干燥膜厚成为6μm,第2层制作成使上述芯层用浓液的干燥膜厚成为69μm,第3层制作成使上述表层用浓液2的膜厚成为5μm的表层。支撑体的表面温度设定为4℃,流延宽度设为1470mm。流延部整体的空间温度设定为15℃。然后,在距流延部的终点部50cm的跟前侧,将流延并旋转的纤维素酯薄膜以残留溶剂量为240%的状态从滚筒剥取之后,用针板拉幅机夹紧两端。剥离时,沿输送方向进行了6%的拉伸。然后,一边用针板拉幅机(日本特开平4-1009号公报的图3中所记载的针板拉幅机)把持薄膜的宽度方向(相对于流延方向正交的方向)的两端,一边沿宽度方向进行了5%的拉伸处理。由此,制作出由第1层~第3层具有上述各膜厚且总厚为80μm的纤维素酯薄膜构成的支撑体A。
(1-2.支撑体B)
在上述支撑体A的制作中,表层用浓液1及2的干燥膜厚保持不变,通过将芯层用浓液的干燥膜厚设为89μm而使纤维素酯薄膜的总厚变更为100μm,除此以外,以与支撑体A相同的方式制作出支撑体B。
(1-3.支撑体C)
通过以下方法制作出由外层/芯层/外层这3层的纤维素酰化物的层叠膜构成的支撑体C。
(1)芯层纤维素酰化物浓液的制备
将下述组合物投入到混合罐中并进行搅拌,制备出芯层纤维素酰化物浓液。
以下示出所使用的化合物。
邻苯二甲酸酯低聚物A(重均分子量:750)
[化学式14]
下述式I所表示的化合物(A-1)
式I:
[化学式15]
式II所表示的紫外线吸收剂式II:
[化学式16]
(2)外层纤维素酰化物浓液的制备
向上述芯层纤维素酰化物浓液90质量份中加入10质量份的下述含有无机粒子的组合物,制备出外层纤维素酰化物浓液溶液。
(3)支撑体C(TAC)的制作
以外层纤维素酰化物浓液配置于芯层纤维素酰化物浓液的两侧的方式,使外层纤维素酰化物浓液、芯层纤维素酰化物浓液及外层纤维素酰化物浓液这3种同时从流延口流延至表面温度20℃的滚筒上。将所得到的流延膜的残留溶剂量设为约20质量%之后,从滚筒剥取。接着,将所得到的薄膜的宽度方向的两端利用拉幅机夹具进行固定,将溶剂残留量为3~15质量%的薄膜一边沿横向拉伸1.18倍一边进行了干燥。然后,通过在热处理装置的辊之间进行输送而进一步干燥,从而制作厚度为100μm(外层/芯层/外层=3μm/94μm/3μm)的层叠膜,将其作为支撑体C。
(1-4.支撑体D)
在上述支撑体A的制作中,表层用浓液1及2的干燥膜厚保持不变,将芯层用浓液的干燥膜厚变更为49μm,将纤维素酯薄膜的总厚变更为60μm,除此以外,以与支撑体A相同的方式制作出支撑体D。
(1-5.支撑体E)
在上述支撑体A的制作中,不使用表层用浓液1及2而仅使用芯层用浓液,将纤维素酯薄膜的总厚变更为60μm,除此以外,以与支撑体A相同的方式制作出支撑体E。
(1-6.支撑体F)
在上述支撑体A的制作中,不使用表层用浓液1及2而仅使用芯层用浓液,将纤维素酯薄膜的总厚变更为80μm,除此以外,以与支撑体A相同的方式制作出支撑体F。
<2.硬涂层形成用固化性组合物及耐磨层形成用固化性组合物的制备>
将下述表1所示的各成分以表1所示的掺合混合之后,用孔径10μm的聚丙烯制过滤器进行过滤而制备出硬涂层形成用固化性组合物HC1~HC4及耐磨层形成用固化性组合物T1。
[表1]
(表的注解)
表中的栏中的“-”表示不含有该成分。
并且,在表中的RS-90、8SS-723及MEK-AC-2140Z中,右侧的%标记表示有效成分量(质量%)。在这些成分中,表中所记载的掺合量表示整体量。
<聚合性化合物>
DPHA:二季戊四醇五丙烯酸酯(自由基聚合性基团的数量为5个,无阳离子聚合性基团)与二季戊四醇六丙烯酸酯(自由基聚合性基团的数量为6个)的混合物,NipponKayaku Co.,Ltd.制造
DPCA-60:KAYARAD DPCA-60(商品名),Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造,化合物中的丙烯酸酯基的数量为6个,无阳离子聚合性基团。
CYCLOMER:甲基丙烯酸3,4-环氧环己基甲酯,Daicel Corporation制造,CYCLOMERM100(商品名),化合物中的自由基聚合性基团的数量为1个,阳离子聚合性基团的数量为1个。
<无机粒子>
MEK-AC-2140Z:商品名,Nissan Chemical Industries,Ltd.制造,有机二氧化硅溶胶,粒径10~15nm
<聚合引发剂>
自由基光聚合引发剂Irg184:IRGACURE184(商品名),BASF公司制造,1-羟基-环己基-苯基-酮,α-羟基烷基苯酮类自由基光聚合引发剂
阳离子光聚合引发剂PAG-1:作为以下所示的碘鎓盐化合物的阳离子光聚合引发剂
[化学式17]
阳离子光聚合引发剂(碘鎓盐化合物)
<防污剂、流平剂>
RS-90:防污剂,商品名,DIC Corporation制造,具有自由基聚合性基团的含氟低聚物
8SS-723:防污剂,商品名,Taisei Fine Chemical Co.,Ltd.制造,硅酮丙烯酸聚合物
P-112:流平剂,日本专利第5175831号的[0053]段中所记载的化合物P-112
<3.粘接层的制作>
<粘接层N1~N4及N11的制作>
按照以下步骤合成了丙烯酸酯聚合物。
在具备冷却管、氮导入管、温度计及搅拌装置的反应容器中,通过溶液聚合法使丙烯酸丁酯95重量份及丙烯酸5重量份聚合而得到了质均分子量200万、分子量分布(Mw/Mn)3.0的丙烯酸酯聚合物A1。
制备以下的表2的组成的丙烯酸粘合剂N1~N4及N11,使用模涂机将所制备的粘合剂涂布于用硅酮类剥离剂进行了表面处理的分离膜上,在90℃的环境下使其干燥1分钟,在下述条件下照射紫外线(UV),从而分别制作出粘接层N1~N4及N11。
将丙烯酸粘合剂的组成以及所得到的粘接层的膜厚及储能模量汇总示于下述表2中。表中的各成分的掺合量的单位为质量份。关于膜厚及储能模量的测定方法,如后述。
<UV照射条件>
·Fusion公司的无电极灯H灯泡
·照度600mW/cm2、光量150mJ/cm2
·UV照度及光量使用EYE GRAPHICS Co.,Ltd.制造的UVPF-36(商品名)进行了测定。
[表2]
(表的注解)
丙烯酸酯聚合物A1:上述中所制作出的丙烯酸酯聚合物A1
(A)多官能丙烯酸酯单体:三(丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯,分子量=423,3官能型(TOAGOSEI CO.,LTD.制造,商品名“ARONIX M-315”)
(B)光聚合引发剂:二苯甲酮与1-羟基环己基苯基酮的质量比1∶1的混合物,CibaSpecialty Chemicals Co.,Ltd.制造,商品名“IRGACURE500”
(C)异氰酸酯交联剂:三羟甲基丙烷改性甲苯二异氰酸酯,Nippon PolyurethaneIndustry Co.,Ltd.制造,产品名“CORONATE L”
(D)硅烷偶联剂:3-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷,Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.制造,商品名“KBM-403”
<粘接层N5的制作>
根据国际公开第2017/204228号小册子中所记载的粘合片的制作中的合成例2制备粘合剂组合物N5,并制作出粘接层N5。具体如下。
向具备冷凝管、氮气导入管、温度计及搅拌机的反应容器中装入将丙烯酸丁酯(BA)96份、丙烯酸(AA)4份、叔十二硫醇(链转移剂)0.08份、聚氧乙烯月桂基硫酸钠(乳化剂)2份及离子交换水153份乳化而成的乳液(即,单体原料的乳液),一边导入氮气一边在室温(25℃)下搅拌了1小时。
然后,升温至60℃,投入以固体成分量计0.1份的制备成10%水溶液的2,2’-偶氮双[N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒]水合物(聚合引发剂)(商品名:VA-057,Wako PureChemical Industries,Ltd.制造),并在60℃下搅拌3小时而进行了聚合。向该反应液中添加10%氨水,将液性调整为pH7.5,得到了水分散型(甲基)丙烯酸聚合物(A)。
掺合了以固体成分量计70份的上述水分散型(甲基)丙烯酸聚合物(A)和以固体成分量计30份的合成聚异戊二烯胶乳(商品名:SEPOLEX IR-100K,Sumitomo SeikaChemicals Company,Limited制造)。接着,掺合以固体成分量计25份的作为增粘剂的芳香族改性萜烯树脂乳液(商品名:NANOLET R-1050,YASUHARA CHEMICAL CO.,LTD.制造,软化点100℃),进一步掺合0.07份的环氧交联剂(商品名:TETRAD-C,MITSUBISHI GAS CHEMICALCOMPANY,INC.制造)而制备出水分散型粘合剂组合物N5。
将在上述中所制备出的水分散型粘合剂组合物N5以干燥后的厚度成为15μm的方式涂布于用硅酮类剥离剂对聚对苯二甲酸乙二酯薄膜的单面进行了剥离处理的剥离片(LINTEC Corporation制造,商品名:SP-PET3811)的剥离处理面,并在环境温度100℃下加热1分钟而制作出粘接层N5。
<粘接层N6的制作>
在日本特开2005-298641号公报的实施例1的记载中,将CORONATE掺合量变更为4重量份,除此以外,以相同的方式制备粘合剂溶液N6,并制作出粘接层N6。具体如下。
通过溶液聚合法使丙烯酸2-乙基己酯70重量份、丙烯酸乙酯20重量份、甲基丙烯酸羟基乙酯6重量份及丙烯酸4重量份聚合而合成了丙烯酸共聚物。该合成的丙烯酸共聚物的重均分子量为30万,玻璃化转变点为-35℃。
使粘合剂溶液N6流入进行了硅酮处理的厚度50μm聚对苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜上,在90℃下干燥2分钟,干燥后在23℃下养护1周,从而制作出粘接层N6的厚度30μm的粘合剂片,该粘合剂溶液N6是对该丙烯酸共聚物100重量份掺合多官能异氰酸酯交联剂(NipponPolyurethane Industry Co.,Ltd.制造,商品名:CORONATE L)4重量份并利用甲苯稀释成浓度成为30重量%而得到。
<粘接层N9的制作>
在粘接层N6的制作中,将CORONATE L的掺合量由4质量份变更为8质量份,并将粘接层的厚度调整为15μm,除此以外,以与粘接层N6的制作相同的方式制作出粘接层N9。
<粘接层N10的制作>
在粘接层N9的制作中,将粘接层的厚度调整为3μm,除此以外,以与粘接层N9的制作相同的方式制作出粘接层N10。
<粘接层N12的制作>
在粘接层N6的制作中,将CORONATE L的掺合量由4质量份变更为5质量份,并将粘接层的厚度调整为10μm,除此以外,以与粘接层N6的制作相同的方式制作出粘接层N12。
<粘接层N13的制作>
在粘接层N12的制作中,将粘接层的厚度调整为5μm,除此以外,以与粘接层N2的制作相同的方式制作出粘接层N13。
<粘接层N7及N8的制作>
使用日本特开2011-128439号公报中所记载的比较例2及5的粘合剂组合物分别制备出粘接层N7及N8。具体如下。
(共聚物溶液6及9的制备)
向具备搅拌机、温度计、回流冷却器及氮导入管的反应装置中导入氮气而将该反应装置内的空气置换为氮气。然后,向该反应装置中加入了下述表3中所记载的单体成分、偶氮二异丁腈0.1质量份及乙酸乙酯120质量份。一边将其搅拌,一边在氮气气流中在60℃下使其反应8小时,从而得到了下述表3中所记载的重均分子量的丙烯酸共聚物的溶液。此外,利用乙酸乙酯进行稀释而制备出固体成分15%的共聚物溶液6及9。
在下述表3中,各单体成分的掺合量的单位为质量份,重均分子量的单位为万。
[表3]
将下述组成的粘合剂组合物N7涂布于进行了硅酮树脂涂布的PET薄膜上之后,在90℃下进行干燥而去除溶剂,从而制作出厚度1μm的粘接层N7。
代替粘合剂组合物N7而使用下述组成的粘合剂组合物N8,除此以外,以与粘接层N7的制作相同的方式制作出厚度3um的粘接层N8。
在下述组合物的记载中,各共聚物溶液的掺合量100质量份是指以固体成分量计掺合100质量份。
<4-1.光学层叠体的制作:无耐磨层>
[实施例1]
(1)硬涂层的形成
在支撑体A的与流延带接触的一侧涂布硬涂层形成用固化性组合物HC1并使其固化而形成了膜厚10μm的硬涂层。
具体而言,涂布及固化方法设为如下。利用日本特开2006-122889号公报的实施例1中所记载的使用狭缝模具的模涂法,在输送速度30m/分钟的条件下涂布HC层形成用固化性组合物HC1,并在环境温度60℃下干燥了150秒钟。然后,进一步进行氮吹扫,在氧浓度约0.1体积%的条件下使用160W/cm的气冷金属卤化物灯(EYE GRAPHICS Co.,Ltd.制造)照射照度300mW/cm2、照射量600mJ/cm2的紫外线,使所涂布的硬涂层形成用固化性组合物HC1固化而形成硬涂层之后,进行卷取,从而得到了硬涂膜。
(2)光学层叠体的制作
在支撑体A的与形成有硬涂层的面相反的一侧的面贴合粘接层N2之后,剥离分离膜而得到了实施例1的光学层叠体。
[实施例2、3及13~23、比较例1~10]
在实施例1的光学层叠体的制作中,如表4中所记载那样分别变更支撑体、硬涂层或粘合层的构成,除此以外,以与实施例1相同的方式制作出实施例2、3及13~23、比较例1~10的光学层叠体。
<4-2.光学层叠体的制作:有耐磨层>
[实施例4]
(1)硬涂层的形成
在实施例1的硬涂层的形成中,将硬涂层固化时的UV照射条件变更为照射照度20mW/cm2、照射量30mJ/cm2的紫外线,除此以外,以相同的方式形成硬涂层之后,进行了卷取。
(2)耐磨层的形成
在硬涂层的与具有支撑体A的面相反的一侧的面涂布耐磨层形成用固化性组合物T1并使其固化而形成了膜厚4μm的耐磨层。
具体而言,涂布及固化方法设为如下。利用日本特开2006-122889号公报的实施例1中所记载的使用狭缝模具的模涂法,在输送速度30m/分钟的条件下涂布耐磨层形成用固化性组合物,并在环境温度60℃下干燥了150秒钟。然后,进一步进行氮吹扫,在氧浓度约0.1体积%的条件下使用160W/cm的气冷金属卤化物灯(EYE GRAPHICS Co.,Ltd.制造)照射照度300mW/cm2、照射量600mJ/cm2的紫外线,使所涂布的耐磨层形成用固化性组合物T1固化而形成耐磨层之后,进行卷取,从而制作出带耐磨层的硬涂膜。
(3)粘接层的形成
在支撑体A的与形成有硬涂层及耐磨层的面相反的一侧的面贴合粘接层N2之后,剥离分离膜而得到了实施例4的光学层叠体。
[实施例5~8、比较例11]
在实施例4的光学层叠体的制作中,关于支撑体、硬涂层及粘合层的构成,如表4中所记载那样进行了变更,除此以外,以与实施例4相同的方式制作出实施例5~8、比较例11的光学层叠体。
〔评价〕
对于上述中所制作出的各光学层叠体,通过以下方法分别测定硬涂层的压痕模量及厚度、支撑体的拉伸模量、压痕模量、恢复率及厚度、粘接层的储能模量及厚度、硬涂膜及光学层叠体的铅笔硬度并进行了评价。并且,关于光学层叠体的耐磨性,通过以下方法进行了评价。将这些结果汇总示于表4中。
<硬涂层的压痕模量的测定>
对于硬涂膜的硬涂层表面,使用HM2000型硬度计(商品名,FISCHER INSTRUMENTSK.K.制造,金刚石制Knoop压头),在最大荷载50mN、压痕速度10秒、蠕变5秒的条件下进行压痕试验,求出了压痕模量。
<支撑体的拉伸模量的测定>
将支撑体的薄膜制作时的输送方向(MD方向)作为长度方向而切出200mm(测定方向)×10mm的样品,使用Toyo Baldwin Co.,Ltd.制造的万能拉伸试验机“STM T50BP(商品名)”在25℃、相对湿度60%环境下调湿24小时之后,以拉伸速度10%/分钟测定0.1%伸长率和0.5%伸长率下的应力,根据其斜率求出了拉伸模量。
<支撑体的压痕模量及恢复率的测定>
对于支撑体表面,使用HM2000型硬度计(商品名,FISCHER INSTRUMENTS K.K.制造,金刚石制Knoop压头),在最大荷载50mN、压痕速度10秒、蠕变5秒的条件下进行压痕试验,求出了压痕模量及恢复率。
另外,压痕模量与恢复率的乘积为将压痕模量的单位设为GPa、恢复率的单位设为%而通过压痕模量×恢复率×0.01的计算式计算出的值。在下述表中,省略单位而记载了通过该计算而计算出的值。
<粘接层的储能模量的测定>
对于上述中所制作出的各粘接层,使用IT Keisoku Seigyo Co.,Ltd.制造的动态粘弹性测定装置(商品名:DVA-200)在频率1Hz、25℃的条件下测定了储能模量。
<硬涂层、支撑体及粘接层的厚度的测定>
关于构成本发明的光学层叠体的各层的厚度,使用切片机进行切削而使剖面露出,以倍率1000~3000倍进行SEM观察,在5点测定厚度,将它们的平均作为厚度。
<硬涂膜的铅笔硬度的测定>
将硬涂膜以支撑体侧的面与玻璃接触的方式设置于玻璃上,遵照JIS K 5600-5-4(1999)测定了铅笔硬度。以500g荷载进行。每个硬度标尺使用5根铅笔进行试验,将对于3根以上的铅笔未产生划痕或其他缺陷的情况设为合格,将合格的最硬的铅笔的硬度作为铅笔硬度。在表中,3/5是指5根中3根未产生划痕或其他缺陷,5/5是指5根中5根均未产生划痕或其他缺陷。
另外,关于带耐磨层的硬涂膜,作为测定试样,使用了具有耐磨层的硬涂膜(带耐磨层的硬涂膜)。
<光学层叠体的铅笔硬度的测定>
将光学层叠体以粘接层侧的面与玻璃接触的方式设置于玻璃上,遵照JIS K5600-5-4(1999)测定了铅笔硬度。以500g荷载进行。每个硬度标尺使用5根铅笔进行试验,将对于3根以上的铅笔未产生划痕或其他缺陷的情况设为合格,将合格的最硬的铅笔的硬度作为铅笔硬度。在表中,3/5是指5根中3根未产生划痕或其他缺陷,5/5是指5根中5根均未产生划痕或其他缺陷。
<光学层叠体的耐磨性>
关于不具有耐磨层的硬涂膜,对硬涂层的表面使用摩擦测试仪(TESTER SANGYOCO.,LTD.制造,商品名:AB-301 COLOR FASTNESS RUBBING TESTER)在以下条件下进行了摩擦测试,而关于带耐磨层的硬涂膜,则对耐磨层的表面进行了如上摩擦测试。
(测定条件)
评价环境条件:25℃、相对湿度60%
摩擦材料:钢丝棉(NIHON STEEL WOOL Co.,Ltd.制造,级别No.0000)
卷绕于与试样接触的测试仪的摩擦前端部(1cm×1cm)并进行带固定
移动距离(单程):13cm
摩擦速度:13cm/秒
荷载:1000g/cm2
前端部接触面积:1cm×1cm
摩擦次数:往复100次、往复10000次
在上述摩擦测试后的硬涂膜的支撑体侧(试样的背侧)的整面涂抹油性黑色油墨。从与支撑体相反的一侧目视观察该硬涂膜的反射光,并评价了摩擦部分的划痕。越观察不到划痕,耐磨性越优异,在本发明中,评价“B”以上为合格。
-评价基准-
A:即使非常仔细地观察,也完全观察不到划痕。
B:若仔细观察,则可观察到微弱的划痕,但不成问题。
C:存在一看就能观察到的划痕,非常明显。
(表的注解)
<耐磨层>
“有”表示具有使用上述中所制备出的耐磨层形成用固化性组合物T1来制作的耐磨层。
<硬涂层>
HC1~HC4:是指使用上述中所制备出的硬涂层形成用固化性组合物HC1~HC4来制作的硬涂层。
<支撑体>
支撑体A~F:上述中所制作出的支撑体A~F
FUJITAC TD80UL:商品名,三乙酸纤维素薄膜,Fujifilm Corporation制造
FUJITAC TG60UL:商品名,三乙酸纤维素薄膜,Fujifilm Corporation制造
PET:聚对苯二甲酸乙二酯薄膜,Toyobo Co.Ltd.制造,Cosmoshine A4100(商品名)
另外,关于FUJITAC TD80UL、FUJITAC TG60UL及PET,在硬涂层的形成工序中,FUJITAC在卷外表面侧涂布了硬涂层形成用固化性组合物,PET在易粘接层面侧涂布了硬涂层形成用固化性组合物。
压痕模量×恢复率:
<粘接层>
N1~N13:上述中所制作出的粘接层N1~N13
A×30-B:表示以粘接层的储能模量A×30-粘接层的厚度B计算的值。其中,储能模量A的单位为MPa,厚度B的单位为μm。
(评价)
PHH-PHO:硬涂膜的铅笔硬度与光学层叠体的铅笔硬度之差
由表4的结果可知以下。
比较例1的光学层叠体的支撑体的拉伸模量为4.2GPa,并不是在本发明中规定的4.5GPa以上,在这点上不是本发明的光学层叠体。比较例2、9~11的光学层叠体的支撑体的厚度均为60μm,并不是在本发明中规定的80μm以上,在这点上不是本发明的光学层叠体。比较例3、4及7的光学层叠体的粘接层的储能模量及厚度均不满足在本发明中规定的式(1)的关系,在这点上不是本发明的光学层叠体。这些比较例1~4、7及9~11的光学层叠体的硬涂膜的铅笔硬度与光学层叠体的铅笔硬度之差均大为2H或3H,无法抑制将硬涂膜经由粘接层贴合于被粘物所引起的铅笔硬度的下降而较差。
并且,比较例5的光学层叠体的硬涂层的压痕模量为4GPa,并不是在本发明中规定的7GPa以上,在这点上不是本发明的光学层叠体。比较例6的光学层叠体的硬涂层的厚度为5μm,并不是在本发明中规定的10μm以上,在这点上不是本发明的光学层叠体。比较例8的光学层叠体的支撑体的压痕模量与恢复率的乘积为3.71,并不满足在本发明中规定的3.75以上,在这点上不是本发明的光学层叠体。这些比较例5、6及8的光学层叠体的硬涂膜的铅笔硬度低为H或2H,较差。
相对于此,可知作为本发明的光学层叠体的实施例1~23的光学层叠体的硬涂膜的铅笔硬度均高为4H以上,而且硬涂膜的铅笔硬度与光学层叠体的铅笔硬度之差均小为0H或1H,经由粘接层将硬涂膜贴合于被粘物所引起的铅笔硬度的抑制效果均优异,其结果,在光学层叠体的状态下具有优异的铅笔硬度。
<4-3.带偏振片的光学层叠体的制作>
[实施例9]
(1)起偏器的制作
按照日本特开2001-141926号公报的实施例1,使碘吸附于进行了拉伸的聚乙烯醇薄膜而制作出膜厚26μm的起偏器。
(2)皂化处理
将FUJITAC ZRD40SL(商品名,Fujifilm Corporation制造,纤维素酰化物薄膜)在保持为55℃的1.5mol/L的NaOH水溶液(皂化液)中浸渍2分钟之后,水洗薄膜,然后,在25℃的0.05mol/L的硫酸水溶液中浸渍30秒之后,进一步在流水下通过30秒而进行水洗,使薄膜成为中性状态。然后,重复3次基于气刀的脱水,去掉水之后在70℃的干燥区域停留15秒钟进行干燥,制作出进行了皂化处理的FUJITAC ZRD40SL。
(3)带偏振片的光学层叠体的制作
使用聚乙烯醇粘接剂,在利用上述方法制作出的两面未贴合有任何东西的起偏器的两侧分别贴附上述的进行了皂化处理的FUJITAC ZRD40SL而制作出偏振片。
以上述偏振片中的两片FUJITAC ZRD40SL中一个FUJITAC ZRD40SL与实施例7中所制作出的光学层叠体所具有的粘接层侧接触的方式贴合实施例7的光学层叠体和偏振片而制作出实施例9的带偏振片的光学层叠体。
[实施例10]
(1)起偏器的制作
按照日本特开2001-141926号公报的实施例1,使碘吸附于进行了拉伸的聚乙烯醇薄膜而制作出膜厚26μm的起偏器。
(2)皂化处理
将FUJITAC ZRD40SL(商品名,Fujifilm Corporation制造,纤维素酰化物薄膜)在保持为55℃的1.5mol/L的NaOH水溶液(皂化液)中浸渍2分钟之后,水洗薄膜,然后,在25℃的0.05mol/L的硫酸水溶液中浸渍30秒之后,进一步在流水下通过30秒而进行水洗,使薄膜成为中性状态。然后,重复3次基于气刀的脱水,去掉水之后在70℃的干燥区域停留15秒钟进行干燥,制作出进行了皂化处理的FUJITAC ZRD40SL。
<电晕处理>
对Cosmoshine SRF80(商品名,Toyobo Co.,Ltd.制造,聚对苯二甲酸乙二酯薄膜)的单面以放电量125W·min/m2进行了电晕处理。
(3)偏振片的制作
使用聚乙烯醇粘接剂,在利用上述方法制作出的两面未贴合有任何东西的起偏器的一个单侧贴附了上述的进行了皂化处理的FUJITAC ZRD40SL。此外,使用聚乙烯醇粘接剂,在起偏器的与贴附有FUJITAC ZRD40SL的面相反的一侧的面贴附了上述CosmoshineSRF80的电晕处理面侧。将所得到的层叠体在70℃下干燥10分钟以上而制作出偏振片。
(4)带偏振片的光学层叠体的制作
以实施例7中所制作出的光学层叠体所具有的粘接层侧与上述偏振片的Cosmoshine SRF80侧接触的方式贴合实施例7的光学层叠体和偏振片而制作出实施例10的带偏振片的光学层叠体。
[实施例11及12]
在实施例10的带偏振片的光学层叠体的制作中,代替实施例7的光学层叠体而使用实施例5的光学层叠体,除此以外,以与实施例10相同的方式制作出实施例11的带偏振片的光学层叠体。
并且,在实施例10的带偏振片的光学层叠体的制作中,代替实施例7的光学层叠体而使用实施例6的光学层叠体,除此以外,以与实施例10相同的方式制作出实施例12的带偏振片的光学层叠体。
〔评价〕
对于上述中所制作出的各带偏振片的光学层叠体,通过以下方法测定带偏振片的光学层叠体的铅笔硬度并进行了评价。将这些结果汇总示于表5中。
<带偏振片的光学层叠体的铅笔硬度的测定>
将带偏振片的光学层叠体以偏振片侧的面与玻璃接触的方式设置于玻璃上,遵照JIS K 5600-5-4(1999)测定了铅笔硬度。以500g荷载进行。每个硬度标尺使用5根铅笔进行试验,将对于3根以上的铅笔未产生划痕或其他缺陷的情况设为合格,将合格的最硬的铅笔的硬度作为铅笔硬度。
[表5]
实施例9 | 实施例10 | 实施例11 | 实施例12 | |
硬涂膜的铅笔硬度PH<sub>H</sub> | 7H | 7H | 7H | 7H |
光学层叠体的铅笔硬度PH<sub>O</sub> | 7H | 7H | 6H | 6H |
带偏振片的光学层叠体的铅笔硬度PH<sub>P</sub> | 7H | 7H | 6H | 7H |
PH<sub>H</sub>-PH<sub>O</sub> | 0H | 0H | 1H | 1H |
PH<sub>H</sub>-PH<sub>P</sub> | 0H | 0H | 1H | 0H |
耐磨性 | A | A | A | A |
(表的注解)
PHH-PHO:硬涂膜的铅笔硬度与光学层叠体的铅笔硬度之差
PHH-PHP:硬涂膜的铅笔硬度与带偏振片的光学层叠体的铅笔硬度之差
由上述表5的结果可知,贴合有作为本发明的光学层叠体的实施例5~7的光学层叠体的偏振片的硬涂膜的铅笔硬度均高为7H以上,而且硬涂膜的铅笔硬度与带偏振片的光学层叠体的铅笔硬度之差均小为0H或1H,经由粘接层将硬涂膜贴合于偏振片所引起的铅笔硬度的下降抑制效果均优异,其结果,在将光学层叠体贴合于偏振片的状态下具有优异的铅笔硬度。
<5-1.具有内嵌型触摸面板显示元件的图像显示装置的制作>
准备了安装于市售的液晶显示装置(Sony Ericsson Mobile Communications制造,商品名:Xperia P)中的作为内嵌型触摸面板显示元件的液晶显示元件。在该内嵌型触摸面板显示元件上经由厚度20μm的粘接剂层贴合实施例10中所制作出的带偏振片的光学层叠体而制作出具有内嵌型触摸面板显示元件的图像显示装置。
<5-2.具有外嵌型触摸面板显示元件的图像显示装置的制作>
准备了安装于市售的有机EL显示装置(Samsung Electronics Co.,Ltd.制造,商品名:GALAXY SII)中的作为外嵌型触摸面板显示元件的有机电致发光显示元件。在该外嵌型触摸面板显示元件上经由厚度20μm的粘接剂层贴合实施例10中所制作出的带偏振片的光学层叠体而制作出具有外嵌型触摸面板显示元件的图像显示装置。
上述中所制作出的具有内嵌型触摸面板显示元件的图像显示装置及具有外嵌型触摸面板显示元件的图像显示装置中,均与上述光学层叠体及带偏振片的光学层叠体同样地,经由粘接层将硬涂膜贴合于图像显示元件所引起的铅笔硬度的下降抑制效果优异,其结果,在将带偏振片的光学层叠体贴合于图像显示元件的状态下具有优异的铅笔硬度。
将本发明与其实施方式一同进行了说明,但只要我们没有特别指定,则在说明的任何细节都不是要限定我们的发明,认为应该可以在不违反附带的权利要求书所示发明的精神和范围的情况下作出广泛的解释。
本申请主张基于2019年12月5日在日本专利申请的日本特愿2019-220723及2020年12月4日在日本专利申请的日本特愿2020-202322的优先权,在此参考这些专利,并将其内容作为本说明书的记载的一部分而并入本说明书中。
Claims (17)
1.一种光学层叠体,其至少具有:粘接层;支撑体,配置于该粘接层的单面;及硬涂层,配置于该支撑体上,其中,
所述粘接层的储能模量A及厚度B满足下述式(1),
A×30-B≥0 式(1)
所述支撑体是拉伸模量为4.5GPa以上、压痕模量与恢复率的乘积为3.75以上、厚度为80μm以上的支撑体,
所述硬涂层是压痕模量为7GPa以上、厚度为10μm以上的硬涂层,
由所述支撑体和所述硬涂层构成的硬涂膜的铅笔硬度与所述光学层叠体的铅笔硬度之差在1H以内,
其中,上述式(1)中,储能模量A的单位为MPa,厚度B的单位为μm。
2.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,
所述支撑体包含三乙酰纤维素树脂。
3.根据权利要求1或2所述的光学层叠体,其中,
所述支撑体的厚度为100μm以上。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的光学层叠体,其中,
所述硬涂层由硬涂层形成用固化性组合物形成,所述硬涂层形成用固化性组合物含有具有(甲基)丙烯酸基的聚合性化合物1及在同一分子内具有环氧基和(甲基)丙烯酸基且与所述聚合性化合物1不同的聚合性化合物2,
该硬涂层形成用固化性组合物中所包含的聚合性化合物中所占的所述聚合性化合物2的比例为51质量%以上。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的光学层叠体,其中,
在所述硬涂层的与所述支撑体相反的一侧的面具有耐磨层,
该耐磨层由耐磨层形成用固化性组合物形成,所述耐磨层形成用固化性组合物含有在同一分子内具有至少3个(甲基)丙烯酸基的聚合性化合物和具有(甲基)丙烯酸基的含氟化合物。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的光学层叠体,其中,
所述硬涂层形成用固化性组合物含有由(甲基)丙烯酸基或环氧基修饰的无机粒子,所述硬涂层形成用固化性组合物的固体成分中的所述无机粒子的含量为20质量%以上。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的光学层叠体,其中,
所述粘接层的储能模量A及厚度B满足下述式(2),
A×30-B≥6 式(2)
其中,上述式(2)中,储能模量A的单位为MPa,厚度B的单位为μm。
8.一种偏振片,其包含:
权利要求1至7中任一项所述的光学层叠体;及配置于该光学层叠体的粘接层侧的起偏器。
9.根据权利要求8所述的偏振片,其中,
在所述起偏器与构成所述光学层叠体的粘接层之间包含由聚对苯二甲酸乙二酯形成的起偏器保护膜。
10.根据权利要求8或9所述的偏振片,其中,
由所述支撑体和所述硬涂层构成的硬涂膜的铅笔硬度与所述偏振片的铅笔硬度之差在1H以内。
11.一种图像显示装置,其具有:
权利要求8至10中任一项所述的偏振片;及图像显示元件。
12.根据权利要求11所述的图像显示装置,其中,
所述图像显示元件为液晶显示元件。
13.根据11或12所述的图像显示装置,其中,
所述图像显示元件为有机电致发光显示元件。
14.根据权利要求11至13中任一项所述的图像显示装置,其中,
所述图像显示元件为内嵌式触摸面板显示元件。
15.根据权利要求11至13中任一项所述的图像显示装置,其中,
所述图像显示元件为外嵌式触摸面板显示元件。
16.一种电阻膜式触摸面板,其包含权利要求8至10中任一项所述的偏振片。
17.一种静电电容式触摸面板,其包含权利要求8至10中任一项所述的偏振片。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019220723 | 2019-12-05 | ||
JP2019-220723 | 2019-12-05 | ||
PCT/JP2020/045352 WO2021112253A1 (ja) | 2019-12-05 | 2020-12-04 | 光学積層体、偏光板、画像表示装置、抵抗膜式タッチパネル及び静電容量式タッチパネル |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN114787667A true CN114787667A (zh) | 2022-07-22 |
CN114787667B CN114787667B (zh) | 2024-03-22 |
Family
ID=82407679
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202080083978.2A Active CN114787667B (zh) | 2019-12-05 | 2020-12-04 | 光学层叠体、偏振片、图像显示装置及触摸面板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN114787667B (zh) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006251294A (ja) * | 2005-03-10 | 2006-09-21 | Konica Minolta Opto Inc | 液晶表示装置 |
JP2007108592A (ja) * | 2005-10-17 | 2007-04-26 | Nitto Denko Corp | 液晶表示装置用積層体、及びそれを備えた液晶表示装置 |
JP2014109712A (ja) * | 2012-12-03 | 2014-06-12 | Dic Corp | ハードコートフィルム、加飾フィルム及び保護フィルム |
JP2016177163A (ja) * | 2015-03-20 | 2016-10-06 | Dic株式会社 | ハードコートフィルム及び情報表示装置 |
CN110177687A (zh) * | 2017-03-03 | 2019-08-27 | 富士胶片株式会社 | 光学膜及具有其的图像显示装置的前面板、图像显示装置、带图像显示功能的反射镜、电阻膜式触摸面板及静电电容式触摸面板 |
-
2020
- 2020-12-04 CN CN202080083978.2A patent/CN114787667B/zh active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006251294A (ja) * | 2005-03-10 | 2006-09-21 | Konica Minolta Opto Inc | 液晶表示装置 |
JP2007108592A (ja) * | 2005-10-17 | 2007-04-26 | Nitto Denko Corp | 液晶表示装置用積層体、及びそれを備えた液晶表示装置 |
JP2014109712A (ja) * | 2012-12-03 | 2014-06-12 | Dic Corp | ハードコートフィルム、加飾フィルム及び保護フィルム |
JP2016177163A (ja) * | 2015-03-20 | 2016-10-06 | Dic株式会社 | ハードコートフィルム及び情報表示装置 |
CN110177687A (zh) * | 2017-03-03 | 2019-08-27 | 富士胶片株式会社 | 光学膜及具有其的图像显示装置的前面板、图像显示装置、带图像显示功能的反射镜、电阻膜式触摸面板及静电电容式触摸面板 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN114787667B (zh) | 2024-03-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN110177687B (zh) | 光学膜、前面板、图像显示装置、反射镜、电阻膜式触摸面板及静电电容式触摸面板 | |
CN109312198B (zh) | 层叠体以及使用该层叠体的图像显示装置的前面板、图像显示装置、带图像显示功能的反射镜、电阻膜式触摸面板及静电电容式触摸面板 | |
JP6136526B2 (ja) | インセルタッチパネル液晶素子の前面用の光学積層体及びこれを用いたインセルタッチパネル型液晶表示装置 | |
JP7198946B2 (ja) | 光学積層体、偏光板、画像表示装置、抵抗膜式タッチパネル及び静電容量式タッチパネル | |
JP6127447B2 (ja) | 光学積層体、並びにこれを用いた表示素子の前面板、表示装置、抵抗膜式タッチパネル及び静電容量式タッチパネル | |
WO2017138611A1 (ja) | 光学積層体及びその製造方法、前面板、並びに画像表示装置 | |
JP6782305B2 (ja) | 光学フィルムならびにこれを有する画像表示装置の前面板、画像表示装置、画像表示機能付きミラ−、抵抗膜式タッチパネルおよび静電容量式タッチパネル | |
CN112041714B (zh) | 光学膜、偏振片、液晶面板、触摸面板及图像显示装置 | |
JP2016522838A (ja) | 偏光子保護フィルム用樹脂組成物、偏光子保護フィルム、これを含む偏光板および偏光板の製造方法 | |
CN111093984A (zh) | 层叠体、偏振片及图像显示装置 | |
JP2016519185A (ja) | 偏光子保護フィルム用樹脂組成物、偏光子保護フィルム、これを含む偏光板および偏光板の製造方法 | |
US11092845B2 (en) | Liquid crystal panel and image display device | |
JP6802361B2 (ja) | 光学フィルムならびにこれを有する画像表示装置の前面板、画像表示装置、画像表示機能付きミラ−、抵抗膜式タッチパネルおよび静電容量式タッチパネル | |
JP7046127B6 (ja) | 光学積層体および該光学積層体の位相差層付偏光板を含む画像表示装置 | |
JP6721783B2 (ja) | 反射防止積層体並びにこれを有する偏光板及び画像表示装置 | |
WO2018180746A1 (ja) | 光学フィルムならびにこれを有する画像表示装置の前面板、画像表示装置、画像表示機能付きミラ-、抵抗膜式タッチパネルおよび静電容量式タッチパネル | |
CN114787667B (zh) | 光学层叠体、偏振片、图像显示装置及触摸面板 | |
KR102368291B1 (ko) | 광학 필름 및 이것을 갖는 화상 표시 장치의 전면판, 화상 표시 장치, 화상 표시 기능 구비 미러, 저항막식 터치 패널 및 정전 용량식 터치 패널 | |
WO2022014102A1 (ja) | 偏光フィルム、光学フィルム、および画像表示装置 | |
WO2022014101A1 (ja) | 偏光フィルム、光学フィルム、および画像表示装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |