CN114536982A - 用于处理基板的头部维护单元和设备 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种用于处理基板的头部维护单元和设备，该设备包括：头部单元，该头部单元包括形成有一个或多个喷嘴的头部，该一个或多个喷嘴将处理液排放到基板；以及头部维护单元，该头部维护单元配置为对头部进行维护，其中，该头部维护单元可以包括：液体接收块，该液体接收块形成有一个或多个液体接收部件，该一个或多个液体接收部件具有液体接收空间，液体接收空间带有敞开的顶部；减压管线，该减压管线与液体接收空间流体连通、并配置为向液体接收空间提供减小的压力；和减压阀，该减压阀安装在减压管线中。

Description

用于处理基板的头部维护单元和设备
相关申请的交叉引用
本申请要求于2020年11月19日提交韩国专利局的第10-2020-0155336号韩国专利申请的权益，该专利申请的全部内容通过引用合并于此。
技术领域
本发明涉及一种用于处理基板的头部维护单元和设备。
背景技术
近年来，显示装置(例如液晶显示装置、有机EL显示装置)要求具有高分辨率。为了制造具有高分辨率的显示装置，需要在基板上形成每单位面积更多的像素，并且重要的是，将化学溶液(例如墨水(ink))准确地排放到如上所述密集布置的像素中的每一个。这是因为，如果不是，则制造为有缺陷的显示装置可能被确定为有缺陷。因此，根据相关技术，在制造显示装置时，需要准确地管理排放到像素中的每一个的化学溶液的排放点(例如，撞击点)以及化学溶液的排放量。因此，为了获得在排放墨水的头部排放化学溶液时化学溶液的撞击点以及化学溶液的排放量的数据、或者使因化学溶液在形成于头部中的喷嘴中的凝固而引起的喷嘴中堵塞的发生最小化，普通喷墨装置(inkjet device)的头部进行预喷射。
图1是示出了普通喷墨装置的头部进行预喷射的状态的图。参考图1，普通喷墨装置1包括头部单元2。头部单元2包括：多个头部4、头部框架3、和头部接口板5，该多个头部4排放墨水液滴I，该多个头部4装配到头部框架3，头部接口板5控制头部4。此外，喷墨装置1包括头部维护构件6。头部维护构件6包括多孔板8和支承框架7，该多孔板8吸收由头部4排放的液滴形式的墨水I，支承框架7支承多孔板8。多孔板8和支承框架7设置为多个。
如上所述，为了检查由头部4排放的墨水I的排放点以及墨水I的排放量是否被准确地管理(或为了防止形成于头部4中的喷嘴的堵塞现象)，在处理基板之前，头部4进行预喷射。预喷射在头部4位于多孔板8之间的状态下进行。可选地，预喷射也可以在头部4位于多孔板8上方的状态下进行。
如上所述，为了将墨水I准确地排放到密集排列的像素中的每一个，近年来，由头部4排放的墨水I的体积逐渐减少。由头部4排放的液滴形式的墨水I的体积可以是6皮升(PL)或更小。由于由头部4排放的液滴形式的墨水I的体积如上所述减少，所以当头部4进行预喷射时所排放的墨水I可能是飞散的。飞散的墨水I可能污染安装有头部接口板5和/或头部单元2的基板处理设备1。
发明内容
本发明致力于提供一种头部维护单元和一种用于处理基板的设备，该头部维护单元和该设备能够有效地对头部进行维护。
本发明还致力于提供一种头部维护单元和一种用于处理基板的设备，该头部维护单元和该设备能够在头部进行预喷射时使用于通过从头部排放的液滴形式的墨水来处理基板的设备的污染最小化。
本发明还致力于提供一种头部维护单元和一种用于处理基板的设备，该头部维护单元和该设备能够在头部进行预喷射时使从头部排放的液滴形式的墨水的飞散最小化。
本发明要解决的问题不限于上述问题，本领域技术人员通过本说明书和附图将清楚地理解未提及的问题。
本发明的示例性实施方案提供了一种用于处理基板的设备，所述设备包括：头部单元，所述头部单元包括形成有一个或多个喷嘴的头部，所述一个或多个喷嘴将处理液排放到基板；和头部维护单元，所述头部维护单元配置为对所述头部进行维护，其中，所述头部维护单元包括：液体接收块，所述液体接收块形成有一个或多个液体接收部件，所述一个或多个液体接收部件具有液体接收空间，所述液体接收空间带有敞开的顶部；减压管线，所述减压管线与所述液体接收空间流体连通，并且所述减压管线配置为向所述液体接收空间提供减小的压力；和减压阀，所述减压阀安装在所述减压管线中。
在示例性实施方案中，所述液体接收块可以包括减压流路，所述减压流路与所述减压管线连接、并与所述液体接收空间流体连通。
在示例性实施方案中，所述液体接收块还可以包括连接流路，所述连接流路形成在所述减压流路与所述液体接收空间之间。
在示例性实施方案中，在所述连接流路中，可以安装有连接阀，所述连接阀用于将所述减压流路和所述液体接收空间选择性地流体连通。
在示例性实施方案中，所述头部可以设置为多个，并且所述液体接收部件可以以与所述头部相同的数量设置。
在示例性实施方案中，所述头部和所述液体接收部件可以设置为多个，并且所述液体接收部件可以在布置所述头部的方向上形成在所述液体接收块中。
在示例性实施方案中，所述设备还可以包括控制单元，其中，所述控制单元可以进行净化操作和预喷射操作中的任一项，所述净化操作是通过将气体供应到与所述头部连接的管道来净化所述头部，所述预喷射操作是将所述处理液以液滴的形式排放到所述维护单元。
在示例性实施方案中，当所述控制单元进行预喷射操作时，所述控制单元可以控制所述头部单元和所述头部维护单元，使得所述液体接收块位于所述头部下方，并且所述减压阀在所述头部将所述处理液以液滴的形式排放时打开。
在示例性实施方案中，当从上方观察时，所述液体接收部件可以具有：侧表面，所述侧表面在竖直方向上延伸；和倾斜表面，所述倾斜表面在向下倾斜的方向上从所述侧表面延伸。
本发明的另一示例性实施方案提供了一种头部维护单元，所述头部维护单元包括在用于通过排放墨水处理基板的设备中，并且所述头部维护单元针对排放所述墨水的头部进行维护，所述头部维护单元包括：液体接收块，所述液体接收块包括一个或多个液体接收单元，所述一个或多个液体接收单元包括具有敞开的顶部的液体接收空间；减压管线，所述减压管线与所述液体接收空间流体连通、并向所述液体接收空间提供减小的压力；和减压阀，所述减压阀安装在所述减压管线中。
在示例性实施方案中，所述液体接收块可以包括减压流路，所述减压流路与所述减压管线连接、并与所述液体接收空间流体连通。
在示例性实施方案中，所述液体接收块还可以包括连接流路，所述连接流路形成在所述减压流路与所述液体接收空间之间。
在示例性实施方案中，在所述连接流路中，可以安装有连接阀，所述连接阀用于将所述减压流路和所述液体接收空间选择性地流体连通。
在示例性实施方案中，液体接收单元可以在布置多个头部的方向上形成在液体接收块中。
在示例性实施方案中，当从上方观察时，所述液体接收部件可以具有：侧表面，所述侧表面在竖直方向上延伸；和倾斜表面，所述倾斜表面在向下倾斜的方向上从所述侧表面延伸。
本发明的又一示例性实施方案提供了一种用于通过排放墨水处理基板的设备，所述设备包括：头部单元，所述头部单元包括形成有喷嘴的一个或多个头部，所述喷嘴将墨水以液滴的形式排放到基板；印刷区域，在所述印刷区域中，所述头部将所述墨水排放到所述基板，以在所述基板上进行印刷工艺；维护区域，当从上方观察时，所述维护区域与所述印刷区域并排设置，并且在所述维护区域中，对所述头部进行维护；机架，所述机架被设置为使得所述头部单元在所述印刷区域与所述维护区域之间往复运动；和头部维护单元，所述头部维护单元安装在所述维护区域中，所述头部维护单元配置为在所述印刷区域中在平行于所述基板的移动方向的方向上是可移动的、并且在所述头部上进行维护，其中，所述头部维护单元包括：液体接收块，所述液体接收块包括一个或多个液体接收单元，所述一个或多个液体接收单元包括具有敞开的顶部的液体接收空间；减压管线，所述减压管线与所述液体接收空间流体连通、并向所述液体接收空间提供减小的压力；和减压阀，所述减压阀安装在所述减压管线中。
在示例性实施方案中，所述液体接收块可以包括减压流路，所述减压流路与所述减压管线连接、并与所述液体接收空间流体连通。
在示例性实施方案中，当从上方观察时，所述液体接收部件可以具有：侧表面，所述侧表面在竖直方向上延伸；和倾斜表面，所述倾斜表面在向下倾斜的方向上从所述侧表面延伸。
在示例性实施方案中，所述设备还可以包括控制单元，其中，所述控制单元进行净化操作和预喷射操作中的任一项，所述净化操作是通过将气体供应到与所述头部连接的管道来净化所述头部，所述预喷射操作是将所述处理液以液滴的形式排放到所述维护单元。
在示例性实施方案中，当所述控制单元进行所述预喷射操作时，所述控制单元可以控制所述头部单元和所述头部维护单元，使得所述液体接收块位于所述头部下方，并且在所述头部将所述墨水以液滴的形式排放时，打开所述减压阀。
根据本发明的示例性实施方案，可以有效地对头部进行维护。
此外，根据本发明的示例性实施方案，当头部进行预喷射时，可以使从头部排放的液滴形式的墨水对基板处理设备的污染最小化。
此外，根据本发明的示例性实施方案，当头部进行预喷射时，可以使从头部排放的墨水的飞散最小化。
本发明的效果不限于上述效果，本领域技术人员根据本说明书和附图将清楚地理解未提及的效果。
附图说明
图1是示出了普通喷墨装置的头部进行预喷射的状态的图。
图2是示出了根据本发明的示例性实施方案的基板处理设备的图。
图3是示出了图2的头部维护单元的图。
图4是示出了液体接收块和连接到图3的液体接收块的减压管线的图。
图5是从B-B’观察的图4的液体接收块和减压管线的截面图。
图6是从A-A’观察的图4的液体接收块的截面视图。
图7是示出了图4的抽吸清洁模块的图。
图8是示出了根据本发明的示例性实施方案的基板处理设备的头部进行预喷射的状态的图。
图9是示出了根据本发明的另一示例性实施方案的液体接收块的图。
图10是示出了根据本发明的另一示例性实施方案的液体接收块的图。
图11是示出了根据本发明的另一示例性实施方案的头部维护单元的图。
具体实施方式
在下文中，将在下文中参考附图更全面地描述本发明的示例性实施方案，在附图中示出了本发明的示例性实施方案。然而，本发明可以被不同地实施，并且不限于以下实施方案。在本发明的以下描述中，省略了对合并于此的已知功能和配置的详细描述以避免使本发明的主题不清楚。此外，贯穿附图，对于具有类似的功能和动作的部件，使用相同的附图标记。
除非明确地作出相反的描述，否则“包括”一词和诸如“包括”或“包含”之类的变体将被理解为暗示包含所述要素但不排除任何其他要素。将理解的是，术语“包括”和“具有”旨在表示说明书中描述的特征、数量、步骤、操作、组成元件和组件或其组合的存在，并且不排除预先存在或添加一个或多个其他特征、数量、步骤、操作、组成元件和组件或其组合的可能性。
本文中使用的单数表达包括复数表达，除非它们在上下文中具有明确相反的含义。因此，为了更清楚的描述，附图中元件的形状和尺寸等可能被夸大。
例如第一和第二等术语用于描述各种组成元件，但组成元件不受术语限制。这些术语仅用于将一个组成元件与另一个组成元件区分开来。例如，在不脱离本发明的范围的情况下，可以将第一组成元件命名为第二组成元件，并且类似地，可以将第二组成元件命名为第一组成元件。
应当理解，当一个组成元件被称为“耦合到”或“连接到”另一组成元件时，一个组成元件可以直接耦合到或连接到另一组成元件，但也可以存在居间元件。相反，当一个组成元件“直接耦合到”或“直接连接到”另一组成元件时，应理解不存在居间元件。描述组成元件之间关系的其他表达，例如“在……之间”和“正好在……之间”或“与～相邻”和“与～直接相邻”，应作类似解释。
本文中使用的所有术语包括技术或科学术语具有与本领域技术人员通常理解的含义相同的含义，除非它们被不同地定义。通用词典中定义的术语应理解为具有与相关技术上下文中的含义相匹配的含义，除非在本申请中明确定义，否则不应理解为理想的或过于形式化的含义。
在下文中，将参考图2至图10描述本发明的示例性实施方案。
图2是示出了根据本发明的示例性实施方案的基板处理设备的图。参考图2，根据本发明的示例性实施方案的基板处理设备100可以是通过将化学液体(例如墨水)供应到基板S上来处理基板的喷墨装置。例如，基板处理设备100可以通过将墨水I以液滴的形式排放到基板S上来在基板S上进行印刷工艺。此外，基板S可以是玻璃基板。然而，本发明不限于此，基板S的类型可以不同地变化。
基板处理设备100可以包括印刷区域10、维护区域20、机架30、头部单元40、喷嘴对准单元50、第四视觉单元60、控制单元80和头部维护单元200。
当从上方观察时，印刷区域10的纵向方向可以是第一方向X。在下文中，当从上方观察时，垂直于第一方向X的方向被称为第二方向Y，并且垂直于第一方向X和第二方向Y的方向被称为第三方向Z。第三方向Z可以是垂直于地面的方向。此外，第一方向X可以是传送基板S(将在下面描述)的方向。在印刷区域10中，可以通过由头部单元40(将在下面描述)将墨水I以液滴的形式排放到基板S来在基板S上进行印刷工艺。
此外，在印刷区域10中，被传送的基板S可以保持浮动状态。因此，在印刷区域10中，可以设置用于在传送基板S时使基板S浮动的浮动台。此外，在印刷区域10中，还可以设置夹持基板S的一侧表面或两侧表面并传送基板S的传送单元。传送单元可以包括沿浮动台的一侧或两侧设置的导轨、以及在夹持基板S的一侧表面或两侧表面的情况下沿导轨滑动的夹持器等。此外，在印刷区域10中，被传送的基板(例如基板S)可以在第一方向X上传送。
在维护区域20中，可以主要进行头部单元40(将在下面描述)的维护。当从上方观察时，维护区域20的纵向方向可以是第一方向X。此外，维护区域20和印刷区域可以并排设置。例如，维护区域20和印刷区域10可以在第二方向Y上并排设置。
在头部单元40将处理液I以液滴的形式排放到基板S之前和之后，头部单元40(将在下面描述)的头部42可以在维护区域20中排放处理液。例如，在维护区域20中，可以进行净化操作和预喷射操作中的至少一者。控制单元80(将在下面描述)可以控制头部单元40(将在下面描述)，以便在维护区域20中进行净化操作和预喷射操作中的至少一者。
净化操作可以将惰性气体(例如氮气)供应到与头部单元40(将在下面描述)的头部42连接的管道(未示出)，并且净化与头部42连接的管道。当惰性气体被供应到与头部42连接的管道时，所供应的惰性气体可以将留在管道中的处理液I推向头部42的喷嘴42a。被推向喷嘴42a的处理液I可以通过喷嘴42a排放。
此外，可以进行预喷射操作以便收集由头部单元40的头部42排放的液滴形式的处理液I的撞击点、以及用于调整处理液I的体积的数据。此外，可以进行预喷射操作以防止由于处理液I在形成于头部单元40的头部42中的喷嘴42a中固化而在喷嘴42a中发生堵塞现象。在预喷射操作中，头部单元40的头部42可以以液滴的形式排放处理液I。在预喷射操作中，头部单元40可以将处理液I以液滴的形式排放到设置在维护区域中的维护区域200。在预喷射操作中，由头部单元40排放的液滴形式的处理液I的体积可以是6皮升(PL)或更少。
此外，由于在维护区域20中，头部单元40(将在下面描述)能够以液滴的形式排放处理液I，所以维护区域20可以具有与印刷区域10相同或类似的工艺环境。
机架30可以设置成使得头部单元40(将在下面描述)或第四视觉单元60(将在下面描述)可以沿直线往复运动。机架30可以包括第一机架31、第二机架32和第三机架33。第一机架31和第二机架32可以被设置为具有沿印刷区域10和维护区域20延伸的结构。此外，第一机架31和第二机架32可以设置为在第一方向X上彼此间隔开。即，第一机架31和第二机架32可以被设置为具有在设置印刷区域10和维护区域20的第二方向Y上延伸的结构，使得头部单元40(将在下面描述)能够在第二方向Y上在印刷区域10与维护区域20之间往复运动。
此外，第三机架33可以被设置为具有在第二方向Y上延伸的结构。即，第三机架33可以被设置为具有延伸的结构，使得第四视觉单元60(将在下面描述)能够在第二方向Y上移动。
头部单元40可以将处理液I以液滴的形式排放到基板S。由头部单元40排放的处理液I可以是墨水。头部单元40可以通过将处理液I以液滴的形式排放到基板S来在基板S上进行印刷工艺。例如，头部单元40可以通过在第二方向Y上往复运动的情况下将处理液I排放到基板S来在基板S上进行印刷工艺。
头部单元40可以包括头部42、头部框架44、头部接口板45、第一视觉单元46和第二视觉单元48。
以液滴的形式排放处理液I的多个喷嘴42a可以形成在头部42中。可以设置一个或多个头部42。例如，头部42可以设置成多个。多个头部42可以在第一方向X上并排布置。多个头部42可以装配到头部框架44。此外，头部接口板45可以安装在头部框架44中。头部接口板45可以通过控制头部42来控制由头部42排放的墨水的体积。
头部42可以通过头部框架44可移动地耦合到第一机架31和第二机架32。例如，头部42可以设置为在作为第一机架31和第二机架32的纵向方向的第二方向Y上是可移动的。此外，头部42可以在作为第一机架31和第二机架32的纵向方向的第二方向Y上、在印刷区域10与维护区域20之间以直线往复运动。当从上方观察时，第一视觉单元46和第二视觉单元48可以耦合到头部42的一侧。第一视觉单元46和第二视觉单元48可以在第一方向X上并排设置。第一视觉单元46和第二视觉单元48可以检查由头部42排放的液滴形式的处理液I。第一视觉单元46和第二视觉单元48可以是包括图像采集模块的相机。
喷嘴对准单元50可以设置到维护区域20。当从上方观察时，喷嘴对准单元50可以设置在第一机架31与第二机架32之间。因此，喷嘴对准单元50可以检查形成在头部42中的喷嘴42a的状态。例如，喷嘴对准单元50可以包括移动轨道52和第三视觉单元54。移动轨道52的纵向方向可以是第一方向X。第三视觉单元54可以在作为移动轨道52的纵向方向的第一方向X上以直线往复运动。第三视觉单元54可以在沿移动轨道52的纵向方向移动的情况下拍摄头部42的喷嘴42a。
第四视觉单元60可以安装在第三机架33中以便在作为第三机架33的纵向方向的第二方向Y上是可移动的。第四视觉单元60可以是包括图像获取模块的相机。第四视觉单元60可以获取排放到第二基板S2的墨水I的液滴的图像并将获取的图像传输到控制单元80(将在下面描述)。控制单元80可以通过分析由第四视觉单元60获得的图像来计算用于校正由头部单元40排放的墨滴的撞击点、头部42的移动速度和基板的移动速度等的数据。
头部维护单元200可以安装在维护区域20中。头部维护单元200可以被配置为在维护区域20中是可移动的。例如，头部维护单元200可以被配置为在维护区域20中在第一方向X上是可移动的。例如，头部维护单元200可以被配置为在印刷区域10中在平行于基板S的移动方向的方向上是可移动的。头部维护单元200可以在头部42上进行维护。下面将描述头部维护单元200的特定结构。
控制单元80可以控制基板处理设备100。控制单元80可以控制基板处理设备100，以便基板处理设备100在基板S上进行处理工艺。例如，控制单元80可以控制基板处理设备100，以便基板处理设备100在基板S上进行印刷工艺。此外，控制单元80可以控制基板处理设备100，以便基板处理设备100对头部单元40进行维护。例如，控制单元80可以控制头部单元40和头部维护单元200，以便对头部单元40进行维护。此外，控制单元80可以基于由第一视觉单元46、第二视觉单元48、第三视觉单元54和第四视觉单元60捕获和获取的图像(图片或视频)，计算用于校正由头部单元40的头部42排放的液滴形式的处理液I的撞击点、头部42的移动速度和基板的S的移动速度等的数据。
此外，控制单元80可以包括：工艺控制器，该工艺控制器由执行对基板处理设备100的控制的微处理器(计算机)形成；用户界面，该用户界面由操作者在其中进行命令输入操作等以管理基板处理设备100的键盘形成；显示器，该显示器用于可视化和显示基板处理设备100的操作情况等；以及存储单元，该存储单元存储用于在工艺控制器或程序的控制下执行在基板处理设备100中执行的工艺的控制程序，该程序即处理配方，用于根据各种数据和处理条件执行每个组件中的工艺。此外，用户界面和存储单元可以连接到工艺控制器。处理配方可以存储在存储单元中的存储介质中，且该存储介质可以是硬盘，并且也可以是便携式磁盘(例如CD-ROM或DVD)或半导体存储器(例如闪存)。
图3是示出了图2的头部维护单元的图。参考图3，头部维护单元200可以包括净化槽(purging bath)210、液体接收块230、减压管线240、抽吸清洁模块250和抽吸管线260。在图3中，为了描述方便，省略了减压管线240和抽吸管线260的图示。
净化槽210可以被配置为在维护区域20中在第一方向X上是可移动的。净化槽210可以在进行头部单元40的净化操作或预喷射操作时移动到头部单元40的下部区域。例如，净化槽210可以被配置为在维护区域20中通过移动构件(例如LM导轨)在第一方向X上是可移动的。此外，移动构件不限于LM导轨，并且可以不同地改变为能够移动净化槽210的公知装置。
净化槽210可以包括液体接收部件211、支承框架212和支承板213。
液体接收部件211可以具有圆柱形状、具有敞开的顶部。液体接收部件211可以具有接收空间，用于在进行净化操作或预喷射操作时接收从头部42排放的处理液I。供应到液体接收部件211的接收空间的处理液I通过排放管线(未示出)排放到外部，该排放管线可以连接到液体接收部件211。此外，液体接收部件211可以通过多个支承框架212由支承板213支承。支承板213可以与移动构件(例如，LM导轨)耦合。因此，净化槽210可以通过移动构件在第一方向X上移动。
此外，液体接收块230和抽吸清洁模块250可以安装在净化槽210的液体接收部件211中。至少一个液体接收块230可以安装在净化槽210中。例如，多个液体接收块230可以安装在净化槽210中。例如，六个液体接收块230可以安装在净化槽210中。然而，本发明不限于此，安装在净化槽210中的液体接收块230的数量可以不同地改变。此外，液体接收块230可以被分成两组，并且两组之间的任何一组的液体接收块230可以在第二方向Y上并排布置。两组之间的另一组的液体接收块230可以在第一方向X上与一组间隔开，并且可以在第二方向Y上并排布置。此外，至少一个抽吸清洁模块250可以安装在净化槽210中。例如，多个抽吸清洁模块250可以安装在净化槽210中。例如，两个抽吸清洁模块250可以安装在净化槽210中。然而，本发明不限于此，安装在净化槽210中的抽吸清洁模块250的数量可以不同地改变。
在进行头部单元40的预喷射操作的情况下，液体接收块230可以设置在头部单元40下方。当头部单元40以液滴的形式排放处理液I时，液体接收块230可以接收从头部单元40排放的处理液I。此外，抽吸清洁模块250可以通过真空抽吸方法去除附着到头部单元40的喷嘴42a或喷嘴42a的周边区域的处理液I。
图4是示出了液体接收块和连接到图3的液体接收块的减压管线的图，图5是从B-B’观察的图4的液体接收块和减压管线的截面图，以及图6是从A-A’观察的图4的液体接收块的截面图。参考图4至图6，减压流路232、耦合端口234、液体接收部件235和连接流路237可以形成在液体接收块230中。
减压流路232可以形成在液体接收块230内。减压流路232可以在液体接收块230中沿液体接收块230的纵向方向形成。形成在液体接收块230中的减压流路232可以从通过耦合端口234连接的减压管线240接收减小的压力。减压阀242可以安装在减压管线240中。减压阀242可以是开/闭阀、或是流速调节阀。根据减压阀24的打开/关闭，由减压管线240提供的减小的压力可以传递到减压流路232。
液体接收部件235可以形成在减压流路232上方。液体接收部件235可以具有液体接收空间236。液体接收空间236可以设置为以便具有敞开的顶部。可以设置至少一个液体接收部件235。例如，可以设置多个液体接收部件235。液体接收部件235可以以与头部42的数量相同的数量设置。液体接收部件235可以在布置多个头部42的方向上形成在液体接收块230中。例如，当头部42布置在第一方向X上时，液体接收部件235可以在第一方向X上形成在液体接收块230中。因此，在头部单元40的头部42设置在液体接收块230上方(例如，进行预喷射)的情况下，头部42中的每一个可以设置在液体接收部件235中的每一个的上方。因此，可以同时进行多个头部42的预喷射。
当在液体接收块230的纵向方向上观察时，液体接收部件235可以具有侧表面235a和倾斜表面235b。当从液体接收块230的截面观察时，侧表面235a可以在液体接收块230的纵向方向上和在竖直方向上延伸(防止倒角)。例如，在侧表面235a中可以不形成台阶部分。因此，当头部42以液滴的形式排放处理液I(将在下面描述)时，传送到液体接收空间236的处理液I沿侧表面235a在向下方向上流动。即，可以解决处理液I附着到液体接收部件235并积聚在液体接收部件235中的问题。此外，倾斜表面235b可以从侧表面235a在向下倾斜的方向上延伸。倾斜表面235b可以在向下倾斜的方向上朝向连接流路237(将在下面描述)延伸。倾斜表面235b可以帮助传送至液体接收空间236的处理液I经由连接流路237传送到减压流路232。
此外，连接流路237可以形成在液体接收空间236与减压流路232之间。连接流路237可以在分别对应于多个液体接收部件235的情况下形成。连接流路237可以将减压流路232和液体接收空间236流体连通。因此，由减压管线240提供的减小的压力可以传送到减压流路232，传送到减压流路232的减小的压力可以传送到连接流路237，并且传送到连接流路237的减小的压力可以传送到液体接收空间236。
图7是示出了图4的抽吸清洁模块的图。参考图7，抽吸清洁模块250可以包括：主体251，在主体251中形成有抽吸流路；和抽吸端口253，该抽吸端口253用于抽吸和清洁头部42的下表面。此外，抽吸清洁模块250可以与抽吸管线260连接。抽吸管线260可以向形成在主体251中的抽吸流路提供减小的压力。此外，抽吸阀262可以安装在抽吸管线260中。抽吸端口253通过由抽吸管线260提供的减小的压力来抽吸头部42的下表面，从而去除附着到形成在头部42中的喷嘴42a或喷嘴42a的周边区域的处理液I。
图8是示出了根据本发明的示例性实施方案的基板处理设备的头部进行预喷射的状态的图。参考图8，当预喷射操作在头部42上进行时，控制单元80可以控制头部单元40和头部维护单元200。例如，当进行预喷射操作时，控制单元80可以移动维护单元200，使得液体接收块230位于头部42下方。例如，控制单元80可以移动头部维护单元200，使得液体接收块230的液体接收部件235在分别对应于多个头部42的下部的情况下定位。在这种情况下，液体接收部件235的上端与头部42的下表面之间的间隙可以是1mm或更小。
然后，控制单元80可以通过控制头部单元40使头部42排放液滴形式的处理液I。在这种情况下，由头部42排放的液滴形式的处理液I的体积可以是6皮升(PL)或更小。
此外，控制单元80可以控制头部维护单元200，使得在头部42排放处理液I之前或之后打开减压阀242。当打开减压阀242时，由减压管线240提供的减小的压力可以经由减压流路232和连接流路237传递到液体接收空间236。因此，由头部单元40排放的液滴形式的处理液I可以通过传递到液体接收空间236的减小的压力而被抽吸到液体接收空间236中。因此，即使以液滴形式排放的处理液I的体积非常小，也可以使处理液I飞散的问题最小化。即，可以使处理液I在预喷射操作中飞散的问题最小化，从而可以使基板处理设备100(例如头部单元40)被飞散的处理液I污染最小化。因此，可以有效地降低由于可能附着到头部单元40的杂质而污染处理过的基板S的风险。
图9是示出了根据本发明的另一示例性实施方案的液体接收块的图。参考图9，在根据另一示例性实施方案的液体接收块230中形成的连接流路237中的每一个中，可以安装连接阀238，该连接阀238将减压流路232和液体接收空间236选择性地流体连通。连接阀238可以是开/闭阀、或流速调节阀。连接阀238的开/闭或打开/关闭速率可以由控制单元80调节。例如，控制单元80可以将与减压管线240相邻的连接阀238的打开/关闭速率、以及远离减压管线240的连接阀238的打开/关闭速率设定为彼此不同。例如，与减压管线240相邻的连接阀238的开启率(opening rate)可以小于远离减压管线240的连接阀238的开启率。即，根据减压管线240的连接位置，传递到每个液体接收部件235的液体接收空间236的减小的压力的大小可以不同。然而，根据本发明的另一示例性实施方案，通过不同地调节连接阀238的打开/关闭速率，传递到液体接收部件235中的每一个的液体接收空间236的减小的压力的大小可以被调节为相同。
图10是示出了根据本发明的另一示例性实施方案的液体接收块的图。参考图10，根据本发明的另一示例性实施方案，液体接收构件290可以安装在液体接收块230中。液体接收构件290可以是能够吸收由头部42排放的处理液I的多孔板。液体接收构件290可以具有阶梯形状，使得中心区域中的上表面290a的高度与边缘区域中的上表面290b的高度不同。例如，液体接收构件290的中心区域中的上表面290a的高度可以大于边缘区域中的上表面290b的高度。当设置液体接收构件290时，在液体接收构件290的边缘区域中可能出现形成处理液I的现象。当处理液I形成在液体接收构件290的边缘区域中时，处理液I可以被传送到头部42的下表面。因此，液体接收构件290的边缘区域中的上表面290b的高度设置得较低，从而使由于处理液I的形成而导致的头部42的污染最小化。此外，液体接收构件290设置在多孔板中，使得传递到液体接收空间236的减小的压力可以通过液体接收构件290传递到头部42的下表面。
图11是示出了根据本发明的另一示例性实施方案的头部维护单元的图。参考图11，根据本发明的另一示例性实施方案的头部维护单元200还可以包括头部清洁模块270。头部清洁模块270可以包括框架272和头部清洁棒(head cleaning bar)274。头部清洁棒274可以清洁附着到头部42的处理液I。头部清洁棒274可以设置为可旋转的。头部清洁棒274可以设置在具有敞开的顶部的框架272内。
在前述实施例中，是在头部单元40的预喷射操作中使用液体接收块230的情况，但本发明不限于此。例如，液体接收块230可以用于通过头部单元40排放具有精细体积的处理液I的各种处理操作，以及以相同或类似方式用于维护操作。
前面的详细描述说明了本发明。此外，以上内容显示和描述了本发明的示例性实施方案，并且本发明可以用于各种其他组合、修改和环境中。即，可以在本说明书中公开的本发明构思的范围、与本公开等同的范围和/或本领域的技术或知识的范围内对前述内容进行修改或修正。前述示例性实施方案描述了实现本发明的技术精神的最佳状态，并且在本发明的特定应用领域和用途中所需要的各种变化是可行的。因此，以上对本发明的详细描述并非旨在将本发明限制于所公开的示例性实施方案。此外，所附权利要求应被解释为也包括其他示例性实施方案。

Claims (20)

1.一种用于处理基板的设备，所述设备包括：
头部单元，所述头部单元包括形成有一个或多个喷嘴的头部，所述一个或多个喷嘴将处理液排放到基板；和
头部维护单元，所述头部维护单元配置为对所述头部进行维护，
其中，所述头部维护单元包括：
液体接收块，所述液体接收块形成有一个或多个液体接收部件，所述一个或多个液体接收部件具有液体接收空间，所述液体接收空间带有敞开的顶部；
减压管线，所述减压管线与所述液体接收空间流体连通，并且所述减压管线配置为向所述液体接收空间提供减小的压力；和
减压阀，所述减压阀安装在所述减压管线中。
2.根据权利要求1所述的设备，其中，所述液体接收块包括减压流路，所述减压流路与所述减压管线连接、并与所述液体接收空间流体连通。
3.根据权利要求2所述的设备，其中，所述液体接收块还包括连接流路，所述连接流路形成在所述减压流路与所述液体接收空间之间。
4.根据权利要求3所述的设备，其中，在所述连接流路中，安装有连接阀，所述连接阀用于将所述减压流路和所述液体接收空间选择性地流体连通。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的设备，其中，所述头部设置为多个，并且
所述液体接收部件以与所述头部相同的数量设置。
6.根据权利要求1至4中任一项所述的设备，其中，所述头部和所述液体接收部件设置为多个，并且
所述液体接收部件在布置所述头部的方向上形成在所述液体接收块中。
7.根据权利要求1至4中任一项所述的设备，所述设备还包括：
控制单元，
其中，所述控制单元进行净化操作和预喷射操作中的任一项，所述净化操作是通过将气体供应到与所述头部连接的管道来净化所述头部，所述预喷射操作是将所述处理液以液滴的形式排放到所述维护单元。
8.根据权利要求7所述的设备，其中，当所述控制单元进行所述预喷射操作时，所述控制单元控制所述头部单元和所述头部维护单元，使得所述液体接收块位于所述头部下方，并且所述减压阀在所述头部将所述处理液以所述液滴的形式排放时打开。
9.根据权利要求1至4中任一项所述的设备，其中，当从上方观察时，所述液体接收部件具有：
侧表面，所述侧表面在竖直方向上延伸；和
倾斜表面，所述倾斜表面在向下倾斜的方向上从所述侧表面延伸。
10.一种头部维护单元，所述头部维护单元包括在用于通过排放墨水处理基板的设备中，并且所述头部维护单元针对排放所述墨水的头部进行维护，所述头部维护单元包括：
液体接收块，所述液体接收块包括一个或多个液体接收单元，所述一个或多个液体接收单元包括具有敞开的顶部的液体接收空间；
减压管线，所述减压管线与所述液体接收空间流体连通、并向所述液体接收空间提供减小的压力；和
减压阀，所述减压阀安装在所述减压管线中。
11.根据权利要求10所述的头部维护单元，其中，所述液体接收块包括减压流路，所述减压流路与所述减压管线连接、并与所述液体接收空间流体连通。
12.根据权利要求11所述的头部维护单元，其中，所述液体接收块还包括连接流路，所述连接流路形成在所述减压流路与所述液体接收空间之间。
13.根据权利要求12所述的头部维护单元，其中，在所述连接流路中，安装有连接阀，所述连接阀用于将所述减压流路和所述液体接收空间选择性地流体连通。
14.根据权利要求10至13中任一项所述的头部维护单元，其中，所述液体接收单元在布置多个所述头部的方向上形成在所述液体接收块中。
15.根据权利要求10至13中任一项所述的头部维护单元，其中，当从上方观察时，所述液体接收部件具有：侧表面，所述侧表面在竖直方向上延伸；和倾斜表面，所述倾斜表面在向下倾斜的方向上从所述侧表面延伸。
16.一种用于通过排放墨水处理基板的设备，所述设备包括：
头部单元，所述头部单元包括形成有喷嘴的一个或多个头部，所述喷嘴将墨水以液滴的形式排放到基板；
印刷区域，在所述印刷区域中，所述头部将所述墨水排放到所述基板，以在所述基板上进行印刷工艺；
维护区域，当从上方观察时，所述维护区域与所述印刷区域并排设置，并且在所述维护区域中，对所述头部进行维护；
机架，所述机架被设置为使得所述头部单元在所述印刷区域与所述维护区域之间往复运动；和
头部维护单元，所述头部维护单元安装在所述维护区域中，所述头部维护单元配置为在所述印刷区域中在平行于所述基板的移动方向的方向上是可移动的、并且在所述头部上进行维护，
其中，所述头部维护单元包括：
液体接收块，所述液体接收块包括一个或多个液体接收单元，所述一个或多个液体接收单元包括具有敞开的顶部的液体接收空间；
减压管线，所述减压管线与所述液体接收空间流体连通、并向所述液体接收空间提供减小的压力；和
减压阀，所述减压阀安装在所述减压管线中。
17.根据权利要求16所述的设备，其中，所述液体接收块包括减压流路，所述减压流路与所述减压管线连接、并与所述液体接收空间流体连通。
18.根据权利要求16所述的设备，其中，当从上方观察时，所述液体接收部件具有：侧表面，所述侧表面在竖直方向上延伸；和倾斜表面，所述倾斜表面在向下倾斜的方向上从所述侧表面延伸。
19.根据权利要求16至18中任一项所述的设备，还包括：
控制单元，
其中，所述控制单元进行净化操作和预喷射操作中的任一项，所述净化操作是通过将气体供应到与所述头部连接的管道来净化所述头部，所述预喷射操作是将所述处理液以液滴的形式排放到所述维护单元。
20.根据权利要求19所述的设备，其中，当所述控制单元进行所述预喷射操作时，所述控制单元控制所述头部单元和所述头部维护单元，使得所述液体接收块位于所述头部下方，并且在所述头部将所述墨水以所述液滴的形式排放时，打开所述减压阀。
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