CN114507421B - 抗反射膜及显示器件 - Google Patents
抗反射膜及显示器件 Download PDFInfo
- Publication number
- CN114507421B CN114507421B CN202210169594.3A CN202210169594A CN114507421B CN 114507421 B CN114507421 B CN 114507421B CN 202210169594 A CN202210169594 A CN 202210169594A CN 114507421 B CN114507421 B CN 114507421B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- coating
- refractive index
- parts
- polar functional
- functional group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 132
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 129
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims abstract description 31
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims abstract description 31
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract description 27
- 239000006116 anti-fingerprint coating Substances 0.000 claims abstract description 25
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims abstract description 24
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 19
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 claims abstract description 19
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 claims abstract description 19
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 15
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims abstract description 15
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 35
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 14
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 13
- -1 functional group modified silica particles Chemical class 0.000 claims description 9
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 9
- CEXQWAAGPPNOQF-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC1=CC=CC=C1 CEXQWAAGPPNOQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 6
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 abstract description 25
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 abstract description 9
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 abstract description 3
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 50
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 15
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 14
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 12
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 12
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 10
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 10
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 9
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 8
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 8
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 7
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000006255 coating slurry Substances 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 4
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 4
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 3
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 206010019233 Headaches Diseases 0.000 description 2
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 208000003464 asthenopia Diseases 0.000 description 2
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 231100000869 headache Toxicity 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006188 syrup Substances 0.000 description 2
- 235000020357 syrup Nutrition 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZZAHLOABNWIFA-UHFFFAOYSA-N 2-butoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCCCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 DZZAHLOABNWIFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical compound C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000000446 sulfanediyl group Chemical group *S* 0.000 description 1
- PXQLVRUNWNTZOS-UHFFFAOYSA-N sulfanyl Chemical class [SH] PXQLVRUNWNTZOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/042—Coating with two or more layers, where at least one layer of a composition contains a polymer binder
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/046—Forming abrasion-resistant coatings; Forming surface-hardening coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/18—Coatings for keeping optical surfaces clean, e.g. hydrophobic or photo-catalytic films
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2367/00—Characterised by the use of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Derivatives of such polymers
- C08J2367/02—Polyesters derived from dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2433/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
- C08J2433/04—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters
- C08J2433/14—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur, or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
- C08J2433/16—Homopolymers or copolymers of esters containing halogen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2475/00—Characterised by the use of polyureas or polyurethanes; Derivatives of such polymers
- C08J2475/04—Polyurethanes
- C08J2475/14—Polyurethanes having carbon-to-carbon unsaturated bonds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
- C08K3/20—Oxides; Hydroxides
- C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
- C08K2003/2244—Oxides; Hydroxides of metals of zirconium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K2201/00—Specific properties of additives
- C08K2201/002—Physical properties
- C08K2201/005—Additives being defined by their particle size in general
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/34—Silicon-containing compounds
- C08K3/36—Silica
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K9/00—Use of pretreated ingredients
- C08K9/04—Ingredients treated with organic substances
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
本发明涉及一种抗反射膜及显示器件，抗反射膜包括基材和依次层叠于基材一侧的硬化涂层、高折射率涂层、低折射率涂层及抗指纹涂层；其硬化涂层的制备原料包括第一聚氨酯丙烯酸树脂、二季戊四醇六丙烯酸酯、第一极性官能团改性无机粒子、第一引发剂和第一有机溶剂。该抗反射膜的涂层组分之间及各涂层之间协同作用，可使抗反射膜同时具有低反射率和高耐磨性能。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种抗反射膜及显示器件。
背景技术
目前，显示器件广泛应用于手机、电脑、大屏触控、车载显示等领域。然而，当显示器件暴露于照明或自然光等外光下时，外部光在显示器件表面发生正反射，由其导致的反射图像与显示图像混合，造成肉眼无法看清显示器内部所形成的图像，同时还会引发眼睛疲劳或头疼。
将抗反射膜贴附在显示器件的显示屏表面，可以降低外部光在显示器件表面的反射作用，解决肉眼无法看清显示器件内部图像的问题。然而，传统的抗反射膜无法同时兼顾反射率和耐磨性能两者性能。
因此，如何提供一种反射率较低，同时耐磨性能较好的抗反射膜具有重要意义。
发明内容
基于此，本发明提供了一种反射率较低，同时耐磨性能较好的抗反射膜及显示器件。
本发明解决上述技术问题的技术方案如下。
一种抗反射膜，包括基材和依次层叠于所述基材一侧的硬化涂层、高折射率涂层、低折射率涂层及抗指纹涂层；
按质量份数计，所述硬化涂层的制备原料包括如下组分：
在其中一些实施例中，抗反射膜中，所述第一极性官能团选自羧基、羟基、巯基和氨基中的至少一种。
在其中一些实施例中，抗反射膜中，所述第一极性官能团改性第一无机粒子中的第一无机粒子为二氧化硅。
在其中一些实施例中，抗反射膜中，所述第一极性官能团改性第一无机粒子的粒径为5nm～200nm。
在其中一些实施例中，抗反射膜中，所述高折射率涂层的折射率为1.6～1.8，所述低折射率涂层的折射率为1.35～1.5。
在其中一些实施例中，抗反射膜中，按质量份数计，所述高折射率涂层的制备原料包括如下组分：
在其中一些实施例中，抗反射膜中，所述第二极性官能团选自羧基、羟基、巯基和氨基中的至少一种。
在其中一些实施例中，抗反射膜中，所述第二极性官能团改性金属氧化物粒子中的金属氧化物粒子为氧化锆。
在其中一些实施例中，抗反射膜中，所述第二极性官能团改性金属氧化物粒子的粒径为5nm～20nm
在其中一些实施例中，抗反射膜中，按质量份数计，所述低折射率涂层的制备原料包括如下组分：
在其中一些实施例中，抗反射膜中，所述第三极性官能团改性第三无机粒子中的第三无机粒子为二氧化硅。
在其中一些实施例中，抗反射膜中，所述第三极性官能团改性第三无机粒子的粒径为5nm～20nm。
在其中一些实施例中，抗反射膜中，所述第三极性官能团选自羧基、羟基、巯基和氨基中的至少一种。
在其中一些实施例中，抗反射膜中，所述抗指纹涂层的折射率为1.35～1.4。
在其中一些实施例中，抗反射膜中，所述基材的厚度为10μm～125μm。
在其中一些实施例中，抗反射膜中，所述硬化涂层的厚度为1μm～10μm。
在其中一些实施例中，抗反射膜中，所述高折射率涂层的厚度为80nm～120nm。
在其中一些实施例中，抗反射膜中，所述低折射率涂层的厚度为80nm～120nm。
在其中一些实施例中，抗反射膜中，所述抗指纹涂层的厚度为8nm～50nm。
本发明提供了一种显示器件，包含显示屏及上述的抗反射膜，所述抗反射膜设于所述显示屏的表面。
与现有技术相比较，本发明的抗反射膜具有如下有益效果：
上述抗反射膜，通过在基材一侧依次设置硬化涂层、高折射率涂层、低折射率涂层和抗指纹涂层，其中，硬化涂层的制备原料包括第一聚氨酯丙烯酸树脂、二季戊四醇六丙烯酸酯和第一引发剂，可有效提高硬化涂层的交联密度，进而有效提高基材的铅笔硬度；进一步地，硬化涂层中的第一极性官能团改性第一无机粒子，由于第一无机粒子经过第一极性官能团处理，有利于第一聚氨酯丙烯酸树脂和二季戊四醇六丙烯酸酯通过引发剂的交联反应将第一无机粒子均匀的包裹，提升第一无机粒子在硬化涂层浆料中的分散性，从而有效提高硬化涂层的均匀性和降低硬化涂层的表面粗糙度；进一步通过控制硬化涂层的组分及比例，将硬化涂层的表面达因值控制在特定范围，有效提高硬化涂层表面的平滑性，减少与钢丝绒的摩擦性，进而提高抗反射膜对外力钢丝绒的抵抗力；同时有效提高硬化涂层与基材之间的粘结性，以及硬化涂层与折射率涂层之间的粘结性；进一步设置抗指纹涂层，在保证抗反射膜具有低反射率的基础上，可进一步降低钢丝绒与抗反射膜的动摩擦系数。上述抗反射膜，涂层组分之间及各涂层之间协同作用，可使抗反射膜同时具有低反射率和高耐磨性能。
附图说明
为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为一实施方式提供的抗反射膜的结构示意图。
附图标记：
10：抗反射膜；100：基材；200：硬化涂层；300：高折射率涂层；400：低折射率涂层；500：抗指纹涂层。
具体实施方式
以下结合具体实施例对本发明的技术方案作进一步详细的说明。本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施方式。应当理解，提供这些实施方式的目的是使对本发明公开内容理解更加透彻全面。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列+项目的任意的和所有的组合。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
本发明实施例说明书中所提到的相关成分的重量不仅仅可以指代各组分的具体含量，也可以表示各组分间重量的比例关系，因此，只要是按照本发明实施例说明书相关组分的含量按比例放大或缩小均在本发明实施例说明书公开的范围之内。具体地，本发明实施例说明书中所述的重量可以是μg、mg、g、kg等化工领域公知的质量单位。
请参考图1，本发明一实施方式提供了一种抗反射膜10，包括基材100和依次层叠于基材一侧的硬化涂层200、高折射率涂层300、低折射率涂层400及抗指纹涂层500；
按质量份数计，硬化涂层的制备原料包括如下组分：
可以理解，抗反射膜10中，高折射率涂层300和低折射率涂层400中的高和低是一个相对概念，代表高折射率涂层300的折射率比低折射率涂层400的折射率高。
进一步可以理解，在其中一些示例中，抗反射膜10中，按质量百分数计，硬化涂层的制备原料包括如下组分：
可以理解，上述特定组分及特定比例得到的硬化涂层的表面达因值为32～50。
通过在基材一侧依次设置硬化涂层、高折射率涂层、低折射率涂层和抗指纹涂层，其中，硬化涂层的制备原料包括第一聚氨酯丙烯酸树脂、二季戊四醇六丙烯酸酯和第一引发剂，可有效提高硬化涂层的交联密度，进而有效提高基材的铅笔硬度；进一步地，硬化涂层中的第一极性官能团改性第一无机粒子，由于第一无机粒子经过第一极性官能团处理，有利于第一聚氨酯丙烯酸树脂和二季戊四醇六丙烯酸酯通过引发剂的交联反应将无机粒子均匀的包裹，提升无机粒子在硬化涂层浆料中的分散性，从而有效提高硬化涂层的均匀性和降低硬化涂层的表面粗糙度；进一步通过控制硬化涂层的组分及比例，将硬化涂层的表面达因值控制在特定范围，有效提高硬化涂层表面的平滑性，减少与钢丝绒的摩擦性，进而提高抗反射膜对外力钢丝绒的抵抗力；同时有效提高硬化涂层与基材之间的粘结性，以及硬化涂层与折射率涂层之间的粘结性；进一步设置抗指纹涂层，在保证抗反射膜具有低反射率的基础上，可进一步降低钢丝绒与抗反射膜的动摩擦系数。上述抗反射膜，涂层组分之间及各涂层之间协同作用，可使抗反射膜同时具有低反射率和高耐磨性能。
在其中一些具体示例中，抗反射膜10中，按质量份数计，硬化涂层的制备原料包括如下组分：
进一步地，在其中一些具体示例中，抗反射膜10中，第一极性官能团改性第一无机粒子为40份；或者第一聚氨酯丙烯酸树脂为40份。
在其中一些具体的示例中，抗反射膜10中，硬化涂层的表面达因值为32或50。进一步地，硬化涂层的表面达因值为50。
可以理解，通过硬化涂层制备原料的组分及比例可以控制硬化涂层的表面达因值；通过控制硬化涂层的表面达因值，有利于提高硬化涂层与基材之间的粘结性，以及硬化涂层与折射率涂层之间的粘结性，从而有效提高结构层之间的结合力，可进一步提高抗反射膜的耐磨性能。
在其中一些示例中，抗反射膜10中，第一极性官能团选自羧基、羟基、巯基和氨基中的至少一种；可选地，第一极性官能团选自羧基和氨基中的至少一种；进一步地，第一极性官能团为氨基。
在其中一些示例中，抗反射膜10中，第一极性官能团改性第一无机粒子中的第一无机粒子为二氧化硅。
在其中一些示例中，抗反射膜10中，第一极性官能团改性第一无机粒子的粒径为5nm～200nm；进一步地，第一极性官能团改性第一无机粒子的粒径为5nm。
在其中一些示例中，抗反射膜10中，硬化涂层的厚度为1μm～10μm；可选地，硬化涂层的厚度为2μm～8μm；进一步地，硬化涂层的厚度为4μm。
在其中一些示例中，抗反射膜10中，第一聚氨酯丙烯酸树脂的官能度为9～12，玻璃化转变温度为35℃；进一步地，第一聚氨酯丙烯酸树脂的官能度为12。
通过控制第一聚氨酯丙烯酸树脂的官能度，有利于控制硬化涂层的交联密度。
在其中一些示例中，抗反射膜10中，二季戊四醇六丙烯酸酯的官能度为6。
在其中一些示例中，抗反射膜10中，硬化涂层的铅笔硬度为3H～6H。
在其中一些示例中，抗反射膜10中，硬化涂层的钢丝绒耐磨水准为负重1公斤，钢丝绒往返2000次。
在其中一些示例中，折射率涂层300中，高折射率涂层的折射率为1.6～1.8，低折射率涂层折射率为1.35～1.5；进一步地，高折射率涂层的折射率为1.6，第低折射率涂层折射率为1.5。
在其中一些示例中，抗反射膜10中，高折射率涂层的制备原料包括如下组分：
可以理解，在其中一些示例中，抗反射膜10中，按质量百分数计，高折射率涂层的制备原料包括如下组分：
在其中一些示例中，抗反射膜10中，高折射率涂层的制备原料包括如下组分：
在其中一些示例中，抗反射膜10中，第二极性官能团选自羧基、羟基、巯基和氨基中的至少一种。进一步地，第二极性官能团为氨基。
在其中一些示例中，抗反射膜10中，第二极性官能团改性金属氧化物粒子中的金属氧化物粒子为氧化锆。
在其中一些示例中，抗反射膜10中，第二极性官能团改性金属氧化物粒子的粒径为5nm～20nm。进一步地，第二极性官能团改性金属氧化物粒子的粒径为5nm～10nm；可选地，第二极性官能团改性金属氧化物粒子的粒径为5nm。
在其中一些示例中，抗反射膜10中，高折射率涂层的厚度为80nm～120nm。
在其中一些示例中，抗反射膜10中，第二聚氨酯丙烯酸树脂的官能度为3～4。进一步地，第二聚氨酯丙烯酸树脂的官能度为3。
在其中一些示例中，抗反射膜10中，2-苯氧基乙基甲基丙烯酸酯的官能度为3。
在其中一些示例中，抗反射膜10中，按质量份数计，低折射率涂层400的制备原料包括如下组分：
可以理解，在其中一些示例中，抗反射膜10中，按质量百分数计，低折射率涂层的制备原料包括如下组分：
在其中一些示例中，抗反射膜10中，按质量份数计，低折射率涂层的制备原料包括如下组分：
在其中一些示例中，抗反射膜10中，第三极性官能团改性第三无机粒子中的第三无机粒子为二氧化硅。
在其中一些示例中，抗反射膜10中，第三极性官能团改性第三无机粒子的粒径为5nm～20nm；进一步地，第三极性官能团改性第三无机粒子的粒径为5nm。
在其中一些示例中，抗反射膜10中，第三极性官能团选自羧基、羟基、硫基和氨基中的至少一种；进一步地，第三极性官能团为氨基。
采用第三极性官能团对第三无机粒子进行表面处理，有利于进一步提升粒子的分散性，降低表面粗糙度。
在其中一些示例中，抗反射膜10中，第三聚氨酯丙烯酸树脂的官能度为9～10，玻璃化转变温度为35℃。进一步地，第三聚氨酯丙烯酸树脂的官能度为10。
在其中一些示例中，抗反射膜10，二季戊四醇六丙烯酸酯的官能度为6。
在其中一些示例中，抗反射膜10中，低折射率涂层的厚度为80nm～120nm。
在其中一些示例中，抗反射膜10中，第一引发剂、第二引发剂和第三引发剂分别独立地选自1-羟基环已基苯基酮、1-羟基环己基苯基酮、苄基二甲基缩酮、羟基二甲基苯乙酮、苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻异丙基醚和苯偶姻丁基醚中的至少一种。可以理解，第一引发剂、第二引发剂和第三引发剂可以相同，也可以不同。
在其中一些示例中，抗反射膜10中，第一引发剂、第二引发剂和第三引发剂均为1-羟基环已基苯基酮。
在其中一些示例中，抗反射膜10中，第一有机溶剂、第二有机溶剂和第三有机溶剂的种类分别独立地选自酮类、醚类、脂肪族烃类、脂环式烃类、芳香族烃类、卤代烃类、酯类有机溶剂。进一步地，酮类有机溶剂包括丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、环己酮；醚类有机溶剂包括恶二烷、四氢呋喃；脂肪族烃类有机溶剂包括己烷；脂环式烃类有机溶剂包括环己烷；芳香族烃类有机溶剂包括甲苯、二甲苯；卤代烃类有机溶剂包括二氯甲烷、二氯乙烷；酯类有机溶剂包括乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯。
在其中一些示例中，抗反射膜10中，抗指纹涂层的折射率为1.35～1.4；进一步地，抗指纹涂层的折射率为1.4。
在其中一些示例中，抗反射膜10中，抗指纹涂层的厚度为8nm～50nm；进一步地，抗指纹涂层的厚度为50nm。
在其中一些示例中，抗反射膜10中，基材选自PET、PC、COP、PI、TAC、PMMA、PEN和PAI中的至少一种。
在其中一些示例中，抗反射膜10中，基材的厚度为10μm～125μm。
在其中一些示例中，抗反射膜10中，基材的厚度选自30μm、50μm、75μm、80μm、100μm或125μm。
本发明一实施方式提供了一种抗反射膜的制备方法，包括以下步骤：
在基材的一侧依次形成硬化涂层、高折射率涂层、低折射率涂层及抗指纹涂层。
在其中一些示例中，抗反射膜的制备方法中，形成硬化涂层的步骤包括：将硬化涂层的制备原料涂布于基材上固化。
在其中一些示例中，抗反射膜的制备方法中，形成高折射率涂层的步骤包括：将高折射率涂层的制备原料涂布于硬化涂层上固化。
在其中一些示例中，抗反射膜的制备方法中，形成低折射率涂层的步骤包括：将低折射率涂层的制备原料涂布于高折射率涂层上固化。
在其中一些示例中，抗反射膜的制备方法中，形成抗指纹涂层的步骤包括：将抗指纹涂层的制备原料涂布于低折射率涂层上固化。
本发明一实施方式提供了上述抗反射膜在制备显示器件中的应用。
本发明一实施方式提供了一种显示器件，包含显示屏及上述的抗反射膜，抗反射膜设于显示屏的表面。进一步可理解，以抗反射膜基材一侧贴合于显示屏的显示面上。
将上述抗反射膜应用于显示器件，可降低外部光在显示器表面的反射作用，解决肉眼无法看清显示器内部图像的问题；同时可减缓显示器引发的眼睛疲劳或头疼问题。
具体实施例
以下按照本发明的抗反射膜及显示器件举例，可理解，本发明的抗反射膜及显示器件并不局限于下述实施例。
实施例1
按重量百分数计，抗反射膜各层组分如下：
基材：PET(购买于日本东丽公司，U483，厚度50μm)；
硬化涂层厚度(4μm，表面达因值32)：聚氨酯丙烯酸树脂30％(官能度为9，玻璃化转变温度为35℃)、二季戊四醇六丙烯酸酯10％(官能度为6)、经羧基处理的二氧化硅10％(粒径5nm)、引发剂1-羟基环已基苯基酮3％和乙酸乙酯47％；
高折射率涂层(折射率1.6，厚度80nm)：聚氨酯丙烯酸树脂20％(官能度为3)、2-苯氧基乙基甲基丙烯酸酯20％(官能度为3)、经氨基处理的氧化锆40％(粒径5nm)、引发剂1-羟基环已基苯基酮3％和四氢呋喃17％；
低折射率涂层(折射率1.35，厚度80nm)：聚氨酯丙烯酸树脂20％(官能度为9，玻璃化转变温度为35℃)、二季戊四醇六丙烯酸酯10％(官能度为6)、经氨基处理的二氧化硅50％(粒径5nm)、引发剂1-羟基环已基苯基酮3％和乙酸乙酯17％；
抗指纹涂层(折射率1.35，厚度8nm)：含氟类的丙烯酸树脂浆料，购买于日本信越公司，型号为KY-1203。
抗反射膜的制备步骤：
将硬化涂层中的各组分混合，形成硬化涂层浆料，将其涂布于基材一侧，经过热干燥、UV固化后形成硬化涂层，厚度4μm，表面达因值32；
将高折射率涂层中的各组分混合，形成高折射率涂层浆料，将其涂布于硬化涂层背离基材的一侧，经过热干燥、UV固化后形成高折射率涂层，折射率1.6，厚度为80nm；
将低折射率涂层中的各组分混合，形成低折射率涂层浆料，将其涂布于高折射率涂层背离硬化涂层的一侧，经过热干燥、UV固化后形成低折射率涂层，折射率1.35，厚度为80nm；
将型号为KY-1203的含氟类的丙烯酸树脂浆料涂布于低折射率涂层背离高折射率涂层的一侧，经过热干燥、UV固化后形成抗指纹涂层，获得抗反射膜。
实施例2
与实施例1基本相同，不同点在于，硬化涂层中的组分有所区别，具体如下：
硬化涂层(厚度4μm，表面达因值50)：聚氨酯丙烯酸树脂30％(官能度为9，玻璃化转变温度为35℃)、二季戊四醇六丙烯酸酯10％(官能度为6)、经羧基处理的二氧化硅40％(粒径5nm)、引发剂1-羟基环已基苯基酮3％和丙酮17％。
实施例3
与实施例1基本相同，不同点在于，硬化涂层中的组分有所区别，具体如下：
硬化涂层厚度(4μm，表面达因值34)：聚氨酯丙烯酸树脂40％(官能度为12，玻璃化转变温度为35℃)、二季戊四醇六丙烯酸酯10％(官能度为6)、经氨基处理的二氧化硅10％(粒径200nm)、引发剂1-羟基环已基苯基酮3％和二氯甲烷47％。
实施例4
与实施例1基本相同，不同点在于，高折射率涂层中的组分有所区别，具体如下：
高折射率涂层(折射率1.8，厚度120nm)：聚氨酯丙烯酸树脂20％(官能度为3)、2-苯氧基乙基甲基丙烯酸酯20％(官能度为3)、经氨基处理的氧化锆45％(粒径5nm)、引发剂1-羟基环已基苯基酮3％和乙酸乙酯12％；
实施例5
与实施例1基本相同，不同点在于，高折射率涂层中的组分有所区别，具体如下：
高折射率涂层(折射率1.6，厚度80nm)：聚氨酯丙烯酸树脂30％(官能度为3)、2-苯氧基乙基甲基丙烯酸酯20％(官能度为3)、经氨基处理的氧化锆40％(粒径5nm)、引发剂1-羟基环已基苯基酮3％和四氢呋喃17％。
实施例6
与实施例1基本相同，不同点在于，低折射率涂层中的组分有所区别，具体如下：
低折射率涂层(折射率1.5，厚度120nm)：聚氨酯丙烯酸树脂20％(官能度为9，玻璃化转变温度为35℃)、二季戊四醇六丙烯酸酯10％(官能度为6)、经氨基处理的二氧化硅40％(粒径5nm)、引发剂1-羟基环已基苯基酮3％和二氯甲烷27％。
实施例7
与实施例1基本相同，不同点在于，低折射率涂层中的组分有所区别，具体如下：
低折射率涂层(折射率1.35，厚度80nm)：聚氨酯丙烯酸树脂30％(官能度为10，玻璃化转变温度为35℃)、二季戊四醇六丙烯酸酯10％(官能度为6)、经氨基表面处理的二氧化硅40％(粒径5nm)、引发剂1-羟基环已基苯基酮3％和乙酸乙酯7％。
实施例8
与实施例1基本相同，不同点在于，抗指纹涂层中的组分有所区别，具体如下：
抗指纹涂层(折射率1.4，厚度50nm)：含氟类的丙烯酸树脂浆料，购买于日本信越公司，型号为KY-1207。
实施例9
与实施例1基本相同，不同点在于，将高折射率涂层中的2-苯氧基乙基甲基丙烯酸酯替换成二季戊四醇六丙烯酸酯。
实施例10
与实施例1基本相同，不同点在于，将低折射率涂层替换成市售的二氧化硅涂层。
对比例1
与实施例1基本相同，不同点在于，硬化涂层中的组分有所区别，具体如下：
硬化涂层(厚度4μm，表面达因值28)：聚氨酯丙烯酸树脂5％(官能度为9，玻璃化转变温度为35℃)、二季戊四醇六丙烯酸酯50％(官能度为6)、经羧基处理的二氧化硅1％(粒径5nm)、引发剂1-羟基环已基苯基酮3％和乙酸乙酯41％。
对比例2
与实施例1基本相同，不同点在于，硬化涂层中的二氧化硅粒子未经羧基处理。
对比例3
与实施例1基本相同，不同点在于，没有抗指纹涂层。
对比例4
与实施例1基本相同，不同点在于，将硬化涂层中的二季戊四醇六丙烯酸酯替换成等量的2-甲烷氧基乙基丙烯酸酯。
对比例5
与实施例1基本相同，不同点在于，硬化涂层各成分的比例不同，表面达因值为30；具体如下：
各实施例各层之间的组分及参数如表1所示。
表1
其中，树脂指的是聚氨酯丙烯酸树脂；丙烯酸酯A指的是2-苯氧基乙基甲基丙烯酸酯，丙烯酸酯B指的是二季戊四醇六丙烯酸酯。
测试各实施例和对比例制得的抗反射膜的铅笔硬度、钢丝绒耐磨次数，反射率以及动摩擦系数；其中，测试方法如下：
铅笔硬度：ASTM D 3363；
钢丝绒耐磨次数：采用摩擦测试仪；
反射率：采用分光光度计；
动摩擦系数：摩擦系数测试仪；
测试结果如表2所示。
表2
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，便于具体和详细地理解本发明的技术方案，但并不能因此而理解为对发明专利保护范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。应当理解，本领域技术人员在本发明提供的技术方案的基础上，通过合乎逻辑的分析、推理或者有限的试验得到的技术方案，均在本发明所附权利要求的保护范围内。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求的内容为准，说明书可以用于解释权利要求的内容。
Claims (7)
1.一种抗反射膜，其特征在于，包括基材和依次层叠于所述基材一侧的硬化涂层、高折射率涂层、低折射率涂层及抗指纹涂层；
按质量份数计，所述硬化涂层的制备原料包括如下组分：
第一聚氨酯丙烯酸树脂 30~40份；
二季戊四醇六丙烯酸酯 10~15份；
第一极性官能团改性二氧化硅粒子 10~40份；
第一引发剂 1~3份；
第一有机溶剂 2~47份；
所述高折射率涂层的制备原料包括如下组分：
第二聚氨酯丙烯酸树脂 20~30份；
2-苯氧基乙基甲基丙烯酸酯 10~20份；
第二极性官能团改性氧化锆粒子 30~40份；
第二引发剂 1~3份；
第二有机溶剂 7~37份;
所述低折射率涂层的制备原料包括如下组分：
第三聚氨酯丙烯酸树脂 20~30份；
二季戊四醇六丙烯酸酯 10~20份；
第三极性官能团改性二氧化硅粒子 30~50份；
第三引发剂 1~3份；
第三有机溶剂 7~37份;
所述硬化涂层的厚度为1 μm ~10 μm；
所述高折射率涂层的厚度为80 nm~120 nm；
所述低折射率涂层的厚度为80 nm~120 nm；
所述抗指纹涂层的厚度为8 nm~50 nm；所述高折射率涂层的折射率为1.6~1.8，所述低折射率涂层的折射率为1.35~1.5；所述第一聚氨酯丙烯酸树脂的官能度为9~12；所述第二聚氨酯丙烯酸树脂的官能度为3~4；所述第三聚氨酯丙烯酸树脂的官能度为9~10。
2.如权利要求1所述的抗反射膜，其特征在于，所述第一极性官能团选自羧基、羟基、巯基和氨基中的至少一种；和/或
所述第一极性官能团改性二氧化硅粒子的粒径为5 nm~200 nm。
3.如权利要求1所述的抗反射膜，其特征在于，所述第二极性官能团选自羧基、羟基、巯基和氨基中的至少一种；和/或
所述第二极性官能团改性氧化锆粒子的粒径为5 nm~20 nm。
4.如权利要求1~3任一项所述的抗反射膜，其特征在于，所述第三极性官能团选自羧基、羟基、巯基和氨基中的至少一种；和/或
所述第三极性官能团改性二氧化硅粒子的粒径为5 nm~20 nm。
5.如权利要求1~3任一项所述的抗反射膜，其特征在于，所述抗指纹涂层的折射率为1.35~1.4。
6. 如权利要求1~3任一项所述的抗反射膜，其特征在于，所述基材的厚度为10 μm~125μm。
7.一种显示器件，其特征在于，包含显示屏及如权利要求1~6任一项所述的抗反射膜，所述抗反射膜设于所述显示屏的表面。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202210169594.3A CN114507421B (zh) | 2022-02-23 | 2022-02-23 | 抗反射膜及显示器件 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202210169594.3A CN114507421B (zh) | 2022-02-23 | 2022-02-23 | 抗反射膜及显示器件 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN114507421A CN114507421A (zh) | 2022-05-17 |
| CN114507421B true CN114507421B (zh) | 2023-11-21 |
Family
ID=81553261
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202210169594.3A Active CN114507421B (zh) | 2022-02-23 | 2022-02-23 | 抗反射膜及显示器件 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN114507421B (zh) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017078428A1 (ko) * | 2015-11-04 | 2017-05-11 | 주식회사 엘지화학 | 반사 방지 필름 및 이의 제조 방법 |
| CN109206649A (zh) * | 2018-08-22 | 2019-01-15 | 张家港康得新光电材料有限公司 | 防雾涂料以及亲水型高光学透过率低反射率防雾膜 |
| CN110709739A (zh) * | 2017-06-01 | 2020-01-17 | 三星Sdi株式会社 | 偏光板与包含其的液晶显示装置 |
| CN111366993A (zh) * | 2020-03-03 | 2020-07-03 | 明基材料有限公司 | 抗反射膜以及具有此抗反射膜的偏光板 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102257923B1 (ko) * | 2018-01-24 | 2021-05-27 | 주식회사 엘지화학 | 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치 |
-
2022
- 2022-02-23 CN CN202210169594.3A patent/CN114507421B/zh active Active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017078428A1 (ko) * | 2015-11-04 | 2017-05-11 | 주식회사 엘지화학 | 반사 방지 필름 및 이의 제조 방법 |
| CN110709739A (zh) * | 2017-06-01 | 2020-01-17 | 三星Sdi株式会社 | 偏光板与包含其的液晶显示装置 |
| CN109206649A (zh) * | 2018-08-22 | 2019-01-15 | 张家港康得新光电材料有限公司 | 防雾涂料以及亲水型高光学透过率低反射率防雾膜 |
| CN111366993A (zh) * | 2020-03-03 | 2020-07-03 | 明基材料有限公司 | 抗反射膜以及具有此抗反射膜的偏光板 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN114507421A (zh) | 2022-05-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2020145373A1 (ja) | 反射防止部材、並びに、これを備える偏光板、画像表示装置及び反射防止性物品 | |
| US9738809B2 (en) | Coating layer for anti-glare film and anti-glare film comprising the same | |
| KR100951290B1 (ko) | 눈부심 방지 필름용 조성물 및 이를 이용하여 제조된눈부심 방지 필름 | |
| KR101044839B1 (ko) | 눈부심 방지 필름용 조성물 및 이를 이용하여 제조된눈부심 방지 필름 | |
| TWI460475B (zh) | 光學片材 | |
| EP2749912A1 (en) | Anti-glare film | |
| EP2749607B1 (en) | Composition for anti-glare coating and anti-glare film manufactured by using same | |
| TW201638250A (zh) | 防眩性硬化塗佈層積薄膜 | |
| JP2011503658A (ja) | 反射防止コーティング組成物、反射防止フィルムおよびその製造方法 | |
| CN110669423A (zh) | 高硬度可挠硬涂层膜及显示器 | |
| TW202007735A (zh) | 硬塗層光學膜、具有此硬塗層光學膜的偏光板、及含此硬塗層光學膜及/或偏光板的影像顯示裝置 | |
| CN114213694B (zh) | 一种高雾度、低闪点的防眩光膜及其制备方法 | |
| CN110119004A (zh) | 防眩膜及具有此防眩膜的偏光板 | |
| CN113549355A (zh) | 防眩液及其制备方法与应用 | |
| TWI559338B (zh) | 色調校正膜及使用其的透明導電性膜 | |
| KR20110070959A (ko) | 광학 시트 | |
| JP2008156648A (ja) | 透明ハードコート層、透明ハードコート材、およびディスプレイ装置 | |
| CN114507421B (zh) | 抗反射膜及显示器件 | |
| CN114415270B (zh) | 光学组件以及包含该光学组件的电子设备 | |
| CN101226245A (zh) | 抗反射膜及其制造方法 | |
| CN114349997A (zh) | 一种防爆膜用光学膜 | |
| CN220543143U (zh) | 高耐磨抗反射光学膜 | |
| CN113583560B (zh) | 一种硬化层涂布液及一种硬化膜 | |
| CN116218269B (zh) | 柔性硬化膜及其制备方法 | |
| CN114509830A (zh) | 防反射膜 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |