CN114488681B - 光学临近修正方法及装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种光学临近修正方法及装置，应用于半导体技术领域。由于本发明提供的光学临近修正方法可以在每次OPC修正后或某次OPC修正后，开始对主图形与其周围的辅助图形之间的距离进行调整，从而避免了现有技术中在对主图形进行辅助图形添加后，由于OPC修正导致的版图中主图形的部分形状改变，引起的经过OPC修正后的主图形和其周围的辅助图形之间的距离发生变化（变小），进而降低了版图的光刻工艺窗口、OPC修正过程中的准确度以及延缓研发进度的问题。

Description

光学临近修正方法及装置
技术领域
本发明涉及半导体技术领域，特别涉及一种光学临近修正方法及装置。
背景技术
一个版图中通常既有密集分布的图形（如1：1等间距的线条），也有稀疏的图形（如独立的线条），特别是逻辑器件的设计，具有更大的任意性。理论和实验结果都清楚地表明，密集分布图形的光刻工艺窗口与稀疏图形的光刻工艺窗口是不一样的，这就导致了共同的工艺窗口偏小。适用于密集图形曝光的光照条件并不适合稀疏图形的曝光。因此，为了减少集成电路版图中因图形密度不同引起的工艺差异，目前通常采用的方式是在掩模图形中图形比较稀疏的周围区域插入亚分辨率图形的方式，来提高焦深和工艺窗口均匀性。其中，所插入的图形尺寸小于光刻系统成像分辨率，且是一些平行于掩模图形的细长方形线条，其本身在曝光时不会形成光刻图形，但又对附近的掩模图形光刻成像光强分布产生影响。
目前，辅助图形的添加方法有基于规则的添加方法、基于模型的添加方法、基于反向光刻计算的添加方法等。其中，基于规则的添加方法是通过建立一些辅助图形插入的规则来实现的。具体的，规则确定了辅助图形的宽度和添加在主图形附近后其与主图形之间的距离等。
然而，虽然现有技术中的基于规则的添加方法中辅助图形的尺寸和放置的位置是通过多次曝光的实验来确定的，且这里规定的宽度和距离通常是根据实验得到的使版图中主图形的工艺窗口达到最大值的宽度和距离。但是，由于在实际应用中，在对版图中的主图形进行辅助图形添加之后，还需要对该版图中的主图形进行光学邻近修正(OpticalProximity Correction，OPC)以保证最终图形收敛性及掩膜版制作精度。
但是，光学邻近修正会改变版图中主图形的部分形状，从而导致经过OPC修正后的主图形和其附件的辅助图形之间的距离发生变化（变小），进而降低了版图的光刻工艺窗口。
发明内容
本发明的目的在于提供一种光学临近修正方法及装置，以提高版图的光刻工艺窗口，增加产品的稳定性。
第一方面，为解决上述技术问题，本发明提供一种光学临近修正方法，包括：步骤S1，确定预制作版图对应的测试版图，所述测试版图具有多个主图形以及设置在所述主图形周围的辅助图形。
步骤S2，设定所述主图形的OPC修正总次数为a，并对所述主图形进行b次的OPC预修正，以得到所述主图形对应的第一修正主图形，所述b<a。
步骤S3，确定并判断所述第一修正主图形与其周围的所述辅助图形之间的距离是否小于第一距离阈值。
步骤S4，若是，则适应性调整所述第一修正主图形与其周围的所述辅助图形之间的距离，以使调整后的所述第一修正主图形与其周围的所述辅助图形之间的距离等于第二距离阈值，所述第一距离阈值小于所述第二距离阈值，并执行步骤S5；否则，则直接执行步骤S5。
步骤S5，对所述第一修正主图形进行第b+1次OPC修正，并判断b+1是否小于a，若是，则返回执行步骤S3，否则，则结束光学临近修正。
进一步的，在步骤S1中所述主图形与其周围添加的所述辅助图形之间的距离为可以为使该主图形对应的光刻工艺窗口达到最大值时二者之间的距离，或者可以为使该主图形对应的光刻工艺窗口达到预设目标值时二者之间的距离。
进一步的，所述第一距离阈值的取值为所述主图形与其周围的所述辅助图形之间允许的最小距离，所述第二距离阈值的取值为基于规则的辅助图形添加方案中规定的主图形与其周围的所述辅助图形之间的标准距离。
进一步的，在步骤S2中所述OPC预修正次数b的取值范围可以为：a/2~a。
第二方面，基于相同的发明构思，本发明还提供了一种光学临近修正装置，包括：测试版图确定模块，用于确定预制作版图对应的测试版图，所述测试版图具有多个主图形以及设置在所述主图形周围的辅助图形。
第一OPC修正模块，用于设定所述主图形的OPC修正总次数为a，并对所述主图形进行b次OPC预修正，以得到所述主图形对应的第一修正主图形，所述b<a。
判断模块，用于确定并判断所述第一修正主图形与其周围的所述辅助图形之间的距离是否小于第一距离阈值。
调整模块，用于若所述判断模块判断出第一修正主图形与其周围的所述辅助图形之间的距离小于所述距离阈值，则适应性调整所述第一修正主图形与其周围的所述辅助图形之间的距离，以使调整后的所述第一修正主图形与其周围的所述辅助图形之间的距离等于第二距离阈值，所述第一距离阈值小于所述第二距离阈值。
第二OPC修正模块，用于在所述调整模块对所述第一修正主图形与其周围的所述辅助图形之间的距离进行调整之后，对所述第一修正主图形进行第b+1次OPC修正，并判断b+1是否小于a，若b+1小于a，则调用判断模块执行确定并判断所述第一修正主图形与其周围的所述辅助图形之间的距离是否小于第一距离阈值的步骤；或者，用于在判断模块确定并判断出所述第一修正主图形与其周围的所述辅助图形之间的距离不小于第一距离阈值时，直接对所述第一修正主图形进行第b+1次OPC修正，并判断b+1是否小于a，若b+1不小于a，则结束光学临近修正。
进一步的，所述测试版图确定模块中的所述主图形与其周围添加的所述辅助图形之间的距离可以为使该主图形对应的光刻工艺窗口达到最大值时二者之间的距离，或者可以为使该主图形对应的光刻工艺窗口达到预设目标值时二者之间的距离。
进一步的，所述第一距离阈值的取值为所述主图形与其周围的所述辅助图形之间允许的最小距离，所述第二距离阈值的取值为基于规则的辅助图形添加方案中规定的主图形与其周围的所述辅助图形之间的标准距离。
进一步的，所述第一OPC修正模块中的OPC预修正次数b的取值范围可以为：a/2~a。
第三方面，基于如上所述的光学临近修正方法，本发明还提供了一种电子设备，包括处理器、通信接口、存储器和通信总线，其中，处理器，通信接口，存储器通过通信总线完成相互间的通信。
存储器，用于存放计算机程序。
处理器，用于执行存储器上所存放的程序时，实现如上所述的光学临近修正方法的步骤。
与现有技术相比，本发明提供的技术方案至少具有如下有益效果之一：
本发明提供了一种光学临近修正方法、装置及电子设备，通过在对添加完辅助图形的测试版图中的主图形的第某次OPC修正后开始，判断每次OPC修正后主图形与其周围的辅助图形之间的距离是否满足预设距离阈值（第一距离阈值）要求，若满足，则直接对该主图形进行下一次OPC修正，并重复上述判断步骤，直至该主图形执行预定总次数后的OPC修正后方可结束光学临近修正；否则，则在判断出每次OPC修正后的主图形与其周围的辅助图形之间的距离不满足预设距离阈值要求时，每次都要调整该主图形与其周围的辅助图形之间的距离，然后在执行进行下一次OPC修正直至该主图形执行预定总次数后的OPC修正后方可结束光学临近修正。由于本发明提供的光学临近修正方法可以在每次OPC修正后或某次OPC修正后，开始对主图形与其周围的辅助图形之间的距离进行调整，从而避免了现有技术中在对主图形进行辅助图形添加后，由于OPC修正导致的版图中主图形的部分形状改变，引起的经过OPC修正后的主图形和其周围的辅助图形之间的距离发生变化（变小），进而降低了版图的光刻工艺窗口、OPC修正过程中的准确度以及延缓研发进度的问题。
附图说明
图1为本发明一实施例中的光学临近修正方法的流程示意图。
图2为本发明一实施例中的光学临近修正装置的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合示意图对本发明的具体实施方式进行更详细的描述。根据下列描述，本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。
承如背景技术所述，目前，辅助图形的添加方法有基于规则的添加方法、基于模型的添加方法、基于反向光刻计算的添加方法等。其中，基于规则的添加方法是通过建立一些辅助图形插入的规则来实现的。具体的，规则确定了辅助图形的宽度和添加在主图形附近（周围）后其与主图形之间的距离等。
然而，虽然现有技术中的基于规则的添加方法中辅助图形的尺寸和放置的位置是通过多次曝光的实验来确定的，且这里规定的宽度和距离通常是根据实验得到的使版图中主图形的工艺窗口达到最大值的宽度和距离。但是，由于在实际应用中，在对版图中的主图形进行辅助图形添加之后，还需要对该版图中的主图形进行光学邻近修正(OpticalProximity Correction，OPC)以保证最终图形收敛性及掩膜版制作精度。而光学邻近修正会改变版图中主图形的部分形状，从而导致经过OPC修正后的主图形和其附件的辅助图形之间的距离发生变化（变小），进而降低了版图的光刻工艺窗口。
为此，本发明提供了一种光学临近修正方法及装置，以提高版图的工艺窗口，增加产品的稳定性。
参考图1，图1为本发明一实施例中提供的一种光学临近修正方法的流程示意图，该方法包括如下步骤：
步骤S1，确定预制作版图对应的测试版图，所述测试版图具有多个主图形以及设置在所述主图形周围的辅助图形。
在本实施例中，可以先根据预制作的版图确定其对应的测试版图，所述测试版图中可以包含多个主图形，而相邻所述主图形之间的间隔可以作为一主图形对应的辅助图形的添加区域。其中，所述主图形按照图形线条的间距可以划分为密集分布的图形、稀疏图形和半稀疏图形。
然后，针对所述测试版图中的稀疏图形和半稀疏图形可以利用现有的辅助图形添加方案对其进行辅助图形添加，以提高版图的工艺窗口。示例性的，目前，利用基于规则的辅助图形添加方案，在主图形的周围添加辅助图形的步骤是：针对每一主图形的任一条边，在其附件的一定距离处添加一宽度一定的辅助图形。
其中，所述基于规则的辅助图形添加方案中规定的主图形与其周围添加的辅助图形之间的距离为使该主图形对应的光刻工艺窗口达到最大值时二者之间的距离，或者为使该主图形对应的光刻工艺窗口达到预设目标值时二者之间的距离。
在其他实施例中，本发明提供的所述测试版图中主图形周围的辅助图形的添加方案还可以是其他任何辅助图形添加方案，对比本发明不做具体限定。
步骤S2，设定所述主图形的OPC修正总次数为a，并对所述主图形进行b次OPC预修正，以得到所述主图形对应的第一修正主图形，所述b<a。
通常，在对测试版图中的主图形进行OPC修正时，会提前设定一个总修正次数a，例如a可以为8次，10次或者为30次等。基于此内容，本发明研究人员发现，现在技术中，在利用基于规则的辅助图形添加方案对主图形进行辅助图形添加之后，每进行一次OPC修正，就会改变一次主图形与其周围已添加的辅助图形之间的距离。这将势必导致版图的光刻工艺窗口由添加辅助图形时所达到的最大值变为低于该最大值。
因此，本发明研究人员提出，可以在主图形执行了某几次OPC修正之后开始，对每进行一次OPC修正的主图形进行一次主图形与辅助图形之间距离调整，直至该主图形执行预定总次数后的OPC修正后方可结束光学临近修正。示例性的，例如可以从对主图形执行完第一次OPC修正之后，对该主图形执行如下步骤S3~S5，也可以在对主图形执行完第5次OPC修正之后对该主图形执行如下步骤S3~S5。因此，所述OPC预修正次数b的取值范围可以为：1~a。
而基于如上所述，本发明研究人员进一步发现，当所述测试版图中的主图形在进行a/2次OPC预修正后，在对其进行主图形与其周围的辅助图形之间的距离进行判断，从而在考虑是否对其二者之间的距离进行调整，可以提高光学临近修正的效率，避免没必要的人力浪费。
因此，作为本发明优选的实施例，可以先对所述主图形进行a/2（b=a/2）次OPC预修正，以得到所述主图形对应的第一修正主图形。
需要说明的是，按照基于规则的辅助图形添加方案，在相应的辅助图形添加区域中添加相应的辅助图形的过程中，可以在不同的所述主图形对应的辅助图形添加区域中添加不同类型的辅助图形，所述不同类型的辅助图形包括辅助图形的形状和/或放置方向不同。
步骤S3，确定并判断所述第一修正主图形与其周围的所述辅助图形之间的距离是否小于第一距离阈值。
其中，所述第一距离阈值的取值可以为所述主图形与其周围的所述辅助图形之间允许的最小距离。
在本实施例中，在步骤S2对所述主图形进行a/2（b=a/2）次OPC预修正，以得到所述主图形对应的第一修正主图形之后，可以直接测试该第一修正主图形与其已添加在其周围的辅助图形之间的距离，然后判断该距离是否小于第一距离阈值（预设值），并执行如下步骤S4。此时，判断出该第一修正主图形与其已添加在其周围的辅助图形之间的距离小于所述第一距离阈值，则说明在对所述主图形进行OPC修正时，由于其改变了所述主图形的形状，从而导致该主图形与其周围的辅助图形之间的距离变小了，这将导致版图的光刻工艺窗口的降低。
可以理解的是，当所述基于规则的辅助图形添加方案中规定的主图形与其周围添加的辅助图形之间的距离为使该主图形对应的光刻工艺窗口达到最大值时二者之间的距离时，所述第一距离阈值的取值可以为保证主图形对应的光刻工艺窗口保持允许范围的最小距离，而所述第二距离阈值的取值可以为使该主图形对应的光刻工艺窗口达到最大值时二者之间的距离，即，所述第一距离阈值的取值要小于所述第二距离阈值的取值。
当所述基于规则的辅助图形添加方案中规定的主图形与其周围添加的辅助图形之间的距离为使该主图形对应的光刻工艺窗口达到预设目标值时二者之间的距离时，所述第二距离阈值的取值可以为使该主图形对应的光刻工艺窗口达到预设目标值时二者之间的距离。
步骤S4，若是，则适应性调整所述第一修正主图形与其周围的所述辅助图形之间的距离，以使调整后的所述第一修正主图形与其周围的所述辅助图形之间的距离等于第二距离阈值，并执行步骤S5；否则，则直接执行步骤S5；其中，所述第二距离阈值的取值为基于规则的辅助图形添加方案中规定的主图形与其周围的所述辅助图形之间的标准距离。
步骤S5，对所述第一修正主图形进行第b+1次OPC修正。
步骤S6，判断b+1是否小于a，若是，则返回执行步骤S3，否则，则执行步骤S7，结束光学临近修正。
步骤S7，结束光学临近修正。
在本实施例中，在对添加完辅助图形的测试版图中的主图形的第a/2次OPC预修正后开始，判断每次OPC修正后的所述主图形与其周围的辅助图形之间的距离是否满足预设距离阈值要求（小于所述第一距离阈值），若满足，则直接对该主图形进行下一次OPC修正，并重复上述判断步骤，直至该主图形执行预定总次数后的OPC修正后方可结束光学临近修正；否则，则在判断出每次OPC修正后的主图形与其周围的辅助图形之间的距离不满足预设距离阈值要求时，每次都要调整该主图形与其周围的辅助图形之间的距离，然后在执行进行下一次OPC修正直至该主图形执行预定总次数后的OPC修正后方可结束光学临近修正。
基于如上所述的光学临近修正方法，本实施例中还提供了光学临近修正装置，具体可参考图2，图2为本发明一实施例中的光学临近修正装置的结构示意图，所述装置包括：
测试版图确定模块210，用于确定预制作版图对应的测试版图，所述测试版图具有多个主图形以及设置在所述主图形周围的辅助图形。
第一OPC修正模块220，用于设定所述主图形的OPC修正总次数为a，并对所述主图形进行b次OPC预修正，以得到所述主图形对应的第一修正主图形，所述b<a。
判断模块230，用于确定并判断所述第一修正主图形与其周围的所述辅助图形之间的距离是否小于第一距离阈值。
调整模块240，用于若所述判断模块判断出所述第一修正主图形与其周围的所述辅助图形之间的距离小于所述距离阈值，则适应性调整所述第一修正主图形与其周围的所述辅助图形之间的距离，以使调整后的所述第一修正主图形与其周围的所述辅助图形之间的距离等于所述第二距离阈值，其中，所述第一距离阈值小于所述第二距离阈值。
第二OPC修正模块250，用于在所述调整模块对所述第一修正主图形与其周围的所述辅助图形之间的距离进行调整之后，对所述第一修正主图形进行第b+1次OPC修正，并判断b+1是否小于a，若b+1小于a，则调用判断模块执行确定并判断所述第一修正主图形与其周围的所述辅助图形之间的距离是否小于第一距离阈值的步骤；或者，用于在判断模块确定并判断出所述第一修正主图形与其周围的所述辅助图形之间的距离不小于第一距离阈值时，直接对所述第一修正主图形进行第b+1次OPC修正，并判断b+1是否小于a，若b+1不小于a，则结束光学临近修正。
进一步的，所述测试版图确定模块中的所述主图形与其周围添加的所述辅助图形之间的距离可以为使该主图形对应的光刻工艺窗口达到最大值时二者之间的距离，或者可以为使该主图形对应的光刻工艺窗口达到预设目标值时二者之间的距离。
进一步的，所述第一距离阈值的取值为所述主图形与其周围的所述辅助图形之间允许的最小距离，所述第二距离阈值的取值为基于规则的辅助图形添加方案中规定的主图形与其周围的所述辅助图形之间的标准距离。
进一步的，所述第一OPC修正模块220中的OPC预修正次数b的取值范围可以为：a/2~a。
综上所述，本发明提供了一种光学临近修正方法、装置及电子设备，通过在对添加完辅助图形的测试版图中的主图形的第某次OPC修正后开始，判断每次OPC修正后主图形与其周围的辅助图形之间的距离是否满足预设距离阈值要求，若满足，则直接对该主图形进行下一次OPC修正，并重复上述判断步骤，直至该主图形执行预定总次数后的OPC修正后方可结束光学临近修正；否则，则在判断出每次OPC修正后的主图形与其周围的辅助图形之间的距离不满足预设距离阈值要求时，每次都要调整该主图形与其周围的辅助图形之间的距离，然后在执行进行下一次OPC修正直至该主图形执行预定总次数后的OPC修正后方可结束光学临近修正。由于本发明提供的光学临近修正方法可以在每次OPC修正后或某次OPC修正后，开始对主图形与其周围的辅助图形之间的距离进行调整，从而避免了现有技术中在对主图形进行辅助图形添加后，由于OPC修正导致的版图中主图形的部分形状改变，引起的经过OPC修正后的主图形和其周围的辅助图形之间的距离发生变化（变小），进而降低了版图的光刻工艺窗口、OPC修正过程中的准确度以及延缓研发进度的问题。
本发明实施例还提供了一种电子设备，包括处理器、通信接口、存储器和通信总线，其中，处理器，通信接口，存储器通过通信总线完成相互间的通信。
存储器，用于存放计算机程序。
处理器，用于执行存储器上所存放的程序时，实现本发明实施例提供的一种光学临近修正方法。
具体的，上述一种光学临近修正方法，所述方法包括：
步骤S1，确定预制作版图对应的测试版图，所述测试版图具有多个主图形以及设置在所述主图形周围的辅助图形。
步骤S2，设定所述主图形的OPC修正总次数为a，并对所述主图形进行b次OPC预修正，以得到所述主图形对应的第一修正主图形，所述b<a。
步骤S3，确定并判断所述第一修正主图形与其周围的所述辅助图形之间的距离是否小于第一距离阈值。
步骤S4，若是，则适应性调整所述第一修正主图形与其周围的辅助图形之间的距离，以使调整后的所述第一修正主图形与其周围的辅助图形之间的距离等于所述第二距离阈值，所述第一距离阈值小于所述第二距离阈值，并执行步骤S5；否则，则直接执行步骤S5。
步骤S5，对所述第一修正主图形进行第b+1次OPC修正，并判断b+1是否小于a，若是，则返回执行步骤S3，否则，则结束光学临近修正。
另外，处理器执行存储器上所存放的程序而实现的光学临近修正方法的其他实现方式，与前述方法实施例部分所提及的实现方式相同，这里也不再赘述。
上述控制终端提到的通信总线可以是外设部件互连标准（Peripheral ComponentInterconnect，PCI）总线或扩展工业标准结构（Extended Industry StandardArchitecture，EISA）总线等。该通信总线可以分为地址总线、数据总线、控制总线等。为便于表示，图中仅用一条粗线表示，但并不表示仅有一根总线或一种类型的总线。
通信接口用于上述电子设备与其他设备之间的通信。
存储器可以包括随机存取存储器（Random Access Memory，RAM），也可以包括非易失性存储器（Non-Volatile Memory，NVM），例如至少一个磁盘存储器。可选的，存储器还可以是至少一个位于远离前述处理器的存储装置。
上述的处理器可以是通用处理器，包括中央处理器（Central Processing Unit，CPU）、网络处理器（Network Processor，NP）等；还可以是数字信号处理器（Digital SignalProcessing，DSP）、专用集成电路（Application Specific Integrated Circuit，ASIC）、现场可编程门阵列（Field-Programmable Gate Array，FPGA）或者其他可编程逻辑器件、分立门或者晶体管逻辑器件、分立硬件组件。
在本发明提供的又一实施例中，还提供了一种计算机可读存储介质，该计算机可读存储介质中存储有指令，当其在计算机上运行时，使得计算机执行上述实施例中任一所述的光学临近修正方法。
在上述实施例中，可以全部或部分地通过软件、硬件、固件或者其任意组合来实现。当使用软件实现时，可以全部或部分地以计算机程序产品的形式实现。所述计算机程序产品包括一个或多个计算机指令。在计算机上加载和执行所述计算机程序指令时，全部或部分地产生按照本发明实施例所述的流程或功能。所述计算机可以是通用计算机、专用计算机、计算机网络、或者其他可编程装置。所述计算机指令可以存储在计算机可读存储介质中，或者从一个计算机可读存储介质向另一个计算机可读存储介质传输，例如，所述计算机指令可以从一个网站站点、计算机、服务器或数据中心通过有线（例如同轴电缆、光纤、数字用户线（DSL））或无线（例如红外、无线、微波等）方式向另一个网站站点、计算机、服务器或数据中心进行传输。所述计算机可读存储介质可以是计算机能够存取的任何可用介质或者是包含一个或多个可用介质集成的服务器、数据中心等数据存储设备。所述可用介质可以是磁性介质，(例如，软盘、硬盘、磁带)、光介质(例如，DVD)、或者半导体介质（例如固态硬盘Solid State Disk (SSD)）等。
需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
本说明书中的各个实施例均采用相关的方式描述，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处。尤其，对于装置、电子设备以及计算机可读存储介质实施例而言，由于其基本相似于方法实施例，所以描述的比较简单，相关之处参见方法实施例的部分说明即可。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并非用于限定本发明的保护范围。凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换、改进等，均包含在本发明的保护范围内。

Claims (4)

1.一种光学临近修正方法，其特征在于，包括：
步骤S1，确定预制作版图对应的测试版图，所述测试版图具有多个主图形以及设置在所述主图形周围的辅助图形；
步骤S2，设定所述主图形的OPC修正总次数为a，并对所述主图形进行b次OPC预修正，以得到所述主图形对应的第一修正主图形，所述b<a；
步骤S3，确定并判断所述第一修正主图形与其周围的所述辅助图形之间的距离是否小于第一距离阈值；
步骤S4，若是，则适应性调整所述第一修正主图形与其周围的所述辅助图形之间的距离，以使调整后的所述第一修正主图形与其周围的所述辅助图形之间的距离等于第二距离阈值，所述第一距离阈值小于所述第二距离阈值，并执行步骤S5；否则，则直接执行步骤S5；
步骤S5，对所述第一修正主图形进行第b+1次OPC修正，并判断b+1是否小于a，若是，则返回执行步骤S3，否则，则结束光学临近修正；
其中，在步骤S1中所述主图形与其周围添加的所述辅助图形之间的距离为光刻工艺窗口达到最大值时二者之间的距离，或者为使该主图形对应的光刻工艺窗口达到预设目标值时二者之间的距离；所述第一距离阈值的取值为所述主图形与其周围的所述辅助图形之间允许的最小距离，所述第二距离阈值的取值为基于规则的辅助图形添加方案中规定的主图形与其周围的所述辅助图形之间的标准距离。
2.如权利要求1所述的光学临近修正方法，其特征在于，在步骤S2中所述OPC预修正次数b的取值范围为：a/2~a。
3.一种光学临近修正装置，其特征在于，包括：
测试版图确定模块，用于确定预制作版图对应的测试版图，所述测试版图具有多个主图形以及设置在所述主图形周围的辅助图形；
第一OPC修正模块，用于设定所述主图形的OPC修正总次数为a，并对所述主图形进行b次OPC预修正，以得到所述主图形对应的第一修正主图形，所述b<a；
判断模块，用于确定并判断所述第一修正主图形与其周围的所述辅助图形之间的距离是否小于第一距离阈值；
调整模块，用于若所述判断模块判断出所述第一修正主图形与其周围的所述辅助图形之间的距离小于所述距离阈值，则适应性调整所述第一修正主图形与其周围的所述辅助图形之间的距离，以使调整后的所述第一修正主图形与其周围的所述辅助图形之间的距离等于第二距离阈值，所述第一距离阈值小于所述第二距离阈值；
第二OPC修正模块，用于在所述调整模块对所述第一修正主图形与其周围的所述辅助图形之间的距离进行调整之后，对所述第一修正主图形进行第b+1次OPC修正，并判断b+1是否小于a，若b+1小于a，则调用判断模块执行确定并判断所述第一修正主图形与其周围的所述辅助图形之间的距离是否小于第一距离阈值的步骤；或者，用于在判断模块确定并判断出所述第一修正主图形与其周围的所述辅助图形之间的距离不小于第一距离阈值时，直接对所述第一修正主图形进行第b+1次OPC修正，并判断b+1是否小于a，若b+1不小于a，则结束光学临近修正；
其中，所述测试版图确定模块中的所述主图形与其周围添加的所述辅助图形之间的距离为使该主图形对应的光刻工艺窗口达到最大值时二者之间的距离，或者为使该主图形对应的光刻工艺窗口达到预设目标值时二者之间的距离；所述第一距离阈值的取值为所述主图形与其周围的所述辅助图形之间允许的最小距离，所述第二距离阈值的取值为基于规则的辅助图形添加方案中规定的主图形与其周围的所述辅助图形之间的标准距离。
4.如权利要求3所述的光学临近修正装置，其特征在于，所述第一OPC修正模块中的OPC预修正次数b的取值范围为：a/2~a。
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