JP2023099316A - 光学部品及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】反射防止性能を確保しつつ、構成と製造プロセスがより簡単な光学部品及びその製造方法を提供する。【解決手段】本発明は、光学部品及びその製造方法に関する。当該光学部品は、基材と第１のフィルム層とを含む。基材は粗い第１の表面を有し、第１の表面の平均粗さＲａは１μｍ～１００μｍであり、かつＲａは基材の厚さの１／２未満であり、第１のフィルム層は第１の表面に付着している。反射防止性能を確保しつつ、構成と製造プロセスがより簡単である。【選択図】図２
Description
本発明は、光学技術分野に関し、特に、光学部品及びその製造方法に関する。
反射防止とは、光学部品の表面からの反射光を低減又は除去し、それによって光学部品の光透過量を増加させ、システムの迷光を低減又は除去することを意味する。携帯電話、ディスプレイなどの電子製品には、反射率を低下させて、例えば電子製品の縁部を「一体的に黒く」見えるようにする目的を達成できる効果的な反射防止装置が必要である。「一体的に黒く」見えることによって、電子製品の外観を非常に均一に黒くし、より美しいように見えるようにするとともに、電子製品におけるフレキシブルスクリーン、折り畳みスクリーンの幅広い使用に伴い、「一体的に黒く」見えることによって、フレキシブルスクリーン、折り畳みスクリーンが曲がったり折り畳んだりするときに生じる折り目を目立たなく見えるようにすることもできる。
従来の反射防止装置は、通常、基材と、基材上に積層された光学コーティングと硬質層とを含む。その反射防止作用の開発において、主な方向は、基材の表面に低屈折率の光学コーティングを塗布することである。該光学コーティングの屈折率（Ｒｅｆｒａｃｔｉｖｅ Ｉｎｄｅｘ）は一般的に１．３５～１．４０である。光が異なる物質を通過すると物質間で互いの屈折率が異なるため、Ｓｎｅｌｌ’ｓ ｌａｗにより光は屈折と反射が発生する（図１に示すように）が、反射率の理論計算は屈折率のみに依存し、反射率Ｒ（Ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｉｔｙ）の計算式は、
であるため、材料の屈折率（Ｎ１）を変えるだけで反射率を低下させることには物理的な制約があり、反射率の低下幅に限界があるとともに、低屈折率のコーティングはスクラッチに耐えられず脆化しやすい。施工にはさらに塗布工程が追加される。加えて、低屈折率のコーティング材料の供給源は少なく、高価であり、下のコーティング又は基材への付着を満たすためのさらなるスクリーニングが必要であり、選択可能な材料は非常に限られている。
また、反射防止作用を有する光学コーティングにさらに粗化処理を施す方法もあり、該方法によってより低い反射率を得ることができるが、依然として特定の材料の光学コーティングを採用し、塗布工程を追加する必要があるという問題点がある。
これに基づいて、本発明は、反射防止性能を確保しつつ、構成と製造プロセスがより簡単な光学部品及びその製造方法を提供する。
本発明の第１の態様は、基材と第１のフィルム層とを含み、前記基材は粗い第１の表面を有し、前記第１の表面の平均粗さＲａは１μｍ～１００μｍであり、かつＲａは前記基材の厚さの１／２未満であり、前記第１のフィルム層は前記第１の表面に付着している、光学部品を提供する。
一実施例において、Ｒａは前記基材の厚さの１／３未満である。
一実施例において、Ｒａは２５μｍ～５０μｍである。
一実施例において、前記基材の厚さは５０μｍ～５００μｍである。
一実施例において、前記第１の表面の凸部及び凹部は不規則に配置されている。
一実施例において、前記基材の材料のＴｇは８０℃～３００℃である。
一実施例において、前記第１のフィルム層の厚さは２μｍ～１０μｍである。
一実施例において、前記第１のフィルム層の製造原料は、質量百分率で、２０％～４０％のアクリル樹脂オリゴマー、１０％～２０％の光硬化性反応性希釈剤、１％～５％の光開始剤、１．５％～８％の添加剤、及び５０％～７０％の溶媒を含む。
一実施例において、前記硬質フィルム層には、前記硬質フィルム層に占める質量百分率で１％～２０％の反射防止粒子が分散されている。
一実施例において、前記反射防止粒子は、質量百分率で、４８％～５２％の第１の反射防止粒子と、２８％～３２％の第２の反射防止粒子と、１８％～２２％の第３の反射防止粒子とを含み、前記第１の反射防止粒子の粒径は≧５０ｎｍであり、かつ≦１００ｎｍであり、前記第２の反射防止粒子の粒径は≧２０ｎｍであり、かつ＜５０ｎｍであり、前記第３の反射防止粒子の粒径は＜２０ｎｍである。
本発明の第２の態様は、加熱後の熱間圧延ロールを採用して基材をロール圧延して前記第１の表面を形成するステップと、前記第１の表面に第１のフィルム層の材料を塗布し、硬化させて前記第１のフィルム層を形成するステップと、を含む、前記光学部品の製造方法を提供する。
一実施例において、前記熱間圧延ロールの温度を７０℃～１５０℃まで加熱する。
本発明の第３の態様は、本体と、前記本体に嵌合された上記の光学部品である反射防止装置とを含む電子機器を提供する。
一実施例において、前記反射防止装置は保護カバーである。
上記光学部品によれば、基材上に特定の寸法の粗いトポグラフィの第１の表面を直接形成し、該粗いトポグラフィによって反射光を破壊する目的を達成し、光学部品の反射防止機能を確保することができる。それと同時に、構成上に追加の反射防止層の設計を行う必要がないため、低屈折率材料の選択可能な範囲が小さいという制限を克服し、光学部品の製造プロセスも簡略化し、広い応用価値がある。
また、本発明者は、研究により、基材の第１の表面の粗いトポグラフィに基づいて、第１のフィルム層と基材との接触面積が増加し、第１のフィルム層と基材との間の密着性を効果的に向上させることができるとともに、内曲げ時の内応力を低減し、光学部品に良好な耐屈曲性を付与することができることを見出した。これにより、従来の反射防止コーティングがフレキシブルスクリーン又は折り畳みスクリーンに直接適用される場合、一定時間折り曲げたり折り畳んだりするとコーティングが割れてしまうという問題を効果的に解決し、電子機器のフレキシブルスクリーン、折り畳みスクリーンなどに適用可能である。
さらに、上記光学部品は、高い光透過率と低いヘイズも有している。
以下、具体的な実施例を参照して本発明の光学部品及びその製造方法についてさらに詳細に説明する。本発明は、本明細書に記載の実施形態に限定されるものではなく、多くの異なる形態で実現することができる。逆に、これらの実施形態を提供する目的は、本発明の開示内容をより完全に理解することである。
特に定義がない限り、本明細書で使用される全ての技術用語及び科学用語は、本発明の技術分野に属する技術者が一般に理解するものと同じ意味である。本明細書において使用される用語は、具体的な実施例を説明するためのものだけであり、本発明を限定することを意図するものではない。
本発明において、「１つ又は複数」とは、列挙された項目のいずれか１つ、いずれか２つ又はいずれか２つ以上を意味する。
本発明において、「第１の態様」、「第２の態様」、「第３の態様」、「第４の態様」、「第５の態様」などは、単に説明のためのものであり、相対的な重要性又は数を示すか又は示唆するものとして理解されるべきではなく、示された技術的特徴の重要性又は数を暗黙的に示すものとして理解されるべきではない。また、「第１の」、「第２の」、「第３の」、「第４の」、「第５の」などは、非網羅的な列挙を目的とするにすぎず、数の閉鎖的な限定を構成するものではないことを理解されたい。
本発明において、開放的に記載された技術的特徴には、記載された特徴からなる閉鎖的な技術的手段が含まれ、列挙された特徴を含む開放的な技術的手段も含まれる。
本発明において、数値区間に関しては、特に断りがない限り、上記数値区間内で連続しており、その範囲の最小値及び最大値、並びにその最小値と最大値との間の各値を含むものとみなす。また、範囲が整数である場合、その範囲の最小値と最大値の間の各整数が含まれる。さらに、複数の範囲を用いて特徴や特性を説明する場合には、その範囲を組み合わせることができる。言い換えれば、特に指定がない限り、本明細書に開示されている全ての範囲は、その中に組み込まれている任意及び全てのサブ範囲を含むと理解されるべきである。
本発明において、関連する百分率含有量とは、特に断りがない限り、固液混合と固相－固相混合については質量百分率、液相－液相混合については体積百分率を指す。
本発明において、関連する百分率濃度とは、特に断りがない限り、最終濃度を指す。前記最終濃度とは、該成分を添加した系における添加成分の割合を指す。
本発明において、温度パラメータについては、特に限定しない限り、恒温処理であってもよいし、一定温度区間内での処理であってもよい。前記恒温処理では、温度が機器に制御可能な精度範囲内で変動可能である。
本発明において、「・・・表面に付着」とは、付着対象と直接接触していることを指してもよいし、付着対象と間接接触していること、即ち他の中間構造によって接続されることを指してもよい。
本発明において、「Ｔｇ」とは、材料のガラス転移温度を指す。
本発明において、「オリゴマー」とは、小分子と高分子の間の相対分子質量を有する、比較的少数の繰り返し単位が結合したポリマーを指す。本発明において、「オリゴマー」とは、１０～２０の繰り返し単位が結合したポリマーを指すが、これに限定されない。
本発明は、図２に示すように、基材１００と第１のフィルム層２００とを含む光学部品を提供する。ここで、基材１００は粗い第１の表面１０１を有し、第１の表面１０１の平均粗さＲａは１μｍ～１００μｍであり、かつＲａは基材１００の厚さの１／２未満であり、第１のフィルム層２００は第１の表面１０１に付着している。
理解されるように、基材１００の厚さとは、基材１００の底面と粗い第１の表面１０１の上端との間の距離を意味する。
第１のフィルム層２００は、特に限定されないが、電子機器の基材表面の任意の機能性フィルム層であってもよく、電子機器によっては設定される。さらに、第１のフィルム層２００は、光学コーティングではない。
一具体例において、第１のフィルム層２００は保護フィルム層であり、即ち、基材１００のパッケージ及び保護作用を提供するものである。さらに、第１のフィルム層２００は硬質層である。
特に限定されないが、図３を参照すると、上記光学部品の反射防止原理は以下のとおりである。粗い第１の表面１０１を有する基材１００に光線が入ると、光の進行経路が破壊され、光の反射経路が変化し、特に入射光が界面に対して垂直に近づくと、光の経路が前方に進み、屈折し、光の元の進行方向が変化し、光のエネルギーも減衰し、反射光のエネルギーも低下するので、反射防止の目的を達成することができる。
上記光学部品の第１の表面１０１は、その粗いトポグラフィの寸法を合理的に制御する必要がある。Ｒａが大きすぎる場合、即ち表面の高低差が大きい場合、硬質層用の接着剤は通常、粘着性があるため、接着剤塗布時に谷底部分に到達しにくく、第１の表面を完全に覆うことができないため、空隙が発生する。このように、（１）空隙は完全に密着していないことを意味し、しかも空隙はランダムに分布しているか、大きさが異なる可能性があるため、外観に不均一などの異状が現れ、使用者の体験に影響を与えること、（２）空隙の中に存在するのは空気（気泡）あるいはその他の小さな異物（不純物）である可能性があり、この空隙によって光の屈折と反射が変化し、特殊な検査光源の下で外観上の異状を発見し、不均一な視覚効果を呈すること、という２つの問題を引き起こす。また、Ｒａが大きすぎると、ヘイズの増加や透過率の低下を招くこともある。Ｒａが小さすぎると、光の波長範囲が３８０ｎｍ～７８０ｎｍであるため、寸法が光の１つの波長よりも小さいと、光の１つの波長の完全な挙動を反応することができなくなり、反射光の割合を増加させ、反射防止効果に影響を与える。それと同時に、製造プロセス上の実現が難しく、微細化加工も生産コストを増加する。また、Ｒａは基材１００の厚さの１／２未満である必要がある。これにより、反射防止作用を実現するとともに、基材の支持性を確保することができる。
具体的には、Ｒａは、１μｍ、５μｍ、１０μｍ、１２μｍ、２０μｍ、２３μｍ、２５μｍ、２７μｍ、３０μｍ、３２μｍ、３５μｍ、３７μｍ、４０μｍ、４３μｍ、４５μｍ、４７μｍ、５０μｍ、６０μｍ、７０μｍ、８０μｍ、１００μｍを含むが、これらに限定されない。さらに、Ｒａは２５μｍ～５０μｍである。またさらに、Ｒａは３５μｍ～４０μｍである。
一具体例において、Ｒａは基材１００の厚さの１／３未満である。
一具体例において、第１の表面１０１の凸部及び凹部は不規則に配置されている。光学部品がフレキシブル又は折り畳みディスプレイパネルの最外層の保護カバーに適用される場合、使用者の目により近いため、規則的な配置を採用すると、表示画面上の画素（ｐｉｘｅｌ）と干渉現象が発生しやすく、これらの干渉現象は製品の外観に明らかに影響し、使用者に受け入れられにくい。
一具体例において、基材１００の厚さは５０μｍ～５００μｍである。基材１００の厚さは、薄すぎると平坦度が比較的悪くなり、割れやすく、製品の歩留まりが低く、厚すぎると材料コストや重量が増加し、外観が不透明になる。具体的には、基材１００の厚さは、５０μｍ、８０μｍ、１００μｍ、１５０μｍ、１６０μｍ、１７０μｍ、１８５μｍ、１８８μｍ、１９０μｍ、２００μｍ、２５０μｍ、３００μｍ、４００μｍ、５００μｍを含むが、これらに限定されない。
一具体例において、基材１００の材料のＴｇは８０℃～３００℃である。さらに、基材１００の材料のＴｇは１００℃～１７０℃である。Ｔｇ温度が低すぎると、基材が低い温度で状態変化の傾向があり、環境温度がわずかに高いと、基材１００の表面トポグラフィが微小に変形してその光学特性に影響を及ぼす。Ｔｇ温度が高すぎると、光学部品の製造中に高い加工温度が必要となり、使用可能な機器が制限され、エネルギー消費が増大する。
基材１００の材料は、特に限定されないが、ポリイミド（ＣＰＩ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、ガラス（例えば、超薄ガラスＵＴＧ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、又はポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）である。ここで、ＰＥＴは主にフレキシブル折り畳みディスプレイパネルの最外層の保護カバーに適用され、ＣＰＩは主にフレキシブル折り畳みディスプレイパネルの最外層の保護カバーに適用され、ＴＡＣは主にサングラスの最外層に貼られた保護カバーに適用され、ＵＴＧは主にフレキシブル折り畳みディスプレイパネルの最外層の保護カバーに適用され、ＰＣは主に液晶ディスプレイ（ＴＦＴ－ＬＣＤ）パネルの最外層の保護カバーに適用され、ＰＭＭＡは主に液晶ディスプレイ（ＴＦＴ－ＬＣＤ）パネルの最外層の保護カバーに適用される。
一具体例において、第１のフィルム層２００の厚さは２μｍ～１０μｍである。理解されるように、第１のフィルム層２００の厚さとは、第１のフィルム層２００の表面と粗い第１の表面１０１の上端との間の距離を意味する。具体的には、第１のフィルム層２００の厚さは、２μｍ、５μｍ、６μｍ、７μｍ、８μｍ、９μｍ、１０μｍを含むが、これらに限定されない。
一具体例において、第１のフィルム層２００の製造原料は、質量百分率で、２０％～４０％のアクリル樹脂オリゴマー、１０％～２０％の光硬化性反応性希釈剤、１％～５％の光開始剤、１．５％～８％の添加剤及び５０％～７０％の溶媒を含む。
ここで、アクリル樹脂オリゴマーは、特に限定されないが、官能価が６～１５官能であり、ポリエーテル系ウレタンアクリレートオリゴマー、ポリエステル系ウレタンアクリレートオリゴマー、ポリカーボネート系ウレタンアクリレートオリゴマー、脂肪族ウレタンアクリレートオリゴマー、シリコーン変性ウレタンアクリレートオリゴマー、フッ素変性ウレタンアクリレートオリゴマー、エポキシ変性ウレタンアクリレートオリゴマー、及びポリエステルアクリレートオリゴマーからなる群から選択される１つ又は複数であってもよい。
光硬化性反応性希釈剤は、特に限定されないが、官能価が主に２～６官能であり、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールペンタントリメタクリレート、トリメチロールプロパントペンタエリスリトールトリアクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジアクリレート、エトキシ化１，６－ヘキサンジオールジアクリレート、及びトリス（２－アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレートからなる群から選択される１つ又は複数であってもよい。
光開始剤は、特に限定されないが、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（光開始剤１８４）、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン（光開始剤１１７３）、２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニルホスフィンオキシド（光開始剤ＴＰＯ）、及び２－ヒドロキシ－４－（２－ヒドロキシエトキシ）－２－メチルプロピオフェノン（光開始剤２９５９）からなる群から選択される１つ又は複数であってもよい。
添加剤は、特に限定されないが、無機ナノ材料及びフルオロシリコン系添加剤からなる群から選択される１つ又は複数であってもよい。
溶媒は、特に限定されないが、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、プロピレングリコールメチルエーテル、及びプロピレングリコールメチルエーテルアセテートからなる群から選択される１つ又は複数であってもよい。
一具体例において、第１のフィルム層２００の製造原料は、反射防止粒子をさらに含んでもよい。これにより、反射防止効果をさらに高めることができる。反射防止粒子の材料としては、シリカ及びチタニアのうちの１つ又は複数を含むが、これらに限定されない。
さらに、硬質フィルム層中の反射防止粒子の割合を合理的に制御し、異なる粒径の３種類の反射防止粒子を採用して合理的なオーダーで配置することにより、光学部品により優れた反射防止効果を付与すると同時に、その耐屈曲性を損なわないようにすることができる。
一具体例において、第１のフィルム層２００には、第１のフィルム層２００に占める質量百分率で１％～２０％の反射防止粒子が分散されている。
一具体例において、反射防止粒子は、質量百分率で、４８％～５２％の第１の反射防止粒子と、２８％～３２％の第２の反射防止粒子と、１８％～２２％の第３の反射防止粒子とを含む。ここで、第１の反射防止粒子の粒径は≧５０ｎｍであり、かつ≦１００ｎｍであり、第２の反射防止粒子の粒径は≧２０ｎｍであり、かつ＜５０ｎｍであり、第３の反射防止粒子の粒径は＜２０ｎｍである。さらに、第３の反射防止粒子の粒径は≧１０μｍであり、かつ＜２０ｎｍである。
本発明は、加熱後の熱間圧延ロールを採用して基材１００をロール圧延して第１の表面１０１を形成するステップＳ１と、第１の表面１０１に第１のフィルム層の材料を塗布し、硬化させて第１のフィルム層２００を形成するステップＳ２と、を含む前記光学部品の製造方法をさらに提供する。
具体的には、図４に示すように、ステップＳ１において、熱間圧延ロールは、所望の第１の表面１０１に対応する表面トポグラフィを有し、基材１００を加熱してロール圧延することにより、基材１００の平坦性を損ない、第１の表面１０１を形成する。ロール圧延後の基材１００を図５に示す。
熱間圧延ロールの表面トポグラフィを得る方式は、特に限定されないが、以下のステップを含む。まず、熱間圧延ロールの表面に銅をめっきし、めっき時間が長いほど、この銅の厚さは厚くなり、めっきする厚さは熱間圧延ロールの表面トポグラフィの需要に依存し、５０μｍ～２００μｍに設定してもよい。めっきが完了した後、ダイヤモンドナイフなどの加工部材が取り付けられた精密加工の機械を利用して、めっき銅層に所望の形状と深さ（Ｒａ）を刻む。
理解されるように、基材１００の異なる材料の異なるＴｇ点に基づいて熱間圧延ロールの温度を設定してロール圧延してもよい。基材１００の表面にわずかな熱歪みを生じさせ、所望の第１の表面１０１のトポグラフィに到達させればよい。一具体例において、熱間圧延ロールの温度を７０℃～１５０℃まで加熱する。さらに、ＴＡＣ、ＰＥＴ又はＰＭＭＡについては、熱間圧延ロールの温度を８０℃～１３０℃まで加熱し、ＣＰＩ又はＵＴＧについては、熱間圧延ロールの温度を１００℃～１５０℃まで加熱し、ＰＣについては、熱間圧延ロールの温度を７０℃～１２０℃まで加熱する。温度が高すぎると、基材１００全体を変形させたり、基材１００の構造を破壊したりするおそれがあり、温度が低すぎると、基材１００の表面を変形させることができない。
具体的には、ステップＳ２において、第１の表面１０１に第１のフィルム層２００の材料を塗布し、硬化させて第１のフィルム層２００を形成し、図２に示すような光学部品を製造する。
本発明は、さらに、本体と、本体に嵌合された上記の光学部品である反射防止装置とを含む電子機器を提供する。さらに、電子機器は、例えば携帯電話、ディスプレイであってもよい。
一具体例において、反射防止装置は保護カバーである。さらに、保護カバーはスクリーンカバーである。
以下、具体的な実施例について説明する。
実施例において硬質層を形成する接着剤の組成は以下のとおりである。
中国ＪｅｓｉｄａＤＳＰ－５５２Ｆ（６官能フッ素変性ウレタンアクリレートオリゴマー）１５％、長興化学６１９５－１００（１０官能脂肪族ウレタンアクリレートオリゴマー）１０％、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１０％、光開始剤２９５９ ２％、ＮＡＮＯＢＹＫ－３６０５（無機ナノ材料）２．５％、信越ＫＹ－１２０３（フルオロシリコン系添加剤）１％、プロピレングリコールメチルエーテル２０％、及び酢酸ブチル３９．５％。
中国ＪｅｓｉｄａＤＳＰ－５５２Ｆ（６官能フッ素変性ウレタンアクリレートオリゴマー）１５％、長興化学６１９５－１００（１０官能脂肪族ウレタンアクリレートオリゴマー）１０％、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１０％、光開始剤２９５９ ２％、ＮＡＮＯＢＹＫ－３６０５（無機ナノ材料）２．５％、信越ＫＹ－１２０３（フルオロシリコン系添加剤）１％、プロピレングリコールメチルエーテル２０％、及び酢酸ブチル３９．５％。
実施例１～５及び比較例２にて提供される光学部品の製造方法は、以下のとおりである。
（１）表１に従って、厚さ１８８μｍのＰＥＴを基材として、熱間圧延ロールを表１に示す温度まで加熱した後に基材をロール圧延し、第１の表面を形成した。第１の表面のＲａを表１に示す。
（２）第１の表面に接着剤を塗布し、硬化させて硬質層を形成した。硬質層の厚さは１０μｍである。
（１）表１に従って、厚さ１８８μｍのＰＥＴを基材として、熱間圧延ロールを表１に示す温度まで加熱した後に基材をロール圧延し、第１の表面を形成した。第１の表面のＲａを表１に示す。
（２）第１の表面に接着剤を塗布し、硬化させて硬質層を形成した。硬質層の厚さは１０μｍである。
実施例６の製造方法は、主に、厚さ６５μｍのＣＰＩフィルムを基材として用い、かつＲａが１２μｍである点を除いて、実施例３と同様である。
実施例７の製造方法は、主に、接着剤中に質量百分率が１０％のシリカ粒子を混合して硬質層を形成し、シリカ粒子の粒径分布が、５０％：５０ｎｍ≦Ｒ≦１００ｎｍ、３０％：２０ｎｍ≦Ｒ＜５０ｎｍ、２０％：１０μｍ≦Ｒ＜２０ｎｍである点を除いて、実施例３と同様である。
比較例１にて提供される光学部品の製造方法は、主に、ステップ（１）のロール圧延を行っていない点、即ち基材の表面に粗化処理を行っていない点を除いて、実施例１と同様である。
実施例１～７及び比較例１～２の光学部品の試験方法は以下のとおりである。
（１）反射率測定方法（分光測色計型番：コニカミノルタＣＭ－５、光源Ｄ６５、角度１００）：
１．１ ２枚の直線偏光子（Ｐｏｌａｒｉｚｅｒ）を準備する。
１．２ ２枚の偏光子（Ｐｏｌａｒｉｚｅｒ）を垂直に接着する。
１．３ 試験サンプルと交差偏光子を粘着する。
１．４ 試験サンプル面をセンサ領域に置く。
１．５ 被試験サンプルが平らで、各粘着剤間に気泡がないことを確保する。
１．６ 計測を開始し、計測結果を確認する。
（２）屈曲性能試験方法（設備型番：湯浅ＤＭＬ ＨＢ－ＦＳ）：
２．１ 折り畳み用の試験サンプルを準備する。
２．２ 試験サンプルの長さは１５０ｍｍ以上である。
２．３ 内側折り畳みの場合、硬質層は上向きである。
２．４ 試験サンプルの両側を折り畳み板に固定する。
２．５ 折り畳み頻度を毎秒１回に設定する。
２．６ ２０万回まで５万回に１回監視する。
２．７ 外観を検査し、折り畳み前と折り畳み後の光学的結果を比較する。
（３）透過率（Ｔｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅ）／ヘイズ：
入射光束が製品を通過すると、一部はまっすぐに進み、他の一部は散乱する。＋／－３度の光は、直進光と定義され、＋／－３度を超える光は散乱光と呼ばれる。
（１）反射率測定方法（分光測色計型番：コニカミノルタＣＭ－５、光源Ｄ６５、角度１００）：
１．１ ２枚の直線偏光子（Ｐｏｌａｒｉｚｅｒ）を準備する。
１．２ ２枚の偏光子（Ｐｏｌａｒｉｚｅｒ）を垂直に接着する。
１．３ 試験サンプルと交差偏光子を粘着する。
１．４ 試験サンプル面をセンサ領域に置く。
１．５ 被試験サンプルが平らで、各粘着剤間に気泡がないことを確保する。
１．６ 計測を開始し、計測結果を確認する。
（２）屈曲性能試験方法（設備型番：湯浅ＤＭＬ ＨＢ－ＦＳ）：
２．１ 折り畳み用の試験サンプルを準備する。
２．２ 試験サンプルの長さは１５０ｍｍ以上である。
２．３ 内側折り畳みの場合、硬質層は上向きである。
２．４ 試験サンプルの両側を折り畳み板に固定する。
２．５ 折り畳み頻度を毎秒１回に設定する。
２．６ ２０万回まで５万回に１回監視する。
２．７ 外観を検査し、折り畳み前と折り畳み後の光学的結果を比較する。
（３）透過率（Ｔｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅ）／ヘイズ：
入射光束が製品を通過すると、一部はまっすぐに進み、他の一部は散乱する。＋／－３度の光は、直進光と定義され、＋／－３度を超える光は散乱光と呼ばれる。
透過率は直進光と入射光との比を測定したものであり、ヘイズは散乱光と入射光との比を測定したものである。
結果を次の表２に示す。
表２から分かるように、実施例１～６の光学部品は、Ｒａ値を適切に制御することにより、いずれも比較例１～２よりも優れた反射防止性能を実現した。ここで、基材がＰＥＴである場合には、実施例３及び４のほうが優れている。
それと同時に、実施例１～６の光学部品は、良好な耐屈曲性、高い光透過率、及び低いヘイズをさらに有している。一方、比較例１～２はいずれも屈曲性能試験に合格せず、かつ、比較例２はＲａ値が大きいため、透過率が著しく低下し、ヘイズが著しく増加した。
実施例７は、実施例３と比較して、硬質層にシリカ粒子を導入することにより、光学部品の耐屈曲性、光透過率及びヘイズに影響を与えることなく、反射防止効果をさらに低減することができた。
上述した実施例の各技術的特徴は、任意に組み合わせることが可能であり、説明を簡潔にするために、上述した実施例における各技術的特徴の全ての可能な組み合わせについては説明していないが、これらの技術的特徴の組み合わせは、矛盾しない限り、本明細書に記載された範囲内であると考えられるべきである。
上述した実施例は、本発明のいくつかの実施形態を示しているに過ぎず、本発明の技術的解決手段の具体的かつ詳細な理解を容易にするものであり、本発明の特許請求の範囲を限定するものではない。当業者であれば、本発明の概念から逸脱することなく、いくつかの変形及び改良を行うことができ、これらは本発明の保護範囲に属することに留意されたい。当業者であれば、本発明によって提供される解決策に基づいて、論理的な分析、推論又は限定的な試験によって得られる解決策は、本発明の添付の特許請求の範囲の保護範囲内にあることを理解されたい。したがって、本発明の特許の保護範囲は添付の特許請求の範囲に準じるものとし、明細書及び添付図面は特許請求の範囲を解釈するために用いられるものである。
Claims (14)
- 基材と第１のフィルム層とを含み、
前記基材は粗い第１の表面を有し、前記第１の表面の平均粗さＲａは１μｍ～１００μｍであり、かつＲａは前記基材の厚さの１／２未満であり、
前記第１のフィルム層は前記第１の表面に付着している、
ことを特徴とする光学部品。 - Ｒａは前記基材の厚さの１／３未満である、ことを特徴とする請求項１に記載の光学部品。
- Ｒａは２５μｍ～５０μｍである、ことを特徴とする請求項１に記載の光学部品。
- 前記基材の厚さは５０μｍ～５００μｍである、ことを特徴とする請求項１に記載の光学部品。
- 前記第１の表面の凸部及び凹部は不規則に配置されている、ことを特徴とする請求項１に記載の光学部品。
- 前記基材のＴｇは８０℃～３００℃である、ことを特徴とする請求項１に記載の光学部品。
- 前記第１のフィルム層の厚さは２μｍ～１０μｍである、ことを特徴とする請求項１に記載の光学部品。
- 前記第１のフィルム層の製造原料は、質量百分率で、
２０％～４０％のアクリル樹脂オリゴマー、１０％～２０％の光硬化性反応性希釈剤、１％～５％の光開始剤、１．５％～８％の添加剤、及び５０％～７０％の溶媒を含む、ことを特徴とする請求項１に記載の光学部品。 - 前記第１のフィルム層には、前記第１のフィルム層に占める質量百分率で１％～２０％の反射防止粒子が分散されている、ことを特徴とする請求項１に記載の光学部品。
- 前記反射防止粒子は、質量百分率で、４８％～５２％の第１の反射防止粒子と、２８％～３２％の第２の反射防止粒子と、１８％～２２％の第３の反射防止粒子とを含み、
前記第１の反射防止粒子の粒径は≧５０ｎｍであり、かつ≦１００ｎｍであり、
前記第２の反射防止粒子の粒径は≧２０ｎｍであり、かつ＜５０ｎｍであり、
前記第３の反射防止粒子の粒径は＜２０ｎｍである、
ことを特徴とする請求項９に記載の光学部品。 - 加熱後の熱間圧延ロールを採用して基材をロール圧延して前記第１の表面を形成するステップと、
前記第１の表面に第１のフィルム層の材料を塗布し、硬化させて前記第１のフィルム層を形成するステップと、
を含むことを特徴とする請求項１～１０のいずれか一項に記載の光学部品の製造方法。 - 前記熱間圧延ロールの温度を７０℃～１５０℃まで加熱する、ことを特徴とする請求項１１に記載の光学部品の製造方法。
- 本体と、前記本体に嵌合された請求項１～１０のいずれか一項に記載の光学部品である反射防止装置とを含む、ことを特徴とする電子機器。
- 前記反射防止装置は保護カバーである、ことを特徴とする請求項１３に記載の電子機器。
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