JP2004181837A - 液滴吐出装置、液滴吐出システム、電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】装置のオペレーターの労力を軽減でき、製造物のコスト低減が図れる液滴吐出装置、液滴吐出システム、かかる液滴吐出装置を用いて製造される電気光学装置、かかる液滴吐出装置を用いる電気光学装置の製造方法、および、かかる電気光学装置を備える電子機器を提供すること。
【解決手段】本発明の液滴吐出装置は、液滴吐出ヘッドがワークに対し液滴を吐出する前に捨て吐出した液体を受ける第１の捨て吐出用液受け部７１と、液滴吐出ヘッドが待機時に捨て吐出した液体を受ける第２の捨て吐出用液受け部３０１と、液滴吐出ヘッドのドット抜け検査を行う際に吐出した液体を受けるドット抜け検査用液受け部１９１と、排液流路系７０と、描画前フラッシング用液受け部７１、定期フラッシング用液受け部３０１およびドット抜け検査用液受け部１９１から排液流路系７０を介して回収された液体を共通して貯留する排液タンク１８１、１８２とを備える。
【選択図】図２０

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液滴吐出装置、液滴吐出システム、電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、インクジェットプリンターが主に民生用のプリンターとして広く用いられている。このインクジェットプリンターのインクジェット方式（液滴吐出方式）を応用した産業用の液滴吐出装置（インクジェット描画装置）が知られている。この産業用の液滴吐出装置は、例えば液晶表示装置におけるカラーフィルタや有機ＥＬ表示装置等を製造したり、基板上に金属配線を形成したりするのに使用される。
【０００３】
このような液滴吐出装置では、液滴吐出ヘッド（インクジェットヘッド）の捨て吐出（フラッシングまたは予備吐出ともいう）という動作が行われる。この動作を行う目的は、次のようなものである。液滴吐出ヘッドは、液滴の吐出を休止してから吐出を再開するまでの時間が長くなると、液滴の吐出方向が乱れる、吐出量が多くなり過ぎる、吐出量が少なくなり過ぎる等の現象が起こり易くなり、液滴吐出動作が不安定になる傾向がある。すなわち、液滴吐出ヘッドは、液滴の吐出を開始した直後は、吐出状態が安定せずにまっすぐ飛びにくい、吐出量が安定しない等の傾向がある。このため、液滴吐出ヘッドが捨て吐出を行って吐出状態が安定した後に、基板等のワークに対するパターン形成（描画）を開始するようにしている。
【０００４】
液滴吐出装置には、液滴吐出ヘッドがこのような捨て吐出をするための所定の捨て吐出場所が設けられており、この捨て吐出場所に液滴を受ける受け皿（液受け部）が設けられている。
また、このような液滴吐出装置では、液滴吐出ヘッドの各吐出ノズルの目詰まりの有無、すなわち、各吐出ノズルから適正に液滴が吐出されるか否かを検査するドット抜け検査という動作も行われる。ドット抜け検査は、液滴吐出ヘッドを駆動して、各吐出ノズルから液滴が吐出されているかどうかを例えば光学的な方法によって検出することにより行われる。
【０００５】
従来の液滴吐出装置は、捨て吐出された液滴を受ける受け皿（液受け部）に溜まった液体を移送して廃液タンクに回収するようにしている（例えば、特許文献１参照）。
しかしながら、ドット抜け検査で吐出された液滴を受ける受け皿（液受け部）に溜まった液体は、装置のオペレーターがこれを拭き取ったり、捨てたりする作業を行わなければならず、多大な労力が掛かっていた。また、受け皿に溜まった液体は、時間が経過するとその増粘作用によって粘性が大きくなり、拭き取ったり捨てたりする作業にさらに多大な労力がかかっていた。このようなことから、製造する基板等のコスト増をもたらしていた。
【０００６】
【特許文献１】
特開２００２−２６４３６６号公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、装置のオペレーターの労力を軽減でき、製造物のコスト低減が図れる液滴吐出装置、液滴吐出システム、かかる液滴吐出装置を用いて製造される電気光学装置、かかる液滴吐出装置を用いる電気光学装置の製造方法、および、かかる電気光学装置を備える電子機器を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の液滴吐出装置は、装置本体と、ワークが載置されるワーク載置部と、前記ワーク載置部に載置されたワークに対して液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、
前記ワーク載置部と前記液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させる相対移動機構と、
前記ワーク載置部の近傍に設けられ、前記液滴吐出ヘッドが前記ワークに対し液滴を吐出する前に捨て吐出した液体を受ける第１の捨て吐出用液受け部と、
前記液滴吐出ヘッドが待機時に捨て吐出した液体を受ける第２の捨て吐出用液受け部と、
前記液滴吐出ヘッドのドット抜け検査を行う際に前記液滴吐出ヘッドから吐出した液体を受けるドット抜け検査用液受け部と、
前記第１の捨て吐出用液受け部、前記第２の捨て吐出用液受け部および前記ドット抜け検査用液受け部で受けた液体をそれぞれ回収する排液流路系と、
前記第１の捨て吐出用液受け部、前記第２の捨て吐出用液受け部および前記ドット抜け検査用液受け部から前記排液流路系を介して回収された液体を共通して貯留する排液タンクとを備えることを特徴とする。
これにより、装置のオペレーターの労力を軽減でき、製造物のコスト低減が図れる液滴吐出装置を提供することができる。
【０００９】
本発明の液滴吐出装置では、前記ワーク載置部と前記液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させつつ前記液滴吐出ヘッドから液滴を吐出することにより、前記ワークに所定のパターンを形成することが好ましい。
これにより、目的に合わせてワーク上に多彩なパターンを形成（描画）することができる。
【００１０】
本発明の液滴吐出装置では、前記相対移動機構は、前記ワーク載置部および前記第１の捨て吐出用液受け部を前記装置本体に対し水平な一方向（以下、「Ｙ軸方向」と言う）に移動させるＹ軸方向移動機構と、前記液滴吐出ヘッドを前記装置本体に対し前記Ｙ軸方向に垂直かつ水平な方向（以下、「Ｘ軸方向」と言う）に移動させるＸ軸方向移動機構とで構成されることが好ましい。
これにより、目的に合わせてワーク上に多彩なパターンを形成（描画）することができる。
【００１１】
本発明の液滴吐出装置では、前記Ｙ軸方向と前記Ｘ軸方向とのいずれか一方を主走査方向とし、他方を副走査方向として前記ワーク載置部と前記液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させつつ前記液滴吐出ヘッドから前記ワークに対し液滴を吐出することが好ましい。
これにより、目的に合わせてワーク上に多彩なパターンを形成（描画）することができる。
【００１２】
本発明の液滴吐出装置では、前記第１の捨て吐出用液受け部は、前記ワーク載置部の前記副走査方向に沿って伸びる辺の近傍に設けられていることが好ましい。
これにより、第１の捨て吐出用液受け部に対する捨て吐出を行った後、直ちに主走査に移行することができるので、ワークに対するパターンの形成（描画）を迅速に行うことができ、サイクルタイムの短縮が図れる。
【００１３】
本発明の液滴吐出装置では、前記第２の捨て吐出用液受け部は、前記Ｙ軸方向に移動可能に設けられていることが好ましい。
これにより、第２の捨て吐出用液受け部を他のユニットとともに少ないスペースに効率良く配置することができ、液滴吐出装置全体としての小型化が図れる。本発明の液滴吐出装置では、前記ドット抜け検査用液受け部は、水平方向に移動しないように設けられていることが好ましい。
これにより、液滴吐出装置の構造の簡素化が図れるとともに、ドット抜け検査を高い精度で行うことができる。
【００１４】
本発明の液滴吐出装置では、前記排液流路系は、前記第１の捨て吐出用液受け部に接続された第１のチューブと、前記ドット抜け検出用液受け部に接続された第２のチューブとを有し、前記第１のチューブは、前記第２のチューブより可撓性の高いものであることが好ましい。
これにより、第１の捨て吐出用液受け部に接続されたチューブと、ドット抜け検出用液受け部に接続されたチューブとのそれぞれの使用状況に好適な種類のチューブを選定することができ、設計の合理化が図れる。
【００１５】
本発明の液滴吐出装置は、前記排液流路系の途中に、流体を移送する移送手段をさらに備えることが好ましい。
これにより、液体の回収を迅速かつ確実に行うことができる。
本発明の液滴吐出装置では、前記排液流路系は、流路を切り替える流路切り替え手段を有し、該流路切り替え手段の流路の切り替えにより、前記第１の捨て吐出用液受け部、前記第２の捨て吐出用液受け部および前記ドット抜け検査用液受け部のうちから選択的に液体を回収することが好ましい。
これにより、液滴吐出装置の構造の簡素化が図れる。
【００１６】
本発明の液滴吐出システムは、本発明の液滴吐出装置と、
前記液滴吐出装置を収容し、その内部の温度および／または湿度が管理されるチャンバとを備えることを特徴とする。
これにより、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をより高い精度で行うことができる。
本発明の液滴吐出システムは、前記チャンバ内の温度および／または湿度を調節する空調装置をさらに備えることが好ましい。
これにより、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をより高い精度で行うことができる。
【００１７】
本発明の電気光学装置は、本発明の液滴吐出装置を用いて製造されたことを特徴とする。
これにより、高い精度でパターンが形成（描画）された高性能の部品を備えるとともに、製造コストの低い電気光学装置を提供することができる。
本発明の電気光学装置の製造方法は、本発明の液滴吐出装置を用いることを特徴とする。
これにより、ワークに対するパターンの形成（描画）を高い精度で行うことができるとともに、製造コストの低減が図れる電気光学装置の製造方法を提供することができる。
本発明の電子機器は、本発明の電気光学装置を備えることを特徴とする。
これにより、高い精度でパターンが形成（描画）された高性能の部品を備えるとともに、製造コストの低い電子機器を提供することができる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の液滴吐出装置および液滴吐出システムを添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。
図１および図２は、それぞれ、本発明の液滴吐出装置および液滴吐出システムの実施形態を示す平面図および側面図、図９は、図１および図２に示す液滴吐出装置におけるタンク収納部を示す斜視図である。なお、以下では、説明の便宜上、水平な一方向（図１および図２中の左右方向に相当する方向）を「Ｙ軸方向」と言い、このＹ軸方向に垂直であって水平な方向（図１中の上下方向に相当する方向）を「Ｘ軸方向」と言う。また、Ｙ軸方向であって図１および図２中の右方向への移動を「Ｙ軸方向に前進」、Ｙ軸方向であって図１および図２中の左方向への移動を「Ｙ軸方向に後退」と言い、Ｘ軸方向であって図１中の下方向への移動を「Ｘ軸方向に前進」、Ｘ軸方向であって図１中の上方向への移動を「Ｘ軸方向に後退」と言う。
【００１９】
図１および図２に示す液滴吐出システム（液滴吐出系）１０は、液滴吐出ヘッド１１１を有する液滴吐出装置（インクジェット描画装置）１と、この液滴吐出装置１を収容するチャンバ９１とを備えている。
液滴吐出装置１は、ワークとしての基板Ｗに対し、例えばインクや、目的とする材料を含む機能液等の液体（吐出液）をインクジェット方式（液滴吐出方式）により微小な液滴の状態で吐出して所定のパターンを形成（描画）する装置であり、例えば液晶表示装置におけるカラーフィルタや有機ＥＬ表示装置等を製造したり、基板上に金属配線を形成したりするのに用いることができる産業用の液滴吐出装置である。
【００２０】
液滴吐出装置１が対象とする基板Ｗの素材は、特に限定されず、板状の部材（ワーク）であればいかなるものでもよいが、例えば、ガラス基板、シリコン基板、フレキシブル基板等を対象とすることができる。また、本発明では、液滴吐出装置が対象とするワークは板状部材に限らずいかなるものでもよく、例えばレンズをワークとし、このレンズに液滴を吐出することにより光学薄膜等のコーティングを形成する液滴吐出装置などにも適用することができる。また、本発明は、比較的大型のワーク（例えば、長さ、幅がそれぞれ数十ｃｍ〜数ｍ程度のもの）にも対応することができる比較的大型の液滴吐出装置１に特に好ましく適用することができる。
【００２１】
この液滴吐出装置１は、装置本体２と、基板搬送テーブル（ワーク載置部）３と、複数の液滴吐出ヘッド（インクジェットヘッド）１１１を有するヘッドユニット１１と、描画前フラッシングユニット７と、液滴吐出ヘッド１１１のメンテナンスをするメンテナンス装置１２と、タンク収納部１３と、基板Ｗにガスを吹き付けるブロー装置１４と、基板搬送テーブル３の移動距離を測定するレーザー測長器１５と、制御装置１６と、排液装置１８と、ドット抜け検出ユニット１９とを備えている。
【００２２】
液滴吐出ヘッド１１１から吐出する液体としては、特に限定されず、カラーフィルタのフィルタ材料を含むインクの他、例えば以下のような各種の材料を含む液体（サスペンション、エマルション等の分散液を含む）とすることができる。・有機ＥＬ（ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示装置におけるＥＬ発光層を形成するための発光材料。・電子放出装置における電極上に蛍光体を形成するための蛍光材料。・ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｐａｎｅｌ）装置における蛍光体を形成するための蛍光材料。・電気泳動表示装置における泳動体を形成する泳動体材料。・基板Ｗの表面にバンクを形成するためのバンク材料。・各種コーティング材料。・電極を形成するための液状電極材料。・２枚の基板間に微小なセルギャップを構成するためのスペーサを構成する粒子材料。・金属配線を形成するための液状金属材料。・マイクロレンズを形成するためのレンズ材料。・レジスト材料。・光拡散体を形成するための光拡散材料。
【００２３】
図２に示すように、装置本体２は、床上に設置された架台２１と、架台２１上に設置された石定盤２２とを有している。石定盤２２の上には、基板搬送テーブル３が装置本体２に対しＹ軸方向に移動可能に設置されている。基板搬送テーブル３は、リニアモータ５１の駆動により、Ｙ軸方向に前進・後退する。この基板搬送テーブル３は、平面視で、Ｙ軸方向に沿って延びる辺とＸ軸方向に沿って延びる辺とを有するほぼ長方形の外形をなしている。基板Ｗは、基板搬送テーブル３上に載置される。
【００２４】
液滴吐出装置１では、基板搬送テーブル３と同程度の大きさの比較的大型の基板Ｗから、基板搬送テーブル３より小さい比較的小型の基板Ｗまで、様々な大きさおよび形状の基板Ｗを対象にすることができる。基板Ｗは、原則としては基板搬送テーブル３と中心を一致させるように位置決めした状態で液滴吐出動作をすることが好ましいが、比較的小型の基板Ｗの場合には、基板搬送テーブル３の端に寄せた位置に位置決めして液滴吐出動作をしてもよい。
【００２５】
図１に示すように、基板搬送テーブル３のＸ軸方向（副走査方向）に沿って延びる２つの辺の近傍には、それぞれ、液滴吐出ヘッド１１１が基板Ｗに対して液滴を吐出する前（主走査を行う前）に捨て吐出（フラッシングまたは予備吐出ともいう）した液体（液滴）を受ける（受け取る）描画前フラッシング用液受け部（第１の捨て吐出用液受け部）７１を有する描画前フラッシングユニット７が設置されている。描画前フラッシング用液受け部７１には、排液装置１８のチューブ７０１が接続されており、捨て吐出された吐出液は、このチューブ７０１を通って回収される。なお、描画前フラッシングユニット７および排液装置１８については、後に詳述する。
【００２６】
基板搬送テーブル３のＹ軸方向の移動距離は、移動距離検出手段としてのレーザー測長器１５により測定される。レーザー測長器１５は、装置本体２に設置されたレーザー測長器センサヘッド１５１、プリズム１５２およびレーザー測長器本体１５３と、基板搬送テーブル３に設置されたコーナーキューブ１５４とを有している。レーザー測長器センサヘッド１５１からＸ軸方向に沿って出射したレーザー光は、プリズム１５２で屈曲してＹ軸方向に進み、コーナーキューブ１５４に照射される。コーナーキューブ１５４での反射光は、プリズム１５２を経て、レーザー測長器センサヘッド１５１に戻る。液滴吐出装置１では、このようなレーザー測長器１５によって検出された基板搬送テーブル３の移動距離（現在位置）に基づいて、液滴吐出ヘッド１１１からの吐出タイミングが生成される。
【００２７】
また、装置本体２には、ヘッドユニット１１を支持するメインキャリッジ６１が、基板搬送テーブル３の上方空間においてＸ軸方向に移動可能に設置されている。複数の液滴吐出ヘッド１１１を有するヘッドユニット１１は、リニアモータとガイドとを備えたリニアモータアクチュエータ６２の駆動により、メインキャリッジ６１とともにＸ軸方向に前進・後退する。
【００２８】
本実施形態の液滴吐出装置１では、液滴吐出ヘッド１１１のいわゆる主走査は、基板搬送テーブル３をＹ軸方向に移動させながら、レーザー測長器１５を用いて生成した吐出タイミングに基づき、液滴吐出ヘッド１１１を駆動して液滴を選択的に吐出することにより行う。また、これに対応して、いわゆる副走査は、液滴吐出ヘッド１１１の非駆動時（非吐出時）に、ヘッドユニット１１（液滴吐出ヘッド１１１）をＸ軸方向に段階的（間欠的）移動させることにより行う。
【００２９】
また、装置本体２には、基板Ｗ上に吐出された液滴を乾燥させるブロー装置１４が設置されている。ブロー装置１４は、Ｘ軸方向に沿ってスリット状に開口するノズルを有しており、基板Ｗを基板搬送テーブル３によりＹ軸方向に搬送しつつ、このノズルより基板Ｗへ向けてガスを吹き付ける。本実施形態の液滴吐出装置１では、Ｙ軸方向に互いに離れた個所に位置する２個のブロー装置１４が設けられている。
【００３０】
メンテナンス装置１２は、架台２１および石定盤２２の側方に設置されている。このメンテナンス装置１２は、ヘッドユニット１１の待機時に液滴吐出ヘッド１１１をキャッピングするキャッピングユニット１２１と、液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面をワイピングするクリーニングユニット１２２と、液滴吐出ヘッド１１１の定期的なフラッシングを受ける定期フラッシングユニット３０と、重量測定ユニット１２５とを有している。
【００３１】
また、メンテナンス装置１２は、Ｙ軸方向に移動可能な移動台１２４を有しており、キャッピングユニット１２１、クリーニングユニット１２２、定期フラッシングユニット３０および重量測定ユニット１２５は、移動台１２４上にＹ軸方向に並んで設置されている。ヘッドユニット１１がメンテナンス装置１２の上方に移動した状態で移動台１２４がＹ軸方向に移動することにより、キャッピングユニット１２１、クリーニングユニット１２２、定期フラッシングユニット３０および重量測定ユニット１２５のいずれかが液滴吐出ヘッド１１１の下方に位置し得るようになっている。ヘッドユニット１１は、待機時（例えば、基板Ｗの給材・除材中など）にはメンテナンス装置１２の上方に移動し、キャッピング、クリーニング（ワイピング）および定期フラッシングを所定の順番で行う。
【００３２】
本実施形態では、キャッピングユニット１２１、クリーニングユニット１２２、定期フラッシングユニット３０および重量測定ユニット１２５がＹ軸方向に移動可能に設けられていることにより、これらを極力少ないスペースに効率良く配置することができ、液滴吐出装置１の小型化（省スペース化）が図れる。
キャッピングユニット１２１は、複数の液滴吐出ヘッド１１１のそれぞれに対応するように配置された複数のキャップとこれらキャップを昇降させる昇降機構とを有している。各キャップには、吸引チューブ（図示せず）が接続されており、キャッピングユニット１２１は、各キャップで各液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面を覆うとともに、ノズル形成面に形成されたノズルから吐出液を吸引することができる。このようなキャッピングを行うことにより、液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面が乾燥するのを防止したり、ノズル詰まりを回復（解消）したりすることができる。
【００３３】
キャッピングユニット１２１によるキャッピングは、ヘッドユニット１１の待機時や、ヘッドユニット１１に吐出液を初期充填する際、吐出液を異種のものに交換する場合にヘッドユニット１１から吐出液を排出する際、洗浄液によって流路を洗浄する際などに行われる。
キャッピングユニット１２１によるキャッピング中に液滴吐出ヘッド１１１から排出された吐出液は、前記吸引チューブを通り、後述するキャッピング排液装置１７により回収され、再利用に供される。ただし、流路の洗浄時に回収した洗浄液は再利用しない。
クリーニングユニット１２２は、洗浄液（例えば、吐出液を溶解可能な溶剤など）を含ませたワイピングシートをローラーにより走行させ、このワイピングシートにより液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面を拭き取り、清掃するよう作動するものである。
【００３４】
定期フラッシングユニット３０は、定期フラッシング用液受け部（第２の捨て吐出用液受け部）３０１を有している。定期フラッシングユニット３０は、ヘッドユニット１１の待機時の液滴吐出ヘッド１１１が捨て吐出した液体（液滴）を定期フラッシング用液受け部３０１で受けるものである。定期フラッシング用液受け部３０１には、排液装置１８のチューブ７０２が接続されており、捨て吐出された吐出液は、このチューブ７０２を通って回収される。
【００３５】
重量測定ユニット１２５は、基板Ｗに対する液滴吐出動作の準備段階として、液滴吐出ヘッド１１１からの１回の液滴吐出量（重量）を測定するのに利用するものである。すなわち、基板Ｗに対する液滴吐出動作前、ヘッドユニット１１は、重量測定ユニット１２５の上方に移動し、各液滴吐出ヘッド１１１の全吐出ノズルから１回または複数回液滴を重量測定ユニット１２５に対し吐出する。重量測定ユニット１２５は、吐出された液滴を受ける液受けと、電子天秤等の重量計とを備えており、吐出された液滴の重量を計測する。または、液受けを取り外して装置外部の重量計で計測してもよい。後述する制御装置１６は、その重量計測結果に基づいて、吐出ノズルにおける１回の吐出液滴の量（重量）を算出し、その算出値が予め定められた設計値に等しくなるように、液滴吐出ヘッド１１１を駆動するヘッドドライバの印加電圧を補正する。
【００３６】
ドット抜け検出ユニット１９は、石定盤２２上における基板搬送テーブル３の移動領域と重ならない場所であって、ヘッドユニット１１の移動領域の下方に位置する場所に固定的に設置されている。ドット抜け検出ユニット１９は、液滴吐出ヘッド１１１の吐出ノズルの目詰まりが原因となって生じるドット抜けの有無を検査（検出）するドット抜け検査（吐出確認検査）を行うものである。ドット抜け検出ユニット１９は、例えばレーザー光を投光・受光する投光部および受光部と、ドット抜け検査用液受け部１９１とを備えている。
【００３７】
ドット抜け検査を行う際には、ヘッドユニット１１がドット抜け検出ユニット１９の上方空間をＸ軸方向に移動しつつ、各液滴吐出ヘッド１１１の各吐出ノズルから液滴を吐出する。ドット抜け検出ユニット１９は、この吐出された液滴に対し投光・受光を行って、目詰まりしている吐出ノズルの有無および個所を光学的に検出する。このドット抜け検査の際に液滴吐出ヘッド１１１から吐出された液体（液滴）は、ドット抜け検査用液受け部１９１で受けられる。
【００３８】
ドット抜け検査用液受け部１９１には、排液装置１８のチューブ７０３が接続されており、捨て吐出された吐出液は、このチューブ７０３を通って回収される。
なお、ドット抜け検査は、具体的には例えば特開２００２−１９２７４０号公報に記載された方法によって行うことができるが、これに限定されず、いかなる方法で行われるものでもよい。
【００３９】
装置本体２およびメンテナンス装置１２の近傍には、ラック（棚）１３１を有するタンク収納部１３が設置されている。図９に示すように、タンク収納部１３のラック１３１には、液滴吐出ヘッド１１１から吐出する吐出液を貯留する第１の一次タンク４０１および第２の一次タンク４０２と、クリーニングユニット１２２に供給する洗浄液を貯留する第１の洗浄液タンク５０１および第２の洗浄液タンク５０２と、キャッピングユニット１２１から回収された排液を貯留する第１の再利用タンク１７１および第２の再利用タンク１７２と、描画前フラッシングユニット７、定期フラッシングユニット３０およびドット抜け検出ユニット１９において液滴吐出ヘッド１１１より捨て吐出された排液を貯留する第１の排液タンク１８１および第２の排液タンク１８２（図９中では図示を省略）とがそれぞれ設置（収納）されている。
【００４０】
第１の一次タンク４０１、第２の一次タンク４０２は、それぞれ、空になったときに吐出液を補充したり、満杯になっているタンクに交換したりすることができるようになっている。なお、第１の一次タンク４０１および第２の一次タンク４０２は、交換（着脱）と、吐出液の補充との少なくとも一方が行えるようになっていればよい。
同様に、第１の洗浄液タンク５０１、第２の洗浄液タンク５０２も、それぞれ、交換または洗浄液の補充を行うことができるようになっている。また、第１の再利用タンク１７１、第２の再利用タンク１７２、第１の排液タンク１８１および第２の排液タンク１８２は、それぞれ、満杯になったときに空のタンクへの交換または排液の抜き取りを行うことができるようになっている。
【００４１】
制御装置（制御手段）１６は、液滴吐出装置１の各部の作動を制御するものであり、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）と、液滴吐出装置１の制御動作を実行するためのプログラム等の各種プログラムおよび各種データを記憶（格納）する記憶部とを有している。図示の構成では、制御装置１６は、後述するチャンバ９１の外部に設置されている。
【００４２】
このような液滴吐出装置１（制御装置１６を除く）は、タンク収納部１３を含めて、好ましくは、内部の温度および湿度が管理されるチャンバ９１に収容（収納）されている。すなわち、液滴吐出装置１は、温度および湿度が管理された環境下で稼動する。これにより、基板Ｗ上に吐出液滴によるパターンを形成（描画）するに当たり、液滴吐出装置１の各部や基板Ｗが温度変化によって熱膨張・熱収縮することによる誤差を生じるのを防止することができるので、高い精度でパターンの形成（描画）を行うことができる。
【００４３】
また、第１の一次タンク４０１および第２の一次タンク４０２に貯留された吐出液の温度が管理（調節）される結果、吐出液の粘度等の特性が安定することから、液滴吐出ヘッド１１１からの液滴吐出状態が安定するので、さらに高い精度でパターンの形成（描画）を行うことができる。また、チャンバ９１内へのチリ、ホコリ等の侵入を防止することもでき、基板Ｗを清浄に維持した状態でパターンの形成（描画）を行うことができる。
【００４４】
チャンバ９１は、主室（第１の部屋）９１３と、副室（第２の部屋）９１６とを有している。主室９１３と副室９１６とは、隔壁９１４および９１５により隔てられている。主室９１３内には、液滴吐出装置１が収容されており、副室９１６内には、タンク収納部１３が収容されている。すなわち、第１の一次タンク４０１および第２の一次タンク４０２は、チャンバ９１内において液滴吐出装置１と別個の部屋である副室９１６に収容されている。
【００４５】
副室９１６には、チャンバ９１の外部に対する開閉扉（開閉部）９１８が設けられている（図１参照）。なお、副室９１６の開閉部は、開閉扉９１８のような開き戸に限らず、引き戸、シャッターなどでもよい。また、隔壁９１４には、主室９１３と副室９１６とを連通する連通部（開口）９１７が形成されている。また、副室９１６には、副室９１６内の気体を排出する排気口が形成され、この排気口には、外部へ延びる排気ダクト９４が接続されている。
【００４６】
このようなチャンバ９１を備えるチャンバ装置９は、さらに、チャンバ９１内の温度および湿度を調節（管理）する空調装置９２を備えている。空調装置９２は、公知のエアーコンディショナー装置を内蔵しており、温度および湿度を調節した空気（気体）を導入ダクト９３を通してチャンバ９１の天井裏９１１に送り込む。天井裏９１１に送り込まれた空気は、フィルタ９１２を透過して、チャンバ９１の主室９１３に導入される。主室９１３内に導入された空気は、連通部９１７を通って副室９１６に流入し、副室９１６内を経由して排気ダクト９４（排気口）により外部へと排出される。
【００４７】
このような構成により、空調装置９２によって温度および湿度が調節された空気が主室９１３および副室９１６の隅々まで確実に流入するので、簡単な構造で、液滴吐出装置１の周囲と、第１の一次タンク４０１および第２の一次タンク４０２の周囲との双方の温度および湿度を管理することができる。また、吐出液から発生する有害ガスをチャンバ９１の外部に排出することができ、安全性が高い。
【００４８】
本実施形態では、第１の一次タンク４０１、第２の一次タンク４０２の交換や吐出液の補充を行う際には、開閉扉９１８を開くことにより、主室９１３を外部に開放することなく、これを行うことができる。これにより、一次タンクの交換時や吐出液の補充時に、液滴吐出装置１の周囲（環境）の管理された温度および湿度を乱すことがないので、一次タンクの交換や吐出液の補充を行った直後でも、高い精度でパターンの形成（描画）を行うことができる。また、一次タンクの交換や吐出液の補充を行った後、主室９１３内の温度や液滴吐出装置１の各部の温度が管理された値に戻るのを待たずに済むので、スループット（生産能率）の向上が図れる。このようなことから、基板Ｗ等のワークを高い精度で量産するのに極めて有利であり、製造コストの低減が図れる。
【００４９】
また、本実施形態では、洗浄液タンクの交換、洗浄液の補充、再利用タンクおよび排液タンクの交換または液体の抜き取り等の作業を行う場合でも、同様に、液滴吐出装置１の周囲（環境）の管理された温度および湿度を乱すことがないので、その作業の直後から高い精度でパターンの形成（描画）を行うことができ、スループット（生産能率）のさらなる向上が図れる。
【００５０】
なお、排気ダクト９４には、好ましくは流速センサ（図示せず）が設置されている。制御装置１６は、この流速センサの検出結果に基づいて、常時、必要排気量が確保されているか監視しており、異常があった場合には、警報音、音声、操作パネル（図示せず）への表示などの方法により、その旨をオペレータに報知する。
【００５１】
また、チャンバ９１内には、空気以外のガス（例えば窒素、二酸化炭素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、ラドン等の不活性ガスなど）を温度および湿度を調節して供給・充填し、このガスの雰囲気中で液滴吐出装置１を稼動することとしてもよい。
また、副室９１６に設けられた外部に対する開閉部は、戸が二重または三重以上になっていて、それらの戸と戸の間に別個の部屋（空間）が形成されるようなものでもよい。
また、チャンバ９１は、その内部の温度、湿度のいずれか一方が管理（調節）されるものであればよい。
また、本実施形態では、一次タンクを２個備えているが、一次タンクは、１個でも３個以上でもよい（他のタンクについても同様）。
【００５２】
図３は、図１および図２に示す液滴吐出装置における架台、石定盤および基板搬送テーブルを示す平面図、図４は、図１および図２に示す液滴吐出装置における架台、石定盤および基板搬送テーブルを示す側面図である。なお、図３および図４中では、描画前フラッシングユニット７の図示を省略する。
図３および図４に示すように、石定盤２２の上には、基板搬送テーブル３と、基板搬送テーブル３をＹ軸方向に移動させるＹ軸方向移動機構５とが設置されている。図３に示すように、基板搬送テーブル３には、載置された基板Ｗを吸着して固定するための複数の吸引口（吸引部）３３２が形成されている。
【００５３】
図４に示すように、Ｙ軸方向移動機構５は、リニアモータ５１と、エアスライダ５２とを有している。エアスライダ５２は、石定盤２２上でＹ軸方向に沿って延在するスライドガイド５２１と、このスライドガイド５２１に沿って移動するスライドブロック５２２とを有している。スライドブロック５２２は、スライドガイド５２１との間に空気を吹き出す吹き出し口を有しており、この吹き出し口から吹き出す空気をスライドガイド５２１との間に介在させることにより、円滑に移動可能になっている。
【００５４】
スライドブロック５２２上には、基板搬送テーブル３および描画前フラッシングユニット７（描画前フラッシング用液受け部７１）を支持する支持体（ベース）１０８が固定されている。この支持体１０８の上に、基板搬送テーブル３がθ軸回転機構６０を介して固定されている。このようにして、基板搬送テーブル３は、エアスライダ５２によってＹ軸方向に円滑に移動可能に支持され、リニアモータ５１の駆動によりＹ軸方向に移動するようになっている。また、基板搬送テーブル３は、θ軸回転機構６０により、基板搬送テーブル３の中心を通る鉛直方向の軸（以下、「θ軸」という）を回転中心として所定範囲で回転（回動）可能になっている。
【００５５】
Ｙ軸方向移動機構５の上方には、例えばステンレス鋼等の金属材料で構成された一対の帯状の薄板１０１がＹ軸方向移動機構５を上側から覆うように張り渡されている。薄板１０１は、支持体１０８の上面に形成された凹部（溝）内を通って支持体１０８とθ軸回転機構６０との間を挿通している。この薄板１０１が設けられていることにより、液滴吐出ヘッド１１１から吐出された吐出液がＹ軸方向移動機構５に付着するのを防止することができ、Ｙ軸方向移動機構５を保護することができる。
【００５６】
石定盤２２は、無垢の石材（例えば、ベルファストブラック、ラステンバーグ、クルヌール、インディアンブラック等）で構成され、その上面は、高い平面度を有している。この石定盤２２は、環境温度変化に対する安定性、振動に対する減衰性、経年変化（劣化）に対する安定性、吐出液に対する耐食性等の各種の特性に優れている。本実施形態では、このような石定盤２２によってＹ軸方向移動機構５および後述するＸ軸方向移動機構６を支持したことにより、環境温度変化、振動、経年変化（劣化）等の影響による誤差が少なく、基板搬送テーブル３とヘッドユニット１１（液滴吐出ヘッド１１１）との相対的な移動に高い精度が得られるとともに、その高い精度を常に安定して維持することができる。その結果、吐出液滴によるパターンの形成（描画）を高い精度で、かつ常に安定して行うことができる。
【００５７】
このような石定盤２２は、架台２１に支持されている。架台２１は、アングル材等を方形に組んで構成された枠体２１１と、枠体２１１の下部に分散配置された複数の支持脚２１２とを有している。架台２１は、好ましくは空気バネまたはゴムブッシュ等による防振構造を有しており、床からの振動を石定盤２２に極力伝達しないように構成されている。
【００５８】
図５は、図１および図２に示す液滴吐出装置におけるヘッドユニットおよびＸ軸方向移動機構を示す平面図、図６は、図５中の矢印Ａ方向から見た側面図、図７は、図５中の矢印Ｂ方向から見た正面図である。
図６および図７に示すように、石定盤２２の上には、４本の支柱２３と、これらの支柱２３に支持されたＸ軸方向に沿って延びる互いに平行な２本の桁（梁）２４および２５とが設置されている。基板搬送テーブル３は、桁２４および２５の下を通過可能になっている。
【００５９】
液滴吐出ヘッド１１１（ヘッドユニット１１）をＸ軸方向に移動させるＸ軸方向移動機構６は、桁２４および２５を介して、４本の支柱２３に支持されている。図５に示すように、Ｘ軸方向移動機構６は、ヘッドユニット１１を支持するメインキャリッジ６１と、桁２４上に設置され、メインキャリッジ６１をＸ軸方向に案内するとともに駆動するリニアモータアクチュエータ６２と、桁２５上に設置され、メインキャリッジ６１をＸ軸方向に案内するガイド６３とを有している。メインキャリッジ６１は、リニアモータアクチュエータ６２とガイド６３との間に架け渡されるようにして設置されている。
なお、本実施形態では、Ｙ軸方向移動機構５と、Ｘ軸方向移動機構６とで、基板搬送テーブル３と液滴吐出ヘッド１１１（ヘッドユニット１１）とを相対的に移動させる相対移動機構が構成される。
【００６０】
ヘッドユニット１１は、メインキャリッジ６１に対し着脱可能に支持されている。ヘッドユニット１１がメインキャリッジ６１とともにＸ軸方向に移動することにより、液滴吐出ヘッド１１１の副走査が行われる。また、ヘッドユニット１１は、メインキャリッジ６１に対するヘッドユニット１１の高さを調整する高さ調整機構２０を介してメインキャリッジ６１に支持されている。これにより、基板Ｗの厚さに合わせて、液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面と基板Ｗとの隙間を調整することができる。
【００６１】
リニアモータアクチュエータ６２とガイド６３との間には、さらに、カメラキャリッジ１０６が架け渡されるようにして設置されている。カメラキャリッジ１０６は、リニアモータアクチュエータ６２およびガイド６３をメインキャリッジ６１と共用するとともに、メインキャリッジ６１と独立してＸ軸方向に移動する。
カメラキャリッジ１０６には、基板Ｗの所定の個所に設けられたアライメントマークを画像認識するための認識カメラ１０７が設置されている。認識カメラ１０７は、カメラキャリッジ１０６から下方に吊り下げられた状態で支持されている。なお、認識カメラ１０７は、他の用途に用いてもよい。
【００６２】
図８は、図１および図２に示す液滴吐出装置におけるヘッドユニットの構成および液滴吐出動作を模式的に示す平面図である。図８に示すように、液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面には、液滴が吐出される多数の吐出ノズル（開口）が一列または二列以上に並んで形成されている。液滴吐出ヘッド１１１は、電圧の印加により変位（変形）する圧電素子を有し、この圧電素子の変位（変形）を利用して、吐出ノズルに連通するように形成された圧力室（液室）内の圧力を変化させることよって液滴を吐出ノズルから吐出するように構成されたものである。なお、液滴吐出ヘッド１１１は、このような構成に限らず、例えば、吐出液をヒータで加熱して沸騰させ、その圧力によって液滴を吐出ノズルから吐出するように構成されたものなどでもよい。
【００６３】
ヘッドユニット１１には、この液滴吐出ヘッド１１１が複数個（以下の説明では１２個として説明する）設置されている。これらの液滴吐出ヘッド１１１は、６個ずつ二列に副走査方向（Ｘ軸方向）に並ぶとともに、ノズル列が副走査方向に対し所定角度傾斜するような姿勢で配置されている。
なお、このような配列パターンは一例であり、例えば、各ヘッド列における隣接する液滴吐出ヘッド１１１同士を９０°の角度を持って配置（隣接ヘッド同士が「ハ」字状）したり、各ヘッド列間における液滴吐出ヘッド１１１を９０°の角度を持って配置（列間ヘッド同士が「ハ」字状）したりしてもよい。いずれにしても、複数個の液滴吐出ヘッド１１１の全吐出ノズルによるドットが副走査方向において連続していればよい。
さらに、液滴吐出ヘッド１１１は、副走査方向に対し傾斜した姿勢で設置されていなくてもよく、また、複数個の液滴吐出ヘッド１１１が千鳥状、階段状に配設されていてもよい。また、メインキャリッジ６１に複数のヘッドユニット１１が支持されていてもよい。
【００６４】
ここで、制御装置１６の制御による液滴吐出装置１の全体の作動について簡単に説明する。液滴吐出装置１が備える基板位置決め装置（説明省略）の作動により基板搬送テーブル３上に載置（給材）された基板Ｗが所定の位置に位置決め（プリアライメント）されると、基板搬送テーブル３の各吸引口３３２からのエアー吸引により、基板Ｗは、基板搬送テーブル３に吸着・固定される。次いで、基板搬送テーブル３およびカメラキャリッジ１０６がそれぞれ移動することにより、認識カメラ１０７が基板Ｗの所定の個所（１箇所または複数箇所）に設けられたアライメントマークの上方に移動し、このアライメントマークを認識する。この認識結果に基づいて、θ軸回転機構６０が作動して基板Ｗのθ軸回りの角度が補正されるとともに、基板ＷのＸ軸方向およびＹ軸方向の位置補正がデータ上で行われる（本アライメント）。
以上のような基板Ｗのアライメント作業が完了すると、液滴吐出装置１は、基板Ｗ上に所定のパターンを形成（描画）する動作を開始する。この動作は、液滴吐出ヘッド１１１（ヘッドユニット１１）を基板Ｗに対し主走査および副走査することにより行われる。
【００６５】
本実施形態の液滴吐出装置１では、主走査は、ヘッドユニット１１を装置本体２に対し停止した（移動しない）状態で、基板搬送テーブル３の移動により基板ＷをＹ軸方向に移動させながら、基板Ｗに対し各液滴吐出ヘッド１１１から液滴を吐出することにより行う。すなわち、本実施形態では、Ｙ軸方向が主走査方向となる。
【００６６】
この主走査は、基板搬送テーブル３の前進（往動）中に行っても、後退（復動）中に行っても、前進および後退の両方（往復）で行ってもよい。また、基板搬送テーブル３を複数回往復させて、複数回繰り返し行ってもよい。このような主走査により、基板Ｗ上の、所定の幅（ヘッドユニット１１により吐出可能な幅）で主走査方向に沿って延びる領域に、液滴の吐出が終了する。
【００６７】
このような主走査の後、副走査を行う。副走査は、液滴の非吐出時に、メインキャリッジ６１の移動により、ヘッドユニット１１を前記所定の幅の分だけＸ軸方向に移動させることにより行う。すなわち、本実施形態では、Ｘ軸方向が副走査方向となる。
このような副走査の後、前記と同様の主走査を行う。これにより、前回の主走査で液滴が吐出された領域に隣接する領域に対し、液滴が吐出される。
このようにして、主走査と副走査とを交互に繰り返し行うことにより、基板Ｗの全領域に対して液滴が吐出され、基板Ｗ上に、吐出された液滴（液体）による所定のパターンを形成（描画）することができる。
【００６８】
なお、本発明では、主走査方向と副走査方向とは、上述したのと逆になっていてもよい。すなわち、基板Ｗ（基板搬送テーブル３）を停止させた状態で液滴吐出ヘッド１１１（ヘッドユニット１１）をＸ軸方向に移動させながら基板Ｗに対して液滴を吐出することによって主走査を行い、液滴の非吐出時に基板Ｗ（基板搬送テーブル３）をＹ軸方向に移動させることによって副走査を行うように構成されていてもよい。
【００６９】
図１０は、図１および図２に示す液滴吐出装置における給液装置および排液装置を模式的に示す配管系統図、図１１は、液量検出手段の構成を模式的に示す図である。以下、これらの図、図６および図９に基づいて、液滴吐出装置１における吐出液供給装置４、洗浄液供給装置５０およびキャッピング排液装置１７について説明する。
【００７０】
まず、各液滴吐出ヘッド１１１から吐出する吐出液を供給する吐出液供給装置（給液装置）４について説明する。図１０に示すように、吐出液供給装置４は、吐出液を貯留する一次タンク系４０と、この一次タンク系４０と後述する二次タンク４１２とを接続する１本の一次流路４１１とを有している。
本実施形態では、一次タンク系４０は、吐出液を貯留する第１の一次タンク（吐出液タンク）４０１および第２の一次タンク（吐出液タンク）４０２と、第１の一次タンク４０１に接続された流出配管（流出流路）４０３と、第２の一次タンク４０２に接続された流出配管（流出流路）４０４と、三方弁（流路切り替え手段）４０５とを有している。なお、一次タンク系４０は、図示の構成に限らず、一次タンクの個数が１個のみのものでも、３個以上のものでもよい。
【００７１】
三方弁４０５には、一次流路４１１と、流出配管４０３および４０４とがそれぞれ接続されている。三方弁４０５は、一次流路４１１と流出配管４０３とを接続する状態と、一次流路４１１と流出配管４０４とを接続する状態とを切り替え可能になっている。これにより、第１の一次タンク４０１または第２の一次タンク４０２から選択的に吐出液を一次流路４１１に供給することができる。三方弁４０５は、アクチュエータ（図示せず）により、自動で切り替わるようになっている。
第１の一次タンク４０１、第２の一次タンク４０２の個々の容量は、特に限定されないが、交換作業の容易化と、吐出液供給装置４全体としての容量確保との両立を考慮する観点から、１〜１０リットル程度であるのが好ましく、３〜５リットル程度であるのがより好ましい。
【００７２】
また、吐出液供給装置４は、第１の一次タンク４０１および第２の一次タンク４０２内に加圧気体を供給する加圧手段４０６と、第１の一次タンク４０１に接続された加圧配管（加圧経路）４０７と、第２の一次タンク４０２に接続された加圧配管（加圧経路）４０８と、三方弁（加圧経路切り替え手段）４０９とをさらに有している。
【００７３】
加圧手段４０６としては、例えば、加圧された窒素ガス等の気体を供給する加圧気体供給源が使用される。三方弁４０９には、加圧手段４０６からの配管（経路）４１０と、加圧配管４０７および４０８とがそれぞれ接続されている。三方弁４０９は、配管４１０と加圧配管４０７とを接続する状態と、配管４１０と加圧配管４０８とを接続する状態とを切り替え可能になっている。これにより、第１の一次タンク４０１または第２の一次タンク４０２の内部を加圧手段４０６により選択的に加圧することができる。三方弁４０９は、アクチュエータ（図示せず）により、自動で切り替わるようになっている。
【００７４】
図６に示すように、二次タンク４１２は、メインキャリッジ６１に対し固定的に設置されている。すなわち、二次タンク４１２は、メインキャリッジ６１とともにＸ軸方向移動する。二次タンク４１２には、三方弁４０５から延びる一次流路４１１の他端が接続されており、一次タンク系４０の吐出液は、一次流路４１１を通って二次タンク４１２内に流入する。
【００７５】
一次流路４１１は、好ましくは可撓性を有するチューブで構成されている。この一次流路４１１の途中には、メインキャリッジ６１とともに移動する二次タンク４１２の移動に合わせて一次流路４１１の二次タンク４１２側の部分が移動可能となるように一次流路４１１を中継する中継部４１３が設けられている。
二次タンク４１２とヘッドユニット１１との間は、ヘッドユニット１１が備える１２個の液滴吐出ヘッド１１１の各々に対応する１２本の二次流路４１４によって接続されている。すなわち、ヘッドユニット１１には、各液滴吐出ヘッド１１１に対応する１２個の流入口（接続口）１１２が設けられており、二次タンク４１２から延びる１２本の二次流路４１４の他端は、それぞれ、各流入口１１２に接続されている。なお、図６中では、見易くするため、１２本の二次流路４１４のうちの２本のみを図示する。図示の構成では、二次流路４１４は、可撓性を有するチューブで構成されているが、これに限らず、硬質な管体で構成されていてもよい。
【００７６】
二次タンク４１２内は、図示しない圧力制御ユニット（負圧制御ユニット）によって、圧力が制御され、負圧になっている。二次タンク４１２内で圧力制御された吐出液は、各二次流路４１４を通って各液滴吐出ヘッド１１１に供給される。これにより、各液滴吐出ヘッド１１１に供給される吐出液の圧力が制御され、各液滴吐出ヘッド１１１の各吐出ノズルにおいて良好な液滴吐出状態が得られる。
【００７７】
各二次流路４１４の途中には、流路を遮断可能な遮断弁４１５が設けられている。遮断弁４１５は、前記圧力制御ユニットが何らかの原因で機能しない場合、二次流路４１４の流路を遮断し、二次タンク４１２より低い位置にある液滴吐出ヘッド１１１に二次タンク４１２から吐出液が流れ続けて液滴吐出ヘッド１１１から漏出するのを防止する。
【００７８】
図１１（ａ）に示すように、吐出液供給装置４は、第１の一次タンク４０１の内部の液量を検出する液量検出手段４１６をさらに有している。液量検出手段４１６は、第１の一次タンク４０１の外部において鉛直方向に沿って設けられ、その内腔が第１の一次タンク４０１内に連通した光透過性を有するチューブ４１７と、第１の一次タンク４０１の底部付近においてチューブ４１７を挟んで対向するように設置された投光部４１８および受光部４１９とで構成されている。この液量検出手段４１６は、受光部４１９での受光光量の変化により、第１の一次タンク４０１内の液量が減少して所定の下限レベルＥ（空の状態）になったとき、これを検出することができる。液量検出手段４１６の検出結果は、制御装置１６に入力される。
【００７９】
また、吐出液供給装置４は、第２の一次タンク４０２の内部の液量を検出する同様の液量検出手段４２０を有している。液量検出手段４２０は、第２の一次タンク４０２内の液量が減少して所定の下限レベルＥになったとき、これを検出し、その検出結果を制御装置１６に入力する。
このような吐出液供給装置４は、図１０に示す状態では、加圧手段４０６により第１の一次タンク４０１内が加圧され、この圧力により第１の一次タンク４０１内の吐出液は、流出配管４０３および一次流路４１１内を通って送出され、液滴吐出ヘッド１１１に供給される。
【００８０】
そして、第１の一次タンク４０１内の吐出液が消費されていき、液量検出手段４１６が第１の一次タンク４０１が空になったのを検出すると、制御装置１６は、その検出結果に基づいて、三方弁４０５および三方弁４０９をそれぞれ切り替える。これにより、加圧手段４０６が第２の一次タンク４０２内を加圧するとともに、この圧力により第２の一次タンク４０２内の吐出液が、流出配管４０４および一次流路４１１内を通って送出され、液滴吐出ヘッド１１１に供給される状態に切り替わる。
【００８１】
第２の一次タンク４０２から吐出液が供給されている間に、作業者は、空になった第１の一次タンク４０１をラック１３１から取り外し、吐出液を再充填した後、ラック１３１に戻す。その後、液量検出手段４２０が第２の一次タンク４０２が空になったのを検出すると、制御装置１６は、三方弁４０５および三方弁４０９をそれぞれ切り替え、第１の一次タンク４０１から吐出液を供給する状態に切り替える。そして、第１の一次タンク４０１から吐出液が供給されている間に、作業者は、空になった第２の一次タンク４０２をラック１３１から取り外して吐出液を再充填する。
【００８２】
制御装置１６は、第１の一次タンク４０１が空になったとき、および、第２の一次タンク４０２が空になったときには、それぞれ、その旨を報知し、タンクの交換（吐出液の補充）を作業者に促すのが好ましい。この報知の方法としては、操作パネル（図示せず）に文字または図形などを表示したり、音または音声を出したりする方法が挙げられる。また、第１の一次タンク４０１が空になったときと、第２の一次タンク４０２が空になったときとで、報知のための文字、図形、音または音声等を異ならせ、いずれの一次タンクが空になったのかが分かるようにするのが好ましい。
【００８３】
次に、液滴吐出ヘッド１１１のクリーニングを行うクリーニングユニット（クリーニング装置）１２２で用いる洗浄液を供給する洗浄液供給装置（給液装置）５０について説明するが、前記吐出液供給装置４と同様の事項については説明を省略する。図１０に示すように、洗浄液供給装置５０は、ラック１３１に着脱可能に設置された、洗浄液を貯留する第１の洗浄液タンク５０１および第２の洗浄液タンク５０２と、第１の洗浄液タンク５０１に接続された流出配管（流出流路）５０３と、第２の洗浄液タンク５０２に接続された流出配管（流出流路）５０４と、流出配管５０３および５０４とクリーニングユニット１２２への給液配管（給液流路）５１１とがそれぞれ接続された三方弁（流路切り替え手段）５０５と、第１の洗浄液タンク５０１および第２の一次タンク５０２内に加圧気体を供給する加圧手段５０６と、第１の洗浄液タンク５０１に接続された加圧配管（加圧経路）５０７と、第２の洗浄液タンク５０２に接続された加圧配管（加圧経路）５０８と、加圧配管５０７および５０８と加圧手段５０６からの配管（経路）５１０とがそれぞれ接続された三方弁（加圧経路切り替え手段）５０９と、第１の洗浄液タンク５０１および第２の洗浄液タンク５０２の残液量を検出する液量検出手段（図示せず）とを有している。
【００８４】
加圧手段５０６としては、例えば、加圧された窒素ガス等の気体を供給する加圧気体供給源が使用される。また、加圧手段４０６と加圧手段５０６とを別個に設けず、共用してもよい。給液流路５１１からクリーニングユニット１２２へ供給された洗浄液は、クリーニングユニット１２２に設置されたノズルより噴射され、液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面を拭き取るワイピングシートに含浸する。
このような洗浄液供給装置５０は、吐出液供給装置４と同様に、三方弁５０５および５０９の切り替えにより、第１の洗浄液タンク５０１、第２の洗浄液タンク５０２の２つを切り替えながら使用する。
【００８５】
次に、液滴吐出ヘッド１１１をキャッピングするキャッピングユニット（キャッピング装置）１２１からの排液（吐出液）を回収するキャッピング排液装置１７について説明するが、前記吐出液供給装置４と同様の事項については説明を省略する。図１０に示すように、キャッピング排液装置１７は、ラック１３１に着脱可能に設置された、キャッピングユニット１２１から回収した排液を貯留する第１の排液タンク１７１および第２の排液タンク１７２と、第１の排液タンク１７１に接続された流入配管（流入流路）１７３と、第２の排液タンク１７２に接続された流入配管（流入流路）１７４と、三方弁（流路切り替え手段）１７５とを有している。三方弁１７５には、キャッピングユニット１２１からの排液配管（排液流路）１７６と、流入配管１７３および１７４とがそれぞれ接続されている。三方弁１７５は、排液配管１７６と流入配管１７３とを接続する状態と、排液配管１７６と流入配管１７４とを接続する状態とを切り替え可能になっている。これにより、キャッピングユニット１２１からの排液を第１の排液タンク１７１または第２の排液タンク１７２内に選択的に導入することができる。三方弁１７５は、アクチュエータ（図示せず）により、自動で切り替わるようになっている。
【００８６】
図１１（ｂ）に示すように、キャッピング排液装置１７は、第１の排液タンク１７１の内部の液量を検出する液量検出手段１７７ａをさらに有している。液量検出手段１７７ａは、第１の排液タンク１７１の外部において鉛直方向に沿って設けられ、その内腔が第１の排液タンク１７１内に連通した光透過性を有するチューブ１７８と、第１の排液タンク１７１の頂部付近においてチューブ１７８を挟んで対向するように設置された投光部１７９および受光部１７０とで構成されている。この液量検出手段１７７ａは、受光部１７０での受光光量の変化により、第１の排液タンク１７１内の液量が増大して所定の上限レベルＦ（満杯の状態）になったとき、これを検出することができる。液量検出手段１７７ａの検出結果は、制御装置１６に入力される。また、キャッピング排液装置１７は、第２の排液タンク１７２の内部の液量を検出する前記液量検出手段１７７ａと同様の液量検出手段１７７ｂをさらに有している。
【００８７】
このようなキャッピング排液装置１７では、図１０に示す状態では、キャッピングユニット１２１からの排液は、図示しない吸引ポンプに吸引され、第１の排液タンク１７１内に導入される。そして、第１の排液タンク１７１内の排液が蓄積していき、液量検出手段１７７ａが第１の排液タンク１７１が満杯になったのを検出すると、制御装置１６は、その検出結果に基づいて、三方弁１７５を切り替え、排液が第２の排液タンク１７２内に導入される状態に切り替える。
【００８８】
制御装置１６は、第１の排液タンク１７１が満杯になったとき、および、第２の排液タンク１７２が満杯になったときには、それぞれ、その旨を例えば前記と同様の方法で報知し、タンクの交換（排液の回収）を作業者に促すのが好ましい。キャッピング排液装置１７により回収された排液は、比較的清浄な状態の吐出液であるので、再利用に供される。
【００８９】
図１２および図１３は、それぞれ、図３中の矢印Ｄで示す部分を拡大して示す一部切欠き側面図である。以下、これらの図に基づいて、基板搬送テーブル３の構成について詳細に説明する。
これらの図に示すように、基板搬送テーブル３は、基台３６と、基台３６上に設置された複数のブロック３３と、基台３６上に設置された複数のボールリフト装置３４とを有している。基台３６は、第１の板３１と、第１の板３１の下面側に重ねて接合された第２の板３２とで構成されている。
複数のブロック３３は、基台３６上で、互いに間隔を空けて行列状に並んで配置されている。これらのブロック３３の上面は、基板Ｗが載置される（基板Ｗが当接する）載置面（当接面）３３１を構成する。
【００９０】
各ブロック３３には、載置された基板Ｗを負圧により吸着するための吸引部として、載置面３３１に開口する吸引口３３２が形成されている。
図示の構成では、９×１１で９９個のブロック３３が設置されている（図１４参照）。ブロック３３の設置個数は、基板搬送テーブル３の大きさによってもその好ましい値は異なるが、通常、４〜４００個程度であるのが好ましく、４〜１００個程度であるのがより好ましい。
このようなブロック３３が設けられていることにより、基板搬送テーブル３へ基板Ｗの給材（搬入）および除材（搬出）する際、基板Ｗと基台３６との間に基板Ｗを支持する搬入治具が挿入可能な隙間（空間）が形成されるので、給材および除材を容易、円滑かつ迅速に行うことができる。
【００９１】
複数のボールリフト装置３４は、基台３６上に、互いに間隔を空けて行列状に並んで配置されている（図１４参照）。これら複数のボールリフト装置３４は、互いに同様の構成であるので、１つのボールリフト装置３４について代表して説明する。図１２に示すように、ボールリフト装置３４は、ブロック３３より高さが低くされたハウジング３４１と、ハウジング３４１内に設けられた空気圧シリンダ（ボール昇降機構）３４２と、空気圧シリンダ３４２のピストンとしても機能するボール支持体３４３と、ボール支持体３４３に複数の小球（ベアリング）３４５を介して滑らかに回転可能に支持されたボール（球体）３４４とを有している。ボール３４４は、その上部がボール支持体３４３から露出した状態で支持されている。
【００９２】
空気圧シリンダ３４２には、液滴吐出装置１の近傍（好ましくはチャンバ９１の外）に設置された図示しないエアー供給源（圧力供給源）からの空気圧を供給する配管３４６が接続されている。Ｙ軸方向に並ぶ１列の各ボールリフト装置３４の各空気圧シリンダ３４２は、Ｙ軸方向に並ぶハウジング３４１同士を連結する連結部３４８の内部に形成された通路３４７により互いに連通しており、１つの配管３４６によりＹ軸方向の１列のボールリフト装置３４のすべてに空気圧が供給される。
空気圧シリンダ３４２の作動により、ボール３４４は、ボール支持体３４３とともに、ボール３４４の少なくとも一部が載置面３３１より上側に突出する上昇位置（図１３に示す位置）と、ボール３４４の全体が載置面３３１より下側に退避する下降位置（図１２に示す位置）とに昇降する。
【００９３】
図１３に示すように、ボールリフト装置３４は、ボール３４４を上昇させることにより、各ボール３４４（基板Ｗの大きさが基板搬送テーブル３の大きさより小さいものである場合には、基板Ｗの領域内にあるボール３４４）で基板Ｗを持ち上げ、載置面３３１から離間した位置で基板Ｗを支持する。この状態では、基板Ｗが載置面３３１を擦ることがないとともにボール３４４が自由に回転するので、基板Ｗは、傷つくことなく基板搬送テーブル３上でＹ軸方向およびＸ軸方向に自由に移動（回転も含む）可能になる。なお、ボール３４４は、樹脂材料（例えばメラミン樹脂等）で構成されているのが好ましい。これにより、基板Ｗを傷つけることがより確実に防止される。
【００９４】
本実施形態の基板搬送テーブル３では、図１３に示す状態とすることにより、給材（搬入）された基板Ｗを基板搬送テーブル３上で動かして位置決め（プリアライメント）する工程を円滑、迅速かつ容易に行うことができる。そして、基板Ｗのプリアライメントの後、図１２示す状態とすることにより、基板Ｗを載置面３３１に載置して吸引口３３２からのエアー吸引により基板Ｗを吸着・固定することができる。
【００９５】
図示の構成では、８×１１で８８個のボールリフト装置３４が設置されている。ボールリフト装置３４の設置個数は、基板搬送テーブル３の大きさによってもその好ましい値は異なるが、通常、ブロック３３の個数と同程度であるのが好ましい。また、ボールリフト装置３４の最低個数としては、一直線上に並ばない少なくとも３つのボール３４４で基板Ｗを支持し得るように、一直線上に並ばないように配置された少なくとも３個のボールリフト装置３４が設置されていればよい。
【００９６】
図１４は、基板搬送テーブルおよび描画前フラッシングユニットを示す平面図、図１５および図１６は、それぞれ、基板搬送テーブルおよび描画前フラッシングユニットを示す側面図、図１７および図１８は、それぞれ、図１４中の矢印Ｅ方向から見た背面図、図１９は、描画前フラッシングユニットの液受け部の横断面図（液受け部の長手方向に垂直な平面で切った断面図）である。以下、これらの図に基づいて、図１および図２に示す液滴吐出装置における描画前フラッシングユニットの構成について詳細に説明する。
【００９７】
図１４に示すように、基板搬送テーブル３における副走査方向（Ｘ軸方向）に沿って延びる互いに平行な二辺の近傍には、それぞれ、描画前フラッシングユニット７が設けられている。これらの描画前フラッシングユニット７は、Ｙ軸方向移動機構５のスライドブロック５２２上に設置された支持体１０８に支持されており、基板搬送テーブル３とともにＹ軸方向に移動する。この２つの描画前フラッシングユニット７は、その構成が互いに同様であるので、以下ではその一方について代表して説明する。
【００９８】
描画前フラッシングユニット７は、描画前フラッシング用液受け部７１を有し、この描画前フラッシング用液受け部７１は、基板搬送テーブル３のＸ軸方向に沿って延びる辺の近傍に、基板搬送テーブル３との間に隙間７９を空けて非接触で設けられている。前述したような基板Ｗ上へのパターンの形成（描画）動作における主走査を行う際、液滴吐出ヘッド１１１は、描画前フラッシング用液受け部７１が液滴吐出ヘッド１１１の下に移動して来たら、まずこの描画前フラッシング用液受け部７１に対して捨て吐出を行い、さらに基板Ｗが液滴吐出ヘッド１１１の下に移動して来たら、所定のパターンを形成（描画）するための正規の液滴の吐出を基板Ｗに対して行う。
すなわち、液滴吐出ヘッド１１１は、基板Ｗに対する液滴の吐出を行う直前（主走査を行う直前）に、描画前フラッシング用液受け部７１に対して捨て吐出を行う。このような描画前の捨て吐出を行う目的は、次のようなものである。
【００９９】
一般に、液滴吐出ヘッド１１１は、液滴の吐出を休止してから吐出を再開するまでの時間が長くなると、液滴の吐出方向が乱れる、吐出量が多くなり過ぎる、吐出量が少なくなり過ぎる等の現象が起こり易くなり、液滴吐出動作が不安定になる傾向がある。すなわち、液滴吐出ヘッド１１１は、液滴の吐出を開始した直後は、吐出状態が安定せずにまっすぐ飛びにくい、吐出量が安定しない等の傾向がある。
【０１００】
このため、基板Ｗに対して液滴を吐出する前（描画前）に、描画前フラッシング用液受け部７１に対して捨て吐出をして、液滴吐出ヘッド１１１による液滴の吐出状態を安定させる。これにより、液滴吐出ヘッド１１１の適正な液滴吐出状態が得られ、この適正な液滴吐出状態で、基板Ｗに対するパターン形成（描画）を行うことができる。
【０１０１】
また、本発明では、捨て吐出を基板Ｗ上ではなく描画前フラッシング用液受け部７１に対して行うので、基板Ｗの周縁部等に機能上不必要なパターンを形成（描画）するのを回避することができ、基板Ｗの全体を有効に利用することができるので、基板Ｗの無駄がなく、基板Ｗの製造コストの低減が図れる。
また、本実施形態では、描画前フラッシング用液受け部７１が基板搬送テーブル３の互いに平行な二辺の近傍にそれぞれ設けられているので、主走査において基板Ｗ（基板搬送テーブル３）を前進（往動）させながら液滴を吐出する前と、後退（復動）させながら液滴を吐出する前との両方で捨て吐出を行うことができる。
【０１０２】
また、描画前フラッシング用液受け部７１は、その近傍の基板搬送テーブル３の辺に沿って細長く形成され、その長さは、当該辺の長さとほぼ同じになっている。これにより、副走査によってヘッドユニット１１（液滴吐出ヘッド１１１）がＸ軸方向に移動しても、液滴吐出ヘッド１１１と基板搬送テーブル３とのＸ軸方向の相対位置関係にかかわらず、描画前フラッシング用液受け部７１で捨て吐出を受けることができる。また、描画前フラッシング用液受け部７１が占有するスペースも少ない。
【０１０３】
図１５に示すように、基板搬送テーブル３は、θ軸回転機構６０を介して支持体１０８上に設置されている。θ軸回転機構６０は、支持体１０８側に固定された固定部６０１と、基板搬送テーブル３側に固定された回転部６０２と、固定部６０１に対し基板搬送テーブル３側（回転部６０２側）を回動させるアクチュエータ（図示せず）とを有している。このようなθ軸回転機構６０は、基板搬送テーブル３を基板搬送テーブル３の中心を通る鉛直方向のθ軸回りに所定範囲で回転（回動）させることができる。このθ軸回転機構６０により基板搬送テーブル３のθ軸回りの姿勢（角度）を調整（微調整）することにより、基板搬送テーブル３上に載置された基板Ｗの姿勢がθ軸回りに斜めになっている場合、これを真っ直ぐな姿勢になるように正確に補正することができる。
【０１０４】
描画前フラッシングユニット７は、描画前フラッシング用液受け部７１の下側に接合され描画前フラッシング用液受け部７１を撓みなく保持するフレーム７２と、フレーム７２に固定された一対の支持脚７３と、支持体１０８からＸ軸方向に外側に突出するように設置され、各支持脚７３を支持する一対のブラケット７４とをさらに有している。
【０１０５】
このように、基板搬送テーブル３は、θ軸回転機構６０を介して支持体１０８に支持されており、描画前フラッシング用液受け部７１は、ブラケット７４を介して支持体１０８に支持されている。すなわち、基板搬送テーブル３および描画前フラッシング用液受け部７１は、互いに非接触（離間状態）であり、支持体１０８にそれぞれ独立に支持されている。
【０１０６】
描画前フラッシング用液受け部７１を基板搬送テーブル３の近傍に設置しようとする場合、単純には描画前フラッシング用液受け部７１を基板搬送テーブル３に固定する構成が考えられる。これに対し、本実施形態では、基板搬送テーブル３と描画前フラッシング用液受け部７１とを独立して支持する構成としたことにより、次のような利点がある。
【０１０７】
描画前フラッシング用液受け部７１の荷重が基板搬送テーブル３にかからないので、描画前フラッシング用液受け部７１の重みによって基板搬送テーブル３が下側に湾曲するように撓む（変形する）のを防止することができる。よって、基板搬送テーブル３の各載置面３３１の集合により形成される面の平面度等の精度を高く保つことができ、基板Ｗを高い平面度で支持することができる。その結果、基板Ｗ上へのパターンの形成（描画）をより高い精度で正確に行うことができる。特に、描画前フラッシング用液受け部７１に液体が溜まってさらに重くなってきても、これにかかわらず、この効果を発揮することができる。
【０１０８】
また、描画前フラッシング用液受け部７１は、θ軸回転機構６０を介さずに支持体１０８に支持されている。これにより、θ軸回転機構６０が基板搬送テーブル３のθ軸回りの姿勢（角度）を調整しても、描画前フラッシング用液受け部７１のθ軸回りの姿勢（角度）は、変化せず、よって、液滴吐出ヘッド１１１が描画前に捨て吐出すべき位置を常に一定に保つことができる。
【０１０９】
これに対し、本実施形態と異なり、描画前フラッシング用液受け部７１が基板搬送テーブル３とともに回転してしまう場合には、次のような不都合がある。すなわち、描画前フラッシング用液受け部７１の位置がずれるので、これに合わせて液滴吐出ヘッド１１１が描画前に捨て吐出すべき位置を変更しなければならず、煩雑な制御を要する。あるいは、描画前フラッシング用液受け部７１のＹ軸方向の幅の寸法を、位置ずれ分をカバーできるように大きくしなければならず、描画前フラッシングユニット７が重量増大および大型化するという問題を生じる。また、描画前フラッシング用液受け部７１がθ軸回転機構６０を介さずに基板搬送テーブル３と支持されていることにより、基板搬送テーブル３を回転させるときの慣性モーメントが小さいので、制御性が高く、基板搬送テーブル３のθ軸回りの角度調整をより高い精度で行うことができる。
【０１１０】
図１７に示すように、各支持脚７３は、各ブラケット７４に対し昇降可能に支持されている。また、描画前フラッシングユニット７は、各ブラケット７４に対し各支持脚７３を昇降させる昇降装置としての一対の空気圧シリンダ７５をさらに有している。各空気圧シリンダ７５には、液滴吐出装置１の近傍（好ましくはチャンバ９１の外）に設置された図示しないエアー供給源（圧力供給源）からの空気圧を供給する配管（図示せず）が接続されている。
本実施形態の描画前フラッシングユニット７では、支持脚７３、ブラケット７４および空気圧シリンダ７５により、描画前フラッシング用液受け部７１の高さを調整する高さ調整機構が構成され、空気圧シリンダ７５を伸縮させることにより、描画前フラッシング用液受け部７１の高さを調整することができる。
【０１１１】
図１５および図１７に示すように、描画前フラッシング用液受け部７１の高さ調整機構は、描画前フラッシング用液受け部７１が最上位置にあるとき、描画前フラッシング用液受け部７１の上端の高さが基板搬送テーブル３の載置面３３１（ワーク載置面）の高さより高くなるように描画前フラッシング用液受け部７１の高さを調整することができる。この状態とすることにより、描画前フラッシング用液受け部７１の上端の高さが載置面３３１に載置された基板Ｗの上面の高さと同程度になるように調整可能である。換言すれば、描画前フラッシング用液受け部７１の上端と液滴吐出ヘッド１１１（ノズル形成面）との隙間が十分に小さくなるようにすることができる。よって、液滴吐出ヘッド１１１から捨て吐出された液滴を周囲に飛散させることなく描画前フラッシング用液受け部７１で受けることができる。
【０１１２】
図１６および図１８に示すように、描画前フラッシング用液受け部７１の高さ調整機構は、描画前フラッシング用液受け部７１が最下位置にあるとき、描画前フラッシング用液受け部７１の上端の高さが基板搬送テーブル３の載置面３３１の高さより低くなるように描画前フラッシング用液受け部７１の高さを調整することができる。基板Ｗを基板搬送テーブル３上に給材（搬入）および除材（搬出）する際には、この状態とすることにより、基板Ｗやこれを支持する搬入治具が描画前フラッシング用液受け部７１に干渉（接触）するのを防止することができるので、基板Ｗの給材および除材を円滑、迅速かつ容易に行うことができ、また、給材工程および除材工程において基板Ｗを傷つけるようなことも防止することができる。
【０１１３】
また、描画前フラッシング用液受け部７１の高さ調整機構は、ヘッドユニット１１の高さ調整機構２０により基板Ｗの厚さに応じて調節される液滴吐出ヘッド１１１の高さに合わせて描画前フラッシング用液受け部７１の高さを調整することもできる。これにより、基板Ｗの厚さに応じて描画前フラッシング用液受け部７１と液滴吐出ヘッド１１１との隙間を適正な大きさに調整することができ、基板Ｗの厚さによらず、液滴吐出ヘッド１１１から捨て吐出された液滴を周囲に飛散させることなく描画前フラッシング用液受け部７１で受けることができる。
【０１１４】
図１９に示すように、描画前フラッシング用液受け部７１は、受け皿７１１と、受け皿７１１の凹部７１４を覆うように設置された液体を吸収し得る液体吸収体７１２と、液体吸収体７１２の縁部を押さえる押さえ部材７１３とを有している。液体吸収体７１２は、例えばスポンジなどで構成されており、捨て吐出された液滴は、まず、液体吸収体７１２に吸収される。これにより、捨て吐出された液滴が周囲に飛散するのをより確実に防止することができる。
【０１１５】
液体吸収体７１２に吸収された液体は、液体吸収体７１２を通過して、受け皿７１１の凹部７１４に溜まる。受け皿７１１の底部には、排液口（図示せず）が形成され、この排液口は、描画前フラッシング用液受け部７１に接続されたチューブ７０１（図１４〜図１９中では図示せず）に連通している。描画前フラッシング用液受け部７１が受けた液滴（液体）は、凹部７１４に溜まった後、チューブ７０１内を通って、後述する排液装置１８により回収される。
【０１１６】
液体吸収体７１２は、液体をある程度吸収すると膨張するが、本実施形態では、押さえ部材７１３が膨張しようとする液体吸収体７１２を押さえ、この膨張を防止する。これにより、液体吸収体７１２が膨張して上側に膨らんで液滴吐出ヘッド１１１に接触してしまうのを確実に防止することができる。
なお、定期フラッシング用液受け部３０１およびドット抜け検査用液受け部１９１も、描画前フラッシング用液受け部７１と同様に、例えばスポンジのような液体吸収体を有しているのが好ましい。これにより、受けた液滴（液体）が周囲に飛散するのをより確実に防止することができる。
さらに、キャッピングユニット１２１の各キャップ内にも、例えばスポンジのような液体吸収体が設置されているのが好ましい。これにより、キャップ内に液滴吐出ヘッド１１１から吐出された液体を、残らず迅速に、キャップに接続された吸引チューブへ排出することができる。
【０１１７】
図２０は、図１および図２に示す液滴吐出装置における排液流路系、排液タンクおよびプロセスポンプを模式的に示す配管系統図である。以下、この図に基づいて、描画前フラッシングユニット７、定期フラッシングユニット３０およびドット抜け検出ユニット１９において液滴吐出ヘッド１１１より捨て吐出された排液（吐出液）を回収して貯留する排液装置１８について説明するが、前述したキャッピング排液装置１７と同様の事項については説明を省略する。
【０１１８】
図１０に示すように、排液装置１８は、ラック１３１に着脱可能に設置された（図９中には表れていない）第１の排液タンク１８１および第２の排液タンク１８２と、第１の排液タンク１８１に接続された流入配管（流入流路）１８３と、第２の排液タンク１８２に接続された流入配管（流入流路）１８４と、三方弁（流路切り替え手段）１８５と、排液流路系７０と、排液流路系７０の途中に設けられた流体を移送するプロセスポンプ（移送手段）１８７とを有している。
【０１１９】
また、第１の排液タンク１８１および第２の排液タンク１８２には、それぞれ、内部の液量を検出する前記液量検出手段１７７ａ、１７７ｂと同様の液量検出手段（図示せず）が設けられている。
なお、本実施形態の排液装置１８は、第１の排液タンク１８１および第２の排液タンク１８２の２個の排液タンクを備えているが、本発明では、排液タンクの個数は１個でも３個以上でもよい。
【０１２０】
排液流路系７０は、描画前フラッシング用液受け部７１に接続されたチューブ（配管）７０１と、定期フラッシング用液受け部３０１に接続されたチューブ（配管）７０２と、ドット抜け検査用液受け部１９１に接続されたチューブ（配管）７０３と、三方弁（流路切り替え手段）７０４および７０５と、排液配管７０６とを有している。三方弁７０４、７０５および１８５は、図示しないアクチュエータを有し、制御装置１６の制御に基づいて自動で切り替わるようになっている。
【０１２１】
チューブ７０１、７０２および７０３は、三方弁７０４および７０５を介して１つに合流し、排液配管７０６の一端に接続されている。排液配管７０６の他端は、三方弁１８５に接続され、三方弁１８５には、さらに流入配管１８３および１８４が接続されている。プロセスポンプ１８７は、排液配管７０６の途中に設置されており、排液配管７０６内の液体を第１の排液タンク１８１および第２の排液タンク１８２側に移送（送液）する。
【０１２２】
このような構成により、本発明では、描画前フラッシング用液受け部７１、定期フラッシング用液受け部３０１およびドット抜け検査用液受け部１９１で受けた液体は、排液流路系７０によって回収（移送）され、第１の排液タンク１８１および第２の排液タンク１８２に共通して貯留される。これにより、描画前フラッシング用液受け部７１、定期フラッシング用液受け部３０１およびドット抜け検査用液受け部１９１に溜まった液体を拭き取ったり捨てたりする作業が不要であるので、液滴吐出装置１のオペレーターの労力を軽減することができ、また、その作業で液滴吐出装置１の稼動を停止する必要がないので、稼働率の向上が図れる。
【０１２３】
また、本発明では、描画前フラッシング用液受け部７１、定期フラッシング用液受け部３０１およびドット抜け検査用液受け部１９１に溜まった液体を拭き取ったり捨てたりする作業のためにチャンバ９１内に立ち入る必要がないので、チャンバ９１内の管理された温度や湿度を乱すことがなく、よって、基板Ｗ上へのパターンの形成（描画）を常に高い精度を保って行うことができる。また、チャンバ９１を開けた後にチャンバ９１内の温度や湿度が元に戻るのを待つこともないので、稼働率のさらなる向上が図れる。
【０１２４】
また、描画前フラッシング用液受け部７１、定期フラッシング用液受け部３０１およびドット抜け検査用液受け部１９１で受けた液体は、液体吸収体に触れるなどして異物（ゴミ）が混入していたり、外気に触れて溶媒が蒸発して濃度が変化していたりするので、通常はいずれも再利用せず廃棄されるものである。本発明では、これらの廃棄すべき液体が共通に第１の排液タンク１８１および第２の排液タンク１８２に貯留されるので、液体を廃棄する作業が１回で済む。よって、オペレーターの労力をさらに軽減することができる。また、この液体を再処理して再利用する場合であっても、描画前フラッシング用液受け部７１、定期フラッシング用液受け部３０１およびドット抜け検査用液受け部１９１で受けた液体は、互いに同じような状態になっているので、同様の状態の液体が１箇所に回収されることになって合理的であり、オペレーターの負担を軽減することができる。
このようなことから、本発明では、基板Ｗのような製造物の大幅なコスト低減が図れる。
【０１２５】
また、本実施形態の排液流路系７０は、三方弁７０４および７０５の切り替えにより、描画前フラッシング用液受け部７１、定期フラッシング用液受け部３０１およびドット抜け検査用液受け部１９１のうちから選択的に液体を回収することができる。これにより、１台のプロセスポンプ１８７を用いて描画前フラッシング用液受け部７１、定期フラッシング用液受け部３０１およびドット抜け検査用液受け部１９１のそれぞれから液体を吸引することができるので、プロセスポンプ１８７の設置台数を１台で済ますことができ、よって、装置の構造の簡素化および小型化が図れる。
また、本実施形態の排液装置１８は、第１の排液タンク１８１、第２の排液タンク１８２の２つを切り替えながら使用するので、全体として大容量化が図れ、液滴吐出装置１の大型化に伴う排液量の増大に有効に対応することができる。
【０１２６】
排液流路系７０のチューブ７０１は、チューブ７０３より可撓性の高いものであるのが好ましい。これは、次のような理由によるものである。
描画前フラッシング用液受け部７１は、基板搬送テーブル３とともに移動するので、これに接続されたチューブ７０１は、基板搬送テーブル３の付近に設置されたケーブルベア（長尺体支持案内装置）１０２内に収納され、描画前フラッシング用液受け部７１の移動に追従できるようにされている（図４参照）。よって、チューブ７０１は、ケーブルベア１０２の変位に伴って、繰り返し湾曲変形する。
これに対し、ドット抜け検査用液受け部１９１は、水平方向に移動しないように設けられているので、これに接続されたチューブ７０３は、繰り返し湾曲変形する必要はない。
【０１２７】
よって、チューブ７０１をチューブ７０３より可撓性の高いものとすることにより、チューブ７０１、７０３としてそれぞれの使用状態に適した種類（仕様）のチューブを選定することができ、合理的な設計となって、耐久性の向上や、製造コストの低減が図れる。
ここで、「チューブ７０１がチューブ７０３より可撓性が高い」とは、チューブ７０１がチューブ７０３に対し、曲げ剛性が小さい（柔軟性が高い）、許容最小曲率半径が小さい、繰り返しの湾曲に対する耐久性が高い、外径が細い、のうちの少なくとも１つを満足することを言う。
また、チューブ７０１の可撓性を高めるため、チューブ７０１として蛇腹状のチューブを用いてもよい。ただし、十分な可撓性が得られるものであれば、液体の通過抵抗を考慮して、チューブ７０１として通常の形状のチューブを用いるのが好ましい。
【０１２８】
以上、本発明の液滴吐出装置および液滴吐出システムを図示の実施形態について説明したが、本発明は、これに限定されるものではなく、液滴吐出装置を構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。また、任意の構成物が付加されていてもよい。
また、本発明の液滴吐出装置は、ヘッドユニット（液滴吐出ヘッド）を装置本体に対し固定とし、ワーク（ワーク載置部）をＹ軸方向およびＸ軸方向にそれぞれ移動させることにより、主走査および副走査を行うよう構成されたものでもよい。この場合、ワーク載置部の四辺の近傍にそれぞれ第１の捨て吐出用液受け部を設けてもよい。また、これと逆に、ワーク（ワーク載置部）を装置本体に対し固定とし、ヘッドユニット（液滴吐出ヘッド）をＹ軸方向およびＸ軸方向にそれぞれ移動させることにより、主走査および副走査を行うよう構成されたものでもよい。すなわち、本発明における液滴吐出装置は、ワーク載置部と液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させる相対移動機構を備えるものであればよい。
また、Ｙ軸方向移動機構、Ｘ軸方向移動機構は、リニアモータで駆動するものに代えて、例えばボールネジ（送りネジ）などで駆動するものでもよい。
【０１２９】
また、本発明の電気光学装置は、以上説明したような本発明の液滴吐出装置を用いて製造されたことを特徴とする。本発明の電気光学装置の具体例としては、特に限定されないが、例えば、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置などが挙げられる。
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、本発明の液滴吐出装置を用いることを特徴とする。本発明の電気光学装置の製造方法は、例えば、液晶表示装置の製造方法に適用することができる。すなわち、各色のフィルタ材料を含む液体を本発明の液滴吐出装置を用いて基板に対し選択的に吐出することにより、基板上に多数のフィルタエレメントを配列してなるカラーフィルタを製造し、このカラーフィルタを用いて液晶表示装置を製造することができる。この他、本発明の電気光学装置の製造方法は、例えば、有機ＥＬ表示装置の製造方法に適用することができる。すなわち、各色の発光材料を含む液体を本発明の液滴吐出装置を用いて基板に対し選択的に吐出することにより、ＥＬ発光層を含む多数の絵素ピクセルを基板上に配列してなる有機ＥＬ表示装置を製造することができる。
また、本発明の電子機器は、前述したようにして製造された電気光学装置を備えることを特徴とする。本発明の電子機器の具体例としては、特に限定されないが、前述したようにして製造された液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置を搭載したパーソナルコンピュータや携帯電話機などが挙げられる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の液滴吐出装置の実施形態を示す平面図。
【図２】本発明の液滴吐出装置の実施形態を示す側面図。
【図３】架台、石定盤および基板搬送テーブルを示す平面図。
【図４】架台、石定盤および基板搬送テーブルを示す側面図。
【図５】ヘッドユニットおよびＸ軸方向移動機構を示す平面図。
【図６】図５中の矢印Ａ方向から見た側面図。
【図７】図５中の矢印Ｂ方向から見た正面図。
【図８】ヘッドユニットの構成および液滴吐出動作を示す模式的平面図。
【図９】タンク収納部を示す斜視図。
【図１０】給液装置および排液装置を模式的に示す配管系統図。
【図１１】液量検出手段の構成を模式的に示す図。
【図１２】図３中の矢印Ｄで示す部分を拡大して示す一部切欠き側面図。
【図１３】図３中の矢印Ｄで示す部分を拡大して示す一部切欠き側面図。
【図１４】基板搬送テーブルおよび描画前フラッシングユニットを示す平面図。
【図１５】基板搬送テーブルおよび描画前フラッシングユニットを示す側面図。
【図１６】基板搬送テーブルおよび描画前フラッシングユニットを示す側面図。
【図１７】図１４中の矢印Ｅ方向から見た背面図。
【図１８】図１４中の矢印Ｅ方向から見た背面図。
【図１９】描画前フラッシングユニットの液受け部の横断面図。
【図２０】排液流路系、排液タンクおよびプロセスポンプを模式的に示す配管系統図。
【符号の説明】
１８……排液装置、１８１……第１の排液タンク、１８２……第２の排液タンク、１８３……流入配管、１８４……流入配管、１８５……三方弁、１８７……プロセスポンプ、７０……排液流路系、７０１……チューブ、７０２……チューブ、７０３……チューブ、７０４……三方弁、７０５……三方弁、７０６……排液配管、７１……描画前フラッシング用液受け部、１９１……ドット抜け検査用液受け部、３０１……定期フラッシング用液受け部

Claims (15)

1. 装置本体と、
   ワークが載置されるワーク載置部と、
   前記ワーク載置部に載置されたワークに対して液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、
   前記ワーク載置部と前記液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させる相対移動機構と、
   前記ワーク載置部の近傍に設けられ、前記液滴吐出ヘッドが前記ワークに対し液滴を吐出する前に捨て吐出した液体を受ける第１の捨て吐出用液受け部と、
   前記液滴吐出ヘッドが待機時に捨て吐出した液体を受ける第２の捨て吐出用液受け部と、
   前記液滴吐出ヘッドのドット抜け検査を行う際に前記液滴吐出ヘッドから吐出した液体を受けるドット抜け検査用液受け部と、
   前記第１の捨て吐出用液受け部、前記第２の捨て吐出用液受け部および前記ドット抜け検査用液受け部で受けた液体をそれぞれ回収する排液流路系と、
   前記第１の捨て吐出用液受け部、前記第２の捨て吐出用液受け部および前記ドット抜け検査用液受け部から前記排液流路系を介して回収された液体を共通して貯留する排液タンクとを備えることを特徴とする液滴吐出装置。
2. 前記ワーク載置部と前記液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させつつ前記液滴吐出ヘッドから液滴を吐出することにより、前記ワークに所定のパターンを形成する請求項１に記載の液滴吐出装置。
3. 前記相対移動機構は、前記ワーク載置部および前記第１の捨て吐出用液受け部を前記装置本体に対し水平な一方向（以下、「Ｙ軸方向」と言う）に移動させるＹ軸方向移動機構と、前記液滴吐出ヘッドを前記装置本体に対し前記Ｙ軸方向に垂直かつ水平な方向（以下、「Ｘ軸方向」と言う）に移動させるＸ軸方向移動機構とで構成される請求項１または２に記載の液滴吐出装置。
4. 前記Ｙ軸方向と前記Ｘ軸方向とのいずれか一方を主走査方向とし、他方を副走査方向として前記ワーク載置部と前記液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させつつ前記液滴吐出ヘッドから前記ワークに対し液滴を吐出する請求項３に記載の液滴吐出装置。
5. 前記第１の捨て吐出用液受け部は、前記ワーク載置部の前記副走査方向に沿って伸びる辺の近傍に設けられている請求項４に記載の液滴吐出装置。
6. 前記第２の捨て吐出用液受け部は、前記Ｙ軸方向に移動可能に設けられている請求項３ないし５のいずれかに記載の液滴吐出装置。
7. 前記ドット抜け検査用液受け部は、水平方向に移動しないように設けられている請求項１ないし６のいずれかに記載の液滴吐出装置。
8. 前記排液流路系は、前記第１の捨て吐出用液受け部に接続された第１のチューブと、前記ドット抜け検出用液受け部に接続された第２のチューブとを有し、前記第１のチューブは、前記第２のチューブより可撓性の高いものである請求項１ないし７のいずれかに記載の液滴吐出装置。
9. 前記排液流路系の途中に、流体を移送する移送手段を備える請求項１ないし８のいずれかに記載の液滴吐出装置。
10. 前記排液流路系は、流路を切り替える流路切り替え手段を有し、該流路切り替え手段の流路の切り替えにより、前記第１の捨て吐出用液受け部、前記第２の捨て吐出用液受け部および前記ドット抜け検査用液受け部のうちから選択的に液体を回収する請求項１ないし９のいずれかに記載の液滴吐出装置。
11. 請求項１ないし１０のいずれかに記載の液滴吐出装置と、前記液滴吐出装置を収容し、その内部の温度および／または湿度が管理されるチャンバとを備えることを特徴とする液滴吐出システム。
12. 前記チャンバ内の温度および／または湿度を調節する空調装置を備える請求項１１に記載の液滴吐出システム。
13. 請求項１ないし１０のいずれかに記載の液滴吐出装置を用いて製造されたことを特徴とする電気光学装置。
14. 請求項１ないし１０のいずれかに記載の液滴吐出装置を用いることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
15. 請求項１３に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。

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