CN114415270B - 光学组件以及包含该光学组件的电子设备 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种光学组件以及包含该光学组件的电子设备。所述光学组件包括基材，以及依次层叠于所述基材表面的第一膜层和第二膜层，所述第二膜层中分散有质量百分比为1％～20％的减反射粒子；以质量百分比计，所述减反射粒子包括48％～52％的第一减反射粒子、28％～32％的第二减反射粒子和18％～22％的第三减反射粒子；其中，所述第一减反射粒子的粒径为≥50nm，且≤100nm；所述第二减反射粒子的粒径为≥20nm，且＜50nm；所述第三减反射粒子的粒径为＜20nm。该光学组件在具备减反射光学性能的同时，还具有较高的耐磨性能和耐弯折性能。
Description
技术领域
本发明涉及光学技术领域，特别是涉及一种光学组件以及包含该光学组件的电子设备。
背景技术
减反射是指减少或消除光学组件表面的反射光，从而增加光学组件的透光量，减少或消除系统的杂散光。对于手机、显示器等电子产品，需要有效的减反射装置以降低反射率，达到如使电子产品的边缘呈现“一体黑”外观表现的目的。“一体黑”会让电子产品的外观黑的很均匀，看起来更美观，同时随着电子产品中柔性屏、折叠屏的广泛应用，“一体黑”也可以让柔性屏、折叠屏在弯曲或折叠时产生的折痕看起来比较不明显。但是，如果将传统的减反射涂层直接应用于柔性屏或折叠屏，弯曲或折叠一段时间后会出现涂层开裂的情况。因此，需要进一步开发能够应用于柔性屏、折叠屏的，具有良好耐弯折性的减反射装置。
传统的减反射装置的研发主要有两个方向。第一个方向为在电子产品的表面涂覆一层低折射率的涂层，涂层折射率(Refractive Index)一般介于1.35～1.40之间。由于光经过不同物质时，物质间彼此的折射率不同，所以根据Snell’s law，光就会发生折射与反射(如图1所示)，然而反射率的理论计算只跟折射率有关，反射率R(Reflectivity)计算公式为因此单纯从改变材料折射率(N1)来降低反射率，会有物理上的限制，反射率降低幅度有限，并且低折射率的涂层不耐刮擦、容易脆化。在施工上还会额外增加一道涂布过程。除此之外，低折射率的涂层材料来源较少且价格高昂，还需要进一步筛选满足与下面涂层的附着，可供选择的材料十分有限。
第二个方向为在电子产品表面本身具有的硬化涂层中添加一些粒子来达到降低反射率的目的。但是在硬化涂层中额外引入粒子，虽然可以获得较低程度的反射率，但是会导致硬化涂层的表面耐磨性能下降，难以应用于如电子产品的屏幕表面的涂层中。
同时，传统的两个研究方向中均对减反射装置的耐弯折性能关注较少。
发明内容
基于此，本发明提供一种在具备减反射光学性能的同时，还具有较高的耐磨性能和耐弯折性能的光学组件，以及包含其的电子设备。
本发明的第一方面，提供一种光学组件，包括基材，以及于所述基材表面依次层叠的第一膜层和第二膜层，所述第二膜层中分散有质量百分比为1％～20％的减反射粒子；
以质量百分比计，所述减反射粒子包括48％～52％的第一减反射粒子、28％～32％的第二减反射粒子和18％～22％的第三减反射粒子；
其中，所述第一减反射粒子的粒径为≥50nm，且≤100nm；
所述第二减反射粒子的粒径为≥20nm，且＜50nm；
所述第三减反射粒子的粒径为＜20nm。
在其中一个实施例中，所述减反射粒子在所述第二膜层中的质量百分比为10％～20％。
在其中一个实施例中，所述减反射粒子为实心结构。
在其中一个实施例中，所述减反射粒子的材料选自二氧化硅和二氧化钛中的一种或多种。
在其中一个实施例中，所述第二膜层通过将所述减反射粒子分散在胶体中经固化成型制备，以质量百分比计，所述胶体的制备原料包括：
20％～40％的聚丙烯酸树脂、10％～30％的环氧树脂、20％～40％的丙烯酸酯低聚物、5％～25％的UV单体稀释剂以及1％～5％的光引发剂。
在其中一个实施例中，以质量百分比计，所述第一膜层的制备原料包括：
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在其中一个实施例中，所述第一膜层的折射率大于所述第二膜层的折射率。
在其中一个实施例中，所述第二膜层的厚度为0.1μm～2μm；及/或
所述第一膜层的厚度为3μm～10μm。
在其中一个实施例中，所述基材的材料为聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二酯、三醋酸纤维素、玻璃、聚碳酸酯或聚甲基丙烯酸甲酯。
本发明的第二方面，提供一种电子设备，包括本体以及嵌合于所述本体的减反射装置，所述减反射装置为如上所述的光学组件。
在其中一个实施例中，所述减反射装置为保护盖板。
上述光学组件通过在基材与第二膜层之间设置第一膜层，同时合理控制第二膜层中减反射粒子的占比，并采用不同粒径的三种减反射粒子设置合理的级配，由此：1)通过不同粒径的三种减反射粒子之间的互相配合，能够较大限度的减少反射，保证组件的减反射光学特性，同时还能够在第二膜层中形成较为稳定的胶内链接，使膜层具有较佳的耐磨性，且能够保证膜层硬度；2)适量的、不同粒径的三种减反射粒子分散的第二膜层还具有一定的柔韧性，配合设置第一膜层，使第二膜层与基材之间的附着致密，如此可以使光学组件具有较佳的耐弯折性。
此外，上述光学组件能够作为电子设备最外层的保护层，保护内部的结构，如显示面板和触控组件等，当用户在对电子设备进行点击时，不会压伤其内部的结构。
附图说明
图1为光通过介质发生折射与反射的示意图；
图2为光线遇到第二膜层中分散的减反射粒子时的折射与反射的示意图；
图3为本发明一示例的光学组件结构示意图；
图4为本发明又一示例的光学组件结构示意图；
图5为本发明再一示例的光学组件结构示意图；
图6为本发明一实施例的光学组件的电镜图。
具体实施方式
以下结合具体实施例对本发明的光学组件以及包含该光学组件的电子设备作进一步详细的说明。本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本发明公开内容理解更加透彻全面。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。
本发明中，“一种或多种”指所列项目的任一种、任两种或任两种以上。
本发明中，“第一方面”、“第二方面”等仅用于描述目的，不能理解为指示或暗示相对重要性或数量，也不能理解为隐含指明所指示的技术特征的重要性或数量。而且“第一”、“第二”等仅起到非穷举式的列举描述目的，应当理解并不构成对数量的封闭式限定。
本发明中，以开放式描述的技术特征中，包括所列举特征组成的封闭式技术方案，也包括包含所列举特征的开放式技术方案。
本发明中，涉及到数值区间，如无特别说明，上述数值区间内视为连续，且包括该范围的最小值及最大值，以及这种最小值与最大值之间的每一个值。进一步地，当范围是指整数时，包括该范围的最小值与最大值之间的每一个整数。此外，当提供多个范围描述特征或特性时，可以合并该范围。换言之，除非另有指明，否则本文中所公开之所有范围应理解为包括其中所归入的任何及所有的子范围。
本发明中，涉及的百分比含量，如无特别说明，对于固液混合和固相-固相混合均指质量百分比，对于液相-液相混合指体积百分比。
本发明中，涉及的百分比浓度，如无特别说明，均指终浓度。所述终浓度，指添加成分在添加该成分后的体系中的占比。
本发明中，的温度参数，如无特别限定，既允许为恒温处理，也允许在一定温度区间内进行处理。所述的恒温处理允许温度在仪器控制的精度范围内进行波动。
本发明中，“层叠于……表面”、“设置于……之间”可以指与层叠(设置)对象直接接触，也可以与层叠(设置)对象间接接触，即通过其它中间结构实现连接。
本发明中，“低聚物”是指由较少的重复单元所组成的聚合物，其相对分子质量介于小分子和高分子之间。不作限制地，本发明中“低聚物”是指由10～20个重复单元所组成的聚合物。
本发明提供一种光学组件，包括基材以及于所述基材表面依次层叠的第一膜层和第二膜层，第二膜层中分散有质量百分比为1％～20％的减反射粒子；以质量百分比计，减反射粒子包括48％～52％的第一减反射粒子、28％～32％的第二减反射粒子和18％～22％的第三减反射粒子；其中，第一减反射粒子的粒径为≥50nm，且≤100nm；第二减反射粒子的粒径为≥20nm，且＜50nm；第三减反射粒子的粒径为＜20nm。
可以理解地，第一膜层的主要作用在于在基材与第二膜层之间形成过渡，即作为过渡层使第二膜层与基材之间的附着致密。
不作限制地，第二膜层可为电子设备基材表面的任意功能膜层，根据电子设备的不同而设置。进一步地，第二膜层并非光学涂层。在其中一个具体的示例中，第二膜层为保护膜层，即提供对其下膜层的封装和保护作用。进一步地，第二膜层为硬质层。
不作限制地，上述光学组件的减反射原理如下：
当光线进入光学组件的第二膜层内时，遇到其中分散的减反射粒子，光线会改变原本直直的行径路线，产生了折射与反射的变化，不同粒径的减反射粒子改变光的折射与反射路径不同，光线在不同粒径的减反射粒子之间发生更多的折射和反射，反射率也因此降的更低。参见图1和2，图1为正常的光线行径介质材料时的折射与反射行为，图2是光线遇到第二膜层中分散的减反射粒子时，改变了原本行径的路线，也改变光线的折射与反射路径，进而降低反射率。同时，减反射粒子的存在除了改变光线的行径方向外，还使光线多走了路径，因此也会衰减光的能量，进一步降低反射率。
特别地，上述光学组件在第二膜层中采用特定粒径组合的减反射粒子，可以经由空隙，增加改变光的行径方向。其中，48％～52％的第一减反射粒子的粒径为≥50nm，且≤100nm，其在第二膜层中分布范围最广，首先起到改变光线路径的作用，28％～32％的第二减反射粒子(粒径为≥20nm，且＜50nm)和18％～22％的第三减反射粒子(＜20nm)，可以在第一减反射粒子之间找到空隙，再次改变光线的行径方向。当三种减反射粒子的占比和粒径在上述范围之外时，光学特性容易发生偏差，无法有效降低反射率。
在其中一个具体的示例中，第三减反射粒子的粒径为≥10μm，且＜20nm。
进一步地，减反射粒子在第二膜层中的质量百分比为1％～20％。添加量不足，会发生光入射到表面层后，无法碰到减反射粒子，因为碰不到减反射粒子，就无法改变光的行径方向。无法改变光的行径方向，光就会直直走，产生反射，导致反射率提升，无法有效降低反射率。添加量过多，可能会发生经过搅拌后的减反射粒子，仍然过于集中，过于集中的微小减反射粒子，虽然还是可以改变光的行径方向，但过于集中，会影响整体的穿透率，将会导致从底部发出的光线被遮蔽，导致穿透率降低，且无法有效降低反射率。同时，添加量过多，光学组件的雾度也会增加，影响产品的外观。具体地，减反射粒子在第二膜层中的质量百分比包括但不限于：1％、3％、4％、5％、6％、7％、8％、9％、10％、11％、12％、13％、14％、15％、16％、17％、20％。
在其中一个具体的示例中，减反射粒子在第二膜层中的质量百分比为10％～20％。
可以理解地，第二膜层通过将减反射粒子分散在胶体中经固化成型制备，减反射粒子需要在胶体中实现均匀分散。在其中一个具体的示例中，以质量百分比计，胶体的制备原料包括：
20％～40％的丙烯酸树脂低聚物、10％～20％的光固化活性稀释剂、1％～5％的光引发剂、1.5％～8％的添加剂以及50％～70％的溶剂。
其中，不作限制地，丙烯酸树脂低聚物的官能度为6～15官，可选自聚醚型聚氨酯丙烯酸酯低聚物、聚酯型聚氨酯丙烯酸酯低聚物、聚碳酸酯型聚氨酯丙烯酸酯低聚物、脂肪族聚氨酯丙烯酸酯低聚物、有机硅改性聚氨酯丙烯酸酯低聚物、氟改性聚氨酯丙烯酸酯低聚物、环氧改性聚氨酯丙烯酸酯低聚物和聚酯丙烯酸酯低聚物中的一种或多种。
不作限制地，光固化活性稀释剂的官能度主要为2～6官，可选自季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、双季戊四醇五丙烯酸酯、双季戊四醇六丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基戊烷三甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷季戊四醇三丙烯酸酯、丙氧化新戊二醇二丙烯酸酯、乙氧化1,6-己二醇二丙烯酸酯和三(2-丙烯酰氧乙基)异氰脲酸酯中的一种或多种。
不作限制地，光引发剂可选自1-羟环己基苯酮(光引发剂184)、2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮(光引发剂1173)、2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦(光引发剂TPO)和2-羟基-4-(2-羟乙氧基)-2-甲基苯丙酮(光引发剂2959)中的一种或多种。
不作限制地，添加剂可选自无机纳米材料和氟硅类添加剂中的一种或多种。
不作限制地，溶剂可选自醋酸乙酯、醋酸丁酯、丁酮、甲基异丁基甲酮、丙二醇甲醚和丙二醇甲醚醋酸酯中的一种或多种。
在其中一个具体的示例中，减反射粒子为实心结构。在上述第二膜层的制备原料中，采用实心结构的减反射粒子能够实现与胶体之间较好的相容性，同时，实心结构在破坏反射光的效果上更优，且生产和获得皆较为方便，价格也更低，不会因为环境温度变化太大而产生形变，耐用耐磨性好，信耐性(信耐性或又称信赖性(Reliability Test)，指的是产品在不同使用环境下，就算经过长时间使用，使用后的产品特性可以与一开始使用时的特性一样，不会因为随着使用时间增加而特性越来越差)表现更优。
可以理解地，减反射粒子优选为透明无色的减反射粒子。在其中一个具体的示例中，减反射粒子的材料选自二氧化硅和二氧化钛中的一种或多种。二氧化钛和二氧化硅具有较低的折射率且是透明的，且与第二膜层的制备原料在合成时，能有效地链结，提高外观透明度，雾度低。具体地，前述折射率介于1.2～1.3。如果进一步小于1.2，与第二膜层制备原料的兼容性会变差，导致无法溶解，会影响透明度、光的穿透率，增加雾度。
不作限制地，前述第二膜层的制备方法包括如下步骤：
将第二膜层的胶体的制备原料混合，制备胶体溶液；
将减反射粒子分批加入至胶体溶液中，搅拌分散。
可以理解地，第二膜层可以为一层，也可以为两层以上，如三层。多层之间可以通过未添加减反射粒子的第二膜层的胶体层连接，也可以直接接触层叠，未添加减反射粒子的第二膜层的胶体层也可以为一层以上。具体可如图3～5所示：图3展示于基材100表面依次层叠第一膜层200、两层胶体层301以及第二膜层300；图4展示于基材100表面依次层叠第一膜层200以及三层第二膜层300；图5展示于基材100表面依次层叠第一膜层200、第二膜层300、胶体层301以及第二膜层300。
在其中一个具体的示例中，第二膜层的厚度为0.1μm～2μm。研究中发现，厚度过高反射率、耐磨耗性能弯折性能均有不同程度的下降，膜厚过小，则会使得膜表面不平整，外观不良。
在其中一个具体的示例中，第一膜层的厚度为3μm～10μm。研究中发现，过厚说明层数较多，生产的良率会降低，膜厚过小，则可能会发生密着不良的状况。
在其中一个具体的示例中，以质量百分比计，第一膜层的制备原料包括：
20％～40％的丙烯酸树脂低聚物、10％～20％的光固化活性稀释剂、1％～5％的光引发剂、1.5％～8％的添加剂以及50％～70％的溶剂。
其中，不作限制地，丙烯酸树脂低聚物的官能度为6～15官，可选自聚醚型聚氨酯丙烯酸酯低聚物、聚酯型聚氨酯丙烯酸酯低聚物、聚碳酸酯型聚氨酯丙烯酸酯低聚物、脂肪族聚氨酯丙烯酸酯低聚物、有机硅改性聚氨酯丙烯酸酯低聚物、氟改性聚氨酯丙烯酸酯低聚物、环氧改性聚氨酯丙烯酸酯低聚物和聚酯丙烯酸酯低聚物中的一种或多种。
不作限制地，光固化活性稀释剂的官能度主要为2～6官，可选自季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、双季戊四醇五丙烯酸酯、双季戊四醇六丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基戊烷三甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷季戊四醇三丙烯酸酯、丙氧化新戊二醇二丙烯酸酯、乙氧化1,6-己二醇二丙烯酸酯和三(2-丙烯酰氧乙基)异氰脲酸酯中的一种或多种。
不作限制地，光引发剂可选自1-羟环己基苯酮(光引发剂184)、2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮(光引发剂1173)、2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦(光引发剂TPO)和2-羟基-4-(2-羟乙氧基)-2-甲基苯丙酮(光引发剂2959)中的一种或多种。
不作限制地，添加剂可选自无机纳米材料和氟硅类添加剂中的一种或多种。
不作限制地，溶剂可选自醋酸乙酯、醋酸丁酯、丁酮、甲基异丁基甲酮、丙二醇甲醚和丙二醇甲醚醋酸酯中的一种或多种。
在其中一个具体的示例中，第一膜层的折射率大于第二膜层的折射率。如此可以避免产生过多的反射折射，与第二膜层之间互相影响，出现干涉条纹，影响外观。进一步地，第一膜层的折射率为1.485～1.505，第二膜层的折射率为1.465～1.484。可以理解地，为不影响其过渡层功能的情况下，第一膜层中也可以适当地混入减反射粒子。混入减反射粒子后，其折射率会出现下降，如降低至1.465，同时在本示例中，为避免影响外观，仍需保证其折射率大于第二膜层的折射率，可通过如改变第二膜层的材料或其中减反射粒子的掺量等达到该目的。
在其中一个具体的示例中，基材的材料为聚酰亚胺(CPI)、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、三醋酸纤维素(TAC)、玻璃(如超薄玻璃UTG)、聚碳酸酯(PC)或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。
进一步地，上述光学组件还包括设置于基材与第一膜层之间的介质层，介质层的达因值≥40。不作限制地，需要添加介质层的情况之一在于，基材的表面能太小，当达因值小于40(可用达因笔测达因值)时，第一膜层在基材上会发生密着性不佳，导致功能层很容易从基材上剥离，该介质层的存在可以提高基材的表面能，使第一膜层与基材的密着性良好
在其中一个具体的示例中，介质层的厚度为100nm～300nm。
在其中一个具体的示例中，介质层的材料为primer(例如氯化聚丙烯、SBS树脂等)或者是Corona(Corona是指以电晕处理配合硬化胶附着或使硬化胶易于涂布在基材表面)
本发明还提供一种电子设备，包括本体以及嵌合于本体的减反射装置，所减反射装置为上述的光学组件。进一步地，电子设备可如手机、显示器。
在其中一个具体的示例中，减反射装置为保护盖板。进一步地，保护盖板为屏幕盖板。
以下为具体的实施例。
实施例和对比例中形成过渡层的胶水相同，组成如下(质量百分比)：
杰事达DSP-552F(6官氟改性聚氨酯丙烯酸酯低聚物)15％、长兴化学6195-100(10官脂肪族聚氨酯丙烯酸酯低聚物)10％、双季戊四醇六丙烯酸酯10％、光引发剂2959 2％、NANOBYK-3605(无机纳米材料)2.5％、信越KY-1203(氟硅类添加剂)1％、丙二醇甲醚20％和醋酸丁酯39.5％。
实施例1～5和对比例1～3提供的光学组件，其制作方法如下：
(1)过渡层制作：将过渡层的胶水倒在基材PET上，使用线棒将胶均匀涂在基材上，经过UV灯照射硬化，UV灯照射能量约220mJ，得到过渡层，层厚约6μm；
(2)硬质膜层制作：
2.1按照表1(质量百分比)的级配混合二氧化硅实心粒子；
2.2按照如下配方配制胶体(质量百分比)：
胶体1：杰事达DSP-552F(6官氟改性聚氨酯丙烯酸酯低聚物)15％、长兴化学6195-100(10官脂肪族聚氨酯丙烯酸酯低聚物)10％、双季戊四醇六丙烯酸酯10％、光引发剂29592％、NANOBYK-3605(无机纳米材料)2.5％、信越KY-1203(氟硅类添加剂)1％、丙二醇甲醚20％和醋酸丁酯39.5％。
胶体2：八禾新材料BW8025(平均10官氟改性聚氨酯丙烯酸酯低聚物)10％、沙多玛CN9006NS(6官脂肪族聚氨酯丙烯酸酯低聚物)18％、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)12％、光引发剂2959 2.2％、NANOBYK-3605(无机纳米材料)2.5％、信越KY-1203(氟硅类添加剂)1％、丙二醇甲醚15％和醋酸丁酯30.7％。
胶体3：长兴化学6196-100(15官脂肪族聚氨酯丙烯酸酯低聚物)10％、沙多玛CN9006NS(6官脂肪族聚氨酯丙烯酸酯低聚物)15％、季戊四醇三丙烯酸酯13％、光引发剂1173 2.5％、NANOBYK-3605(无机纳米材料)2.5％、信越KY-1203(氟硅类添加剂)1％、丙二醇甲醚19％和醋酸丁酯37％。
2.3按照表1的质量百分比将二氧化硅实心粒子分批倒入相应的胶体中均匀搅拌，搅拌转速控制为每分钟180转，加入完成后继续搅拌10分钟；
2.4将步骤2.3所得混合物倒在过渡层的表面，利用滚轮均匀涂在基材上，控制滚轮与过渡层表面间的距离约1μm～2μm，经过UV灯照射硬化，UV灯照射能量约220mJ，得到硬质膜层，膜层厚度为2μm。
对比例3提供的光学组件的制作方法和原料同实施例1，主要区别在于：未进行步骤(1)过渡层的制作。
其中，实施例1制作得到的光学组件的电镜图如图6所示。
表1
对实施例1～7以及对比例1～3的光学组件的测试方法如下：
(1)反射率测试方法(光谱仪型号：柯尼卡美能达CM-5；光源为D65，角度为100)：
1.1准备两个线性偏光片(Polarizer)；
1.2垂直粘合两个偏光片(Polarizer)；
1.3.粘合测试样品和交叉偏光片；
1.4.将测试样品面放在传感器区域；
1.5.确保被测样品平整且各粘合剂间无气泡；
1.6.开始量测，确认量测结果。
(2)弯折性能测试方法(设备型号：汤浅DML HB-FS)：
2.1准备用于折叠的测试样品；
2.2被测样品长度不小于150mm；
2.3对于内折叠，硬质膜层朝上；
2.4将测试样品的两侧固定在折叠板上；
2.5设置折叠频率为每秒一次；
2.6每5万次监测一次，直到20万次停止；
2.7检查外观并比较折叠前与折叠后的光学结果。
(3)穿透率(Transmittance)/雾度：
一束入射光穿过产品后，部分光会直直走，部分光会发生散射。+/-3度的光，定义为直线走的光，超过+/-3度的光称为散射光。
穿透率测试直线走的光与入射光的比值；雾度测试散射光与入射光的比值。
(4)耐磨：
0000#钢丝绒负重1kg上放法码重物来对产品做摩擦测试，1500次无明显划痕。
(5)硬度：
750g负重条件下进行测试。
结果如下表2所示：
表2
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，便于具体和详细地理解本发明的技术方案，但并不能因此而理解为对发明专利保护范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。应当理解，本领域技术人员在本发明提供的技术方案的基础上，通过合乎逻辑的分析、推理或者有限的试验得到的技术方案，均在本发明所附权利要求的保护范围内。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求的内容为准，说明书及附图可以用于解释权利要求的内容。
Claims (11)
1.一种光学组件，其特征在于，包括基材以及于所述基材表面依次层叠的第一膜层和第二膜层，所述第二膜层中分散有占所述第二膜层质量百分比为5%~20%的减反射粒子；
以质量百分比计，所述减反射粒子包括48%~52%的第一减反射粒子、28%~32%的第二减反射粒子和18%~22%的第三减反射粒子；
其中，所述第一减反射粒子的粒径分布为≥50nm，且≤100nm；
所述第二减反射粒子的粒径分布为≥20nm，且＜50nm；
所述第三减反射粒子的粒径分布为＜20nm；
所述减反射粒子为实心结构；
所述第一膜层的制备原料包括：20％～40％的丙烯酸树脂低聚物、10％～20％的光固化活性稀释剂、1％～5％的光引发剂、1.5％～8％的添加剂以及50％～70％的溶剂；
所述第二膜层通过将所述减反射粒子分散在胶体中经固化成型制备，以质量百分比计，所述胶体的制备原料包括：20％～40％的丙烯酸树脂低聚物、10％～20％的光固化活性稀释剂、1％～5％的光引发剂、1.5％～8％的添加剂以及50％～70％的溶剂；
所述第一膜层的折射率大于所述第二膜层的折射率。
2.根据权利要求1所述的光学组件，其特征在于，所述减反射粒子在所述第二膜层中的质量百分比为7%~20%。
3.根据权利要求2所述的光学组件，其特征在于，所述减反射粒子在所述第二膜层中的质量百分比为10%~20%。
4.根据权利要求1所述的光学组件，其特征在于，所述减反射粒子的材料选自二氧化硅和二氧化钛中的一种或多种。
5.根据权利要求1~3任一项所述的光学组件，其特征在于，所述第一膜层的丙烯酸树脂低聚物和所述第二膜层的丙烯酸树脂低聚物的官能度为6~15官，选自聚醚型聚氨酯丙烯酸酯低聚物、聚酯型聚氨酯丙烯酸酯低聚物、聚碳酸酯型聚氨酯丙烯酸酯低聚物、脂肪族聚氨酯丙烯酸酯低聚物、有机硅改性聚氨酯丙烯酸酯低聚物、氟改性聚氨酯丙烯酸酯低聚物、环氧改性聚氨酯丙烯酸酯低聚物和聚酯丙烯酸酯低聚物中的一种或多种。
6.根据权利要求1~3任一项所述的光学组件，其特征在于，所述第一膜层的光固化活性稀释剂和所述第二膜层的光固化活性稀释剂的官能度为2~6官，选自季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、双季戊四醇五丙烯酸酯、双季戊四醇六丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、1,6-己二醇二（甲基）丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基戊烷三甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷季戊四醇三丙烯酸酯、丙氧化新戊二醇二丙烯酸酯、乙氧化1,6-己二醇二丙烯酸酯和三(2-丙烯酰氧乙基)异氰脲酸酯中的一种或多种。
7.根据权利要求1~3任一项所述的光学组件，其特征在于，所述第二膜层的厚度为0.1μm~2μm。
8.根据权利要求1~3任一项所述的光学组件，其特征在于，所述第一膜层的厚度为3μm~10μm。
9.根据权利要求1~3任一项所述的光学组件，其特征在于，所述基材的材料为聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二酯、三醋酸纤维素、玻璃、聚碳酸酯或聚甲基丙烯酸甲酯。
10.一种电子设备，其特征在于，包括本体以及嵌合于所述本体的减反射装置，所述减反射装置为权利要求1~9任一项所述的光学组件。
11.根据权利要求10所述的电子设备，其特征在于，所述减反射装置为保护盖板。
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