CN220543143U - 高耐磨抗反射光学膜 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种高耐磨抗反射光学膜，包括依次层叠设置的基材层、硬化涂层、高折射率涂层和低折射率涂层。所述高折射率涂层的折射率为1.64‑1.70，水滴角＜80°，达因值≥34。所述低折射率涂层的折射率为1.40‑1.44，表面动摩擦系数＜0.18。本实用新型提供的高耐磨抗反射光学膜具备较好的抗反射性能和优异的耐磨性能，能够满足折叠手机屏幕保护膜的需求，具有很好的应用前景。
Description
技术领域
本实用新型涉及光学膜领域，特别涉及一种高耐磨抗反射光学膜。
背景技术
随着折叠手机的发展需求，对于屏幕保护膜的耐磨、抗反射性能等提出了较高的需求。抗反射膜通过形成一些界面，使得经由各个界面反射回来的光波与光波之间产生破坏性的干涉，增加玻璃透过率，减少反射率，从而减少图像失真，使用户享受更清晰的影像品质，以达到减少眩光的现象。而普通的光学保护膜(一般的硬化涂层光学膜)，其反射率约5％左右，会影响到屏幕的观看舒适度，难以满足应用需求。另外，使用过程中，手机屏幕容易发生刮擦、碰撞等，所以具备优异耐磨性能的保护膜能够保证其使用寿命和使用效果。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题在于针对上述现有技术中的不足，提供一种高耐磨抗反射光学膜。
为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是：一种高耐磨抗反射光学膜，包括依次层叠设置的基材层、硬化涂层、高折射率涂层和低折射率涂层。
优选的是，所述高折射率涂层的折射率为1.64-1.70。
优选的是，所述高折射率涂层的水滴角＜80°，达因值≥34。
优选的是，所述低折射率涂层的折射率为1.40-1.44。
优选的是，所述低折射率涂层的表面动摩擦系数＜0.18。
优选的是，所述硬化涂层的断裂伸长率＞7％，水滴角＜80°，达因值≥34。
优选的是，所述硬化涂层的厚度为3.5-4.5μm。
优选的是，所述高折射率涂层的厚度为100-120nm。
优选的是，所述低折射率涂层的厚度为90-110nm。
优选的是，所述高折射率涂层和低折射率涂层总厚为160nm-220nm。
优选的是，所述基材层为PET光学膜，厚度为50-75μm。
本实用新型的有益效果是：
本实用新型提供的高耐磨抗反射光学膜包括依次层叠设置的基材层、硬化涂层、高折射率涂层和低折射率涂层，其具备较好的抗反射性能和优异的耐磨性能，能够满足折叠手机屏幕保护膜的需求，具有很好的应用前景。
本上述说明仅是本实用新型技术方案的概述，为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本实用新型的较佳实施例并配合附图详细说明如后。本实用新型的具体实施方式由以下实施例及其附图详细给出。
附图说明
图1为本实用新型的高耐磨抗反射光学膜的结构示意图。
附图标记说明：
1—基材层；2—硬化涂层；3—高折射率涂层；4—低折射率涂层。
具体实施方式
下面结合实施例对本实用新型做进一步的详细说明，以令本领域技术人员参照说明书文字能够据以实施。
应当理解，本文所使用的诸如“具有”、“包含”以及“包括”术语并不排除一个或多个其它元件或其组合的存在或添加。
如图1所示，本实用新型提供一种高耐磨抗反射光学膜，包括依次层叠设置的基材层1、硬化涂层2、高折射率涂层3和低折射率涂层4。
在优选的实施例中，基材层1为常见的光学基材膜，具体为PET光学膜，厚度为50-75μm。
在优选的实施例中，硬化涂层2的断裂伸长率＞7％，水滴角＜80°，达因值≥34，硬化涂层2的厚度为3.5-4.5μm。硬化涂层2提供支撑作用，上述参数的设置能够满足折叠屏幕耐弯折的需求且可保证涂层间的结合力和较好的耐磨性。
在优选的实施例中，高折射率涂层3的折射率为1.64-1.70，水滴角＜80°，达因值≥34，厚度为100-120nm。高折射率涂层3提供高折射率性能，作为中间涂层，仍需作为可印刷涂层，上述参数的设置能够较好的满足其需求。
在优选的实施例中，低折射率涂层4的折射率为1.40-1.44，表面动摩擦系数＜0.18，厚度为90-110nm。低折射率涂层4的性能要求为高耐磨、低动摩擦系数、低反射率，且该涂层与用户会直接接触，需较好的爽滑手感，上述参数的设置能够较好的满足其需求。
在优选的实施例中，高折射率涂层3和低折射率涂层4的总厚度为160-220nm。总厚度低于160nm，涂层耐钢丝绒性能差，涂层大块脱落；总厚度高于200nm，涂层反射率性能差，反射率(波长550nm)超过3％，起不到抗反射的作用。
在优选的实施例中，硬化涂层2、高折射率涂层3和低折射率涂层4均是由丙烯酸酯类胶水涂布得到，根据各涂层的上述参数要求选择合适的常规丙烯酸酯类胶水产品，并通过常规的涂布工艺即可得到，但需要理解的是，本实用新型的重点是提供具备上述结构以及上述参数特征的高耐磨抗反射光学膜，对于该高耐磨抗反射光学膜采用的具体材料未做任何改进，具体的制备工艺也不做任何限制。例如，各涂层的原料胶水可按照以下要求进行常规选择：
硬化涂层2的原料胶水，折射率在1.40-1.50之间，固含在20％-40％，粘度≤100cps(25℃)；高折射率涂层3的原料胶水，折射率在1.64-1.70之间，固含在1％-5％之间，粘度≤100cps(25℃)；低折射率涂层4的原料胶水，折射率在1.40-1.44之间，固含在1％-5％之间，粘度≤100cps(25℃)。
以上为本实用新型的总体构思，以下提供详细的实施例，以对本实用新型进行进一步说明。需要说明的是，以下实施例中提供了高耐磨抗反射光学膜的具体制备工艺，但该工艺仅仅是为得到该结构的光学膜的常规选择，而并为对工艺本身进行任何改进。
实施例一
在50μmPET光学膜(日本东丽公司)涂布厂家为太尔胶粘剂、型号为F62C、折射率为1.4的印刷HC胶水，通过烘箱热固化和UV光固化，形成HC涂层(硬化涂层2)，厚度为4μm；在此涂层上再次涂布厂家为双键化工、型号为R1601-L4、折射率为1.61的HR胶水，通过烘箱热固化和UV光固化，形成HR涂层(高折射率涂层3)，厚度为110nm；最后涂布厂家为共荣社化学、型号为KC-1600、折射率为1.44的LR胶水，通过烘箱热固化和UV光固化，形成LR涂层(低折射率涂层4)，厚度为90nm，得到高耐磨抗反射光学膜。
实施例二
在50μmPET光学膜(日本东丽公司)涂布厂家为太尔胶粘剂、型号为F62C、折射率为1.4的印刷HC胶水，通过烘箱热固化和UV光固化，形成HC涂层(硬化涂层2)，厚度为5μm；在此涂层上再次涂布厂家为双键化工、型号为R1601-L4、折射率为1.61的HR胶水，通过烘箱热固化和UV光固化，形成HR涂层(高折射率涂层3)，厚度为100nm；最后涂布厂家为共荣社化学、型号为KC-1600、折射率为1.44的LR胶水，通过烘箱热固化和UV光固化，形成LR涂层(低折射率涂层4)，厚度为100nm，得到高耐磨抗反射光学膜。
实施例三
在50μmPET光学膜(日本东丽公司)涂布厂家为太尔胶粘剂、型号为F62C、折射率为1.4的印刷HC胶水，通过烘箱热固化和UV光固化，形成HC涂层(硬化涂层2)，厚度为4μm；在此涂层上再次涂布厂家为双键化工、型号为R1601-L4、折射率为1.61的HR胶水，通过烘箱热固化和UV光固化，形成HR涂层(高折射率涂层3)，厚度为110nm；最后涂布厂家为共荣社化学、型号为KC-1600、折射率为1.44的LR胶水，通过烘箱热固化和UV光固化，形成LR涂层(低折射率涂层4)，厚度为110nm，得到高耐磨抗反射光学膜。
对比例一(原实施例一)
在50μmPET光学膜(日本东丽公司)上涂布厂家为太尔胶粘剂、型号为F62C、折射率为1.4的印刷HC胶水，通过烘箱热固化和UV光固化，形成HC涂层(硬化涂层2)，厚度为3μm；在此涂层上再次涂布厂家为双键化工、型号为R1601-L4、折射率为1.61的HR胶水，通过烘箱热固化和UV光固化，形成HR涂层(高折射率涂层3)，厚度为110nm；最后涂布厂家为共荣社化学、型号为KC-1600、折射率为1.44的LR胶水，通过烘箱热固化和UV光固化，形成LR涂层(低折射率涂层4)，厚度为90nm，得到高耐磨抗反射光学膜。
对比例二
在50μmPET光学膜(日本东丽公司)涂布厂家为太尔胶粘剂、型号为F62C、折射率为1.4的印刷HC胶水，通过烘箱热固化和UV光固化，形成HC涂层(硬化涂层2)，厚度为4μm；在此涂层上再次涂布厂家为双键化工、型号为R1601-L4、折射率为1.61的HR胶水，通过烘箱热固化和UV光固化，形成HR涂层(高折射率涂层3)，厚度为120nm；最后涂布厂家为共荣社化学、型号为KC-1600、折射率为1.44的LR胶水，通过烘箱热固化和UV光固化，形成LR涂层(低折射率涂层4)，厚度为110nm，得到高耐磨抗反射光学膜
对实施例和对比例制备的光学膜进行以下性能测试：
反射率，测试方法或标准为：采用光学分光测色仪CM-3600A测试；
耐钢丝绒，测试方法或标准为：用专用的钢丝绒(钢丝绒型号：Bonstar#0000)，施加1kg的负载，2*2cm压头，以40次/分钟～60次/分钟的速度，以40mm左右的行程,在样本表面来回磨擦1000个循环。
测试结果如下表1所示：
表1
从测试结果看，实施例一至三均能获得合格的产品，实施例二效果最佳，可达到低反射率耐钢丝绒的效果。
在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
以上，仅为本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型作任何形式上的限制；凡本行业的普通技术人员均可按说明书附图所示和以上而顺畅地实施本实用新型；但是,凡熟悉本专业的技术人员在不脱离本实用新型技术方案范围内，利用以上所揭示的技术内容而做出的些许更动、修饰与演变的等同变化，均为本实用新型的等效实施例；同时,凡依据本实用新型的实质技术对以上实施例所作的任何等同变化的更动、修饰与演变等，均仍属于本实用新型的技术方案的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种高耐磨抗反射光学膜，其特征在于，包括依次层叠设置的基材层、硬化涂层、高折射率涂层和低折射率涂层；
所述硬化涂层的断裂伸长率＞7%，水滴角＜80°，达因值≥34。
2.根据权利要求1所述的高耐磨抗反射光学膜，其特征在于，所述高折射率涂层的折射率为1.64-1.70。
3.根据权利要求2所述的高耐磨抗反射光学膜，其特征在于，所述高折射率涂层的水滴角＜80°，达因值≥34。
4.根据权利要求1所述的高耐磨抗反射光学膜，其特征在于，所述低折射率涂层的折射率为1.40-1.44。
5.根据权利要求4所述的高耐磨抗反射光学膜，其特征在于，所述低折射率涂层的表面动摩擦系数＜0.18。
6.根据权利要求1所述的高耐磨抗反射光学膜，其特征在于，所述硬化涂层的厚度为3.5-4.5μm。
7.根据权利要求1所述的高耐磨抗反射光学膜，其特征在于，所述高折射率涂层的厚度为100-120nm。
8.根据权利要求1所述的高耐磨抗反射光学膜，其特征在于，所述低折射率涂层的厚度为90-110nm。
9.根据权利要求1所述的高耐磨抗反射光学膜，其特征在于，所述高折射率涂层和低折射率涂层总厚为160nm-220nm。
10.根据权利要求1-9中任意一项所述的高耐磨抗反射光学膜，其特征在于，所述基材层为PET光学膜，厚度为50-75μm。
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